DE2606994C2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- DE2606994C2 DE2606994C2 DE2606994A DE2606994A DE2606994C2 DE 2606994 C2 DE2606994 C2 DE 2606994C2 DE 2606994 A DE2606994 A DE 2606994A DE 2606994 A DE2606994 A DE 2606994A DE 2606994 C2 DE2606994 C2 DE 2606994C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- detector
- contacts
- hole
- sensitivity
- carriers
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 15
- 229910000661 Mercury cadmium telluride Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 10
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims description 8
- 239000002800 charge carrier Substances 0.000 claims description 5
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 18
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 15
- 230000004044 response Effects 0.000 description 13
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 9
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 7
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 7
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 230000004043 responsiveness Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 3
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000011010 flushing procedure Methods 0.000 description 2
- 239000003574 free electron Substances 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000013590 bulk material Substances 0.000 description 1
- 238000005234 chemical deposition Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 230000009191 jumping Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000036316 preload Effects 0.000 description 1
- 238000004445 quantitative analysis Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/08—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors
- H01L31/09—Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/0216—Coatings
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Light Receiving Elements (AREA)
Description
Die Erfindung bezieht sich auf einen Infrarotdetektor gemäß
dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1.
Ein solcher Infrarotdetektor ist aus IEEE Transactions on
Electron Devices, Vol. ED-16, No. 10, Oktober 1969, Seiten 880
bis 884, insbesondere Fig. 6, bekannt. In dieser Druckschrift
sind keinerlei Maßnahmen beschrieben, die es ermöglichen, die
Empfindlichkeit des Infrarotdetektors zu verbessern.
Ein Infrarotdetektor ist auch aus der DE-OS 15 64 847 bekannt.
Bei diesem bekannten Infrarotdetektor wird zwar eine Lochblen
de verwendet, jedoch ist über die Anbringung des Lochs in die
se Blende bezüglich der Elektroden nichts ausgesagt. Das Pro
blem der Empfindlichkeitserhöhung durch eine besondere Anord
nung des Lochs ist ebenfalls nicht angesprochen. Ein weiterer
Infrarotdetektor ist aus R. K. Willardson/A. C. Beer (Herausg.):
"Semiconductors and Semimetals", Vol. 5 (Infrared Detectors)
Academic Press, New York 1970, Seiten 245-248, bekannt, bei
dem zur Begrenzung des Gesichtsfeldes des Detektors eine Öff
nung mit kleinem Durchmesser angewendet wird. Dies hat jedoch
den Zweck, die Hintergrundstrahlung auszuschließen.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen Infrarotdetek
tor der eingangs angegebenen Art so auszugestalten, daß die
Ladungsträgerlebensdauer zur Verbesserung der Detektorempfind
lichkeit auf ein Maximum verlängert wird.
Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe mit den im kennzeichnenden
Teil des Patentanspruchs angegebenen Merkmalen gelöst.
Das beim erfindungsgemäßen Infrarotdetektor verwendete Halb
leitermaterial ist ein eigenleitendes Halbleitermaterial, also
ein sehr reines Halbleitermaterial.
Beim absoluten Nullpunkt sind alle Valenz
elektronen von den Ausgangsatomen und über die kovalenten
Bindungen von anderen Atomen festgehalten. Die Elektronen
können sich nicht frei durch die Kristallstruktur bewegen,
so daß sie keinen Strom leiten können. Aus diesem Grund
verhält sich ein eigenleitender Halbleiter bei der Tempe
ratur des absoluten Nullpunktes wie ein Isolator. Eine
Zunahme der Temperatur bedeutet eine Zunahme der Energie
jedes Atoms; die Energie wird dabei einem der Valenz
elektronen der Atome verliehen. Auf Grund dieses Vor
gangs kann ein Valenzelektron genügend Energie erhalten,
daß es sich von seinem Ausgangsatom löst und dabei eine
kovalente Bindungen aufbricht. Dieses Elektron kann frei
durch die Kristallstruktur wandern; es ist nicht an ein
bestimmtes Atom gebunden. Es ist ein freies Elektron, das
als ein Ladungsträger wirken kann, wenn eine Spannung
(Vorspannung) über elektrische Kontakte (positive und
negative Klemmen) an das Material angelegt wird. Wenn
das Elektron sein Ausgangsatom verläßt, hinterläßt
es ein Loch. Wenn ein Loch erzeugt ist, kann ein Elektron
eines benachbarten Atoms dieses Loch leicht ausfüllen,
indem es seine eigene kovalente Bindung aufbricht
und zu ersten Atom springt. Wann ein Loch erzeugt
ist, wird es betrachtet, als habe es eine positive Ladung;
wenn sich das Loch bewegt, liegt demgemäß ein positiver
Ladungsfluß vor. In HgCdTe wandern Elektronen etwa
hundertmal schneller als Löcher. Die freien Löcher haben
in HGCdTe eine Lebensdauer von etwa 10-6 Sekunden, d. h.
