DE2522576A1 - Verfahren zum entfernen unerwuenschter elemente, insbesondere h tief 2 und o tief 2 beim elektroschlackeumschmelzen und anordnung zur durchfuehrung des verfahrens - Google Patents
Verfahren zum entfernen unerwuenschter elemente, insbesondere h tief 2 und o tief 2 beim elektroschlackeumschmelzen und anordnung zur durchfuehrung des verfahrensInfo
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Description
Ma 1499
!Belegexemplar
Gebr. Böhler & Co., Aktiengesellschaft, Wien
Verfahren zum Entfernen unerwünschter Elemente, insbesondere H2 und O2 beim Elektroschlackeumschmelzen und Anordnung zur
Durchführung des Verfahrens.
Es ist bereits ein Verfahren zur Herstellung von Gußblöcken aus hochschmelzenden Metallen, insbesondere aus Stahl, bekannt,
bei dem beim Abschmelzen mindestens einer selbstverzehrenden Elektrode mit Wechselstrom in einer elektrisch
leitenden flüssigen Schlacke, beim sogenannten Elektroschlakkeumschmelzen, die Schmelzelektrolyse dazu ausgenützt wird,
die Richtung metallurgischer Reaktionen zu steuern und unerwünschte Elemente wie Schwefel, Sauerstoff usw. in verstärktem
Ausmaß aus der Schmelze zu entfernen. Hierbei wird von der Tatsache Gebrauch gemacht, daß die Schlacke, welche in
der Umschmelzanlage infolge der beim Stromdurchgang entstehenden Joule'sehen Wärme im geschmolzenen Zustand vorliegt,
weitgehend ionisiert ist, und daß die einzelnen Ionen durch Überlagerung eines Gleichstromes in der Schlacke bewegt werden.
509882/0876
Beim Elektroschlackeumschmelzen mit Wechselstrom ändert sich die Polarität von Elektrode und flüssigem Blocksumpf periodisch
analog mit der Netzfrequenz. Wenn z.B. die Elektrode die positive Halbwelle durchläuft, bildet der Blocksumpf den
negativen Pol. Mittels mindestens einer nichtschmelzenden Hilfselektrode, welche vorzugsweise aus Graphit besteht, wird
über Gleichrichter eine Gleichstromkomponente derart in das ümschmelζsystem eingebracht, daß sowohl die Elektrode als
auch der Block eine positive (oder negative) Potentialdifferenz gegenüber der Hilfselektrode aufweisen. Damit wird es
möglich, eine Schmelzflußelektrolyse einzuleiten, die eine
Ionenwanderung zur Hilfselektrode einerseits und zur Elektrode und zum Sumpf andererseits bewirkt. Je nach der Polung der
Hilfselektrode werden bestimmte Ionen an der Hilfselektrode entladen und nach Reaktionen mit Elektrodengraphit oder Luftsauerstoff
abgeschieden. Dadurch werden Umsetzungen vor allem zwischen Stahl- und Schlackenphase gefördert.
Nach diesem vorbekannten Verfahren kann z.B. die Entschwefelung von Stahl gefördert werden, wobei es zu folgenden Reaktionen
kommt;
S + S ^ S2
S + 2 0
Die besagten Reaktionen erfolgen umso rascher, je größer die Wanderungsgeschwindigkeit der Ionen ist. Die untere Grenze
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der die Ionen bewegenden elektromotorischen Kraft U ist
aus den für die beschriebenen Reaktionen typischen Größen ,AH, T, A S und η errechenbar.
A H ist die beim Ablauf einer bestimmten Reaktion verbrauchte
oder freiwerdende Wärmemenge in cal / Mol. A S ist die Entropieänderung beim Ablauf einer chemischen
Reaktion in cal /0CMoI.
T ist die absolute Temperatur in 0K. η ist die Zahl der umgesetzten Elementarladungen je Molekül bzw. Ion.
T ist die absolute Temperatur in 0K. η ist die Zahl der umgesetzten Elementarladungen je Molekül bzw. Ion.
