DE2515549C2 - Korpuskularstrahloptisches geraet zur abbildung einer maske auf ein zu bestrahlendes praeparat - Google Patents
Korpuskularstrahloptisches geraet zur abbildung einer maske auf ein zu bestrahlendes praeparatInfo
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Description
20
Die Erfindung bezieht sich auf ein korpuskuiu. jtrahloptisches
Gerät zur Abbildung einer Maske auf ein zu bestrahlendes Präparat mit einer Strahlquelle, einem
Kondensorlinsensystem, das die Maske mit zur Geräteachse parallelen Korpuskelstrahlen beleuchtet, und
einem aus zwei magnetischen Linsen bestehenden Projektionsünsensystem mit telezentrischem Strahlengang,
das das Bild der Maske in der Ebene des Präparats entwirft. Ein telezentrischer Strahlengang liegt dann
vor, wenn "".ie Maske in der vorderen Brennebene der
ersten Linse und das Präparat in der hinteren Brennebene der zweiten Lins'' des Projektionslinsensystems
liegt und wenn dariber hinaus die hintere Brennebene der ersten Lin:^ mit der «orderen
Brennebene der zweiten Linse zusammenfällt.
Ein Gerät der eingangs genannten Art, das aus der DT-OS 23 32 091 in Form einer Elektronenstrahl-Projektionsvorrichtung
bekannt ist, dient beispielsweise zur Herstellung von integrierten Schaltkreisen. Dabei ist es
aus Kostengründen erwünscht, auf dem Präparat mehrere derartige Schaltkreise gleichzeitig oder hochintegrierte
Schaltkreise mit großem Flächenbedarf zu erzeugen, Dies führt jedoch zu Masken, deren
Durchmesser in der Größenordnung von einigen Zentimetern liegt.
Einer Vergrößerung des Maskendurchmessers sind durch die Abbildungsfehler des Projektionslinsensystems
Grenzen gesetzt Diese Fehler haben eine Verringerung der Bildpunktzahl, d.h. der maximalen
Zahl der in der Präparatebene getrennt voneinander wahrzunehmenden Bildpunkte, zur Folge.
Von den Abbildungsfehlern sind insbesondere die Farbfehler neben den geometrischen Fehlern von
Bedeutung. Die Farbfehler hauen iiiic Ufäächc darin,
daß die Korpuskeln von der Strahlquelle, beispielsweise einer Glühkathode, nicht mit gleichmäßiger Energie
erzeugt werden; sie weisen vielmehr eine Energieverteilung endlicher Breite auf. Dies hat zur Folge, daß die
Korpuskeln in unterschiedlicher Weise von den Linsen des Projektionslinsensystems beeinflußt werden.
Die Farbfehler setzen sich aus einem axialen Farbfehler und aus den beiden außeraxialen Farbfehlern,
dem Verdrehungs- und dem Vergrößerungsfarbfehler, zusammen. Die geometrischen Fehler bestehen
aus dem öffnungsfehler, der isotropen und anisotropen Koma, der Bildfeldwölbung, dem isotropen und
anisotropen Astigmatismus sowie der isotropen und anisotropen Verzeichnung.
wobei
Un die auf ein Korpuskel wirkende Beschleunigungsspannung,
q die Ladung und
ma c* die Ruhe<-nergie eines Korpuskels
ma c* die Ruhe<-nergie eines Korpuskels
ist.
Während die geometrischen Fehler durch die Art der Beleuchtung der Maske (parallele Beleuchtung) klein
gemacht werden können, gelingt dies^ nicht bei den außeraxialen Farbfehlern. Bei großen Biidfeidern wird
deshalb die Auflösung im wesentlichen durch die außeraxialen Farbfehler begrenzt. Deshalb muß man
gerade diese beiden Fehler (Verdrehungs- und Vergrößerungsfarbfehler) kompensieren, um große Bildpunktzahlen
zu erhalten.
Es läßt sich zeigen, daß be. der erfindungsgemäßen Kombination von telezentrischen Strahlengang des
Projektionslinsensystenis und entgegengesetzt gleicher Erregung der beiden magnetischen Linsen dieses
Systems folgende Abbildungsfehler zu Null werden:
a) der Verdrehungsfarbfehler,
b) der Vergrößerungsfarbfehler und
c) die isotrope Verzeichnung.
Die verbleibenden Fehler werden durch die isotrope und anisotrope Koma zumindest teilweise aufgehoben.
