DE2611330A1 - Vorrichtung zur halterung von kreisfoermigen substratscheiben - Google Patents

Vorrichtung zur halterung von kreisfoermigen substratscheiben

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DE2611330A1
DE2611330A1 DE19762611330 DE2611330A DE2611330A1 DE 2611330 A1 DE2611330 A1 DE 2611330A1 DE 19762611330 DE19762611330 DE 19762611330 DE 2611330 A DE2611330 A DE 2611330A DE 2611330 A1 DE2611330 A1 DE 2611330A1
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rings
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metal wire
ring
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Application number
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Wulf Ing Grad Kalinke
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Siemens AG
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Siemens AG
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B11/00Cleaning flexible or delicate articles by methods or apparatus specially adapted thereto
    • B08B11/02Devices for holding articles during cleaning

Landscapes

  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Description

  • Vorrichtung zur Halterung von kreisförmigen Substratscheiben
  • Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Halterung von kreisförmigen Substratscheiben, insbesondere Halbleiterscheiben.
  • Zur Halterung von kreisförmigen Halbleiterscheiben werden bei Reinigungsprozessen, Spülvorgängen oder fototechnischen Abhebeprozessen üblicherweise Kunststoffhorden aus Teflon bzw. BE? verwendet. Die Horden sind dabei aus flächigen bandförmigen und voluminösen Einzelteilen zusammengesetzt. Die Böden und Zwischenstege der bekannten Horden sind so ausgebildet, daß etwa nur 25 % der durch die Horden gehalterten Scheibenflächen frei in das Behandlungsmedium ragen, so daß das Behandrungsmedium keinen ungehinderten Zutritt zu den zu behandelnden Scheiben hat. Derart ausgebildete Horden behindern die Strömung, die durch das Umwälzen des Behandlungsmediums entsteht, in zweifacher Weise. Zum ersten dämpfen die flächig ausgebildeten Hordenteile die Flüssigkeitsströmung erheblich ab, zum zweiten wirken Teflon und FEP, insbesondere wegen ihrer Oberflächenporosität, besonders stark strömungshemmend auf das Behandlungsmedium ein. Eine verminderte Umspiilung der Halbleiterscheiben mit dem Behandlungsmedium setzt die Behandlungszeiten entsprechend herauf, was zu einer Arbeitszeitverlängerung und in gewissen Fällen auch zu einer Qualitätsminderung der zu behandelnden Halbleiterscheiben führt.
  • Insbesondere haben sich die bekannten Kunststoffhorden bei Ultraschallbehandlungen von Halbleiterscheiben als besonders unbrauchbar erwiesen, da diesbezügliche Leistungsverluste an FEF- bzw. Teflonhorden fast total sind, d. h. 90 bis 95 % betragen.
  • Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es daher, eine Vorrichtung zur Halterung kreisförmiger Substratscheiben anzugeben, die von der Formgebung und vom Material her geeignet ist, bei Reinigungs-, Spül-und Abhebeprozessen das Behandlungsmedium möglichst ungehindert an die Substratscheiben gelangen zu lassen und Flüssigkeitsbewegungen und Ultraschallwellen im Behandlungsmedium nicht oder nur in gerirgem Maße zu dämpfen.
  • Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß mindestens drei Metalldrahtringe mit kreisförmigem Drahtquerschnitt, von denen mindestens einer sternförmig ausgebogen ist, und eine kreisförmige Scheibe durch radial verlaufende Drahtstreben so miteinander verbunden sind, daß die zu halternden Scheiben an mindestens drei Punkten auf der Haltevorrichtung aufliegen.
  • Die Verwendung von Drahtringen an Stelle der bisher verwendeten bandförmigen Seitenteile einer solchen Haltevorrichtung gestattet dem Behandlungsmedium einen weitgehend ungehinderten Zutritt zu den Substratscheiben. Des weiteren bieten Metalldrahtringe mit kreisförmigem Querschnitt Plüssigkeitsbewegungen einen geringeren Widerstand als bandförmige Teile, die mit ihren Breitseiten einen von Null verschiedenen Winkel gegen die Bewegungsrichtung der Flüssigkeit bilden. Die Bewegung des Behandlungsmediums wird deshalb durch die erfindungsgemäße Halterungsvorrichtung nur in geringem Maße beeinflußt.
  • Schließlich erfährt auch Ultraschall wegen der geringeren Masse und der Verwendung von Metalldrähten an Stelle der bisher üblichen Kunststoffbänder bei der erfindungsgemäßen Haltevorrichtung eine wesentlich geringere Dämpfung.
  • Eine Weiterbildung der Erfindung besteht darin, daß zur Auflage und Zentrierung der Substratscheiben ein zahnkranzförmiger Ring in die Vorrichtung eingefügt ist. Diese Maßnahme bewirkt eine sichere Halterung der zu behandelnden Substratscheiben im Behandlungsmedium, so daß ein guter Behandlungseffekt an den Substratscheiben erreicht und gleichzeitig eine Beschädigung der Substratscheiben vermieden wird.