sie rekombinieren nach einer Laufzeit von 10-6 Sekunden
mit freien Elektronen. Wenn sie vor der Rekombination die
negative Klemme erreichen, geht ein Teil ihrer für die
Photoleitung nutzbaren Lebensdauer verloren; von diesen
Elektronen wird gesagt, daß sie herausgeschwemmt worden
sind. Diese Erscheinung wird mit "Ausschwemmen" bezeichnet.
Zur Erzielung einer maximalen Photoleitfähigkeit und einer
maximalen Ansprechempfindlichkeit in einem Photodetektor
werden die sich langsam bewegenden Löcherladungsträger
als Minoritätsträger verwendet. Somit ist das in der Masse
eigenleitende Material der Photodetektoren n-leitend
(d. h. daß Elektronen die Leitung bestimmen). Es hat sich
gezeigt, daß die Minoritätsträger zur Photoleitfähigkeit
nur beitragen, während sie im Körper des Photoleiters
verbleiben, und daß elektrische Kontakte als Zonen mit
intensiver Rekombination der auf Grund des lichtelektri
schen Effekts erzeugten Ladungsträger wirken.
Im erfindungsgemäßen Infrarotdetektor wird durch die besondere Anbringung
des Lochs erreicht, daß die Größe der aktiven Zone des Detektors im Bereich zwischen
den Elektroden
begrenzt wird, so daß eine weite Trennung
der elektrischen Kontakte ermöglicht wird.
Die Erfindung wird nun an Hand der Zeichnung beispiels
halber erläutert. Es zeigt
Fig. 1a bis 1e eine graphische Darstellung zur Veranschau
lichtung der Rolle der Minoritätsträger bei der
Photoleitung,
Fig. 2a und 2b theoretische Detektoransprechkurven für
mehrere verschiedene Vorspannungsbedingungen für
zwei entgegengesetzte Polaritätsrichtungen,
Fig. 3 die Folgen des Ausschwemm-Effekts in einem HgCdTe-
Detektor, wie sie bei Punktabtastmessungen beobach
tet werden,
Fig. 4 ein Diagramm der theoretischen Signalsättigungs
eigenschaften, die bei erhöhten Feldstärken und
bei einem festen Belichtungsfleck auftreten,
Fig. 5a und 5b Diagramme zur Veranschaulichung des Unter
schieds zwischen positiven und negativen Vor
spannungssignalkennlinien,
Fig. 6a bis 6d Darstellungen, die den Zeitkonstanteneffekt
zeigen, der bei hohen Vorspannungswerten beobach
tet wird, was zeigt, daß die Signalsättigung für
den Punkt dicht bei der Kontaktstelle nicht so
ideal ist, wie in Fig. 5b aufgezeichnet ist,
Fig. 7a bis 7d Verfahrensschritte zur Herstellung des
Infrarotdetektors gemäß einer ersten Ausführungs
form der Erfindung und
Fig. 8a bis 8c Verfahrensschritte zur Herstellung des
Infrarotdetektors gemäß einer zweiten Ausführungs
form der Erfindung.
