DE2515550C2 - Korpuskularstrahloptisches geraet zur abbildung einer maske auf ein zu bestrahlendes praeparat - Google Patents
Korpuskularstrahloptisches geraet zur abbildung einer maske auf ein zu bestrahlendes praeparatInfo
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Description
sprach 2, 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet, daß 8ezei,"" öuellenbild durch das Kondensorlinsensydie
Projektivlinse(n) (9) des Korpuskularstrahl- 1. das ^u ^ ßrennebene der ersten Hälfte des
mikroskope (7) über einen Spannungsteiler (i*) magnetischen Feldlinsensystems übertragen wird
in Abhängigkeit von der Beschleunigungsspan- 50 magnet
nung (U) der Strahlquelle (2) erregt ist (sind). un ßrennebene der ^ύ(.η Feldhälfte des ma-
6. KoφUskularstΓahloptlsches Gerat naen An- ■ ischen Feldlinsensystems mit der Ebene
spruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß in der kleinster Fehler des Projektionslinsensystems
Mittodes Endbildleuchtschirmes (10) em em Feldlinsen- und Projektivlinsenfeld zwischen
elektrisches Ausgangssigna! liefernder Detektor 55 Präparat identisch ist.
(22) sowie zwischen Zwischenbildleuchtschirm (8) ™? bekannten Geräten erfordert die Einstel-
und Endbildleuchtschirm (10) ein mit Wechsel- Be de d^r b r™ des Kondensor- und des Feldlin-
m. .., ,spannung gespeistes, senkrecht zur Gerateachse f^>a£ der beschriebenen optimalen Weise eitei^-^e)
wirkendes Ablenksystem (20) angeordnet ist. ;,:f^gSchen Aufwand, Es isfihämlich in der Rege
Wmfff^ 7. körpuskularsöa'hlöptisches Gerat nach ei- ?6o "ηε"^™Γ^^ichzeitigefVerändern der Er
m -^- nemdesr Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeu:h- ^^J^f^S Linsensystlme die optimale Ein
,, net, da.ß in der Nähe der Eintrittspupille des Ein- regung «r J wiederherzustellen. Das Auf
,i feld-Kondensorobjektivs (6) ein Astigmatismus- - s^'lu"& g£ Einstellung gestaltet sich insbesonden
I betektor (A) in Form eines Sektornnges ange- g, ^^erig weil dl Wrungen der Linsener
-^ordnet:ist, wobei den einzelnen Sektoren Locher 65 ^™η infolg|der unterschiedlichen Brennweite,
,^(O) in. einem die Maske (M) umgebenden Mas- ^f^™>teme mit unterschiedlichem Gewich
%: ^kenhallter (24) optisch entsprechen. vornehmen sind.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein kor- demzufolge ein Quadrat mit nach innen gewölbten
Quskuiarstrahloptisches Gerät der eingangs genannten Seiten (kissenf örmige Verzeichnung) bzw. nach außen
Art zu schaffen, bei dem die Optimierung der Abbil- gewölbten Seiten (tonnenförmige Verzeichnung) abdungineinfacherWeisemöghchist.DieLösungdieser
gebildet wird. Bei Auftreten einer Verzeichnung der Aufgabe besteht gemäß der Erfindung darin, daß das 5 korpuskularstrahloptischen Abbildung ist der Ab-Kondensorlinsensystem
eine elektrostatische Linse stand der von den Hilfs-Abbiluungssystemen in den
ist, die über einen Spannungsteiler in Abhängigkeit Ebenen der zugehörigen Detektoren erzeugten BUdvon
der Beschleunigungsspannung der Strahlquelle punkte von der optischen Achse des Gerätes veränerregt
ist. Ein derartiger Kondensor hält die Eb-ne, dert. Verwendet man Detektoren, die jeweils ein
in der er das verkleinerte Abbild der Quelle erzeugt, io elektrisches Ausgangssignal liefern (z. B. Halbleiterunabhängig von der Beschleunigungsspannung fest; Detektoren), und ordnet diese Detektoren auf der
der Abstand dieser Ebene von der Mitte des Feldlin- Achse der Hilfs-Abbildungssysterne an, so kann eine
sensystems, d. h. der Maskenebene, kann durch ein- weitere Ausgestaltung des erfindungsgemäßen kormalige
Einstellung der Kondensorerregung gleich puskularstrahloptischen Gerätes vorgenommen werdem
Abstand der Maskenebene von der Ebene klein- 15 den. Diese besteht darin, daß man jedes Hilfs-Abbüster
Bildfehler des Projektionslinsensystems gewählt dungssystem mit einem jeweils mit Wechselspannung
werden. Auf diese Weise ist es möglich, bei späteren gespeisten elektrostatischen oder magnetischen AbKorrekturen
die Einstellung einer optimalen Abbil- lenksystem versieht. Die Detektoren liefern dann ein
dung lediglich durch Veränderung der Erregung des sinusförmiges Signal, das in einfacher Weise verarbei-Feldlinsensystems
vorzunehmen. 20 tet werden kann.
