DE2442280C3 - - Google Patents
Info
- Publication number
- DE2442280C3 DE2442280C3 DE2442280A DE2442280A DE2442280C3 DE 2442280 C3 DE2442280 C3 DE 2442280C3 DE 2442280 A DE2442280 A DE 2442280A DE 2442280 A DE2442280 A DE 2442280A DE 2442280 C3 DE2442280 C3 DE 2442280C3
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- wave
- field
- amplitude
- reference wave
- phase
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 30
- 230000009466 transformation Effects 0.000 claims description 11
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 40
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 17
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 10
- 239000013598 vector Substances 0.000 description 8
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 7
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 6
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- YBJHBAHKTGYVGT-ZKWXMUAHSA-N (+)-Biotin Chemical compound N1C(=O)N[C@@H]2[C@H](CCCCC(=O)O)SC[C@@H]21 YBJHBAHKTGYVGT-ZKWXMUAHSA-N 0.000 description 1
- 206010010071 Coma Diseases 0.000 description 1
- 208000034564 Coronary ostial stenosis or atresia Diseases 0.000 description 1
- 241001442234 Cosa Species 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- FEPMHVLSLDOMQC-UHFFFAOYSA-N virginiamycin-S1 Natural products CC1OC(=O)C(C=2C=CC=CC=2)NC(=O)C2CC(=O)CCN2C(=O)C(CC=2C=CC=CC=2)N(C)C(=O)C2CCCN2C(=O)C(CC)NC(=O)C1NC(=O)C1=NC=CC=C1O FEPMHVLSLDOMQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J9/00—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength
- G01J9/02—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength by interferometric methods
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Bestimmung der Amplitude und Phase eines zeitlich harmonischen,
elektromagnetischen Objektwellenfeldes bezüglich einer Wellenfront eines Bezugswellenfeldcs, wobei das
Objektwellenfeld mit jedem einzelnen von mindestens drei sich hinsichtlich Amplitude und/oder Phase
unterscheidenen, aber zum Objektwellenfeld kohärenten und diesem bezüglich der Form der Wcllenfront
ähnlichen Bezugswellenfeldern getrennt überlagert und die Intensität der aus dieser Überlagerung entstehenden
Helligkeitsmuster punktweise abgetastet wird, wobei das Objektwellenfeld mit den Bezugswellenfeldern
jeweils unter Einhaltung der Fernfeldbedingung überlagert wird, nach Patent 22 53 424.
Dieses Verfahren ist bekannt aus Journal of Optical Society of America. Vol. 63, No. 5 (1973), Seiten 547 bis
und im einzelnen beschrieben in der DE-PS 53 424, in welcher ebenfalls der aus der US-PS
94 088 vorbekannt gewesene Stand der Technik im einzelnen gewürdigt ist.
Die mit dem Verfahren nach dem Hauptpatent erzielbare Genauigkeit ist durch die Genauigkeit
begrenzt, mit der die Lage der Referenzfläche bestimmt werden kann und die in der Größenordnung einer
Wellenlänge liegt.
Demgegenüber ist es Aufgabe dieser Erfindung, das Verfahren nach dein Ihiuptpatent derart weiterzubilden,
dall die raumliche Verteilung der Amplitude und Phase einer Objektwelle unabhängig von der räumlichen
Verteilung der Bezugswelle im Fcrnfcld mit hoher (icnauigkcit bestimmt werden kann.
I-Tfindiingsgemül.l ist zur Lösung dieser Aufgabe
vorgesehen, daß dutch lineare Transformation eines der Bezugswellenfelder in den Richtungskoordinaten sowie
durch unterschiedliche Modulation der Amplitude und/oder Phase des linear transformierten Bezugswellenfeldes
ein weiterer Satz von mindestens drei Bezugswellenfeldern erzeugt wird, und daß die Intensität
der bei Überlagerung des Objektwellenfeldes mit den Bezugswellenfeldern des weiteren Satzes entstehenden
Helligkeitsmuster ebenfalls an den gleichen Punkten abgetastet wird. Dabei kann vorteilhafterweise
die lineare Transformation eine differentielle Transformation sein.
Ein wesentlicher Vorteil der Erfindung besteht darin, daß hierdurch theoretisch eine absolute Genauigkeit
möglich wird, die in der Praxis lediglich durch apparative Gegebenheiten und Störeffekte begrenzt ist.
Dieses Ergebnis läßt sich ebenfalls erreichen, wenn bei den in den Ansprüchen gekennzeichneten Verfahren
anstelle eines der Be2.ugswellenfelder das Objektwellenfeld in den Richtungskoordinaten linear transformiert
wird, während die übrigen Verfafirensschritte unverändert
beibehalten werden.
Die Erfindung wird im folgenden beispielsweise an Hand der Zeichnung erläutert; in dieser zeigt
F i 3 1 ein mögliches 3-Bezugswellen-System zur
Bestimmung der Fernfeld-Raumverteiiung eines Wellenfeldes,
F ι g. 2 eine kugelförmige Oberfläche in Beziehung zu
dner typischen unbekannten Fernfeld-Wellenfront,
F i g. 3 eine graphische Darstellung, welche die Wirkung einer Verschiebung der Bezugswellenfront in
Richtung der Aufzeichnungskoordinate veranschaulicht,
Fig. 4 in geometrischer Darstellung die Wirkung einer Kippung der Bczugswellenfront um die durch den
Bezugsfokus gelegte y-Achsc in Beziehung zu der unbekannten Wellenfront,
F i g. 5 ein Prisma, welches zur Kippung der Bezugswelle dient,
F i g. 6 zeigt ein versilbertes Prisma, welches zwei Kippungen der Bezugswelle ergibt,
Fig. 7 ist eine elektrooptische Einrichtung zur Kippung der Bezugswelle,
F i g. 8A und 8B zeigen einen Gaskeil zur Kippung der Bezugswelle.