Unter Bezugnahme auf die Zeichnung läßt sich der photo
leitende Halbleiterdetektor nach der Erfindung am besten
am Beispiel von HgCdTe-Detektoren verstehen. Ein Hg0,8Cd0,2Te-
Detektor mit einer Bandlücke von etwa 0,09 eV hat gezeigt,
daß ein eigenleitender Halbleiter mit guter Empfindlich
keit bei Temperaturen weit über denen bei einem ent
sprechenden störstellenleitenden Halbleiter arbeiten
kann, der im gleichen Wellenlängenbereich vo 8 bis 14 µm
empfindlich ist. In eigenleitenden Halbleiterdetektoren
sind Minoritätsträgereffekte vorhanden, die in den meisten
Fällen das Verhalten der Photoleiter bestimmen. Bei nie
drigen Feldstärken werden die Signal-Rausch-Gleichungen
mit den Minoritätsträgerparametern geschrieben, wobei die
Signal- und Rauschwerte linear von der Vorspannung ab
hängen. Bei hohen Feldstärken treten jedoch Nichtlineari
täten auf; für das Beispiel des Hg0,8Cd0,2Te-Detektors
ergeben sich die schwerwiegendsten Nichtlinearitäten
aus dem "Ausschwemmen" der Minoritätsträger. Es ist fest
gestellt worden, daß die Minoritätsträger zur Photolei
tung nur beitragen, während sie im Körper des Photoleiters
verbleiben. Wenn sie zu einem Kontakt wandern, gehen sie
aus dem empfindlichen Teil des Photoleiters verloren und
tragen nicht länger zur Photoleitfähigkeit bei. Das Vor
handensein oder das Fehlen des Ausschwemm-Effekts wird
von der Driftlänge der Minoritätsträger µEτ bestimmt,
wobei µ die Driftbeweglichkeit, E die elektrische Feld
stärke und τ die Trägerlebensdauer ist. Wenn die Driftlänge
mit den Abmessungen des Musterbauelements vergleichbar
wird, erfolgen beträchtliche Trägerverluste auf Grund
der Minoritätsträgerausschwemmung. In anderen Worten
ist es so, als ob die Kontakte durch Lichteinwirkung
erzeugte Träger schneller ableiten, als sie rekombinieren
würden, wenn keine Kontakte vorhanden wären.
Die Rolle der Minoritätsträger bei der Photoleitfähigkeit
kann mittels der Fig. 1a bis 1e veranschaulicht werden.
Es ist das Leitfähigkeitsprofil eines herkömmlichen Photo
leiters 10 einschließlich seiner aktiven Zone 12 mit
positiven und negativen Kontakten 14 bzw. 16 dargestellt
(Fig. 1a). Die Fig. 1b bis 1e sind so ausgeführt, daß
zum Ausdruck gebracht wird, daß die Leitfähigkeit der
Kontakte 14 und 16 wesentlich höher als die des aktiven
Bereichs 12 des Photoleiters ist; wenn sich die Träger also
vom mittleren Bereich mit hohem spezifischen Widerstand
zu den Kontaktzonen mit wesentlich niedrigerem Wider
stand bewegen, tragen sie nicht mehr wesentlich zum
Photosignal bei. Eine Punktbelichtung 18 (Fig. 1a) des
Photoleiters sei als Impuls angesehen, der eine im
Vergleich zu den interessierenden Zeiten kurze Dauer
hat. Es werden gleich viele Elektronen und Löcher
erzeugt, und der spezifische Widerstand in der örtlichen
Zone nimmt ab, wie in Fig. 1b bei 20 dargestellt ist. Auf
Grund dieser örtlichen Zunahme der Leitfähigkeit wird
die Photoleitfähigkeit erhöht. Für das Beispiel der n-
Leitung sind die Minoritätsträger Löcher, die bei den
in Fig. 1a dargestellten Vorspannungspolaritäten nach
rechts zur negativen Klemme wandern. Da die dielektrische
Relaxationszeit dieses Materials 10-12 Sekunden beträgt,
wird die Raumladungsneutralität in sehr hohem Ausmaß
aufrecht erhalten, so daß die Überschußkonzentration
zusammen mit der Löcherverteilung nach rechts wandert.
Dies geschieht auf Grund der Feldverteilung trotz der
Tatsache, daß die Löcher und die Elektronen in entgegen
gesetzten Richtungen fließen.
Im Verlauf der Zeit bewirkt die Diffusion, daß sich die
Verteilung ausbreitet, wie in den Fig. 1c und 1d durch
Abrunden der Leitfähigkeitsprofile mit der Änderung der
Zeit und der Position dargestellt ist. Sowohl die Ver
breiterung als auch der Transport der Leitfähigkeitsver
teilung erfolgen weiter, bis der Kontakt 16 (Fig. 1a und 1e)
erreicht ist. Wenn die Trägerverteilung in den Kontakt
wandert, wird sie vom aktiven Bereich des Halbleiters
entfernt, so daß sie nicht mehr zur Photoleitfähigkeit
beiträgt. Der Ausdruck für den Photoleitungsstrom iS
von HgCdTe abhängig von der Position ergibt sich aus
dem Ausdruck:
Es sind:
q die elektrische Ladung,
µp die Löcherbeweglichkeit
Φ der Signalfluß
η der Detektorwirkungsgrad
W und L die Breite bzw. die Länge des Bauele ments
b das Verhältnis von Elektronen- zu Löcher beweglichkeit und
τ' die effektive Lebensdauer der Ladungsträger an einem Punkt x für den Punkt 22 von Fig. 1a.
q die elektrische Ladung,
µp die Löcherbeweglichkeit
Φ der Signalfluß
η der Detektorwirkungsgrad
W und L die Breite bzw. die Länge des Bauele ments
b das Verhältnis von Elektronen- zu Löcher beweglichkeit und
τ' die effektive Lebensdauer der Ladungsträger an einem Punkt x für den Punkt 22 von Fig. 1a.