Ein ionenoptisches Gerät, bei dem elektrostatische Bei der aus dem erfindungsgemäßen korpuskulai -
Linsen über einen Spannungsteiler in Abhängigkeit strahloptischen Verkleinerungsgerät und dem nachvon
der Beschleunigungsspannung erregt sind, ist an folgenden Kontroll-Korpuskularstrahlmikroskop besieh
aus der US-PS 2267714 bekannt. stehenden Anordnung kann eine vorteilhafte Weiter-
Aus der eingangs, genannten ersten Literaturstelle 25 bildung darin bestehen, daß die Projektivlinse des
ist es ferner bekannt, zur Kontrolle des Maskenbildes Korpuskularstrahlmikroskops über einen Spannungsin
der Präparatebene ein Elektronenmikroskop vor- teiler in Abhängigkeit von der Beschleunigungsspanzusehen,
das sich in seinem Strahlengang dem elektro nung der Strahlquelle erregt ist. Statt mit einer Pronenoptischen
Verkleinerungsgerät anschließt. Das jektivlinse kann das Kontroll-Korpuskularstrahlmi-Korpuskularstrahlmikroskop
besteht aus einer Ob- 30 kroskop auch mit mehreren hintereinanderliegenden
jektivlinse, einem Zwischenbildleuchtschirm, einer elektrostatischen Projektivlinsen versehen sein, die in
elektrostatischen Projektivlinse und einem Endbild- entsprechender Weise erregt sind. Auf dem Endbildleuchtschirm;
die Objektivlinse ist dabei mit der ma- leuchtschirm läßt sich damit eine objektive, d. h. vom
gnetischen Projektivlinse des Gerätes zu einem ma- momentanen Wert der Beschleunigungsspannung ungnetischen
Einfeld-Kondensorobjektiv vereinigt. In 35 abhängige Bestimmung der Schärfe der Maskenabbildiesem
Fall können vorteilhafte Weiterbildungen der dung in der Präparatebene vornehmen.
Erfindung vorgenommen werden. Sie bestehen zum Bei dem zuletzt beschriebenen Korpuskularstrahl-
Erfindung vorgenommen werden. Sie bestehen zum Bei dem zuletzt beschriebenen Korpuskularstrahl-
einen darin, daß wenigstens vier Detektoren für die mikroskop kann in der Mitte des Endbildleuchtschirin
den Randbereich des Zwischenbildleuchtschirmes mes ein ein elektrisches Ausgangssignal liefernder
fallenden Korpuskeln vorgesehen sind. Die Korpus- 40 Detektor sowie zwischen Zwischenbildleuchtschirm
kein bilden Randteile der Maske ab, in denen z. B. und Endbildleuchtschirm ein mit Wechselspannung
definierte Prüföffnungen vorgesehen sein können. gespeistes, senkrecht zur Geräteachse wirkendes
Aus den mit diesen Detektoren aufgenommenen Si- elektrostatisches oder magnetisches Ablenksystem
gnalen lassen sich die außeraxialen Bildfehler, insbe- angeordnet sein. Damit ist es möglich, das auf dem
sondere die Verzeichnung der Abbildung, bestimmen. 45 Endbildleuchtschirm erzeugte Bild auszulenken und
Damit ergibt sich die Möglichkeit, in geeigneter Weise so in bekannter Weise die Bildschärfe zu bestimmen,
die Erregung des Feldlinsensystems zu ändern und da- Dazu wird das Detektorsignal frequenzanalysiert; die
mit die Bildfehler zu kompensieren. Mit Hilfe des in Höhe der maximalen auftretenden Frequenz ist ein
der beschriebenen Weise modifizierten Korpuskular- Maß für die Schärfe des Bildes (DT-PS 1 108347).