Das in der DE-PS 22 53 424 beschriebene Verfahren ist anwendbar zur Bestimmung der räumlichen Verteilung
eines Objektwellenfeldes relativ zu einer Bezugswellenfront. Es hat sich jedoch gezeigt, daß dann, wenn
über die in Frage stehende Bczugswellenfront im voraus eine bestimmte Information vorhanden ist und wenn
Abweichungen von einer »a priori« bekannten Form der Bezugswellenfront gemessen werden, diese Information
über die Bezugswellenfront eingeführt werden kann und anschließend von der Information über das
unbekannte Wellenleld eliminiert werden kann. Diese unten im einzelnen beschriebene Maßnahme erfordert
eine zweite Messung, welche ähnlich ist wie die erste Messung, bei welcher jedoch die zu bestimmende
Wellenfront geringfügig verlagert oder gekippt wird.
Sowohl das in der US-PS 36 94 088 beschriebene Verfahren als auch das oben beschriebene Verfahren
basieren auf einem herkömmlichen Interferometer. Dieser Typ eines Instrumentes ist ein Brückensystem. Es
vergleicht die räumliche Verteilung der komplexen Aniplitudenübertragung der optischen Elemente, wclehe
in die Zweige des Interferometers eingesetzt sind. Wenn beispielsweise die komplexe Amplitudenübertragung
I: (\. yjeiner Linse als Bruchteil der Latenilkoordinaten
ν und y gegeben ist. so ist die komplexe
Amplitude R (χ, y) der Ausgangswelle des ersten Zweiges (oder des Bezugszweiges) des Interferometers
gegeben durch
R(x,y) = T1(X1J;)/, (χ,>'), ' (1)
wobei /ι (x, y) die komplexe Amp'iiude der in den
Bezugszweig eintretenden Welle ist. Fur den zweiten Zweig (oder den Objektzweig) läßt sich schreiben
F(x,y) = T2 (x,.v) /, (x,y), (2)
wobei T2 (x. y) der Transmissionsgrad (oder der
Reflexionsgrad) für die komplexe Amplitude des zu messenden Objektes und I2 (x. y) die komplexe
Amplitude der in den Objektzweig einfallenden Welle ist. Wenn die Brücke abgeglichen isi.gilt die Beziehung
[X. x) = I2 {x.yi = /(x.>■).
(3)
Nachdem die zwei Ausgangswelle.i R und F wieder
miteinander vereinigt sind, ist die gemessene Größe J(x, y) gegeben durch
(wenn die Brücke abgeglichen ist. =) | R p I 1 T- ; j]
(4)
Es ist zu bemerken, daß im Falle eines abgeglichenen Interferometers die räumlichen Verteilungen der
einfallenden Wellen /, = /2=/ sich aufheben. Da
angenommen werden kann, daß die Raumverteilung des Absolutquadrats der Amplitude des Bezugsfeldes
bekannt ist, zeigt die Gleichung (4), daß die meßbare Größe J eine Information liefert, die entweder eine
Aussage über das Verhältnis der zwei Ausgatigswellen F und /? enthält, d.h. über die Größe
F
R
A e'
Ik'1"
(5)
oder dann, wenn die Brücke abgeglichen ist, eine Aussage über das Verhältnis der zwei Amplitudenübertragungs-(oder
-Reflexions-)Funktionen, d.h.. über die Größe
T2
16)
Sowohl mil dem vorliegenden Verfahren als auch mit dem Verfahren nach der US-PS J6 94 088 wird eine
Bestimmung des Verhältnisses λ (oder ß) aus einer
Reihe von drei oder mehreren Werten von /erreicht.
Die US-PS 36 94 088 definiert die Bezugswellenfront R als die Wellenfront
τ ■ ι
Dies bedeutet, daß davon ausgegangen wird, daß die Bezugswellenfront dieselbe ist wie eine V/ellc von
(komplexer) Einheitsamplitudenverteilung - ·/ι = 1 —, die durch das Bezugsobjekl mit einer Übertragungsfunktion
Ti moduliert isi. Dieses Verfahren ist verständlich,
wenn (a) die Messung lediglich auf eines der Verhältnisse <x oder β gerichtet ist, siehe Gleichung (5)
und (6), wodurch sich bei einer abgeglichenen Brücke die Verteilung / (x, y) heraushebt und deshalb auch als
Einheitsamplitude angenommen werden kann, und wenn (b) die Übertragungsfunktion (oder Reflexions-Itinktion)
T\ (x.yj mi[ ausreichender Genauigkeit durch
das gegenständliche Bezugsobjekt definiert ist. Diese Bedingungen liegen beispielsweise dann vor, wenn /wxi
optische Bauelemente wie beispielsweise Spiegel oder Linsen zu vergleichen sind ui>d das optische Bauelement
in einem der Zweige als Standard dienen kann. Ebene Bezugsflächen lassen sich tatsächlich (als Oberflächenspiegel
oder als optische Platten) innerhalb von Bruchteilen der Wellenlänge des Lichtes über ihren
gesamten Querschnitt herstellen. Jedoch würde für irgendeine andere Oberfläche als eine ebene Fläche,
insbesondere für eine sphärische Oberfläche, eine Definition der Bezugswellenfront durch die Reflexionsoder Übertragungsfunktion eines gegenständlichen
Bezugsobjektes sehr schwierig, wenn interferometrischc
Genauigkeit verlangt wird. d. h., wenn man (anstalt sich mit einem Bezugsobjekt zufrieden zu geben,
welches eine ungefähr sphärische Bezugswellenfronl definiert)die Verteilung Ti (x.yjder Üben ratings- oder
Reflexionsfunktion von nichtebenen optischen Flächen über den gesamten Strahlquerschnitt auf Bruchteile von
2.Ύ kennen muß. Wenn eine Kombination aus einer Linse und optischen Planspiegeln dazu verwendet
werden sollte, um mit interferomeirischer Genauigkeit
eine spärische Bezugswelle zu definieren, so wäre Vorabinformation über die Übertragungsfunk'ion dieser
Linse (hinsichtlich ihrer Abbildungsschärfe und Verzeichnungen) mit einer Genauigkeit erforderlich, die
mit der herkömmlichen Technik der Herstellung und Prüfung optische! Elemente sehr schwer zu erhalten is;.