Die effektive Trägerlebensdauer kann herabgesetzt werden,
da Träger vor der Rekombination ausgeschwemmt werden,
so daß sich ergibt:
In dieser Gleichung sind τ die Rekombinationslebensdauer
in der Masse des Halbleiterkörpers und (L-x)/µpE die
Driftzeit zum Kontakt 16.
Die Gleichung 1 ist in den Fig. 2a und 2b für mehrere
verschiedene Vorspannungsbedingungen dargestellt. Die zwei
Fig. 2a und 2b sind für zwei entgegengesetzte Polaritäts
richtungen gezeichnet, d. h. die positiven und negativen
Klemmen 14 bzw. 16 sind in Fig. 2b vertauscht. In jedem
Fall erreichen die Minoritätsträger-Löcher dicht beim
negativen Kontakt den Kontakt bei niedrigen Vorspannungen,
was zu einem Empfindlichkeitsverlust dicht bei dem einen
Kontakt führt. Wenn die Vorspannung zunimmt, nimmt die
Empfindlichkeit im Ausschwemmbereich nicht zu, während sie
in dem Bereich, in dem keine Ausschwemmung erfolgt, zunimmt.
Bei hohen Vorspannungen werden Ladungen schließlich aus
dem gesamten Detektor ausgeschwemmt, so daß keine weitere
Signalvergrößerung erfolgt. Die Empfindlichkeit hat bei
der positiven Klemme 14 ein Maximum, und sie fällt bei
der negativen Klemme 16 im wesentlichen auf Null ab.
Fig. 3 zeigt den Ausschwemmeffekt in HgCdTe, wie es bei
Punktabtastmessungen beobachtet wird. In dieser Figur
sind die Empfindlichkeitsprofile 24 und 26 sowie 24′
und 26′ für niedrige bzw. hohe Feldstärken sowohl für
positive als auch für negative Vorspannungen dargestellt.
Wie erwartet ist der Ansprechverlauf bei niedrigeren
elektrischen Feldstärken über den aktiven Bereich des
Halbleiters im wesentlichen gleichmäßig. Bei größeren
elektrischen Feldstärken tritt die höhere Empfindlichkeit
andrerseits nahe bei der positiven Elektrode auf, während
der Ansprechverlauf dicht bei der negativen Elektrode
zu kleinen Werten abfällt. Die Abrundung der Kurven ist
hauptsächlich eine Folge der verwendeten Abtastpunktgröße
von 12 µm (0,5 mil). Wie bereits erwähnt wurde, erfolgt
eine Sättigung der Signalwerte, wenn der Vorspannungswert
so hoch wird, daß Ladungen aus dem gesamten Photoleiter
ausgeschwemmt werden.
Fig. 4 ist eine Darstellung des Signalsättigungsverlaufs,
der bei zunehmenden Feldstärken und bei einem festen Be
lichtungspunkt auftritt (Gleichung 1). Die zwei Kurven 28
und 30 gelten für die zwei Polaritätsrichtungen des
Detektors von Fig. 1a, damit zum Ausdruck gebracht wird,
daß die Sättigung ohne Rücksicht auf die Polarität erreicht
wird und daß bei einer Punktbelichtung in der Nähe der
positiven Klemme die Sättigung bei wesentlichen höheren
Feldstärken auftritt.
Der Unterschied zwischen positiven und negativen Vor
spannungssignalverläufen ist in den Fig. 5a und 5b ge
zeigt. Die zwei Kurven in jedem Diagramm der Fig. 5a
und 5b gelten für entgegengesetzte Polaritäten; ein Kurven
paar gilt für einen Lichtpunkt dicht bei einer Klemme,
während das zweite Paar für einen zur anderen Klemme
beweglichen Lichtpunkt gilt. Die Kurve von Fig. 5a ist
dem Idealverlauf sehr dicht angenähert. Die Signalsättigungs
spannung für die durch das Bauelement transportierten La
dungsträger beträgt 2,3 V. Für einen Abstand von 1,6 · 10-2 cm
hat das Produkt µpτ den Wert 1,1 · 10-4 cm²/V. Unter der
Annahme, von µ=500 cm²/Vs ergibt sich eine Lebensdauer
von 2 · 10-7 Sekunden.