Der Ausdruck /^ H - T. Λ S =Ag ist die freie Standardreaktionsenthalpie
und bezeichnet die Arbeit, die beim Ablauf eines chemischen Vorganges geleistet oder aufgewendet wird.
F ist die Faraday'sehe Konstante, die die Strommenge angibt,
die für die Abscheidung von l/n Mol ( = 1 VaI) erforderlich ist.
F = 96500 [coulomb] = 26,6
Die für die elektrolytische Behandlung der Schlacke beim Elektroschlackeumschmelzen erforderliche Gleichspannung ü_
ergibt sich allgemein aus der Gleichung
U_ = U + J.R
ti
darin bedeutet
U die theoretische elektromotorische Kraft (EMK), die be nötigt wird, um den chemischen Prozeß zu aktivieren, und
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wird errechnet aus
+ R.T.l η K = -n.F.U
daraus ergibt sich
n.F lnK
weiters gilt?
Uo n.F
R =
0 ist der spezifische Widerstand des Schlackenbades in ^ cm
1 ist der Abstand der Elektroden in der Schlacke in cm
f ist die wirksame Elektrodenfläche in cm K Kennzahl aus dem Massenwirkungsgesetz für die jeweilige
Reaktion
η ist die Ladungszahl
UQ ist die Grund-EMK £ V J
Wie schon gesagt, wurde die Hilfselektrode bisher nur als Anode (bzw. Kathode) verwendet, während als Gegenpol die Abschmelzelektrode
bzw. die Phasengrenze Schlacke-Sumpf diente. Reaktionen konnten deshalb praktisch nur an der nichtverzehrbaren
Hilfselektrode ausgelöst werden, da an den Gegenpolen die Stromdichte zu niedrig war, und wenn Reaktionen stattfanden,die abgeschiedenen
Reaktionsprodukte durch das Abschmelzen der Elektrode wieder in das Umschmelzsystem eingebracht wurden.
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Die Anmeldung schlägt daher vor, durch Anordnung von mindestens je zwei entgegengesetzt gepolten Elektroden eine
Schmelzelektrolyse in der Art durchzuführen, daß sowohl Anionen als auch Kationen gleichzeitig an den Hilfseiektroden
abgeschieden werden können.
Während bei den bisher angewendeten Verfahren bei der anodischen Hilfselektrodenpolung die unerwünschten Bestandteile
2— 2- - —
wie S ,0 , N , OH abgeschieden werden konnten, was zu einer Verbesserung der Entschwefelung, Verhinderung der
Si-Oxydation und zu Stickstoffabbau führte, kann z.B. ein
wirksamer Abbau von Wasserstoff in Form von H nur durch kathodische Hilfselektrodenpolung erreicht werden.
Es konnte festgestellt werden, daß der Kalkgehalt der Schlakken einen starken Einfluß auf die Veränderung des Wasserstoffgehaltes
beim Umschmelzen hat. Je höher bei sonst gleichen Bedingungen der Gehalt an CaO in der Schlacke ist, umso
stärker wird die Wasserstoffabgabe behindert. Hohe CaO-Gehalte können bei entsprechenden Luftwasserstoffgehalten sogar
eine Erhöhung des Wasserstoffgehaltes im Block gegenüber der Abschmelzelektrode bedingen. Wie Versuche ergaben, wurde
bei sonst gleichen Bedingungen sowohl bei positiver als auch bei negativer Polung der Hilfselektrode eine Abnahme des
Wasserstoffgehaltes erzielt, da Wasserstoff sowohl als H als auch als OH~-Ion vorkommt.