Die Übertragungsfunktion einer solchen Linse bis auf kleine Bruchteile von 2.Ύ genau zu kennen, isl wegen der
Beugungsbegrenzung der herkömmlicher, optischen Prüfverfahren praktisch unmöglich.
Kurz gesagt, wenn beabsichtigt ist, zwei optische Reflexionsfunktioncn (oder Transmissionsfunktionen)
zu vergleichen, kann die Verteilung zwischen R und Ti
im Zusammenhang mit einem gut abgeglichenen Interferometer fallengelassen werden. Dann kann R
durch Ti definiert werden, d. h. durch ein Standardbezugsobjekt.
Dieses Verfahren führt zu einer Festlegung von R bis zu Bruchteilen einer Wellenlänge des Lichtes,
wenn das Bezugsobjekt eine optisch flache Oberfläche ist. Dies gelingt jedoch (mit vergleichbarer Genauigkeit
und Richtigkeit) nicht, wenn als Bezugswellenfront eine sphärische Wellenfront benötigt wird.
Im vorliegenden Fall wird die räumliche Verteilung F
(x. y, z) eines in der Amplitude und Phase modulierten sphärischen Objektwellenfeldes absolut besiimmt. siehe
F- i g. 2. Deshalb mußt man die Be/.iigsicldvertcilungs
funktion R(\.\. /) kennen. InsbesonHi-r- -vj.i K (\. y, z)
bekannt scm. wenn es sich um eine sphärische oder um
eine annähernd sphärische Welle handelt. Somit werden ein Verfahren und eine Vorrichtung beschrieben, um auf
experimentellem Wege R /u bestimmen, ohne sich auf
die Transmissionsfuiiktion (oder die Reflexionsfunktion)
T1 eines gegenständlichen Objektes zu stützen. Kurz
zusammengefaßt besteht dieses Verfahren darin, auf experimentellem Wege die räumliche Verteilung R bis
auf eine unwesentliche Konstante von komplexem Wert > zu bestimmen, and zwai unter Ausnutzung von
Voiabinformation bezüglich der wesentlich sphärischen
Symmetrie dieser Verteilung.
Sowohl nach dem US-Patent 36 94 088 als auch nach der DE-PS 22 53 424 wird das Beziigsfeld so verändert,
Haß eine Dekodierung der Beziehung gemäß Gleichung (4) erreicht wird, d. h., daß die komplexen Zahlen λ oder
β aus J ermittelt werden. Dazu werden die erforderlichen Veränderungen derart eingeführt, daß die
Bczugsfcldampütudc R(k) an einem und demselben is
Aufzeichnungspunkt k in bekannter Weise beeinflußt wird. Dabei wird jedoch keine Kenntnis darüber
benützt, wie durch bekannte Veränderungen der Bezugsfeldverteilung eine bekannte Beziehung zwischen
R(k)ur\d R (p)hergestellt wird, wobei ρφkeinen 2«
von k verschiedenen Aufzeichnungspunkt bezeichnet. Im Gegenteil, die bequemste Form von Veränderungen
von R im Zusammenhang mit den Verfahren nach dem US-Patent 36 94 088 und nach der DE-PS 22 53 424 sind
solche Veränderungen, welche R nur an einem und demselben Punkt beeinflussen (beispielsweise nur bei k).
Beispielsweise beziehen sich die drei durch diese Verfahren vorgeschlagenen Bezugsfelder R\ (k), R2 (k),
Ri (k) auf einen und denselben Aufzeichnungspunkt, beispielsweise auf den Punkt k, der durch die jo
Koordinaten xt, yk, Zk festgelegt ist. Dabei wird keine
Information darüber eingeführt oder verwendet, die eine bekannte Beziehung zwischen der Bezugsfeldamplitude
R(kjan einem bestimmten Aufzeichnungspunkt k und der Bezugsfeldamplitude R (p) an einem anderen «
Aufzeichnungspunkt ρ betrifft. Wenn der Vorgang der Veränderungen durch einen Pfeil bezeichnet wird,
werden bei den früheren Verfahren die Veränderungen derart ausgeführt, daß R verändert wird durch
K1 (fc) — R2 (fc)->
R3(Zc), (8)
wobei die Information, welche erforderlich ist, um die
Veränderung »-►« auszuführen, nur die Veränderungen
an einem und demselben Aufzeichnungspunkt k (k= 1,1 ...N)betrifft (N: Anzahl der Aufzeichnungspunkte). Im
Gegensatz dazu sind die hier zu beschreibenden Veränderungen derart, daß Information eingeführt und
benützt wird, welche einen bestimmten Wert von R an
einem bestimmten Aufzeichnungspunkt k mit einem bestimmten Wert von R an einem anderen Aufzeichnungspunkt
ρ miteinander in Beziehung setzt, d. h, es wird eine Transformation der folgenden Form betrachtet
R(k)
(9)
55
wobei kφp.
Das durch die Gleichung (9) angegebene Verfahren wird unten im einzelnen erläutert Es ermöglicht, die
Verteilung r (k) aufzufinden, Jt= 1,2 ... N, und zwar aus
zwei Sätzen von gemessenen Werten « (k)mit k= 1,2...
N und aus der Information, weiche die Veränderungen betrifft, die durch den Pfeil in der Gleichung (9)
angegeben sind. Diese Veränderungen verknüpfen in bekannter Weise die Werte von R an verschiedenen
Aufzeichnungspunkten. Für die räumliche Verteilung der Bezugsamplitude sind keine Begrenzungen erforderlich,
insbesondere ist eine sphärische Welle zulässig.