Es sei bemerkt, daß die Signalsättigung für einen Lichtpunkt
dicht bei der in Fig. 5b aufgezeichnenten Klemmenposition
nicht ebenso ideal ist. Weitere Anzeichen für nicht ideale
Eigenschaften ergaben sich insbesondere bei hohen Vor
spannungen. Die bedeutendste nicht ideale Eigenschaft ist
ein Zeitkonstanteneffekt, der bei hohen Vorspannungswerten
beobachtet wird. Die Fig. 6a bis 6d veranschaulichen
dies. Bei niedrigen Vorspannungswerten von 0,5 V erscheint
die Signalspannung als Rechteckspannung, da die Ablenk
geschwindigkeit wesentlich niedriger als die bekannte An
sprechzeit in Bruchteilen einer Mikrosekunde ist. Wenn
die Vorspannung auf 1,0 V ansteigt, beginnt eine langsame
Komponente zu erscheinen. Diese Ansprechzeitkomponente
verschwindet bei 1,5 V, und sie tritt als Signalverlust
bei noch höheren Vorspannungswerten von 1,8 V wieder in
Erscheinung. Diese Wirkung war wesentlich stärker, wenn
ein Belichtungspunkt dicht bei der positiven Klemme lag,
und sie verschwand nahezu, wenn das Musterbauelement dicht
bei der negativen Klemme beleuchtet wurde.
Aus der obigen Erörterung ist zu erkennen, wie ein kleiner
Detektor eine Ansprechempfindlichkeit haben kann, die
wesentlich kleiner als die ist, die mittels einer einfachen
Photoleiteranalyse vorhergesagt wird, und die von den
elektrischen Kontakten hervorgerufen wird, die als
äußerst wirksame Rekombinationszonen wirken, die
den Photoleitungsvorgang bis zu einer Diffusionslänge
von den Kontakten weg stark verändern. Die Strecke einer
Lochdiffusionslänge Lp ergibt sich aus der Gleichung
Für 0,1 eV mit HgCdTe bei 77°K und einer Lochbeweglich
keit µp=600 cm²V-1s-1 ergibt sich aus dieser Gleichung:
Bei einer Lochlebensdauer von 2 µs würden somit Träger
in einem Abstand von bis zu 28 µm (1 mil) von den Kontakten
die Neigung zeigen, zu den Kontakten zu diffundieren und
dort zu rekombinieren. Die Rekombination bewirkt eine
wesentlich niedrigere Detektoransprechzeit, so daß
sie somit die Ansprechempfindlichkeit reduziert. Bei
einer quantitativen Analyse und einer Näherung durch
Betrachtung der effektiven Lebensdauer (τeff) für in
der Mitte eines Detektors erzeugte Ladungsträger wird
diese Erscheinung durch die folgende Gleichung angezeigt:
Die tatsächliche Auswirkung auf die Ansprechempfind
lichkeit wird erhalten, indem in die Gleichung für die
Spannungsansprechempfindlichkeit τeff für τp eingesetzt
wird. Dabei ergibt sich:
oder leistungsmäßig ausgedrückt:
wobei gilt:
η=Quantenwirkungsgrad,
ε=Bandlückenenergie
w=Detektorbreite
no=Elektronenkonzentration und
t=Detektordicke.
η=Quantenwirkungsgrad,
ε=Bandlückenenergie
w=Detektorbreite
no=Elektronenkonzentration und
t=Detektordicke.
Für kleine Detektoren ist L/Lp kleiner als 1, so daß
die Gleichung 5 zur folgender Gleichung wird:
Somit gilt:
Die Gleichung (9) zeigt, daß sich eine Verbesserung der
Ansprechempfindlichkeit ergibt, wenn L bei konstanter Lei
stung erhöht wird. Wenn L größer als Lp wird, wird der
Verbesserungsfaktor kleiner, und er verschwindet bei L≃5Lp.
Beispielsweise hatte ein HgCdTe-Detektor mit 0,1 eV bei
τp=4,0 µs und no=3 · 10¹⁴ cm-3 und mit einem Kontakt
abstand von 50 µm (2 mils) eine höchste beobachtete
Ansprechzeit von 0,63 µs. Bei Lp≃40 µm (1,6 mils)
ist L/Lp≃1,25.