Strahlmikroskops ist die Fehlerkorrektur in kurzer 50 Bei dem erfindungsgemäßen Gerät ist es vorteil-Zeit.
z. B. während eines Präparatwechsels, möglich. haft, den Astigmatismus der Abbildung zu kompen-
Die genannten Detektoren können z.B. als sieren, bevor die Erregung des elektrostatischen Kon-Leuchtschirme,
Szintillatoren, als Faradaykäfige oder densors bzw. der Feldlinse hinsichtlich minimaler
als Halbleiter-Detektoren ausgebildet sein. Sie kön- Bildfehler und größtmöglicher Bildschärfe justiert
nen unmittelbar im Randbereich des Zwischenbild- 55 wird. Dazu dient der eingangs genannte Stigmator
leuchtschirmes liegen. Den Detektoren können aber zwischen dem Kondensorlinsensystem und dem maauch
Hilfs-Abbildungssysteme mit elektrostatischen gnetischen Feldlinsensystem. Die Bestimmung des
Linsen vorgeschaltet sein, die entsprechende Rand- Astigmatismus der Abbildung kann bei dem erfinteile
des Zwischenbildes auf die Detektoren abbilden dungsgemaßen Gerat mit Vorteil mit einem in dei
|*iind die von der Beschleunigungsspannung der Strahl-,60 Nähe, der Eintrittspupille des Einfeld-Kondensorob-
^fque'ile abhängig erregt sind«iEinerderartigeAnord- je^tivs angebrachten Detektoren Form; eines Sektor-
*«nung führt zu einer Verstärkung der von den Detekto- ringes erfolgen, dessen einzelnen Sektoren Löcher ir
Sfen gelieferten Signale und damit zu einer präzisen einem die.Maske umgebenden Maskenhälter optisch
•SÄngabe über den Verzeichnungszustarid der Abbil- zugeordnet sind. Ein zwei- und/oder dreizähligei
dung; diese Angabe ist unabhängig von der Beschleu- 65 Astigmatismus der Abbildung hat zur Folge, daß die
nigungsspannung. durch die Löcher auf den Sektorringen erzeugte Be-
«S Unter der Verzeichnung ist bekanntlich ein rota- lichtungsfigur in charakteristischer Weise veränder
tionssvmmetrischer Abbildungsfehler zu verstehen, ist. Dies wird im folgenden ans Hand der Figuren er·
25 151550
läutert.
In den Figuren ist ein Ausführungsbeispiel der Erfindung dargestellt. Es zeigt
Fig. 1 ein korpuskularstrahl tisches Gerät zur Abbildung einer Maske auf ein zu bestrahlendes Präparat,
Fig. 2 den Strahlengang des Gerätes von Fig. 1,
Fig. 3 eine Variante des Gerätes von Fig. 1,
Fig. 4 einen Astigmatismus-Detektor,
Fig. 5a, 5b die sich auf dem Astigmatismus-Detektor ergebenden Belichtungsfiguren im Falle eines zwei- oder dreizähligen Astigmatismus.
Fig. 4 einen Astigmatismus-Detektor,
Fig. 5a, 5b die sich auf dem Astigmatismus-Detektor ergebenden Belichtungsfiguren im Falle eines zwei- oder dreizähligen Astigmatismus.