Die räumliche Verteilung des Bezugswellenfeldes in der ! uim einer in der Amplitude und Phase modulierten
sphäi""^.en Welle (siehe F i g. 2) wird bestimmt, wie ec
nachfolgend beschrieben wird Nach der üt-PS
22 53 424 ist bekannt, wie für einen beliebigen Aufzeichnungspunkl k der Wert Ix = I-VR (siehe Gleichung
(5)) expL-iimentell zu bestimmen ist Um aus &
sowohl die Amplitude als auch die Phase des Objektwellenfeldes F=AC' zu bestimmen, müssen
sowohl P: die Aniplivjdc (oder die Bestrahlungsstärke)
des Bezugswellenfeldes, als auch Φ: der räumliche Anteil der Phase dieses Feldes am Aufzeichnungspunkt
χ bekannt sein. Die Messung von B kann leicht durchgp'ührt werden, indem ein herkömmliches photometrisches
Verfahren angewandt wird, und demgemäß ist das eigentliche Problem die Bestimmung von Φ am
Punk: <-. Aus Gleichung (5) und der Fig. 3 ist zu
entnehmen, daß dann, wenn der Wert von Φ noch nicht bekannt ist, der gemessene Wert von λ nur die
Möglichkeit bietet, die Differenz ψ - Φ der Phasenfunktionen des Objektfeldes und des Bezugsfelder am Punkt
k zu bestimmen. Es ist jedoch erforderlich, die Verteilung von Φ für alle Aufzeichnungspunkte
jt= 1,2... N absolut — bis auf eine Konstante — zu
bestimmen. Dazu ist es erforderlich, die Raumverteilung der Bezugswelle für Jt=I, 2... N zu finden. Da die
Addition einer Konstanten (unabhängig k) zu der Phasenfunktion Φ keinen Einfluß ausübt, entspricht dies
der Aufgabe, sämtliche folgenden Phasendifferenzen d^,
zu bestimmen, nämlich
(10)
und zwar für alle Werte Ar= 1, 2 ... N und p= 1, 2 ... N.
Jedoch ist die Differenz der Phase zwischen dem A-ten und p-ten Punkt unabhängig von dem »Weg«, auf
welchem diese Punkte miteinander verbunden werden, und folglich sind die Werte dkP durch Beziehungen
folgender Form miteinander verknüpft:
(11
wobei die Zwischenpunkte ot\, 0.2... <xg entlang einem
beliebigen möglichen Weg (Kette) genommen werden können, der die Punkte k und ρ miteinander verbindet.
Eine erste Bestimmung der Verteilung in it der Größe
Eine erste Bestimmung der Verteilung in it der Größe
R
1
(12)
wird nach dem in DE-PS 22 53 424 angegebenen Verfahren erreicht, und zwar mit einem beliebigen
Objektfeld F. Dann wird das Bezugsfeld in einer bekannten Art derart verändert, daß die neue
Bezugsfeldverteilung R'(k), Ar=I, 2...N mit der
Ausgangsverteilung R(i), /= 1, 2... N über eine lineare
Transformation verknüpft ist:
(13)
i = 1
wobei die Werte tk, eine bekannte Matrix (mit
komplexen Werten) bilden. (k=\, 2... N. i=\, 2 ...N. N: Anzahl der Aufzeichnungspunkte.) Mit demselben
Objektfeld F wie beim ersten Mal und mit Ä"anstatt R wird ein zweiter Satz der Größe (l/a)' für alle
Aufzeichnungspunkte Jt= 1, 2... Nnach dem in DE-PS
22 53 424 beschriebenen Verfahren ermittelt Das auf diese Weise bestimmte Verhältnis der zwei Größen
(!/λ) und (Un.)' ergibt an jeder M^ßstelie k die folgende Verteilung der Größe////:/ k = 1,2 ... N,
(1/λ)' R'(k)
(Ι/λ) " K(M
Rih
(14)
wodurch die gemessenen Werte μ{\), μ(2)...μ(Ν) in
Beziehung zu den unbekannten Größen Dt,
ß(l!
- 1,2
/V,
1,2
gesetzt werden. Wenn die Matrix l der Koeffizienten
der bekannten linearen Transformation
R= t ■ R
(15)
Unter Benutzung der Gleichung (Ib) wird die komplexe Amplitude der Bezugswelle am k-ien
Aufzeichnungspunkt R(k)— B(k) d*<k>
bis auf einen unwesentlichen komplexen Faktor S(I) Celans
/,(!)·//(2I- ... ■ ,,(k- I)
= D12 D23- ... Dk.uk = D,K B(k)e'''-'k>
= D12 D23- ... Dk.uk = D,K B(k)e'''-'k>
Ät-
"B(\)cJ"ii]
nicht singular ist, so ist es aufgrund der in der Gleichung
(14) angegebenen Beziehung und den Beziehungen gemäß Gleichung (11) möglich, aus den gemessenen
μβ) die gewünschten Größen Du eindeutig zu
bestimmen, und aus den Dt, können (da B(i) und B(k)
ohne Schwierigkeit getrennt gemessen werden können) die Phasendifferenzen d*,für alle NAufzeichnungspunkte
bis auf hier unwesentliche ganzzahlige Vielfache von
2π gefunden werden. Die Gleichung (11) läßt sich auch jo Einheiten, jeweils im /c-Bereich:
in folgender Form ausdrücken:
'*/ = 'Vi-I + 'Vi-2
für k = 2,3 ... N ermittelt.
Die lineare Transformation der Bezugsfeldverteilung besteht aus zwei simultanen räumlichen Verschiebungen,
und zwar eine um eine Einheit und die andere um 2
(18)
wobei die a„ /·= 1, 2 ... ^entlang einem beliebigen Weg J5
(Kette) genommen werden können, der die Punkte k und /verbindet.