Dies zeigt, daß eine beträchtliche Verbesserung der An
sprechempfindlichkeit erzielt wird, wenn L auf 3 Lp
oder mehr vergrößert wird. Somit würde sich bei einem
HgCdTe-Detektor mit 0,1 eV und mit Abmessungen von 50 µm
50 µm × 50 µm eine Annäherung an die optimale Ansprech
empfindlichkeit bei einem Kontaktabstand von 122 µm
(4,8 mils) ergeben. Der aktive Bereich von 50 µm × 50 µm
kann gleichbleiben, da die Definition der Ansprech
empfindlichkeit eine normierte aktive Zone enthält.
Ein Verfahren zur Herstellung eines kleinen Detektor
elements mit Abmessungen von etwa 2,5 · 10³ µm² bis
2,25 · 10⁴ µm² ist in den Fig. 7a bis 7c angegeben.
Ein Infrarotdetektor kann als lineares Feld aus mehreren
in einer Zeile angeordneten Detektorelementen herge
stellt werden. Jedes Detektorelement weist eine positive
Elektrode auf, und eine Gruppe von Detektorelementen kann
eine gemeinsame negative Elektrode aufweisen. In der
Praxis ist eine negative Elektrode für 5 Detektor
elemente gemeinsam vorhanden. In Fig. 7a ist ein Schnitt
eines Detektorplättchens aus in der Masse eigenleitendem
Halbleitermaterial wie HgCdTe dargestellt. Für ein
Detektorelement mit einer aktiven Zone von 50 µm × 50 µm
sollte die Breite des Plättchens so groß sein, daß ein
Abstand zwischen den positiven und negativen Kontakten
von wenigstens 122 µm ermöglicht wird. Das Plättchen 32
wird mit einer Metallmaske 34 versehen (Fig. 7b); die
Maske begrenzt den Elektrodenabstand 36. Das maskierte
Bauelement wird in eine Vakuumkammer gebracht und
auf seine Oberfläche wird eine nichtreflektierende
Schicht 38 aus Isoliermaterial mit den geeigneten
optischen Eigenschaften wie Zinksulfid aufgedampft.
Das Bauelement wird dann der Vakuumkammer entnommen,
und die zur Begrenzung des Elektrodenabstands verwendete
Metallmaske wird durch eine Maske zur Bildung der Kontakt
bereiche ersetzt. Beispielsweise aus Indium bestehende
Metallkontakte werden durch chemische Abscheidung,
thermisches Aufdampfen oder durch Aufstäuben gebildet.
Nach der Bildung der Kontakte 42 wird die Kontaktmaske 34
entfernt, und das Plättchen wird in einem Gehäuse 44
im Abstand unter einer Lochmaske 46 aus einem geeigneten
Material wie Metall oder einem hitzehärtenden Kunststoff
untergebracht, das Photonen absorbiert oder reflektiert.
Der Raum 48 zwischen der Lochmaske 46 und den Metall
kontakten 42 sowie dem Bereich 36 zwischen den Elektroden
bildet ein isolierendes Medium, wie beispielsweise ein Luft-
oder Vakuumraum. Die Lochmaske 46 ist mit einer Öffnung 50
versehen, die die aktive Zone 52 des Detektors zwischen
den Elektroden 42 begrenzt.
In den Fig. 8a bis 8c ist eine zweite Ausführungsform
der Erfindung dargestellt; Fig. 8a zeigt dabei einen Schnitt
des Plättchens 32 aus dem in der Masse eigenleitenden
Material. Die Metallmaske 34 wird über dem Plättchen 32
angebracht (Fig. 8b), damit der Elektrodenabstand auf
dem Plättchen festgelegt wird, worauf eine nichtreflektie
rende und isolierende Schicht 38 mittels des oben erwähnten
Aufdampfverfahrens gebildet wird. Die Metallmaske 34 wird
dann durch eine Maske ersetzt, die die Kontaktzonen und
den aktiven Bereich festlegt und den gewünschten aktiven
Bereich 52 des Plättchens absperrt. Auf den Metallkontakt
zonen und über dem Abschnitt des Bereichs 36 zwischen den
Elektroden, der von der Maske nicht abgesperrt ist,
werden dann mittels dem Fachmann bekannter Aufdampfver
fahren Metallkontakte 42 gebildet. Die Maske wird dann
entfernt, so daß der aktive Bereich offenbleibt. Auf diese
Weise kann die von der Öffnung 50 gebildete aktive Zone
beliebig klein gemacht werden, damit die unter Licht
einwirkung erfolgende Erzeugung von Trägern ausreichend
weit von den Kontakten entfernt stattfindet, so daß
ein vernachlässigbarer Verlust der Ansprechempfindlichkeit
auf Grund der Rekombination an den Kontakten ermöglicht
wird, die von der Minoritätsträgerdiffusion und/oder
von der Ausschwemmung bewirkt wird.