  • Es ist vorteilhaft, daß der zahnkranzförmige Ring aus V2A-Stahldraht (R) oder aus Kunststoff, insbesondere aus Teflon oder FEP, gefertigt ist.
  • Eine Weiterbildung der Erfindung besteht darin, daß die Metalldrahtringe und die Scheibe unterschiedliche Durchmesser aufweisen. Unterschiedliche Durchmesser der zur Haltevorrichtung verwendeten Ringe und Scheibe ermöglichen eine sichere Scheibenhalterung auch für eine minimale Anzahl der zur Halterung verwendeten Ringe.
  • Weiterhin ist es vorteilhaft, daß die Metalldrahtringe aus V2A-Stahldraht (R) von 0,8 mm Durchmesser gefertigt sind. Der geringe Durchmesser des verwendeten Drahtes bewirkt einen guten Zutritt des Behandlungsmediums zu annähernd allen Teilen der zu halternden Scheibe sowie eine nur geringfügige Beeinträchtigung der Bewegung des Behandlungsmediums. Die Verwendung von V2A-Stahldraht bewirkt außerdem wegen der guten Schwingeigenschaften dieses Materials nur eine geringfügige Dämpfung bei der Anwendung von Ultraschall.
  • Die erfindungsgemäße Vorrichtung läßt sich besonders vorteilhaft dazu verwenden, daß Reinigungeprozesse, Spülvorgänge und fototechnische Abhebeprozesse an Halbleiterscheiben, insbesondere unter Anwendung von Ultraschall, durchgeführt werden.
  • Nachfolgend wird die Erfindung an Hand der Zeichnung und am Ausführungsbeispiel näher erläutert. Es zeigen: Fig. 1 eine Draufsicht auf eine erfindungsgemäße Vorrichtung zur Halterung von kreisförmigen Substratscheiben, Fig. 2 einen Querschnitt der erfindungsgemäßen Vorrichtung längs der Linie II-II der Fig. 1.
  • Fig. 1 zeigt die erfindungsgemäße Vorrichtung 1 in einer Draufsicht.
  • Ein Drahtring 2 mit sternförmig ausgebogenem Rand, ein weiterer Drahtring 3, ein Drahtring 4, ein zahnkranzförmiger Ring 10 und eine kreisförmige Scheibe 5 sind durch vier um 90 ° gegeneinander versetzte, einen geschlossenen Rahmen bildende Drahtstreben 6 miteinander verbunden. Weiterhin sind radiale Drahtstreben 8 zwischen dem Drahtring 2 mit dem sternförmig ausgebogenen Rand und der kreisförmigen Scheibe 5 angebracht. Die kreisförmige Scheibe 5 weist außerdem eine zentrische quadratische Mitnehmeröffnung 7 auf. Mit 9 sind die Substratscheiben bezeichnet.
  • Fig. 2 stellt einen Querschnitt der erfindungsgemäßen Vorrichtung 1 längs der Achse I-I dar. Der Drahtring 2 mit dem sternförmig ausgebogenen Rand, der Drahtring 3, der Drahtring 4, der zahnkranzförmige Ring 10 und die kreisförmige Scheibe 5 werden durch die einen geschlossenen Rahmen bildenden Drahtstreben 6 so miteinander verbunden, daß die zu halternden Substratscheiben 9 an drei Punkten auf der erfindungsgemäßen Vorrichtung 1 aufliegen. Die Bezugszahl 7 bezeichnet wie in Fig. 1 die zentrische, quadratische Mitnehmeröffnung der kreisförmigen Scheibe 5.
  • Eine erfindungsgemäße Vorrichtung zur Halterung von kreisförmigen Substratscheiben wird aus V2A-Stahldraht (R) von 0,8 mm Durchmesser gemäß Fig. 1 und 2 gefertigt. Gegenüber bekannten derartigen Vorrichtungen weist die erfindungsgemäße Vorrichtung eine kleine Masse, eine kleine Oberfläche und gute Schwingeigenschaften auf. In einer solchen erfindungsgemäßen Vorrichtung können 24 kreisförmige Substratscheiben, z. B. Halbleiterscheiben, gleichzeitig behandelt werden. Bei Reinigunge- oder Spülprozessen kann das Behandlungsmedium infolge der geringen Oberfläche der erfindungsgemäßen Vorrichtung und der Halterung der kreisförmigen Substrat scheiben durch Aufliegen auf der Vorflchtung an nur drei Punkten, die Substratscheiben praktisch ungehindert erreichen, so daß der Behandlungsvorgang entsprechend kurzzeitig verläuft. Auch die Bewegung des Behandlungsmediums wird aus den genannten Gründen ebenfalls kaum beeinträchtigt. Insbesondere bei Abhebeprozessen, bei denen Halbleitersubstrateunter Anwendung von Ultraschall von überschüssigem aufgedampftem Material befreit werden, bewirkenaußer der geringen Masse - die Masse einer erfindungsgemäßen Vorrichtung beträgt ca. 11 g - auch die- guten Schwingeigenschaften der erfindungsgemäßen Vorrichtung insofern gegenüber den bisher bekannten Horden einen erheblichen Vorteil, als die Verluste an Ultraschalleistung bei der erfindungsgemäßen Vorrichtung wesentlich verringert sind. Die Behandlungszeit hat sich bei der Verwendung von erfindungsgemäßen Vorrichtungen gegenüber den eingangs beschriebenen, bisher üblichen Horden um einen Faktor 10 reduzieren lassen.
  • Die erhebliche Arbeitszeitverkuræung bringt nicht nur geringere Herstellungskosten mit sich, sondern auch eine Qualitätsverbesserung der unter Anwendung der erfindungsgemäßen Vorrichtung gefertigten Halbleiterbauelemente, da eine Verkürzung der Einwirkung von Behandlungsmedien auf Halbleitersubstratscheiben für die Kenngrößen der hiermit gefertigten Halbleiterbauelemente häufig günstig ist.
  • 6 Patentansprüche 2 Figuren