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Beispiel; Eine Stahlelektrode mit einem Wasserstoffgehalt von 7 ppm, einem Kohlenstoffgehalt von 2,1 % und einem
Chromgehalt von 12 %, wurde bei einem Wassergehalt der Atmosphäre von 10 g / N m umgeschmolzen. Bei einer Stromdichte
von 0 an der Hilfselektrode, dieser Sustand entspricht dem reinen Wechselstromumschmelzen, kam es zu der
bereits erwähnten H2-Zt;nahnie. Bei anodischer Polung der
2 Hilfselektrode wurde ab einer Stromdichte von ca. 1,3 A / cm
eine H2-Abnahme mit steigender Stromdichte erreicht. Eine Erhöhung
der Stromdichte auf mehr als 5 A / cm brachte keinen weiteren Effekt. Hatte die Hilfselektrode negative Polarität
gegenüber der Abschmelzelektrode, kam es in einem Stromdichte-
bereich von 0,5 bis 4 A / cm ebenfalls zu einem, allerdings
geringeren, Abbau von H» iii der Schmelze. Die maximale zusätzliche
Wasserstoffabgabe betrug hierbei 7 ppm bei einer
Überlagerungsstromdichte von 3 A / cm verglichen mit reiner
Wechselstromumschmelzurig. Dies gilt für einen Eokillendurchaesser
von 90 mm und einen Durchmesser der Abschmelzelektrode
von 40 mm, die mit einer Schmelzrate von 30 kg / h abgeschmolzen wurde. Ler CaO-Gehalt der Schlacke betrug 30 %.
Die Schlacke bestand zu je einem Drittel aus Tonerde, Kalk und Flußspat. Die ümschmelzung erfolgte mit einer Wechsel-
spannung von 35 V und einer Stromdichte von 65 A / cm an
der Abschmelzelektrode.
Dieses Ergebnis zeigt also, daß eine elektrolytische Entfernung von Wasserstoff aus der Schmelze sowohl mit positiver
als auch mit negativer Polung der Hilfselektrode erreicht
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wird, wobei je nach Polung H - oder (CH-)-Ionen abgeschie
den werden.
Bei anodischer Hilfselektrodenpolung werden (OH**) -Ionen gemäß
der folgenden Gleichung entladen:
Η* + 3/2 (O2) .
1/2 (H2O) + ( O2") bzw.
Q = Wärmetönung in Kcal/mol
Das Hydroxylion wird also entladen und nach Reaktionen mit
dem dabei entstehenden Sauerstoff oder dem Elektrodengraphit als Wasserdampf oder Kohlenwasserstoff aus dem Umscnmelzsystem
entfernt.
An der Kathode (Abschmelzelektrode bzw. Sumpf) ist die Lösung und Ionisierung von in der Elektrode gelöstem Wasserstoff
oder Sauerstoff
0+2 e~ 9 (O2")
0 + H + e~ ι - (0H~)
möglich.
Ist die Hilfselektrode negativ gepolt, so besteht für H+-Ionen die Möglichkeit der Abscheidung gemäß
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Das entstehende Wasserstoffgas kann entweder mit dem Luftsauerstoff
nach der Knallgasreaktion
H2 + 1/2 O2 — ι- H2O
oder wiederum mit dem Elektrodengraphit reagieren.
Die Annahme, daß Wasserstoff als Proton und Hydroxylion
existiert, wird durch die in Fig. 1 gezeigten Ergebnisse verstärkt. Diese Ergebnisse wurden mit der in Fig. 2 dargestellten
Anordnung erzielt. Durch Einsatz von zwei unterschiedlich gepolten Hilfselektroden 1 und 2, die von einem Gleichstromgenerator
3 gespeist werden, kann eine gleichzeitige +- Elektrolyse nach den oben angegebenen Gleichungen erzielt werden.
Die Abschmelzelektrode ist bei dieser Anordnung mit 4 bezeichnet. Sie ist über die Wechselstromquelle 5 mit der Bodenplatte
6 verbunden. 7 ist die mittels vorbekannter Einrichtungen hebbare wassergekühlte Kokille, 8 die geschmolzene
Schlackendecke, 9 der erstarrte Teil des wachsenden Blocks und 10 der flüssige Metallsumpf. Die Hilfselektroden 1 und
2 können aus Graphit bestehen, oder aus iridiumbeschichtetem Kupfer, das zwecks Kühlung wasserdurchflossene Kanäle aufweist.
In einer derart ausgestatteten ESU-Anlage können beide Erscheinungsformen
der Wasserstoffionen gleichzeitig abgeschieden werden. Die strichlierte Kurve in Fig. 1, die die Abnahme
des Wasserstoffgehaltes in ppm bei +-Elektrolyse wiedergibt, weist entsprechend höhere Abnahmen des Wasserstoffge-
509882/08 7 6
haltes auf, als die durchgezogenen Kurven HE- und HE+, die
die Wasserstoffabnähme bei negativer bzw. positiver Polung
einer einzigen Hilfselektrode, wie bei dem vorbekannten Verfahren, zeigen.
Die in Fig. 1 dargestellten Ergebnisse wurden an einem Stahl
mit einem Wasserstoffgehalt von 13-15 ppm erzielt. Weiters
enthielt der Stahl 0,05 % C, 18 % Cr und 9 % Ni. Der
Kokillendurchmesser betrug 90 mm, der Durchmesser der Abschmelzelektrode
40 mm. Gearbeitet wurde mit einer Schlacke aus 40 % Kalk, 40 % Tonerde und 20 % Flußspat. Die Schmelzbedingungen
waren die gleichen wie im obigen Ausführungsbeispiel.
Da durch das Eintauchen der Hilfselektrode in die Schlacke bei Anwendung höherer Stromdichten fallweise eine Erhöhung
des Blockkohlenstoffgehaltes eintritt, wurde eine Einrichtung
geschaffen, um die Gleichstromenergie in Form von Plasma in die Schlacke zu übertragen. Zu diesem Zweck wurde die Hilfselektrode
rohrförmig ausgebildet und ein plasmabildendes Gas, vorzugsweise Argon, durch sie durchgeleitet. Hierbei
wurde ein Plasmalichtbogen zwischen der Hilfselektrode und der SöH^acke erzeugt. Diese Ausführungsform der Erfindung
führte zu einer Senkung des Graphitverbrauchs und verbesserte die Abscheidung gasförmiger Desoxydationsprodukte noch
weiter. Vorzugsweise wurde die Oberfläche der Graphitelektroden durch eine Beschichtung mit einem hochtonerdehältigen
Mörtel gegen erosive Schlackendämpfe geschützt. Der Mörtel
509882/087 6 bad original
bestand im wesentlichen aus etwa 9O % Tonerdesilikat und
Wasserglas als Bindemittel. Durch die Beschichtung wurde die Entstehung von Graphitruß und eine damit verbundene Aufkohlung
der Schmelze verhindert. Eine derartige Beschichtung ist selbstverständlich auch bei kompakten Graphitelektroden
möglich und vorteilhaft. Die Glexchstromplasaflamme, durch die ein direkter Kontakt zwischen Hilfselektrode und Schlacke
vermieden wird, ermöglicht ebenso wie eine eintauchende Elektrode, den Ablauf von Elektrolysereaktionen zwischen der
ionisierten Schlacke und dem flüssigen Metallfilm an der Spitze der Abschmelzelektrode, der Atmosphäre und der Hilfselektrode.
Die Lichtbogenlänge beträgt je nach Überlagerungsspannung 1-5 cm. Nicht nur die größere Entfernung zwischen
der Hilfselektrode und der Schlacke, sondern auch die Herabsetzung des Sauerstoffpartialdruckes über der Schlacke durch
Argon und die Kühlwirkung des Edelgases in der durchbohrten Hilfselektrode mindern deren Oxydation. Da auch der Partialdruck
aller anderen über der Schlacke befindlichen Gase durch das Edelgas herabgesetzt wird, wird außerdem deren Abscheidung
beim Umschmelzen erleichtert und gefördert. Dies gilt z.B. für SO2, S2 gasförmig, O2, H20-Dampf und HP.
Weiters wurde es erst durch Anwendung der Plasmaüberlagerung möglich, den Wasser stoff gehalt des ESU-Blocks gegenüber dem
der Abschmelzelektrode auch bei niedrigen H2-Gehalten der
Elektrode entscheidend zu senken. Bei einem Wasser stoff gehalt
der Elektrode von 10,5 ppm konnte ein Wasser stoff gehalt von 2,5 ppm im Block erzielt werden. Bei einem Wasserstoff-
509882/0876
gehalt der Elektrode von 2,8 ppm gelang eine Absenkung des Wasserstoffgehalts im Block auf 1,3 ppm.
