DE2455817A1 - Verfahren zum umsetzen von halbleiterscheiben in einer nach dem kontaktprinzip arbeitenden positionier- und belichtungsvorrichtung mit mehreren bearbeitungsstationen - Google Patents

Verfahren zum umsetzen von halbleiterscheiben in einer nach dem kontaktprinzip arbeitenden positionier- und belichtungsvorrichtung mit mehreren bearbeitungsstationen

Info

Publication number
DE2455817A1
DE2455817A1 DE19742455817 DE2455817A DE2455817A1 DE 2455817 A1 DE2455817 A1 DE 2455817A1 DE 19742455817 DE19742455817 DE 19742455817 DE 2455817 A DE2455817 A DE 2455817A DE 2455817 A1 DE2455817 A1 DE 2455817A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
fine positioning
exposure device
processing stations
multiple processing
semiconductor wafer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE19742455817
Other languages
German (de)
English (en)
Inventor
Kurt Koch
Sieghard Dipl Phys Landgraf
Eberhard Sauer
Paul Dipl Ing Sauerbrei
Kuno Schwarz
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Elektromat VEB
Original Assignee
Elektromat VEB
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Elektromat VEB filed Critical Elektromat VEB
Publication of DE2455817A1 publication Critical patent/DE2455817A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H10P72/00

Landscapes

  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
DE19742455817 1974-01-09 1974-11-26 Verfahren zum umsetzen von halbleiterscheiben in einer nach dem kontaktprinzip arbeitenden positionier- und belichtungsvorrichtung mit mehreren bearbeitungsstationen Withdrawn DE2455817A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DD175904A DD109125A1 (cg-RX-API-DMAC10.html) 1974-01-09 1974-01-09

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE2455817A1 true DE2455817A1 (de) 1975-07-17

Family

ID=5494267

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19742455817 Withdrawn DE2455817A1 (de) 1974-01-09 1974-11-26 Verfahren zum umsetzen von halbleiterscheiben in einer nach dem kontaktprinzip arbeitenden positionier- und belichtungsvorrichtung mit mehreren bearbeitungsstationen

Country Status (5)

Country Link
CS (1) CS177580B1 (cg-RX-API-DMAC10.html)
DD (1) DD109125A1 (cg-RX-API-DMAC10.html)
DE (1) DE2455817A1 (cg-RX-API-DMAC10.html)
FR (1) FR2257146B3 (cg-RX-API-DMAC10.html)
GB (1) GB1472099A (cg-RX-API-DMAC10.html)

Also Published As

Publication number Publication date
DD109125A1 (cg-RX-API-DMAC10.html) 1974-10-12
FR2257146B3 (cg-RX-API-DMAC10.html) 1977-09-23
CS177580B1 (cg-RX-API-DMAC10.html) 1977-07-29
FR2257146A1 (cg-RX-API-DMAC10.html) 1975-08-01
GB1472099A (en) 1977-04-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
FR2322456A1 (fr) Procede de superfinition de surfaces de semi-conducteurs, en particulier de surfaces d'arseniure de gallium d'orientation (111)
DE2455817A1 (de) Verfahren zum umsetzen von halbleiterscheiben in einer nach dem kontaktprinzip arbeitenden positionier- und belichtungsvorrichtung mit mehreren bearbeitungsstationen
JPS51147179A (en) Method of munufacturing of semiconductor device
AU3742671A (en) Apparatus for aligning a mask with respect toa semiconductor substrate
GB1475831A (en) Method and apparatus for processing semi-conductor integrated circuit chips
GB1170897A (en) Improvements in or relating to Processes for Lapping and/or Polishing Semiconductor Plates.
GB1421408A (en) Methods of separating discrete semiconductor chips from a semiconductor wafer
GB1451668A (en) Semiconductor manufacturing systems
IT1022968B (it) Procedimento perfezionato per la lavorazione di wafer semiconduttori
AT275610B (de) Verfahren zum Herstellen einer teils aus Siliziumoxyd, teils aus Siliziumnitrid bestehenden Schutzschicht an der Oberfläche eines Halbleiterkörpers, z.B. einer Halbleiteranordnung
DE2652566A1 (de) Fertigungs- bzw. montageeinrichtung
JPS5216172A (en) Rotatory treatment device
JPS56153742A (en) Die-bonding device
JPS52155494A (en) Process for w orking parallel plane of wafer
JPS5737836A (en) Manufacture of semiconductor device
CN220730631U (zh) 一种光刻板单面曝光装置
GB1515696A (en) Sheet positioning apparatus
SU750614A1 (ru) Способ подготовки к контактному экспонированию и устройство дл его осуществлени
JPS5563823A (en) Formation of position detecting mark used in exposure to electron beam
JPS57136336A (en) Carrier for substrate
JPS5410680A (en) Locating device of semiconductor wafers
JPS5218176A (en) Production method of semiconductor device
AT348626B (de) Drehzahl-regelanordnung fuer einen ueber steuerbare halbleitergleichrichter gespeisten drehstromasynchronmotor, insbesondere eines hebezeuges
AT334703B (de) Vorrichtung zum betatigen eines drehbaren ventiles
CH552250A (de) Verfahren zum betrieb eines datenverarbeitungssystems, insbesondere fuer die fernsprechvermittlungstechnik.

Legal Events

Date Code Title Description
8141 Disposal/no request for examination