Der aktive Bereich muß nicht in der Mitte zwischen den
Kontakten liegen, doch sollte er bezogen auf die Diffusions-
oder Driftlänge der Minoritätsträger in einem gewissen Ab
stand von denn Elektroden liegen. Da die Kontakte vom
aktiven Bereich weg verlegt sind, haben die Ausschwemmung
und die Diffusion der Minoritätsträger einen verminder
ten Einfluß auf die Reduzierung der Ansprechempfindlich
keit. Wenn die elektrischen Kontakte bezüglich des aktiven
Bereichs auseinanderbewegt werden, nimmt die Ansprech
empfindlichkeit schneller zu, als sich der Widerstand des
sich vergrößernden Photoleiters zu einem Punkt zunimmt,
an dem nicht mehr Leistung aufgewendet wird. Für Erwei
terungen über etwa den dreifachen Wert der Diffusions
länge der Minoritätsträger muß mehr Leistung zur weiteren
Erhöhung der Ansprechempfindlichkeit verbraucht werden.
Somit gibt es für jeden bestimmten aktiven Bereich und
jedes Photoleitermaterial eine optimale Größe pro Einheits
leistung hinsichtlich der Ansprechempfindlichkeit.
Claims (1)
- Infrarotdetektor mit einem Plättchen aus eigenleitendem HgCdTe- Halbleitermaterial, auf dem im Abstand voneinander angrenzend an gegenüberliegenden Seiten des Plättchens zwei Elektroden an gebracht sind, dadurch gekennzeichnet, daß der Bereich (36) zwischen den Elektroden (42) durch eine Maske (46) abgedeckt ist, in der ein Loch (50) zur Erzeugung einer aktiven Detek torzone (52) angebracht ist, und daß das Loch (50) in einem Abstand von den Elektroden angebracht ist, der bis zu dreimal so groß wie die Diffusionslänge der Minoritätsladungsträger in dem Halbleitermaterial ist.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US05/553,346 US3963925A (en) | 1975-02-26 | 1975-02-26 | Photoconductive detector and method of fabrication |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2606994A1 DE2606994A1 (de) | 1976-09-09 |
DE2606994C2 true DE2606994C2 (de) | 1991-12-19 |
Family
ID=24209071
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19762606994 Granted DE2606994A1 (de) | 1975-02-26 | 1976-02-20 | Photodetektor und verfahren zu seiner herstellung |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US3963925A (de) |
DE (1) | DE2606994A1 (de) |
FR (1) | FR2309843A1 (de) |
GB (1) | GB1542679A (de) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2027985B (en) * | 1978-07-31 | 1983-01-19 | Philips Electronic Associated | Infra-red detectors |
EP0018744B1 (de) * | 1979-05-01 | 1984-07-18 | The Secretary of State for Defence in Her Britannic Majesty's Government of the United Kingdom of Great Britain and | Strahlungsdetektoren |
US4524378A (en) * | 1980-08-04 | 1985-06-18 | Hughes Aircraft Company | Anodizable metallic contacts to mercury cadmium telleride |
DE3381093D1 (de) * | 1982-04-19 | 1990-02-15 | Secr Defence Brit | Infrarot-photodetektorsysteme. |
US4464572A (en) * | 1982-05-06 | 1984-08-07 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Infrared photoemitting diode having reduced work function |
US5258619A (en) * | 1984-09-04 | 1993-11-02 | Hughes Aircraft Company | Pulsed bias radiation detector |
US4602158A (en) * | 1984-10-26 | 1986-07-22 | Itek Corporation | PbS-PbSe IR detector arrays |
DE19605384C1 (de) * | 1996-02-14 | 1997-02-13 | Fortech Hts Gmbh | Thermoelektrischer Sensor |
US6057586A (en) * | 1997-09-26 | 2000-05-02 | Intel Corporation | Method and apparatus for employing a light shield to modulate pixel color responsivity |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3013232A (en) * | 1957-12-16 | 1961-12-12 | Hupp Corp | Control of response curves for photoelectric cells |