Das Verschwinden des Verdrehungsfarbfehlers läßt sich aus folgender Überlegung ableiten: Der Verdrehungsfarbfehler
ist proportional der Summe ei + e2 der
reduzierten Erregungen ei, ei der beiden Linsen des
Projektionslinsensystems. Da
ei = — ei
gewählt ist, ergibt sich der obengenannte Sachverhalt.
Hinsichtlich des Vergrößerungsfarbfehlers läßt sich zeigen, daß er bei einem Projektionsünsensystem aus
zwei magnetischen Linsen mit telezentrischem Strahlengang dem Ausdruck
PV PV
proportional ist. Dabei ist V gleich der Vergrößerung des Projektionslinsensystems, d. h. gleich dem Quotienten
aus den Brennweiten der beiden Linsen (teiezentrischer Strahlengang). Ei. hat sich nun ergeben, daß bei
der erfindungsgemäßen Erregung der beiden Linsen des Projektionslinsensystems die Vergrößerung Vunabhängig
vom eingestellten Wert der Erregung d bzw. ei
(= -ei) ist. Daraus folgt, daß der Vergrößerungsfarbfehler verschwindet. Damit ist ein Abbildungssystem
gefunden, das die außeraxialen Farbfehler vermeidet, die sonst bei großen Bildfeldern den Hauptteil der
Linsenfeb'.er bewirken.
F i g. 1 zeigt als Ausführungsbeispiel des vorliegenden
korpuskularstrahloptischen Gerätes ein Elektronenstrahl-Projektionsgerät mit einem Projektionslinsensystem
mit telezentrisehem Strahlengang, das aus zwei in der erfindungsgemäßen Weise errege."; srsagnetischen
Linsen besteht;
F i g. 2 stellt graphisch die Abhängigkeit der Bildpunktzahl
pro Linie des Gerätes von Fig. 1 in Abhängigkeit vom Durchmesser der abzubildenden
Maske dar.
Das in F i g. 1 gezeigte Zlektronenstrahl-Projektionsgerät
1 besteht aus einer Elektronenquelle 2, einem dreistufigen Kondensorlinsensystem 3, das eine Maske 4
mit parallel zur Achse 5 des Gerätes 1 verlaufenden Elektronenstrahlen beleuchtet, sowie einem Projektionslinsensystem
6 mit zwei magnetischen Linsen 7, 8, das die Maske in verkleinertem Maßstab auf einem
Präparat 11 abbildet. Die Linsen des Kondensorlinsensystems
3 können sowohl elektrostatische ais auch magnetische Linsen sein.
Die magnetischen Linsen 7, 8 sind mit entgegengesetzt
gleicher reduzierter Erregung betrieben. Das bedeutet, daß sie dieselbe Amperewindungszahl besitzen
und daß die Richtungen ihrer Magnetfelder entgegengesetzt zueinander sind.
Wesentlich für das Projektionsgerät ist ferner, daß das Projektionslinsensystem 6 einen telezentrischen
Strahlengang besitzt. Dies wird dadurch erreicht, daß die Maske 4 in der vorderen Brennebene 10 der Linse 7
und das Präparat 11 in der hinteren Brennebene 9 der
Linse 8 angeordnet sind und daß darüber hinaus de hintere Brennebene 12 der Linse 7 mit der vorderen
Brennebene der Linse 8 zusammenfällt.
Bei dem in F i g. 1 gezeigten Projektionsgerät sind die Abbildungsfehler gering. Daraus ergibt sich, daß das
Gerät eine hohe Bildpunktzahl pro Linie besitzt. Diese ist in Fig.2 in Abhängigkeit vom Durchmesser D der
abgebildeten Maske dargestellt. Das Projektionsgerät 1 bildet die Maske 4 verkleinert auf dem Präparat 11 ab.
Man erkennt, daß die Bildpunktzahl N pro Liive bei einer Vergrößerung des Durchmessers der abzubildenden
Maske zunächst bis zu einem ersten Maximum
ίο ansteigt. Bei einer weiteren Vergrößerung des Maskendurchmessers
fällt die Bildpunktzahl dann etwas ab, steigt jedoch dann erneut bis zu einem zweiten
Maximum an. Das zweite Maximum liegt dabei sogar noch etwas höher als das erste Maximum. Bei einer
nochmaligen Vergrößerung des Durchmessers der abzubildenden Maske fällt die Bildpunktzahl dann steil
ab.