Fig. 1 zeigt ein elektronenopiisches Verkleinerungsgerät
1 zur Abbildung einer Maske M auf einem Präparat P. Es weist eine aus einer Kathode 2a und
einer Anode 25 bestehende Strahlquelle 2, eine Aperturblende 3, einen elektrostatischen Kondensor
4, eine magnetische Feldlinse 5, in deren Mittelebene die Maske M liegt, und ein magnetisches Einfeld-Kondensorobjektiv
6 auf, dessen erste Feldhälfte als Prnjektivlinse dient.
Dem Verkleineningsgerät 1 folgt in seinem Strahlengang
ein Elektronenmikroskop 7. Dieses besteht aus dem Einfeld-Kondensorobjektiv 6, dessen zweite
Feldhälfte als Objektivlinse dient, einem Zwischenbildleuchtschirm
8, einer elektrostatischen Projektivlinse 9 und einem zentralen Endbildleuchtschirm 10.
Neben diesem sind im Abstand von 90° symmetrisch zur Achse 16 weitere vier Endbildleuchtschirme 13
mit gekippter Achse vorgesehen, von denen in der Figur lediglich zwei dargestellt sind. Auf den Leuchtschirmen
13 werden Elektronen, die definierte Prüföffnungen K der Maske M durchsetzen und die in den
Randbereich des Zwischenbildleuchtschirmes 8 fallen, jeweils punktförmig fokussiert; im Falle einer
verzeichnungsfreien Abbildung der Maske M in der Präparatebene 12 liegen diese Punkte jeweils im Zentrum
Z der Endbildleuchtschirme 13. Zu dieser Fokussierung sind vier den Endbildleuchtschirmen 13
zugeordnete Hilfs-Abbildungssysteme 11 zwischen dem Zwischenbildleuchtschirm 8 und den Endbildleuchtschirmen
13 angebracht, von denen in der Figur ebenfalls nur zwei zu sehen sind. Die Hilfs-Abbildungssysteme
sind ebenfalls als elektrostatische Linsen ausgebildet.
Sämtliche elektrostatischen Linsen, d. h. der Kondensor 4 sowie die Projektivlinse 9 bzw. die elektrostatischen
Linsen der Hilfs-Abbildungssysteme 11, sind in Abhängigkeit von der Beschleunigungsspannung
U der Strahlquelle 2 erregt; die Spannung U besitzt einen Wert von z. B. 30 kV. Dazu dient ein
Spannungsteiler 14, an den die als Einzellinsen ausgebildeten elektrostatischen Linsen 4,9,11 angeschlossen
sind.
Der Strahlengang des in Fig. 1 dargestellten elektronenoptischen Verkleinerungsgerätes 1 ist in Fig. 2
gezeigt. Dabei sind die Abstände der Strahlen von der Achse 16 vergrößert wiedergegeben. Der Kondensor
4 übrträgt den Crossover Q0 der Strahlquelle 2
verkleinert in die Ebene £,, deren Lage sich auf Grund des elektrostatischen Prinzips auch bei einer
Änderung der Beschleunigungsspannung U nicht ändert. Diese Ebene entspricht der Brennebene der ersten
Hälfte der magnetischen Feldlinse 5. Die Feldlinse 5 überträgt das in der Ebene E1 vorliegende
Quellenbild Q1 in die Brennebene E1' ihrer zweiten
Feldhälfte, wobei sie die Maske M gleichmäßig, d. h. mit zueinander parallelen Elektronenbahnen, ausleuchtet.
Das in dieser Ebene vorliegende Quellenbild Q1' stellt die Eintrittspupille des Einfeld-Kondensorobjektivs
6 dar. Das Einfeld-Kondensorobjektiv 6, dessen Ebene kleinster Fehler mit der Ebene E1' zu-
sämmenfäiltj überträgt das Quellenbild Q1' in eine
Ebene E1. Wie aus dem Verlauf der eingezeichneten
Strahlen 17, 18,19 bzw. der diesen entsprechenden Strahlen 17', 18', 19' hervorgeht, bilden die Elek'tronen
die Maske M in der Präparatebene 12 des Verkleinerungsgerätes 1 ab.