Dieses Verfahren zur Auswertung der erforderlichen Messungen wird nachfolgend durch Beispiele erklärt.
Die lineare Transformation der Bezugsfeldverteilung besteht i.i einer Verschiebung des Datenvektors R(k)
um eine Einheit im Jt-Bereich;
R'(k) = R(A:
(17)
d.h. iki = Λ,.,.,
wobei gilt:
wobei gilt:
0 für m ψ η
1 für m = π .
Dann ergibt sich für die meßbaren Werte /i(k):
»(1) = D12
/,(2) = D23
1,Ik-I) =
mit <*>m„ wie in Gleichung (17).
Dann können die folgenden Gleichungen für Dt,
gelöst werden:
,«(I) = D12 + D13, i,(2) = D2., + D24--
i,(k- 2) = Dt-z.i-, + Dk_2k. (19)
Dn = D12D23. D14 = DnD^,
D14 = DnD23D^, D24 = D23D34- ■ (20)
Die ersten zwei Gleichungen der Gleichung (19) zusammen mit den ersten 4 Gleichungen (20) gestatten
z. B. eine Bestimmung der Unbekannten D,2, D23 und D34
(und auch der überflüssigen Unbekannten D13, Dm und D24). Aus diesen Zahlen werden die gewünschten
Größen R(2), Ä(3) und R(A) wie in Beispiel 1 ermittelt,
und zwar bis auf die eine unwesentliche komplexe Konstante R(\).
Die lineare Transformation der Bezugsfeldverteilung besteht in der Faltung von R(k) mit H(k), einer
bekannten Funktion von k:
60
(21)
In diesem Falle erhält man insbesondere dann eine Lösung, wenn die Funktion H(k) nur innerhalb eines
kleinen Bereiches von Werten k nicht gleich Null ist. Es
ist auch zu bemerken, daß die Beispiele 1 und 2 oben
spezielle Fälle des Beispiels 3 sind, derart, daß entweder
W^Jglcich ist
= .γ ,, (Beispiel 1)
= \. μ + <\.+2 (Beispiel 2).
= \. μ + <\.+2 (Beispiel 2).
f, = γ (;i-l
abgelenkt, wobei
.-ο
25
Hier ist die Bedcuiung von ä„,„ dieselbe wie in der
Gleichung(17).
Nachfolgend wird nochmals auf die Vorrichtung in der Fig. 1 Bezug genommen. Die Einrichtung zur
Ausführung der physikalischen Vorgänge, wie sie in den obieen Beispielen geschildert sind, besteht in einer
bestimmten Form des optischen Elementes D, welches gemäß der Darstellung in den optischen Strahlengang
eingefügt ist. Die Einrichtung D ist derart ausgebildet, daß das auf den Bezugsfokus PFeinfallende Bezugswellenfeld
um eine durch PF gelegte Achse in einer vorgegebenen Weise gekippt wird. Dabei kann zugleich
eine Translation dieser Kippachse senkrecht zu sich selbst in vorgegebener Weise erfolgen.
Die Fig. 4 veranschaulicht eine Kippung der
Be/ugswellenfront um die durch den Bezugsfokus
gelegte y-Achse. Die unbekannte Wellenfront, deren Raum'^rteilung gemessen werden soll, ist als Kurve υ
darges^ilt. Die Bezugswellenfront ist mit ν bezeichnet.
Nach der Kippung der Bezugswellenfront um den bekannten kleinen Winkel oß hat die Bezugswellenfront
an der Meßstelle P(ß,i/>, r)den Wert
Durch die erste Messung von(l/α) — siehe Gleichung J5
(12) — wird die Differenz u—v bestimmt. Durch die zweite Messung von (Mx)' wird
υ-(ν-(ον/οΩ)δΩ) =υ-ν+(3νΙ3Ω)δΩ
40
bestimmt. Durch Kombination beider Messungen erhält man
(ΰν/όΩ)δΩ,
und daraus, weil oß bekannt ist, folgt (ον/ΘΩ). Aus den 4-,
Werten von (cVSß) für alle Meßstellen k fo'gt die
Funktion V(ß) durch Integration bis auf eine Integrationskonstante.
Zunächst wird die Kippung der Bezugswellenfront betrachtet, und zwar durch Einfügen von Ablenkelementen
in den Bezugsstrahlengang.
Das in der Fig. 5 dargestellte Prisma ist derart angeordnet, daß seine Achse AB parallel zu dery-Achse
des Koordinatensystems verläuft. Wenn der Brechungsindex des Prismas nn nicht gleich dem Brechungsindex n0
des Umgebungsstoffes ist (beispielsweise Luft), wird eine in z-Richtung einfallende ebene Welle durch das
Prisma in der xz-Ebene um einen Winkel
bO
Der Vektor k0 zeigt die Richtung der einfallenden
ebenen Bezugswelle ohne das Prisma, und der Vektor Anzeigt
die Richtung dieser Welle (in der xz-Ebene), die durch das Einsetzen des Prismas (oder eines anderen
strahlablenkenden Elementes) um δ gekippt ist.
In ähnlicher Weise ist es durch Vergrößerungen des Reflexionsvermögens der Oberflächen des Prismas
(durch Versilberung) gemäß F i g. 6 möglich, aus der ursprünglichen Bezugswelle in z-Richtung zwei ebene
Bezugswellen zu erhalten, die in der xz-Übene jeweils
um ö\ bzw. Ö2 abgelenkt sind.
indem in den Bezugsstrahiengang (entweder vor oder
nach dem ersten Prisma) ein zweites Prisma eingefügt wird, dessen Prismenachse parallel zu der x-Achsc des
Koordinatensystems verläuft, wird die Bezugswelle in der yz-Ebene mn einen Winkel ε abgelenkt (oder, wenn
das zweite Prisma versilbert ist, um zwei Winkel ει,ε2).