Durch Vergleich mit der maximal erreichbaren Bildpunktzahl bei lichtoptischen Abbildungsgeräten
(strichlierte Linie 13) erkennt man, daß sich mit dem
beschriebenen Projektionsgerät — verglichen mit lichtoptischen Geräten — sowohl größere Masken
abbilden als auch höhere Bildpunktzahlen erreichen lassen. So kann z. B. eine Maske von 14 cm Durchmesser
*5 rr.U dreimal höherer Bildpunktzahl pro Linie als bei
lichtoptischen Geräten abgebildet werden. Eine derartig hohe Bildpunktzahl läßt sich jedoch, wie weitergehende
Untersuchungen gezeigt haben, nur bei der erfindungsgemäßen Kombination von te'ezentrischem Strahlengang
mit entgegengesetzt gleicher Erregung der beiden Linsen des Projektionslinsensystems erreichen.
Die Anwendung der Erfindung kommt vor allem in Frage für Elektronenstrahl-Projektionsgeräte nach
Fig. 1 zur verkleinernden Abbildung einer Maske auf
ein Präparat. Daneben ist es möglich, die Erfindung aurh bei Elektronensirahl-Projektionsgeräten zur maßstabsgetreuen
Abbildung einer Maske zu verwenden. Weitere Anwendungsmöglichkeiten ^ind z. B. bei
ionenoptischen Projektionsgeräten, die nach dem gleichen Prinzip wie die genannten elektronenoptischen
Projektionsgeräte arbeiten, gegeben.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (1)
- Patentanspruch:Korpuskularstrahloptisches Gerät zur Abbildung einer Maske auf ein zu bestrahlendes Präparat mit einer Strahlquelle, einem Kondensorlinsensystem, das die Maske mit zur Geräteachse parallelen Korpuskelstrahlen beleuchtet, und einem aus zwei magnetischen Linsen bestehenden Projektionslinsensystem mit telezentrischem Strahlengang, das das Bild der Maske in der Ebene des Präparats entwirft, dadurch gekennzeichnet, daß die Quotienten aus Amperewindungszahl und relativistisch korrigierter Beschleunigungsspannung (reduzierte Erregungen) der beiden magnetischen Linsen (7,8) des Projektionslinsensystems (6) entgegengesetzt gleich sind.Aus der DT-PS 9 71 548 ist es bekannt, Objektiv und Projektiv eines Elektronenmikroskops mit entgegengesetzter Erregung zu betreiben und die Erregungen und die Quotienten aus Polschuhabstand und Polschuhdurchmesser dieser beiden Linsen so zu wählen, daß Verdrehungs- und Vergrößerungsfarbfehler dieser Linsen zusammen etwa Nuil werden.Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein korpuäkularstrahloptisches Gerät der eingangs genannten Art mit hoher Bildpunktzahl, d. h. mit ν zrschwindenden bzw. geringen Abbildungsfehlern, zu schaffen.Die Lösung dieser Aufgabe besteht darin, daß die Quotienten aus Amperewindungszahl und relativistisch korrigierter Beschleunigungsspannung (reduzierte Errcgungen) der beiden magnetischen Linsen des Projektionslinsensystems entgegengesetzt gleich sind.Die relativistisch korrigierte Beschleunigungsspannung t/'berechnetsich nach folgender Formel:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19752515549 DE2515549C2 (de) | 1975-04-09 | 1975-04-09 | Korpuskularstrahloptisches geraet zur abbildung einer maske auf ein zu bestrahlendes praeparat |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19752515549 DE2515549C2 (de) | 1975-04-09 | 1975-04-09 | Korpuskularstrahloptisches geraet zur abbildung einer maske auf ein zu bestrahlendes praeparat |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2515549B1 DE2515549B1 (de) | 1976-09-09 |
DE2515549C2 true DE2515549C2 (de) | 1977-04-14 |
Family
ID=5943440
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19752515549 Expired DE2515549C2 (de) | 1975-04-09 | 1975-04-09 | Korpuskularstrahloptisches geraet zur abbildung einer maske auf ein zu bestrahlendes praeparat |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE2515549C2 (de) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2827085C2 (de) * | 1978-06-16 | 1980-07-24 | Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen | Verfahren und Vorrichtung zur Brennweitenbestimmung langbrennweitiger elektronenoptischer Linsen |
DE2827086C2 (de) * | 1978-06-16 | 1980-07-24 | Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen | Verfahren zur Fokuseinstellung und Fehlerkorrektur eines elektronenoptischen Kondensors in einem Mikroprojektor und Mikroprojektor zur Durchführung des Verfahrens |
-
1975
- 1975-04-09 DE DE19752515549 patent/DE2515549C2/de not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2515549B1 (de) | 1976-09-09 |
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