US3187414A (en) * | 1959-02-05 | 1965-06-08 | Baldwin Co D H | Method of producing a photocell assembly |
US3361594A (en) * | 1964-01-02 | 1968-01-02 | Globe Union Inc | Solar cell and process for making the same |
DE1564847B2 (de) * | 1966-05-25 | 1976-02-12 | Telefunken Patentverwertungsgesellschaft Mbh, 7900 Ulm | Verfahren zur beeinflussung von elektromagnetischen schwingungen eines halbleiterelements zur lichtintensitaetsmessung |
US3671313A (en) * | 1969-11-13 | 1972-06-20 | Texas Instruments Inc | Surface contaminant removal |
NL7017290A (de) * | 1969-12-04 | 1971-06-08 | ||
US3851174A (en) * | 1973-05-04 | 1974-11-26 | Ibm | Light detector for the nanosecond-dc pulse width range |
US3842274A (en) * | 1973-11-15 | 1974-10-15 | Us Navy | Photoconductively activated gated, infrared charge coupled imaging device (pagirccd) |
US3962778A (en) * | 1973-12-17 | 1976-06-15 | General Dynamics Corporation | Photodetector array and method of manufacturing same |
-
1975
- 1975-02-26 US US05/553,346 patent/US3963925A/en not_active Expired - Lifetime
-
1976
- 1976-01-15 US US05/649,189 patent/US4073969A/en not_active Expired - Lifetime
- 1976-02-06 GB GB764716A patent/GB1542679A/en not_active Expired
- 1976-02-20 DE DE19762606994 patent/DE2606994A1/de active Granted
- 1976-02-20 FR FR7604695A patent/FR2309843A1/fr active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4073969A (en) | 1978-02-14 |
GB1542679A (en) | 1979-03-21 |
FR2309843A1 (fr) | 1976-11-26 |
US3963925A (en) | 1976-06-15 |
DE2606994A1 (de) | 1976-09-09 |
FR2309843B1 (de) | 1982-11-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE69617608T2 (de) | Detektor für ionisierende Strahlung | |
DE1789084A1 (de) | Duennschicht-Verknuepfungsglied und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE1007887B (de) | Halbleiterverstaerker | |
DE2025511A1 (de) | Halbleitervorrichtung mit einem HeteroÜbergang | |
DE1762282A1 (de) | Lichtempfindliche Speichereinrichtung mit Diodenanordnung | |
DE102007063625A1 (de) | Schneller Photoleiter | |
DE2636927C1 (de) | Halbleiteranordnung mit wenigstens einem Detektorelement | |
DE2607940A1 (de) | Mehrschichtiges halbleiterbauelement | |
DE1024640B (de) | Verfahren zur Herstellung von Kristalloden | |
DE2606994C2 (de) | ||
DE3411020C2 (de) | ||
DE1464315C3 (de) | Schaltungsanordnung mit einem strahlungsempfindhchen Halbleiter Schaltelement | |
DE2847778A1 (de) | Vorrichtung zur parallel-serien- umsetzung | |
DE2361635A1 (de) | Halbleiter-gammastrahlungsdetektor | |
DE2345686A1 (de) | Bildwiedergabe- und/oder -umwandlungsvorrichtung | |
DE3345044C2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Halbleiter-Fotodetektors | |
DE4331391A1 (de) | Halbleiter(detektor)struktur | |
WO1992020105A2 (de) | Halbleiterdetektor | |
DE1537148A1 (de) | Bildwandlerroehre | |
DE2930584C2 (de) | Halbleiterbauelement, das den Effekt der gespeicherten Photoleitung ausnutzt | |
DE2818002A1 (de) | Fluessigkristall-lichtventil | |
DE1957335C3 (de) | Strahlungsempfindliches Halbleiterbauelement und seine Verwendung in einer Bildaufnahmeröhre | |
DE1282803B (de) | Lichtempfindliche Festkoerpervorrichtung | |
DE1295613B (de) | Halbleiter-Speicherelektrodenanordnung mit einer Halbleiterschicht und Fernseh-Aufnahmeroehre mit einer solchen Speicherelektrode | |
DE1149460B (de) | Elektrische Halbleiteranordnung mit einem eigenleitenden Kristall aus Cadmiumsulfid,Cadmiumselenid, Zinksulfid, Zinkselenid oder Zinkoxyd |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition |