DE1295613B - Halbleiter-Speicherelektrodenanordnung mit einer Halbleiterschicht und Fernseh-Aufnahmeroehre mit einer solchen Speicherelektrode - Google Patents
Halbleiter-Speicherelektrodenanordnung mit einer Halbleiterschicht und Fernseh-Aufnahmeroehre mit einer solchen SpeicherelektrodeInfo
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- DE1295613B DE1295613B DEW45628A DEW0045628A DE1295613B DE 1295613 B DE1295613 B DE 1295613B DE W45628 A DEW45628 A DE W45628A DE W0045628 A DEW0045628 A DE W0045628A DE 1295613 B DE1295613 B DE 1295613B
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 68
- 238000003860 storage Methods 0.000 title claims description 22
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 36
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 21
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims description 9
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 claims 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 20
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 6
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 5
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 5
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 5
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 5
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 206010034133 Pathogen resistance Diseases 0.000 description 3
- 239000002800 charge carrier Substances 0.000 description 3
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 3-(oxolan-2-yl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC1CCCO1 WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052980 cadmium sulfide Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 239000000370 acceptor Substances 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940007424 antimony trisulfide Drugs 0.000 description 1
- NVWBARWTDVQPJD-UHFFFAOYSA-N antimony(3+);trisulfide Chemical compound [S-2].[S-2].[S-2].[Sb+3].[Sb+3] NVWBARWTDVQPJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);selenium(2-) Chemical compound [Se-2].[Cd+2] UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000039 congener Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000008094 contradictory effect Effects 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000006735 deficit Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 210000003608 fece Anatomy 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000003760 hair shine Effects 0.000 description 1
- 210000000003 hoof Anatomy 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 150000003346 selenoethers Chemical class 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/02—Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
- H01J29/10—Screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored
- H01J29/36—Photoelectric screens; Charge-storage screens
- H01J29/39—Charge-storage screens
- H01J29/45—Charge-storage screens exhibiting internal electric effects caused by electromagnetic radiation, e.g. photoconductive screen, photodielectric screen, photovoltaic screen
- H01J29/451—Charge-storage screens exhibiting internal electric effects caused by electromagnetic radiation, e.g. photoconductive screen, photodielectric screen, photovoltaic screen with photosensitive junctions
- H01J29/456—Charge-storage screens exhibiting internal electric effects caused by electromagnetic radiation, e.g. photoconductive screen, photodielectric screen, photovoltaic screen with photosensitive junctions exhibiting no discontinuities, e.g. consisting of uniform layers
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- H—ELECTRICITY
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
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- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S148/00—Metal treatment
- Y10S148/139—Schottky barrier
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S148/00—Metal treatment
- Y10S148/172—Vidicons
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
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Description
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Die Erfindung bezieht sich auf Speicherelektroden- fügbare Material zur Erfüllung dieser Bedingungen
anordnungen für Femseh-Aufnahmeröhren, insbeson- ist Antimon-Trisuffid, das jedoch unglücklicherweise
dere solche für Fernseh-Kameraröhren nach Art verschiedene andere Probleme aufwirft. Es verliert
eines Vidikons, und ist im einzelnen gerichtet seine Fotoleitfähigkeit, wenn es hohen Temperaturen
auf eine Halbleiter-Speicherelektrodenanordnung mit 5 ausgesetzt wird. Dadurch verbietet sich eine Vidikoneinem
Halbleiter-Speicherelement, das sich gegen- Herstellung mit Hufe üblicher Vakuumverfahren,
überliegende, erste und zweite Flächen besitzt, von Die fertige Röhre kann nicht durch eine Hochdenen
die erste Fläche eine Abtastfläche bildet, mit temperaturbehandlung entgast werden, von der
einem so angeordneten zweiten Leiter, daß dieser wiederum ihre Zuverlässigkeit abhängt. Außerdem
der zweiten Halbleiterfläche dicht benachbart ist und io besitzt Antimon-Trisulfid eine begrenzte nutzbare
sich wie diese erstreckt, und mit einer zwischen der Lebenserwartung und kann sowohl durch zu große
zweiten Halbleiterfläche und zweiten Leiter angeord- Lichtstärke als auch durch zu energiereiche Elekneten
Elektronenbarriere, um im wesentlichen jeden tronenstrahlen zerstört werden. Stromfluß zu verhindern. Erfindungsgemäß werden diese Schwierigkeiten
Die Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, daß die 15 durch Benutzung eines von der Fotoleitfähigkeit ab-Halbleiterschicht
aus η-leitendem Material mit weichenden Halbleitermechanismus zur Speicherung
höherer Konzentration tiefer Donatoren als flacher von ein Bild darstellende Energie überwunden. Da-Donatoren
besteht, derart, daß die tiefen Donatoren durch ist es nicht erforderlich, auf der Schirmfläche
durch einfallendes Licht ionisiert werden und ein ein Spannungsmuster zu bilden und aufrechtzuerhal-Ladungsdichtemuster
erzeugen, das für das Eingangs- 20 ten, wie dies bei einem Fotoleiter zur Erzeugung von
signal repräsentativ ist, ohne daß ein Spannungs- Ladungsträgern großer Lebendauer geschehen muß.
potential zwischen der Abtastfläche und dem zweiten Auf diese Weise wird die Auswahl unter den brauch-Leiter
erzeugt und aufrechterhalten werden müßte. baren Stoffen erhöht. Es lassen sich Stoffe verwen-
Von den heute verfügbaren Fernseh-Kameraröhren den, die große Lebensdauer und Dauerhaftigkeit bebietet
das Vidikon die meisten Vorteile hinsichtlich 25 sitzen sowie an die Herstellungsverfahren für Vaniedriger
Kosten und einfacher Einstellung. Das Vidi- kuumröhren angepaßt sind.
kon enthält einen flachen Fotoleiter, dessen eine Bei einem Ausführungsbeispiel der Erfindung ist
Fläche periodisch von einem Elektronenstrahl ab- eine Kameraröhre vom Vidikon-Typ vorgesehen,
getastet wird. Die gegenüberliegende Fläche ist mit die auf übliche Weise mit einer Kathode und Strahleinem
transparenten leitenden Film beschichtet und 30 formungs- sowie Ablenkeinrichtungen ausgestattet
wird dem eintreffenden Licht ausgesetzt. Der leitende ist. Der Kathode liegt ein flacher η-leitender HaIb-FiIm
ist positiv mit Bezug auf die Kathode der Röhre leiter gegenüber, dessen eine Fläche die Schirmfläche
vorgespannt, von der der Elektronenstrahl ausgeht. -bildet. Zwischen der anderen Fläche des Halbleiters
Das Licht, das auf die verschiedenen Teile des und einem transparenten leitenden Film ist ein
Fotoleiters auftrifft, hebt Elektronen aus dem Valenz- 35 transparenter Isolator angeordnet. Ein am Umfang
band in das Leitungsband, wodurch örtlich der der Schirmfläche befestigter Leiter liegt auf einer
Widerstand in Abhängigkeit von der Lichtstärke her- niedrigen positiven Spannung mit Bezug auf den
abgesetzt wird. Elektronen, die durch den Elektronen- leitenden Film.
strahl auf die Schirrnfiäche des Fotoleiters gelangt Der Halbleiter enthält einen großen Anteil »tiefer«
sind, wandern daher durch jedes Stückchen des Foto- 40 Donatoren, d.h. Donatoren, die bei der Betriebsleiters
in einer Menge zu dem leitenden Film, die temperatur thermisch nicht ionisiert werden können,
durch die mittlere Lichtstärke bestimmt wird, der das Licht jedoch, das durch den transparenten leitenden
jeweilige Stückchen ausgesetzt worden ist. Während sowie nichtleitenden Film eintritt, hebt Elektronen
des Zeitabschnitts (Bildperiode), der zur Abtastung dieser tiefen Donatoren in das Leitungsband. Danach
der gesamten Schirmfläche erforderlich ist, wird dann 45 werden die Elektronen durch das Raumladungsfeld
ein Spannungsmuster auf der Schirmfläche gebildet. über den Leiter auf der Schirmfläche vom Halbleiter
Wenn der Elektronenstrahl die Schirmfläche erneut weggeführt. Zurück bleiben positive Ionen des tiefen
abtastet, ändert sich die von ihm abgegebene Ladung Donators. Diese Ionen sind praktisch unbeweglich,
zeith'ch entsprechend dem auf dem Fotoleiter ge- Ihre relative Konzentration zeigt daher die örtliche
speicherten Spannungsmuster und daher entsprechend 5° Lichtintensität an. Von den Ionen des tiefen Donader
über aufeinanderfolgende Abschnitte des Foto- tors werden Elektronen aus dem Elektronenstrahl
leiters integrierten Beleuchtungsstärke. Auf Grund angezogen und rekombinieren mit diesen, wodurch
einer kapazitiven Kopplung zeigen sich Unterschiede die örtliche Spannung über dem Isolator herabgesetzt
der Elektronenablagerung durch Stromänderungen im wird. Die Spannungsänderungen führen zu Stromleitenden
Film, die als Video-Ausgangssignal benutzt 55 änderungen in dem leitenden Film, die als Videowerden.
Ausgangssignale benutzt werden.
Bei den bekannten Einrichtungen ergibt sich eine Einer der erfindungsgemäß erzielten technischen
prinzipielle Schwierigkeit dadurch, daß die Vidikon- Vorteile besteht darm, daß, da die in der Vorrich-Fotoleiter
einander widersprechenden Bedingungen rung gespeicherte Energie durch die relative Kongenügen
müssen: Zur Erzielung einer brauchbaren 60 zentration unbeweglicher Ionen des tiefen Donators
Empfindlichkeit muß ihr lichtabhängiger spezi- gebildet wird, das oben beschriebene Problem Mnfischer
Widerstand niedrig genug sein, während ihr sichtlich des Querwiderstandes von kleinerer Bedeu-Querwiderstand
in Richtung der Schirmfläche ge- rung als bei üblichen Vidikons ist. Es können HaIbnügend
groß ist, um das Spannungsmuster während leiter benutzt werden, die dauerhafter sind und
der Bildperiode festzuhalten. Große Querströme auf 65 weniger Herstellungsprobleme mit sich bringen als
Grund eines ungenügenden Querwiderstandes »ver- übliche Vidikon-Fotoleiter. Ein weiterer und mögschmieren«
das durch den Elektronenstrahl abge- licherweise noch bedeutsamerer Vorteil besteht darin,
lesene Bild. Das am meisten befriedigende, heute ver- daß die Anforderungen an das Material anders sind,
da der Betriebsmechanismus grundsätzlich von dem herkömmlicher Vidikons abweicht.
Die Lösung der erläuterten Schwierigkeiten und die erfindungsgemäßen Vorteile werden im folgenden
an Hand der Zeichnungen noch näher beschrieben; es zeigt
F i g. 1 die schematische Ansicht einer Fernseh-Kameraröhre
nach einem Ausfuhrungsbeispiel der Erfindung,
F i g. 2 die vergrößerte schematische Ansicht des Schirmaufbaus der Kameraröhre nach F i g. 1,
F i g. 3 die Aufsicht 3-3 gemäß F i g. 2,
Fig. 4 ein typisches Energieband-Diagramm für den Schirmaufbau nach F i g. 2,
F i g. 5 ein typisches Energieband-Diagramm für den Schirmaufbau nach Fig. 2 unter der Einwirkung
von Lichtenergie,
Fig. 6 ein typisches Energieband-Diagramm eines Teils des Halbleiters nach Fig. 2 zur Erläuterung
verschiedener Erregungsmechanismen,
Fig. 7 die schematische Ansicht einer Fernseh-Kameraröhre nach einem weiteren Ausführungsbeispiel
der Erfindung.
In Fig. 1 ist als Ausführungsbeispiel der Erfindung eine Fernseh-Kameraröhre 10 nach Art eines
Vidikons gezeigt. Sie weist eine Kathode 11 zur Formung eines Elektronenstrahls auf, der auf eine
Schirmanordnung 12 projiziert wird. Die Röhre enthält übliche Anordnungen zur Ausrichtung, Beschleunigung
und Fokussierung eines Elektronen-Strahls sowie übliche Einrichtungen zur Ablenkung
des Strahls in einer Folge von Zeilen und Bildern. Von der dem Elektronenstrahl gegenüberliegenden
Seite fällt Licht auf die Schirmanordnung. Das Licht wird auf den Schirm fokussiert und definiert ein Bild,
das gespeichert und übertragen werden soll. Der Zweck der Röhre besteht wie bei einem herkömmlichen
Vidikon darin, die ankommende Lichtenergie in elektrische Energie umzuwandeln, diese zu speichern
und dann in Form eines kontinuierlichen, durch den Ausgangspfeil angedeuteten Videosignals
abzugeben.
Gemäß F i g. 2 und 3 enthält die Schirmanordnung 12 nach der Erfindung einen Halbleiter 14, dessen
eine Fläche den Elektronenstrahl-Auftreffschirm 15 bildet und dessen andere Seite auf einem transparenten
Isolierfilm 16 befestigt ist. Ein transparenter leitender Film 17 ist mit dem Isolierfilm 16 und einer
transparenten Glasunterlage 18 verbunden, die Teil des in F i g. 1 gezeigten Röhrenkolbens bildet. Ein
Gitterleiter 20 mit einer Anordnung von parallelen Leiterstreifen 21 ist mit der Schirmfläche 15 verbunden
und liegt auf einer positiven Spannung VB mit Bezug auf den leitenden FUm 17. Der Gitterleiter 20
erzeugt eine sich über die gesamte Schirmfläche erstreckende Äquipotentialfläche. Eine den Gitterleiter
überdeckende Isolierschicht 22 schirmt den Gitterleiter gegen den Elektronenstrahl ab. Zum Zweck
größerer Klarheit sind die Abmessungen in der Darstellung verzerrt worden.
Erfindungsgemäß wird der Halbleiter so behandelt, daß er η-leitend ist. Er enthält also vorwiegend
Donatoren anstatt Akzeptoren. Außerdem besitzt er eine höhere Konzentration von »tiefen« Donatoren
als von »flachen« Donatoren. »Tiefe« Donatoren sind solche, die durch eine thermische Bewegung bei der
Temperatur, der sie ausgesetzt sind, nicht ionisiert werden können, während »flache« Donatoren sich
thermisch ionisieren lassen. Die Bedeutung dieses Unterschieds und die Funktion der Schirmanordnung
läßt sich besser an Hand der Energieband-Diagramme der Fig. 4 bis 6 verstehen.
In F i g. 4 stellen die Abschnitte M, I, S die Energiebandverteilung
in dem transparenten leitenden Film 17 bzw. dem Isolierfilm 16 bzw. dem Halbleiter
14 dar. Der Buchstabe C bezeichnet die untere Grenze der Leitungsbänder, der Buchstabe V die
obere Grenze der Valenzbänder und der Buchstabe F den Fermi-Pegel. Die Indizes 1 geben Bandformen
ohne Vorspannung über der Anordnung an, und die Indizes 2 zeigen den Einfluß der angelegten Vorspannung
VB gemäß F i g. 2.
Bei der Vorspannung Null ist der Fermi-Pegel F1
allen drei Materialien gemeinsam. Er liegt natürlich näher an der Leitungsbandgrenze C5 ί des Halbleiters
als an der Valenzbandgrenze VSv da es sich um
einen η-leitenden Halbleiter handelt. Wenn die Vorspannung VB (vgl. Fig. 2) angelegt wird, verbiegen
sich die Grenzen des Leitungs- und Valenzbandes für den Halbleiter in die durch Q2 und F52 angegebene
Lage, wobei die Energiedifferenz zwischen Fl und Fl gleich VB ist. Elektronen von flachen Donator-Atomen,
die thermisch in das Leitungsband gehoben werden, werden durch das elektrische Feld weggeschwemmt
und durch den Gitterleiter 20 auf der Schirmfläche abgeleitet. Es bleiben positive Ionen der
flachen Donatoren zurück, die einen Entleerungsoder Raumladungsbereich 5C2 definieren.
Da die Filme 16 und 17 transparent sind, fällt Licht direkt auf den Halbleiter auf und ändert seine
Energieband-Konfiguration, wie in Fig. 5 gezeigt. Das ankommende Licht spaltet Elektronen von tiefen
Donatoren ab und erzeugt damit eine größere Konzentration positiver Ionen als vorher vorhanden war.
Die von tiefen Donatoren abgespaltenen Elektronen werden, wie diejenigen von den flachen Donatoren,
vom Halbleiter durch den Gitterleiter 20 auf der Schirmfläche abgezogen.
Dadurch wird die Raumladungszone SC3 verkürzt
und der Spannungsabfall über dem Halbleiter S herabgesetzt. Gleichzeitig erhöht sich der örtliche
Spannungsabfall über dem Isolator /. Sieht man den Isolator als Dielektrikum zwischen parallelen
Kondensatorplatten an, so ist die erhöhte Spannung über dem Isolator das Äuquivalent einer Kondensatorladespannung.
In Fig. 6 sind verschiedene Erregungsmechanismen
im Halbleiter dargestellt. Volle Punkte bezeichnen Elektronen, in Kreisen angeordnete positive Symbole
positive Ionen und einfache positive Symbole Löcher. Der Energiepegel des flachen Donators liegt
genügend dicht am Leitungsband, um die thermische Erregung eines Elektrons 25 zu ermöglichen, wobei
ein Ion 26 des flachen Donators zurückbleibt. Eintreffendes Licht kann tiefe Donatoren entweder durch
eine direkte oder eine indirekte Lichterregung ionisieren. Die direkte Erregung ergibt sich bei einem
Auftreffen eines Photons auf einen tiefen Donator, wodurch ein Elektron 27 in das Leitungsband gehoben
und ein positives Ion 28 des tiefen Donators erzeugt wird. Eine indirekte Erregung ergibt sich
dann, wenn ein Elektron 29 aus dem Valenzband in das Leitungsband gehoben wird, wodurch ein Loch
31 im Valenzband entsteht. Ein Elektron 30 von einem Atom des tiefen Donators rekombiniert dann
mit dem Loch 31, wodurch ein Ion 32 des tiefen
Donators entsteht. Die relative Ionenkonzentration des ,tiefen Donators ist eine Funktion der Zahl ankommender
Photonen und daher der relativen Intensität des an verschiedenen Stellen entlang der Grenzfläche
zwischen dem Halbleiter und dem Isolator ankommenden Lichts. Die sich ergebende Verteilung
der Ladungsfläche entlang der Grenzfläche bleibt bestehen, da die Ionen des tiefen Donators praktisch
unbeweglich sind.
rial eine der Π-VT-Verbindungen, beispielsweise
Cadmiumsulfid oder Cadmiumselenid, oder eine ΙΠ-V-Verbindung, beispielsweise Galliumarsenid, benutzt
wird. Diese Materialien lassen sich in hohen Konzentrationen mit tiefen Donatoren mit Hilfe üblicher
Verfahren dotieren, und die Konzentration der tiefen Donatoren kann in bekannter Weise auf verschiedenen
Wegen bestimmt werden. Weiterhin sind die Ladungsträger-Beweglichkeit und die dielek-
Ein die Verteilung der Ladungsdichte wiedergeben- io trische Erholungszeit von Cadmiumsulfid, Cadmiumdes
Video-Ausgangssignal entsteht, wenn die Schirm- selenid oder Galliumarsenid günstig für eine seitliche
Elektronenübergangszeit, die groß ist mit Bezug auf die Rekombinationszeit. Typische Abmessungen der
Schirmanordnung sind die folgenden: Länge und Breite V2XV2 Zoll, Halbleiterdicke 1
bis 10 Mikron; Dicke des Isolierfilms 0,1 Mikron; Dicke des leitenden Films 0,1 Mikron. Die parallelen
Streifen 21 des Gitterleiters 20 können jeweils etwa 10 Mikron breit sein und einen Abstand voneinander
nung nach der Erfindung einer Folge von Konden- 20 von etwa 100 Mikron haben. Sie können, durch einen
satoren mit unterschiedlicher Ladung analog. Unter- Isolator bedeckt sein, der mehrere Zehntel eines
schiedliche, auf entgegengesetzten Seiten jedes Isolatorstückchen gespeicherte Ladungen geben die durchschnittliche
Lichtintensität auf dem jeweiligen Stückchen während einer Bildperiode an.
Beim Auftreffen des Elektronenstrahls auf Jedes Schirmstückchen rekombinieren Strahlelektronen, mit
fläche durch den Elektronenstrahl abgetastet wird. Der·WiderstandRL (Fig. 1) ist Teil einer Schaltung,
die durch die Batterie und die Schirmanordnung gebildet wird, wobei das Ausgangssignal eine Funktion
des durch den Widerstand RL fließenden Stroms ist.
Während bei einem herkömmlichen Vidikon der Schirm einer Folge von Widerständen mit unterschiedlichem
Wert entspricht, ist die Schirmanord-
den Ionen des tief en Donators und entladen damit den durch das Stückchen gebildeten Kondensator. Auf
Grund der Entladung fließt ein Stromanteil über den Widerstand RL, und es wird eine Spannung an den
Ausgangsanschlüssen erzeugt. Die aufeinanderfolgenden Ausgangsspannungenhängen daher an der Ladung
aufeinanderfolgender, durch die Stückchen gebildeter
Mikrons dick und etwa 30 Mikron breit ist. Es lassen sich übliche Dünnfihnverfahren, insbesondere eine
Dampfabscheidung, zur Herstellung der Schirmanordnung mit diesen Abmessungen benutzen. Für
eine Anwendung, bei der eine kleinere Auflösung zulässig ist, kann einkristallines Material mit oder ohne
epitaxial gewachsenen Schichten ebenfalls verwendet werden.
Der Gitterleiter 20 auf der Schirmfläche kann auf etwa -f 1 Volt mit Bezug auf den leitenden Film 17
und auf etwa +5 bis + 30 Volt mit Bezug auf die Kathodell liegen. Bei diesen Werten und einer üblicherweise
in Vidikon-Röhren benutzten Elektronen-
Kondensatoren ab, so daß die zeitveränderliche Aus- 35 strahldichte sind der Diffusionsgradient und die
gangsspannung eine Funktion der mittleren räum- Raumladungskräfte auf auftreffende Strahlelektronen
liehen Verteilung der Lichtintensität auf der Schirmfläche während einer Bildperiode ist. Der Abstand
der parallelen Streifen 21 des Gitterleiters 20 ist so
in geeigneter Weise so, daß eine genügende Diffusion in den Halbleiter stattfindet, um eine im wesentlichen
vollständige Rekombination mit den ionisierten gewählt, daß die Elektronen weggeschwemmt wer- 40 Atomen des tiefen Donators entsprechend der Erfinden,
bevor sie mit positiven Ionen in benachbarten dung sicherzustellen. Der Abstand der parallelen
Bereichen rekombinieren können. Nach dem Abtasten laden sich die von den tiefen Donatoren gebil
deten Teilkondensatoren auf Grund des eintreffenden
Streifen 21 ist genügend klein, um eine Beeinträchtigung
der Auflösung auf Grund einer störenden Elektronen-Rekombination zu vermeiden. Abhängig von
Lichts wieder auf. Ie nach der verwendeten speziel- 45 den Eigenschaften des Halbleiters oder der gewünschlen
Einrichtung kann der Ladestrom die gewonnene ten Auflösung können andere Abstände benutzt wer-Signalspannung
stören oder auch nicht stören. Da der
Ladestrom vom Gitterleiter 20 auf der Schirmfläche
fließen muß, kann der Strom von der Batterie zum
Leiter 20 abgetastet und zur Beseitigung dieser so
Schwierigkeit vom Ausgangssignal abgezogen werden.
Geeignete Schaltungen zu diesem Zweck sind dem
Fachmann zugänglich. Zur Erzielung günstiger Betriebseigenschaften soll die Konzentration des tiefen
Ladestrom vom Gitterleiter 20 auf der Schirmfläche
fließen muß, kann der Strom von der Batterie zum
Leiter 20 abgetastet und zur Beseitigung dieser so
Schwierigkeit vom Ausgangssignal abgezogen werden.
Geeignete Schaltungen zu diesem Zweck sind dem
Fachmann zugänglich. Zur Erzielung günstiger Betriebseigenschaften soll die Konzentration des tiefen
Donators im Halbleiter größer als etwa 1017/cm sein 55 Es läßt sich zeigen, daß eine günstige Auflösung bei
und vorzugsweise im Bereich von 1019/cm liegen, einem Vidikon-Betrieb sichergestellt ist, wenn außerwährend
die Konzentration des flachen Donators klei- dem der spezifische Widerstand des Halbleiters in
ner als etwa 1016/cm sein soll. Um eine indirekte einen Bereich zwischen 106 und 3 ■ 1010 Ohm · cm
Erregung zu ermöglichen, soll die Bandlücke (BG in gelegt wird. Die untere Grenze dieses Bereichs reicht
F i g. 6) oder der Energieabstand zwischen dem Va- 60 zur Erzielung einer Grund-Ausgangsfrequenz von
leiz-und dem Leitungsband kleiner als die Photonen- 106Hz aus, und die oberen Grenze bewirkt eine
energie, des zu speichernden Lichts sein. Auf jeden dielektrische Erholungszeit, die ausreicht, um Elek-FaE
darf der Energieabstand zwischen den tiefen tronen mit Hufe des Gitterleiters innerhalb einer Bild-Donatoren
und dem Leitungsband nicht größer als periode von V30 Sekunde auszuschwemmen. Die
die Photonenenergie sein. Wenn andererseits die 65 untere Grenze kann noch niedriger gelegt werden,
den. Wie unten beschrieben, können die Streifen
auch weggelassen werden, wenn eine Entfernung der Elektronen durch Sekundäremission benutzt wird.
Wenn die Konzentration des flachen Donators und
die Elektronenbeweglichkeit" so sind, daß die Queroder seitliche Leitfähigkeit hoch ist, kann die Auflösung
durch eine in Querrichtung erfolgende Ausbreitung der Strahlelektronen beeinträchtigt werden.
Bändlücke zu klein ist, ist das. Dotieren von tiefen Bimätoren schwierig. Diese verschiedenen Anforderungen
lassen sich erfüllen, wenn als Halbleitermatewenn die Rekombination in weniger als 10~6 Sekunden
stattfinden kann.
Die parallelen Streifen 21 können wegfallen, wenn
Die parallelen Streifen 21 können wegfallen, wenn
dafür gesorgt wird, daß derjenige Teil der durch den
Elektronenstrahl in den Halbleiter eingeführten Elektronen, der die Zahl der für eine Rekombination mit
dem tiefen Donator erforderlichen Elektronen übersteigt, abgeführt wird. Das läßt sich beispielsweise
durch eine zeitabhängige Modulation der Elektronenstrahlenergie um ihren Mittelwert erreichen; bei
Strahlenergien, die kleiner als diese Mittelwerte sind, werden Elektronen eingeführt, und bei höheren Energien
werden Elektronen auf Grund' einer Sekundäremission abgeführt. Der Strahl kann durch Beaufschlagen
eines Gitters des Elektronenstrahlerzeugungssystems mit einem Modulationssignal aus der
Quelle 23 (Fig. 1) in seiner Geschwindigkeit moduliert werden. Für einen Betrieb entsprechend einer
Grund-Ausgangsfrequenz von 106 Hz sollte die Modulationsfrequenz (1 bis 10) · 106 Hz betragen. Eine
Ausbildung der entsprechenden Röhrenparameter derart, daß sich ein Sekundäremissionsverhältnis größer
als Eins bei Elektronen hoher Energie ergibt, liegt im Rahmen des fachmännischen Könnens.
Aus der vorstehenden Beschreibung ergibt sich, daß der Zweck des Isolierfilms 16 darin besteht, jeden
Stromfluß zwischen dem Halbleiter 14 und dem leitenden Film 17 zu verhindern; der Isolierfilm stellt
eine Elektronenbarriere dar. Alternativ kann eine Elektronenbarriere zwischen dem Metall und dem
Halbleiter durch Aufschichten des Halbleiters direkt auf das Metall derart erzeugt werden, daß ein
pn-übergang entsteht, der bei einer Vorspannung in Sperrichtung im wesentlichen isoliert. Da außerdem
der Halbleiter 14 dünn ist, ist es grundsätzlich nicht erforderlich, daß das ankommende Licht auf die der
Schirmfläche gegenüberliegende Seite des Halbleiters auftrifEt. Es könnte auch auf die Schirrnfläche gerichtet
werden. Diese beiden Alternativen der Erfindung sind durch das Ausführungsbeispiel gemäß F i g. 7
dargestellt.
Die Fernseh-Kameraröhre 40 in F i g. 7 besitzt eine Schirmanordnung 41, die einen η-leitenden Halbleiter
42 aufweist, der mit einem pn-Ubergangskontakt auf einem Leiter 43 angebracht ist. Ein Gitterleiter 44 ist
mit der Schirrnfläche des Halbleiters auf die gleiche Weise wie der Schirmflächenleiter nach F i g. 3 verbunden.
Die Röhre 40 stellt eine Kameraröhre nach" Art eines Ikonoskops dar und weist eine Kathode 45
zur Bildung eines Elektronenstrahls auf, der auf bekannte Weise so abgelenkt wird, daß er die Schirmfläche
in einer Folge von Zeilen und Bildern abtastet. Die Kathode 45 ist so verlagert, daß das Licht direkt
auf die von dem Elektronenstrahl abgetastete Schirmfläche fokussiert werden kann.
Der Speicher- und Ablesemechanismus ist im wesentlichen der gleiche wie bei der Anordnung nach
Fig. 1. Tiefe Donatoren im Halbleiter werden durch das auftreffende Licht ionisiert, und der abtastende
Elektronenstrahl erzeugt eine Ausgangsspannung über dem Widerstand RL in Abhängigkeit von der
sich im Halbleiter ergebenden Verteilung der Ladungsdichte. Die von tiefen und flachen Donatoren
und aus dem Valenzband in das Leitungsband des Halbleiters gehobenen Elektronen werden durch den
Schirmflächenleiter 44 abgezogen. Der Übergang zwischen dem Leiter 44 und dem Halbleiter 42 bildet
eine genügend hohe Barriere, um jeden Stromfluß zu verhindern.
Obwohl großflächige pn-Übergänge durch eine Dampfabscheidung von Halbleitermaterial auf Metall
in einer Dicke von nur wenigen Mikron hergestellt werden können und hergestellt worden sind, soll betont
werden, daß große Sorgfalt bei der Herstellung erforderlich ist, um einen Übergang oder eine Barrierenschicht
zu erzeugen, die eine einheitliche große Energiedifferenz zwischen dem Metall und dem Halbleiter
aufweist, damit sie unter Vorspannung in Sperrrichtung einheitlich und im wesentlichen vollständig
isoliert. Örtliche Unvollkommenheiten der beschichteten Metallfläche, Fremdverunremigungen oder eine
unregelmäßige Abscheidung kann zu Grenzflächenbereichen führen, die Ladungsträger in großer Zahl
erzeugen, wodurch ein schlechter pn-Übergangskontakt entsteht. Es ist bekannt, daß die Kanten des
Metall-Halbleiterübergangs maskiert werden sollten, um das Kanten-Ladungsträgererzeugungsproblem
möglichst zu verkleinern.
Claims (13)
1. Halbleiter-Speicherelektrodenanordnung mit einer Halbleiterschicht, die sich gegenüberliegende,
erste und zweite Flächen besitzt, von denen die erste Fläche eine Abtastfläche bildet,
mit einem so angeordneten zweiten Leiter, daß dieser der zweiten Halbleiterfläche dicht benachbart
ist und sich wie diese erstreckt, und mit einer zwischen der zweiten Halbleiterfläche und dem
zweiten Leiter angeordneten Elektronenbarriere, um im wesentlichen jeden Stromfluß zu verhindern,
dadurch gekennzeichnet, daß die Halbleiterschicht (14) aus η-leitendem Material
mit höherer Konzentration tiefer Donatoren als flacher Donatoren besteht, derart, daß die tiefen
Donatoren durch einfallendes Licht ionisiert werden und ein Ladungsdichtemuster erzeugen, das
für das Eingangssignal repräsentativ ist, ohne daß ein Spannungspotential zwischen der Abtastfläche
(15) und dem zweiten Leiter (17) erzeugt und aufrechterhalten werden müßte.
2. Halbleiter-Speicherelektrodenanordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß ein
erster Abtastflächen-Gitterleiter (20) auf der ersten Fläche (15) der Halbleiterschicht (14) angeordnet
ist.
3. Halbleiter-Speicherelektrodenanordnung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß
die Elektronenbarriere einen flachen Isolator (16) aufweist, der zwischen dem zweiten Leiter (17)
und der zweiten Halbleiterfläche der Halbleiterschicht (14) befestigt ist.
4. Halbleiter-Speicherelektrodenanordnung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß der zweite Leiter (17) mit der zweiten Halbleiterfläche der Halbleiterschicht (14) über einen
Verbindungskontakt, der die Elektronenbarriere darstellt, verbunden ist.
5. Halbleiter-Speicherelektrodenanordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, daß die Konzentration des tiefen Donators im Halbleiter (14) größer als IO17
je Kubikzentimeter beträgt und daß die Konzentration des flachen Donators kleiner als 10le je
Kubikzentimeter ist.
6. Halbleiter-Speicherelektrodenanordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, daß der Halbleiter (14) eine Verbindung aus der Gruppe ist, die aus
909 521/334
Π-VI-Verbindungen und IH-V-Verbindungen mit
einem spezifischen Widerstand im Bereich von 106 bis 3 · ΙΟ10 Ohm · cm besteht.
7. Halbleiter-Speicherelektrodenanordnungnäch einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet,
daß der erste Abtastflächen-Gitterleiter (20) durch eine Anordnung paralleler leitender
Streifen (21) gebildet wird, die sich über die Abtastfläche. (15) erstrecken, und daß der Gitterleiter
im wesentlichen über die gesamte Abtastfläche eine Äquipotentialfläche herstellt, die höhere
positive Spannung hat als die Gleichspannung des zweiten Leiters (17).
S.Halbleiter-Speicherelekrrodenanordnungnach
einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß der zweite Leiter (17) auf einer
höheren positiven Gleichspannung als die Kathode (11) gehalten ist.
9.Halbleiter-Speicherelektrodenanordnungnach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch, ge- so
kennzeichnet, daß der Äbtastflächen-Gitterleiter
(20) eine Anordnung paralleler leitender Streifen
(21) aufweist, die jeweils mit isolierendem Material (22) überdeckt und durch einen Abstand von
etwa 100 Mikron getrennt sind. ' as
10. Fernseh-Aufhahmeröhre mit einer Halbleiter-Speicherelektrodenanordnung
nach Anspruch 1 und einem der Ansprüche 3 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Speicherelektrodenanordnung
durch eine Elektronenstrahlvorrichtung abgetastet wird, um ein elektrisches Signal
zu erzeugen, das eine Funktion aufeinanderfolgender örtlicher Raumladungsdichten des
Halbleiters (14) ist.
11. Femseh-Aufnahmeröhre nach Anspruch 10,
dadurch gekennzeichnet, daß die Geschwindigkeit des Elektronenstrahls zwischen einem Wert, bei
dem das Sekundäremissionsverhältnis der Speicherelektrodenanordnung
größer als Eins ist, und einem Wert verändert wird, bei dem das Sekundäremissionsverhältnis
der Speicherelektrodenanordnung kleiner als Eins ist.
12. Fernseh-Aufnahmeröhre nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die Änderungsfrequenz
etwa in einem Bereich zwischen 106 und IO7 Hz liegt.
13. Fernseh-Aufnahmeröhre mit einer Halbleiter-Speicherelektrodenanordnung
nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Speicherelektrodenanordnung durch eine
Elektronenstrahlvorrichtung abgetastet wird, um ein elektrisches Signal zu liefern, das eine Funktion
auf einanderfolgender örtlicher Raumladungsdichten des Halbleiters ist.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US614457A US3403278A (en) | 1967-02-07 | 1967-02-07 | Camera tube target including n-type semiconductor having higher concentration of deep donors than shallow donors |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1295613B true DE1295613B (de) | 1969-05-22 |
Family
ID=24461329
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DEW45628A Pending DE1295613B (de) | 1967-02-07 | 1968-02-06 | Halbleiter-Speicherelektrodenanordnung mit einer Halbleiterschicht und Fernseh-Aufnahmeroehre mit einer solchen Speicherelektrode |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3403278A (de) |
JP (1) | JPS4529611B1 (de) |
BE (1) | BE710309A (de) |
DE (1) | DE1295613B (de) |
FR (1) | FR1553244A (de) |
GB (1) | GB1150189A (de) |
NL (1) | NL6800178A (de) |
SE (1) | SE335182B (de) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US3403278A (en) | 1968-09-24 |
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