Claims (6)

  1. rat ent ansrüche 1.' Vorrichtung zur Halterung von kreisförmigen Substratscheiben, insbesondere Halbleiterscheiben, d a d u r c h g e k e n n -z e i c h n e t, daß mindestens drei Metalldrahtringe mit kreisförmigem Drahtquerschnitt, von denen mindestens einer sternförmig ausgebogen ist, und eine kreisförmige Scheibe durch radial verlaufende Drahtstreben so miteinander verbunden sind, daß die zu halternden Scheiben an mindestens drei Punkten auf der Haltevorrichtung aufliegen.
  2. 2. Vorrichtung nach Anspruch 1, d a d u r c h g e k e n n -z e 1 c h n e t, daß zur Auflage und Zentrierung der Substratscheiben ein zahnkranzförmiger Ring in die Vorrichtung eingefügt ist.
  3. 3. Vorrichtung nach Anspruch 1 und 2, d a d u r c h g e k e n nz e i c h n e t, daß der zahnkranzförmige Ring aus V2A-Stahldraht (R) oder aus Kunststoff, insbesondere aus Teflon oder BEP, gefertigt ist.
  4. 4. Vorrichtung nach Anspruch 1, d a d u r c h g e k e n n -z e i c h n e t, daß die Metalldrahtringe und die Scheibe unterschiedliche Durchmesser aufweisen
  5. 5. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, d a d u r c h g e k e n nz e i c h n e t, daß die Metalldrahtringe aus V2A-Stahldraht (R) von 0,8 mm Durchmesser gefertigt sind.
  6. 6. Verwendung der Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t, daß Reinigungsprozesse, Spülvorgänge, fototechnische Abhebeprozesse an Halbleiterscheiben, insbesondere unter Anwendung von Ultraschall, durchgeführt werden.
DE19762611330 1976-03-17 1976-03-17 Vorrichtung zur halterung von kreisfoermigen substratscheiben Withdrawn DE2611330A1 (de)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1163960A1 (de) * 2000-05-31 2001-12-19 Dominique Schild Menzel Waschvorrichtung für kleine Teile

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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