Das Bezugsfeld wird durch einen Spiegel Ml (siehe F i g. 1) in dem in der Ebene z=0 des Koordinatensyster.
s gelegenen Bezugsfokus PF gesammelt, d.h., es wird eine Verteilung der Amplitude des Bezugsfeldes
über die Ebene z=0 erzeugt, bei der die Amplitude im wesentlichen innerhalb enger Grenzen um den Koordinatenursprung
in der Ay-Ebene konzentriert ist, niimlich ±AU ±ALy. Dann werden nach DE-PS 22 53 424
mindestens drei Interferenzmuster Ji, I= \, 2, 3 unter
Fernfeldbedingungen in bezug auf sowohl das Objekt S als auch den Bezugsfokus PF aufgezeichnet. Dies
bedeutet, es sind sicherlich die Bedingungen erfüllt:
x, » -■
(ALx)2
und,xf| » *.>". , (23)
A) Ai
wo |,V/j den radiale, \ostand des Aufzeichnungspunkles
vom Koordinatenursprung bezeichnet.
Die Verteilung der komplexen Amplitude des Bezugsfeldes über die Ebene z=0 (senkrecht zur
optischen Achse, welche den Bezugsfokus PF enthält, F i g. 1) ist jeweils gegeben durch R(x. y. O). R(x, y. 0)
enthält alle (teilweise bekannten) Wirkungen des Spiegels Ml auf die Bezugswelle, wie z. B. Aberration,
Verzerrung, Koma und Beugung an der Apertur des Spiegels Ml. Wenn ein ablenkendes Element eingesetzt
wird, das die Bezugswelle um einen kleinen Winkel δ in der xz-Ebene um PF dreht oder kippt, wird die
Verteilung R(x, y, 0) in guter Näherung gemäß der folgenden Beziehung verändert:
K(.x,V,0)—> R'(x,y,0) = R(x,y,0)c'ikoXSm'^+''] , (24)
wobei *b die Wellenzahl und ξ eine Phasenkonstante ist.
Wenn ein ablenkendes Element die Bezugswelle um einen Winkel ö in der xz-Ebene und ein zweites Element
diese Welle um einen Winkel ε in der yz-Ebene um PF
kippen, so läßt sich in ähnlicher Weise die sich daraus ergebende Änderung der Verteilung R(x. y, 0) in der
folgenden Form schreiben:
R(x,.y,0) ->
(25)
wobei η eine weitere Phasenkonstante ist. Mit anderen Worten, durch die genannten Kippungen wird die
Ausgangsverteilung der Bezugswelle in der Ebene z=0 mit der komplexen Amplitude einer ebenen Welle mit
dem Ausbreitungsvektor jt, multipliziert, wobei die folgende Beziehung gilt:
k' \
K X |
= fco | COSA \ | I | = fco | \ |
k!
Ky |
COS/)' | ||||
^COs ■* j | |||||
sin Λ
sin)
\ \'l — sin Λ— sin
Il !2
Das Fernfeld der Verteilung R(\, y. O) ist durch die Gleichung (29) der DE-PS 22 53 424 gegeben:
• * A1, L-OS(H,.V, ) J
' M'i d.vdv.
Durch Kombiruüion der Gleichungen ist ersichtlich,
daß ein Kippc.i ücr Uezugswelle um ,Turn die Winkel ό
und t die folgende Veränderung in der Be/ugsferrifeld
verteilung hervorruft;
l(F:)
d.vd ν
(28)
Die Bedeutung dieser Gleichung besteht darin, daß durch die genannten Kippungen der Bezugswelle um PF
die Bezugswellenfront im Fernfeldbereich derart verlegt wird, daß ein Wert der komplexen Amplitude
von R. der sich anfänglich· in der Richtung k' befand,
wobei
sich nach erfolgter Drehung in der Richtung Ar' — Jt1'
befindet, d. h.
A-A11 ι _■ r + A — A' .
(29)
Wenn |.v, = r gesetzt wird
X1- * .v,' = ν — r sin ί ,
einem lichtdurchlässigen fesü-n Maierial bestehen,
beispielsweise aus Glas oder einer lichtdurchlässigen Flüssigkeit wie Xylol oder aus einem Gas.
Es ist bekannt (Debye, Sears, 1932), daß die Veränderung des optischen Brechungsindex, welche
durch die stehende akustische Welle in der Platte B hervorgerufen wird, ein derartiges Phasengitter bildet,
daß ein einfallendes !Collimatorbündel in eine Anzahl
von Koliimatorbündein aufgespaltet wild, wobei sich Ausbreiturg"vektoren k\^*\ k^±>
usw. ergeben, wobei der Index m in Ar,,/"' sich auf die Ordnung der Beugung
am Gitter bezieht und der Exponent (±) anzeigt, daß aufgrund der Symmetrie für eine beliebige Kollimatorwelle
mit dem Ausbreitungsvektor
auch die Welle mit dem Ausbreitungsvektor
—
A1.
- A.
existiert.
Die Ausbreitungsvektoren, für welche jeweils Beugungen in der Ordnung m und η auftreten, und zwar bei
einem solchen zweidimensionalen Phasengitler. sind durch die nachfolgenden Beziehungen gegeben (M.
Born, E. Wolf. Principles of Optics. 3. Ausgabe. Seite 594)
= y — r sin
Nachfolgend wird eine Ablenkung der Bezugswelle durch Brechung betrachtet.
Die Fig. 7 zeigt ein Beispiel eines elektrooptischen
Strahlablenkelementes, welches mit optischer Brechung arbeitet, um geeignete Kippungen des Fernfcld-Bezugsbündels
sowohl in der xz-Ebene als auch in dcryz-Ebene
herbeizuführen.