Überdies dient die Plasmaflamme als Zusatzheizung der Schlakke. Dies bringt z.B. den Vorteil einer gleichmäßigeren Temperaturverteilung
im Schlackenbad mit flacherer Sumpfausbildung, die bessere Erstarrungsbedingungen zur Folge hat. Der
Gesamtenergieverbrauch für die Umschmelzung wird verringert. Da durch die Elektrolysereaktion metallisches Aluminium in
feinverteilter Form an der Phasengrenze Metall-Schlacke vorliegt, werden nichtmetallische Kalktonerdeeinschlüsse ebenfalls
in feinster Verteilung gebildet.
Wird Argon als plasmabildendes Gas verwendet, so tritt als Zusatzeffekt eine gewisse Schutzgaswirkung ein, die bei
der Umschmelzung von Stählen mit Gehalten an hochsauerstoffaffinen Elementen (Ti, Al, Zr, CeLa u.a.) von Bedeutung sind.
In Fig. 3 ist eine anmeldungsgemäße Vorrichtung dargestellt,
bei der die Hilfselektroden nicht in das Schlackenbad eintauchen,
sondern der elektrische Kontakt zwischen Schlacke und Hilfselektroden durch zwei Plasmalichtbogen 11 hergestellt
wird. Die Gasdurchsatzmenge betrug im speziellen Fall 10 - 50 1 Argon / min., wobei das Verhältnis zwischen dem
Durchmesser der Hilfselektrode und dem Durchmesser der Bohrung 7 s 1 betrug. Die Zündung des Plasmalichtbogens wird
durch eine anfängliche Berührung zwischen den Hilfselektroden und der Schlacke bewerkstelligt, wonach die Hilfselektroden
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mittels vorbekannter Einrichtungen so weit gehoben werden, daß nur noch die Abschmelzelektrode in das Schlackenbad eintaucht.
Durch Abschmelzen der letzteren steigt der Stahl- und Schlackenspiegel in der Kokille; im selben Maße werden
die Hilfselektroden angehoben. Die Zufuhr von plasmabildendem Gas erfolgt an den mit 12 bezeichneten Stellen. Die Überlager
ungs Stromstärke wird von der thyristorgesteuerten Regelung der Gleichrichter konstant gehalten, die Gleichstromspannung
stellt sich nach der Länge des Lichtbogens ein. Die Stromdichte an den HilfselektrpÖen ist in einem Bereich von
ca. 1-5,5 A/cm wirksam. Die Gleichstromenergie soll vorzugsweise 10 - 30 % der Wechselstromenergie betragen. Als
Gleichstrom im Sinne der Anmeldung ist auch zerhackter Gleichstrom zu verstehen.
Da die Elektrolysereaktionen, die angestrebt werden, erst ab einer gewissen Schwellspannung ablaufen (die Schwellwerte
liegen in einem bestimmten von Fallfefcu Fall verschiedenen
Bereich der Badspannung) muß die Überlagerungsspannung weitgehend regulierbar sein. Durch die separat angeordnete
Gleichstromquelle 3 (die z.B. ein Schweißgenerator sein
kann) kann sowohl die ÜberlagerungsStromstärke, als auch
die überlagerte Gleichstromspannung in weiten Grenzen variiert werden. Zur Abschirmung des Gleichstromkreises vom Wechselstromkreis
können Gleichrichter 13 als Siebglieder vor beiden Polen des Generators 3 angeordnet werden. Fig. 4 zeigt eine
weitere Möglichkeit für die Ausgestaltung der nichtschmelzenden Hilfselektroden 1 und 2. Ein inneres Kupferrohr 14
509882/0876 original inspected
und ein äußeres Kupferrohr 15 sind mit einer Iridiumbeschichtung 16 versehen. Zur Kühlung dient ein mit Kühlwasserkanälen
17 versehenes Kühlwasserleitrohr 18. Die Pfeile 19 geben die Strömungsrichtung des Kühlwassers an. Eine Zufuhr von
plasmabildendem Gas kann durch den Kanal 20 erfolgen.
Gegenstand der Anmeldung ist daher ein Verfahren zum Entfernen unerwünschter Elemente, insbesondere H2 und O2, beim
Elektroschlackeumschmelzen, wobei mindestens eine selbstverzehrende
Elektrode mit Wechselstrom in einer verflüssigten elektrisch leitenden Schlacke geschmolzen und die so
entstandene Schmelze in einer wassergekühlten Kokille nach
dem Prinzip des wachsenden Blocks zum Erstarren gebracht wird, und die Erfindung besteht darin, daß in der Schlacke
mit Hilfe mindestens zweier verschieden gepolter, an mindestens eine Gleichstromquelle angeschlossener nichtschmelzender
Hilfselektroden Überlagerungsströme zwischen den Hilfselektroden und der Umschmelzelektrode einerseits, den Hilfselektroden
und dem Block sowie den verschieden gepolten Hilfselektroden zusätzlich zu dem in bekannter Weise zwischen
Umschmelzelektrode und Block fließenden Wechselstrom erzeugt werden, wodurch unter Ausnutzung der Schmelzelektrolyse eine
Wanderung der in Form von Ionen vorliegenden unerwünschten Elemente zu den Hilfselektroden bewerkstelligt wird und die
Entfernung dieser Elemente aus der Schmelze durch chemische Reaktionen mit der Luft, der Schlacke oder dem Material der
Hilfselektroden erfolgt.
509882/0876 original inspected
Weiterer Gegenstand der Anmeldung sind die beschriebenen Anordnungen zur Durchführung des Verfahrens.
Durch die Erfindung wird eine Verbesserung des Reinheitsgrades von ESü-Blöcken sowie eine feinere Verteilung der
verbleibenden Einschlüsse erzielt.
509882/0876
Claims (9)
1. Verfahren zum Entfernen unerwünschter Elemente, insbesondere H2 und O2, beim Elektroschlaclceumschmelzen, wobei mindestens
eine selbstverzehrende Elektrode in einer verflüssigten, elektrisch leitenden Schlacke geschmolzen und die so entstandene
Schmelze in einer wassergekühlten Kokille nach dem Prinzip des wachsenden Blockes zum Erstarren gebracht wird,
dadurch gekennzeichnet, daß in der Schlacke mit Hilfe mindestens zweier verschieden gepolter, an mindestens eine
Gleichstromquelle angeschlossener nichtschmelzender Hilfselektroden
Überlagerungsströme zwischen den Hilfselektrode
und der Umschmelzelektrode, den Hilfselektrode und dem Block sowie den verschieden gepolten Hilfselektroden zusätzlich
zu dem in bekannter Weise zwischen Umschmelzelektrode und Block fließenden Wechselstrom erzeugt werden, wodurch
unter Ausnützung der Schmelzelektrolyse eine Abwanderung der in Form von Zonen vorliegenden unerwünschten Elemente zu
den Hilfselektrode bzw. zu der Abschmelzelektrode bewerkstelligt wird und die Entfernung dieser Elemente aus der
Schmelze durch chemische Reaktionen mit der Luft, der Schlakke oder dem Material der Hilfselektrode erfolgt.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die
Stromdichte an den Hilfselektrode bis 5,5 A/cm und daß die
Gleichstromenergie 10 - 30 % der Wechselstromenergie beträgt.
509882/087 6
3. Anordnung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1,
bestehend aus einer an sich bekannten Elektroschlackeumschmelzanlage
mit einer Abschmelzelektrode (4), die über eine Wechselstromquelle (5) mit einer Bodenplatte (6) verbunden
ist, mit einer hebbaren wassergekühlten Kokille (7), in der unter einer geschmolzenen Schlackendecke (8) der
wachsende Block mit dem erstarrten Teil (9) und dem flüssigen Metallsumpf (10) zum Erstarren gebracht wird, gekennzeichnet
durch mindestens zwei verschieden gepolte Hilfselektroden (1) und (2), die über einen Gleichstromgenerator
(3) miteinander verbunden und mit der Schlackendecke (8) in elektrisch leitendem Kontakt sind.