Die Güte der Abbildung ist auf den Endbildleuchtschirmen 10,13 zu erkennen. Dabei ist auf dem zentralen
Endbildleuchtschirm 10 die Schärfe der Abbildung der Maske M auf die Präparatebene 12 an Hand
der Größe und Helligkeit der Bildpunkte zu beurteilen, während auf den Leuchtschirmen 13 die außeraxialen
Bildfehler der Abbildung zu erkennen sind. Von diesen sind die Verzeichnung, der Verdrehungssowie
der Vergrößerungsfarbfehler von Bedeutung.
Zur Bestimmung von Schärfe und Verzeichnung der Abbildung sind unterhalb der Projektivlinse 9 bzw.
der Hilfs-Abbildungssysteme 11 elektrostatische Ablenksysteme in Form von Ablenkplattenpaaren 20,21
sowie Halbleiter-Detektoren 22, 23 hinter zentralen öffnungen Z der Leuchtschirme 10, 13 vorgesehen
Die Ablenkplattenpaare 20, 21 liegen an einer Wechselspannung. Dies hat eine periodische Auslenkung
der Bildpunkte auf den Endbildleuchtschirmen 10, 13 zur Folge. Tritt nun eine Verringerung der
Bildschärfe, d. h. eine Verringerung der maximalen Helligkeit sowie eine Verbreiterung der Bildpunkte
auf, so liefert ein unterhalb der zentralen Öffnung Z des Endbildleuchtschirmes 10 angebrachter Halbleiter-Detektor
22 ein elektrisches Signal, aus dem die Bildschärfe bestimmt werden kann. Analysiert man
nämlich das Signal nach Frequenzen, so ist z. B. die höchste auftretende Frequenz ein direktes Maß fur
die Bildschärfe.
Die unterhalb der Hilfs-Abbildungssysteme 11 vorgesehenen Ablenkplatten 21 dienen zur Bestimmung
der Verzeichnung. Es sei eine tonnenförmige Verzeichnung angenommen. Die auf den Endbildleuchtschirmen
13 erzeugten Bildpunkte der Prüföffnungen V befinden sich beispielsweise an der Stelle
V außerhalb der zentralen Öffnung Z dieser Leuchtschirme. Die ebenfalls mit einer Wechselspannung
beaufschlagten Ablenkplatten 21 führen den Bildpunkt über die zentrale Stelle Z der Leuchtschirme
13 hinweg. Die Halbleiter-Detektoren 23 liefern dann Wechselspannungssignale, die in einfacher Weise verarbeitet
werden können; diese Signale sind nämlich dann am größten, wenn die Verzeichnung minimal ist.
An Stelle der dargestellten elektrostatischen Ablenkelemente (Ablenkplattenpaare 20, 21) können auch
magnetische Ablenkelemente vorgesehen sein.
Ferner ist es möglich, den Verdrehungs- und Vergrößerungsfarbfehler
der Abbildung an Hand der Lage der Bildpunkte auf den Leuchtschirmen 13 zu bestimmen. Dazu wird die Beschleunigungsspannung
U um einen definierten Wert, z. B. um 10 V, geändert. Liegen die Bildpunkte ursprünglich im Zentrum
Z der Leuchtschirme 13, so werden sie im Falle eines noch nicht korrigierten Verdrehungsfarbfehlers
in einer bezüglich der Achse 16 des Mikroskops 7 tangentialen Richtung bzw. im Falle eines noch nicht korrigierten
Vergrößerungsfarbfehlers in einer zu dieser Achse 16 radialen Richtung ausgelenkt. Vorausset-
zung für die Kompensation des Verdrehungsfarbfehlers
ist dabei, daß das magnetische Feldlinsensystem, d. h. in Fig. 1 die Feldlinse 5, in dem die Korpuskeln
nach Durchtritt durch die Maske M beeinflussenden Teil und die magnetische Projektivlinse, d. h. in Fig. 1
die erste Hälfte des Einfeld-Kondensorobjektivs 6, in entgegengesetztem Sinne erregt sind.