Eine optisch homogene und isotrope Platte B, die als rechtwinkliges Parallelepiped ausgebildet ist, wird
derart mit zwei Übertragern TR1 und TR 2 in
akustischen Kontakt gebracht, daß zwei stehende akustische Wellen erzeugt werden, die zueinander
senkrecht stehen. Die erste stehende akustische Welle ist entlang der x-Achse angeordnet, und zwar aufgrund
des Übertragers 77? 1, wobei eine Reflexion der Welle am Boden der Fläche E1 erfolgt, während die zweite
stehende akustische Welle entlang der j'-Achse angeordnet ist, und zwar aufgrund des Übertragers
TRZ wobei die Reflexion der Welle am entfernten Ende der Fläche £2 erfolgt. Der Körper B kann aus
= -· m ■—■
Ax
«301
wobei m. n=\,2 ... die Ordnung der Beugung angeben. Au die Wellenlänge im Vakuum ist und Λ>. ,I1 jeweils die
Wellenlänge der Schallwelle in der \- oder dor υ y-Richtung angeben:
1 «
1Tl
1 η
(311
wobei V'/jdic Schallgeschwindigkeit in dem Material des
Körpers B ist und r; ι. i'r2 die akustischen Frequenzen
der Übertrager T, bzw. T2 sind.
Die Größen A1 ,,„ A1. „ sind in die Gleichungen (26) und
(29) oben jeweils einzusetzen, und man erhält für die
Verlegung der Wellenfront in diesem Fall:
Λ, * .V1 = Λ,
■*.»'i = y,
Λ,.
Durch kontinuierliche Veränderung von /1, und A1
kann die Wellenfront kontinuierlich verlegt werden. Λ >
und Λ, sind im allgemeinen mit hoher Genauigkeit
bekannt, so daß dieses Verfahren die Überführung der Fernfeld-Wellenfront in empfindlicher und genauer
Weise ermöglicht.
Nachfolgend wird ein Beispiel mit einem Gaskeil betrachtet.
Eine keilförmige Kammer innerhalb eines Glaskörpers (siehe F i g. 8a und 8b) wird in alternativer Weise
mit zwei Gasen gefüllt, die verschiedene Brechungsindizes aufweisen, nämlich O1/1' bzw. a>(2). Die sich dabei
ergebende Differenz δ des Ablenkwinkels dieses Elementes, der mit zwei verschiedenen Gasfüllungen
erreicht wird, ist gegeben durch
wobei γ den Keilwinkel bezeichnet.
Da Gase leicht erhältlich sind, welche diesen Brechungsindex aufweisen, können bei entsprechend
großen Werten von γ kleine Werte von ό erreicht werden. Beispielsweise ergibt sich
κ 121 ., (H _
= 1 ■ 1(TA
Λ ^ 10"' ;■.
Der Vorteil eines solchen Gaskeils im Vergleich zu
einem Keil, der aus Glas besteht, liegt darin, daß für die Genauigkeit, mit welcher alle äußeren und inneren
Flächen eben ausgebildet sind, vergleichsweise große Toleranzen zulässig sind.
Um das Verfahren praktisch anzuwenden, werden zwei Meß-Schritte ausgeführt. Der erste Schritt besteht
darin, daß eine Vorrichtung verwendet wird, wie sie in der Fig. 1 dargestellt ist und besteht darin, daß das
unbekannte Feld und ein Bezugsfeld zur Interferenz gebracht werden, daß dann unter Fernfeldbedingungen
■"> mittels eines Photodetektors mindestens drei Interferenzstreifenmuster
ermittelt werden, welche dem unbekannten Feld und Veränderungen des Bezugswellenfeldes
angehören, und daß die Daten in numerischer Form registriert werden, welche von dem Photodetek-
!Ii tor ermittelt wurden. Wenn die Raumverteilung der
Bezugswelle nicht exakt im Vornherein bekannt ist, reicht die so erhaltene Information nach DE-PS
22 53 424 aus, die numerische Verteilung von Amplitude und Phase des unbekannten Wellenfeldes über eine
r> Oberfläche zu berechnen, die von einer Kugeloberfläche
nur um ±λο/2 abweicht, wo λ« die Vakuum-Wellenlänge
des Lichts ist. Wenn die Raumverteilung des Bezugsfeldes exakt bekannt ist, gestattet die so
erhaltene Information eine exakte Berechnung der
-''I Raumverteilung des unbekannten Wellenfeldes. Der
zweite Schritt besteht darin, den obigen Vorgang zu wiederholen, diesmal jedoch mit einer geringfügigen
Kippung der Bezugswellenfront in bezug auf eine durch den Bezugsfokus Γ*7" gelegten Achse (x- oder y-Achse).
2ri Diese Kippung erfolgt mit Hilfe des Elementes D,
welches in Fig. 1 dargestellt ist und welches zur Erreichung dieser Kippung in den optischen Weg der
Bezugswelle gebracht wird. Das Element D kann ein beliebiges optisches Element sein, welches die erforder-
)(i liehe Kippung zusammen mit sonstigen Elementen des
Strahlenganges hervorruft, wie es z. B. durch die in den F i g. 5, 6, 7, 8a und 8b dargestellten Einrichtungen
geschieht.
Wenn diese zwei Schritte der Messung durchgefühlt
ii werden, erhält man eine ausreichende Information, um
die Raumverteilung der unbekannten Welle absolut zu beschreiben. Die Bezugswellenfront wird zwar eingeführt,
wird jedoch tatsächlich aus der Information im zweiten Schritt der Messung eliminiert, wie es oben
4» bereits diskutiert wurde. Die sich ergebenden Daten liefern die Raurnverteilung des unbekannten Wellenfeldes,
und zwar wird Faus λ und R nach Gleichung (12)
erhalten, wobei % im ersten Meßschritt gemessen und R
wie oben diskutiert aus den Meßwerten von μ im j zweiten Meßschritt gewonnen wird.