4. Anordnung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Gleichstromkreis und der Wechselstromkreis voneinander
unabhängig und durch Gleichrichter (13), die als Siebglieder vor beiden Polen des Gleichstromgenerators (3)
angeordnet sind, voneinander abgeschirmt sind.
5. Anordnung nach den Ansprüchen 3 und 4, dadurch gekennzeichnet, daß die verschieden gepolten Hilfselektroden
(1) und (2) aus Graphit bestehen.
6. Anordnung nach den Ansprüchen 3 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die verschieden gepolten Hilfselektroden (1)
und (2) rohrförmig ausgebildet sind, so daß ein plasmabildendes Gas, vorzugsweise Argon, durch sie hindurchgeleitet
werden kann, und daß der elektrische Kontakt
509882/0876
zwischen den Hilfselektroden und der Schlackendecke durch je einen Plasmalichtbogen (11) aufrechterhalten wird.
7. Anordnung nach den Ansprüchen 5 und 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Oberflächen der Graphitelektroden mit einem
hochtonerdehältigen Mörtel aus etwa 90 % Tonerdesilikat und Wasserglas als Bindemittel beschichtet sind.
8. Anordnung nach den Ansprüchen 3 und 4, dadurch gekennzeichnet, daß die- verschieden gepolten Hilfselektroden (1) und
(2) aus iridiumbeschichtetem Kupfer bestehen, das zwecks Kühlung wasserdurchflossene Kanäle aufweist.
9. Anordnung nach den Ansprüchen 6 und 8, dadurch gekennzeichnet, daß die rohrförmigen Hilfselektroden aus einem inneren
Kupferrohr (14) und einem äußeren Kupferrohr (15) bestehen, die mit einer Iridiumbeschichtung (16) versehen sind, und
daß sie Kühlwasserkanäle (17), je ein Kühlwasserleitrohr (18) und je einen Kanal (20) für die Zufuhr von plasmabildendem
Gas aufweisen.
Gebr.Böhler & Co Aktiengesellschaft Patentbüro
509882/0876
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
AT437674A AT331434B (de) | 1974-05-28 | 1974-05-28 | Verfahren zum entfernen unerwunschter elemente, insbesondere h2 und o2 beim elektroschlackenumschmelzen und anordnung zur durchfuhrung des verfahrens |
AT437674 | 1974-05-28 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2522576A1 true DE2522576A1 (de) | 1976-01-08 |
DE2522576B2 DE2522576B2 (de) | 1976-05-20 |
DE2522576C3 DE2522576C3 (de) | 1977-01-20 |
Family
ID=
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2804487A1 (de) * | 1977-02-04 | 1978-08-17 | Terni Ind Elettr | Vorrichtung zur zugabe schmelzfluessigen metalls nach dem elektro- schlacke-umschmelzverfahren |
Cited By (1)
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DE2804487A1 (de) * | 1977-02-04 | 1978-08-17 | Terni Ind Elettr | Vorrichtung zur zugabe schmelzfluessigen metalls nach dem elektro- schlacke-umschmelzverfahren |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
SE405864B (sv) | 1979-01-08 |
US4061493A (en) | 1977-12-06 |
GB1510485A (en) | 1978-05-10 |
FR2273086B1 (de) | 1980-03-28 |
AT331434B (de) | 1976-08-25 |
ATA437674A (de) | 1975-11-15 |
SE7506055L (sv) | 1975-12-01 |
ZA753415B (en) | 1976-04-28 |
JPS515203A (de) | 1976-01-16 |
JPS5742698B2 (de) | 1982-09-10 |
CA1051492A (en) | 1979-03-27 |
BE829310A (fr) | 1975-09-15 |
IT1035862B (it) | 1979-10-20 |
FR2273086A1 (de) | 1975-12-26 |
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