Wie bereits eingangs erwähnt, ist es möglich, an Stelle der in Fig. 1 gezeigten Feldlinse 5 ein aus mehreren
magnetischen Linsen bestehendes Feldlinsensystern vorzusehen. Ein derartiges System 5' mit zwei
Linsen 31,32 ist in Fig. 3 schematisch dargestellt. Die
Elektronen verlaufen zwischen den beiden Linsen 31, 32 auf zueinander parallelen Bahnen. Das in Fig. 3
gezeigte Ausführungsbeispiel bietet die Möglichkeit, durch Änderung der axialen Lage der Maske M relativ
.tür Mitttlebene 33 des Feldlinsensystems 5' den Vergrößcrungs- und Verdrehungsfarbfehler zu kompensieren;
die Kompensation des letztgenannten Fehlers erfordert dabei, wie oben erwähnt, eine Erregung
der Linse 32 und der magnetischen Projektivlinse in entgegengesetzter Weise.
In Fig. 1 ist ferner ein Stigmator St dargestellt, mil
dem der Astigmatismus der Feldlinse 5 kompensierbar ist. Der Nachweis dieses Bildfehlers erfolgt über
einen Detektor A, der in der Ebene der Eintrittspupille des Einfeld-Kondensorobiektivs 6 angebracht
ist. Dem Detektor A sind Öffnungen O in einem die
Maske M umgebenden Maskenhalter 24 zugeordnet (vgl. den Verlauf der Randstrahlen 30, 30'in Fig. 2).
Der Aufbau des Astigmatismus-Detektors A sowie die Gestalt des zugeordneten Maskenhalters 24 sind
in Fig. 4 dargestellt.
Fig. 4 zeigt den Maskenhalter 24, an dessen Rand die öffnungen O vorgesehen sind. Die öffnungen O
sind in gleichen Abständen voneinander konzentrisch zur optischen Achse 16 des Verkleinerungsgerätes 1
angebracht. Den Öffnungen O entsprechen Metallplättchen 25 am Rande des Astigmatismus-Detektors
A. Im Falle einer astigmatismusfreien Abbildung der Maske M auf die Registrierebene 12 sind die auf
jedes der Metallplättchen 25 auftreffenden Elektronenströme untereinander gleich.
Ein zwei- bzw. dreizähliger Astigmatismus der Abbildung
hat eine Änderung der gleichförmigen Bestrahlung der Metallplättchen 25 zur Folge. Die Bestimmung
des auf die Metallplättchen 25 auftreffenden Elektronenstrpmes beispielsweise mit Hilfe eines
Strommeßgerätes 26, das nacheinander an die Metallplättchen 25 angeschlossen wird, liefert ein eindeutiges
Signal für die Größe und Art des Astigmatismus. Dies ist an Hand der Fig. 5a, 5b verdeutlicht.
Fig. 5a zeigt die Bestrahlungsverhältnisse in der Ebene des Astigmatismus-Detektors A im Falle eines
zweizähligen Astigmatismus. Die die Öffnungen O durchsetzenden Elektronensirahlen treffen auf Stellen
auf, die längs der eingezeichneten Linien 27 bzw. 28 angeordnet sind. Aus der Figur folgt, daß im Falle
des zweizähligen Astigmatismus nur auf wenige, einander gegenüberliegende Metallplättchen 25 ein
Elektronenstrom auftrifft.
Die Beleuchtungsverhältnisse im Falle des dreizähligen Astigmatismus sind in Fig. 5 b gezeigt. In der
Ebene des Astigmatismus-Detektors A sind Punkte beleuchtet, die län^s der eingezeichneten Linie 29 gelegen
sind. Aus Fig. 5b folgt, daß der Astigmatismus-Detektor im wesentlichen an drei Stellen beleuchtet
ist, die ein gleichseitiges Dreieck bilden.