Hierzu 5 Blatt Zeichnungen
Claims (2)
1. Verfahren zur Bestimmung der Amplitude und Phase eines zeitlich harmonischen, elektromagnetischen
Objektwellenfeldes bezüglich einer Wellenfront eines Bezugswellenfeldes, wobei das Objektwellenfeld
mit jedem einzelnen von mindestens drei sich hinsichtlich Amplitude und/oder Phase unterscheidenden,
aber zum ObjektwellenfeM kohärenten und diesem bezüglich der Form der Wellenfront
ähnlichen Bezugswellenfeldern getrennt überlagert und die Intensität der aus dieser Überlagerung
entstehenden Helligkeitsmuster punktweise abgelastet wird, wobei das Objektwellenfeld mit den
Bezugswellenfeldern jeweils unter Einhaltung der Fernfeldbedingung überlagert wird, nach Patent
22 53 424, dadurch gekennzeichnet, daß durch lineare Transformation eines der Bezugswellenfelder
in den Richiungskoordinaten sowie durch unterschiedliche Modulation der Amplitude
und/oder Phase des linear transformierten Bezugswellenfeldes ein weiterer Satz von mindestens drei
Bezugswellenfeldern erzeugt wird, und daß die Intensität der bei Überlagerung des Objektwellenfeldes
mit den Bezugswellenfeldern des weiteren Satzes entstehenden Helligkeitsmuster ebenfalls an
den gleichen Punkten abgetastet wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die lineare Transformation eine differenzielle Transformation ist.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19722253424 DE2253424B2 (de) | 1972-10-31 | 1972-10-31 | Verfahren zur bestimmung der amplitude und phase eines elektromagnetischen wellenfeldes |
US05/481,881 US3950103A (en) | 1972-10-27 | 1974-06-21 | Method and apparatus to determine spatial distribution of magnitude and phase of electro-magnetic fields especially optical fields |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2442280A1 DE2442280A1 (de) | 1976-01-29 |
DE2442280B2 DE2442280B2 (de) | 1978-06-15 |
DE2442280C3 true DE2442280C3 (de) | 1979-02-22 |
Family
ID=25764034
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19722253424 Granted DE2253424B2 (de) | 1972-10-31 | 1972-10-31 | Verfahren zur bestimmung der amplitude und phase eines elektromagnetischen wellenfeldes |
DE2442280A Granted DE2442280A1 (de) | 1972-10-31 | 1974-09-04 | Verfahren und vorrichtung zur bestimmung der verteilung von amplitude und phase bei wellenfeldern |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19722253424 Granted DE2253424B2 (de) | 1972-10-31 | 1972-10-31 | Verfahren zur bestimmung der amplitude und phase eines elektromagnetischen wellenfeldes |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (2) | DE2253424B2 (de) |
-
1972
- 1972-10-31 DE DE19722253424 patent/DE2253424B2/de active Granted
-
1974
- 1974-09-04 DE DE2442280A patent/DE2442280A1/de active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2442280A1 (de) | 1976-01-29 |
DE2253424B2 (de) | 1976-08-05 |
DE2442280B2 (de) | 1978-06-15 |
DE2253424A1 (de) | 1974-05-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE4310209C2 (de) | Optische stationäre Bildgebung in stark streuenden Medien | |
US5042950A (en) | Apparatus and method for laser beam diagnosis | |
DE3306709C2 (de) | ||
DE60123468T2 (de) | Verfahren und vorrichtung zur erzeugung einer phasenmodulierten wellenfront elektromagnetischer strahlung | |
DE2814006A1 (de) | Abtastinterferometer | |
DE19541312A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Erfassen des Profils und der Oberflächenstruktur von Gegenständen mit Hilfe optischer Beugungseinrichtungen | |
DE3936118A1 (de) | Interferometer-profilmessanordnung | |
EP0021148A1 (de) | Verfahren und Einrichtung zur interferometrischen Messung | |
DE2714236A1 (de) | Vorrichtung zur optischen mehrfachspeicherung | |
DE10121516A1 (de) | Vorrichtung und Verfahren zur Verminderung der Wirkungen kohärenter Bildfehler in einem Interferometer | |
DE102019205527A1 (de) | Diffraktiver Biosensor | |
DE69213644T2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Analyse einer Lichtwellenfront | |
DE102006031917A1 (de) | Monolithisches Verschiebungsmessinterferometer | |
DE2758149B1 (de) | Interferometrisches Verfahren mit lambda /4-Aufloesung zur Abstands-,Dicken- und/oder Ebenheitsmessung | |
WO2001096926A2 (de) | Mikroskop und verfahren zur quantitativen optischen messung der topographie einer oberfläche | |
DE2442280C3 (de) | ||
EP3571464B1 (de) | Vorrichtung und verfahren zur kalibrierung eines messgerätes mittels projizierter muster mit virtueller ebene | |
DE19935631C1 (de) | Verfahren und Anordnung zur zeitlich aufgelösten Charakterisierung von ultrakurzen Laserimpulsen | |
DE69022243T2 (de) | Optisches phasenmessabtastmikroskop. | |
DE19935630C2 (de) | Verfahren und Anordnung zur zeitlich und spektral aufgelösten Charakterisierung von ultrakurzen Laserimpulsen | |
EP3571465B1 (de) | Vorrichtung und verfahren zur kalibrierung eines messgerätes mittels projizierter muster | |
DE4446887A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung für die Shearing-Speckle-Interferometrie | |
DE102018102241A1 (de) | Verfahren zum Abbilden einer Probe mittels eines Lichtblattmikroskops | |
DE3012500A1 (de) | Retroreflektor | |
DD215168A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur interferometrischen pruefung von lichtleitervorformen und lichtleitern |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
8340 | Patent of addition ceased/non-payment of fee of main patent |