Es sei erwähnt, daß der in Fig. 4 gezeigte Astigmatismus-Detektor
A neben der Anzeige eines zwei- bzw. dreizähligen Astigmatismus sowie der vorgenommenen
Korrektur dieser Bildfehler mit Hilfe des Stigmators St auch dazu dienen kann, eine Änderung
der Beschleunigungsspannung U nachzuweisen. Ändert sich die Beschleunigungsspannung U, so hat dies
zur Folge, daß - eine astigmatismusfreie Abbildung vorausgesetzt - auf den Metallplättchen 25 des Detektors
A eine gleichmäßige Verringerung bzw. Vergrößerung des auf treffenden Elektronenstromes festgestellt
werden kann. Dieser Elektronenstrom kann ferner da2u dienen, die Belichtungszeit des Präparats
zu bestimmen, da die auf die Metallplättchen 25 auftreffende Stromdichte der auf dem Präparat P einfallenden
Stromdichte proportional ist.
Die Anwendung der Erfindung kommt vor allem bei einem elektronenoptischen Verkleinerungsgeräi
in Frage. Sie kann jedoch auch bei ionenoptischen Bestrahlungsgeräten verwendet werden.
Hierzu 3 Blatt Zeichnungen
Claims (1)
1. Korpuskularstrahloptisches Gerät zur Abbil- em ischen Feldlinsensystem in dem die
dung einer Maske auf ein zu bestrahlendes Prapa- 5 nero * dnet und zander parallelen
rat mit einer Strahlquelle, einem Kondensorhn- M^uskel|ahnen durchsetzt ist und einer magnetisensvstem,
einem Stigmator, einem magnetischen K^ ^ M[ns^ die das Bild der Maske m der
Feldiinsensystem, in dem die Maske angeordnet Präparats erzeugt .
und von zueinander parallelen Korpuskelbahnen ^e s ^U das beispielsweise zur Herdurchsetzt
ist, und einer magnetischen Projektiv- * von Mikroschaltungen auf rlalbleiterplatt-Unse,
die das Bild der,Maske_in ^Eben^des st^ .^ ^ inForm eines ^^nopjjdjen
, bekannt. In diesem
f. daß das Kondensorlinsensystem w cmc ^- , ( l911)y Seiten 9J bis üu, oeitaiuH. in uicscin
I trostatische Linse ist, die über einen Spannungs- ^ £ dag Kondensorlinsensystem aus einer
teiler (14) in Abhängigkeit von der Eeschleum- i5 Gerag ischeRLinse. Als Feldlinsensystem ist
I gungrspannung (U) der Strahlquelle (2) erregt ist. «nag 6 etische Linse vorgesehen, m deren
I 2 Korpuskularstrahloptisches Gerat nach An- eoe ^ ^ präparat befindet.
fc ipruch 1, dem im Strahlengang ein aus einer Ob- re Femer fct aus der deutschen Offenlegungsschrift
Ep iektivlinse, einem Zwischenbildleuchtschirm, ei- 332Q91 ein elektronenoptisches Verkleinerungsge-
m «er elektrostatischen Projektivlinse und einem ^ekannt>
bei dem das Kondensor-und das Feldlm-
Ü Endbildleuchtschirm bestehendes Korpuskular- tem aus ;e zwei magnetischen Linsen bestehen.
i Strahlmikroskop folgt, wobei die Objektivlinse mit ^ ^n den beiden Feldlinsen verlaufen die Elek-
I der magnetischen Projektivlinse des Gerätes zu uf zueinander parallelen Bahnen.
I einem magnetischen Einfeld-Kondensorobjektiv tron bekannten Geräten ist eine optimale Ab-
I vereinigt ist, dadurch gekennzeichnet, daß wenig- *5 ... d.r Maske in der Präparatebene nur dann
§ stens vier Detektoren (13, 23) für die in den oi s ^611n das durch das Kondensorlinsensystem
1 Randbereich des Zwischenbild I,-uchtschirmes (8) mog _, y,,^^ Quellenbild durch das Feldlin-
I fallenden Koφuskeln. die durch Offnungen in den erzeug ^ ^^ kleinster Fehler5 insbesondere
t Randbereichen der Maske gefallen sind, vorgese- ^ni^ichnungs. und farbfehlerfreie Ebene der ma-
I hen sind. . 3° £netischen Projektivlinse, die die Maske auf das Pra-
Ϊ 3. Korpuskularstrahloptisches Gerat nach An- g^ abbildet; übertragen wird.
1 sprach 2, dadurch gekennzeichnet, daß den ue- ν Bidbekannten Geräten ist die Übertragung des
I tektoren (13, 23) Hilfs-Abbildungssysteme (11) J?, inerten Quellenbildes in die genannte Ebene
I mit elektrostatischen Linsen vorgeschaltet sind, ^r r K1 maenetlschen Projektivlinse bei verschiedenen
I die entsprechende Randteile des Zw.schenbildes 35 |e/™^"! n der Erregungen von Kondensor- und
I auf die Detektoren (12, 23) abbilden und die von gns^^gSem möglich. Diese Einstellungen haben
? - "der Beschleunigungsspannung (U) der Strani- "tersdiiedliche Bildfehler für das Bild der Maske auf
!' quelle (2) abhängig erregt sind. Präparat zur Folge, je nach Lage des vom FeId-
I 4. Korpuskularstrahloptisches Gerat nach An- d«r^raPa entworf°nen Bildes der Quelle relativ
\ spruch 3 mit Detektoren, die auf der Achse der 4o »"^^^, da sich die Bildfehler der Feldlinse
! Hilfs-Abbildungssysteme angeordnet sind und je- zu j Änderung der Erregung dieser Linse eben-
I weils ein elektrisches Ausgangssignal liefern, da- wsi eine Einstellung der Erregung
\ durch gekennzeichnet, daß die Hilfs-Abbildungs- falls Y?"™^ u^d Feidiinsensystem, bei der die
! systenJ (11) jeweils ein mit Wechselspannung ^»^nS^ sind,d. h. die Güte der Abbildung
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19752515550 DE2515550C2 (de) | 1975-04-09 | 1975-04-09 | Korpuskularstrahloptisches geraet zur abbildung einer maske auf ein zu bestrahlendes praeparat |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DE19752515550 DE2515550C2 (de) | 1975-04-09 | 1975-04-09 | Korpuskularstrahloptisches geraet zur abbildung einer maske auf ein zu bestrahlendes praeparat |
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Publication Number | Publication Date |
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DE2515550B1 DE2515550B1 (de) | 1976-10-07 |
DE2515550C2 true DE2515550C2 (de) | 1977-05-18 |
Family
ID=5943441
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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DE19752515550 Expired DE2515550C2 (de) | 1975-04-09 | 1975-04-09 | Korpuskularstrahloptisches geraet zur abbildung einer maske auf ein zu bestrahlendes praeparat |
Country Status (1)
Country | Link |
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DE (1) | DE2515550C2 (de) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL7804039A (nl) * | 1978-04-17 | 1979-10-19 | Philips Nv | Elektronenmikroskoop met stigmator. |
DE2827086C2 (de) * | 1978-06-16 | 1980-07-24 | Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen | Verfahren zur Fokuseinstellung und Fehlerkorrektur eines elektronenoptischen Kondensors in einem Mikroprojektor und Mikroprojektor zur Durchführung des Verfahrens |
DE2827085C2 (de) * | 1978-06-16 | 1980-07-24 | Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen | Verfahren und Vorrichtung zur Brennweitenbestimmung langbrennweitiger elektronenoptischer Linsen |
DE3017365C2 (de) * | 1980-05-07 | 1985-05-09 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V., 8000 München | Korpuskularstrahlgerät zur Erzeugung eines Bestrahlungsmusters auf einem Werkstück und Verfahren zum Betrieb |
-
1975
- 1975-04-09 DE DE19752515550 patent/DE2515550C2/de not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
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DE2515550B1 (de) | 1976-10-07 |
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