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Chemischer Reaktor zum Behandeln von dispersen Materialien Die Erfindung
bezieht sich auf eine Ausrüstung zum Durchführen physikalischer und chemischer Prozesse,
bei denen Plasma mit niedriger Temperatur verwendet wird, und betrifft plasmaerhitzte
chemische Reak.toren zum Behandeln von dispersen Materialien.
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Der erfindungsgemäße Reaktor kann hauptsächlich zum Durchführen chemischer
Reaktionen in Plasma mit niedriger Temperatur, aber auch zum Behandeln von dispersen
Materialien mit dem Ziel, sie zu sphärodisieren (kugelähnlich machen), zum Erzeugen
ultradisperser Pulver sowie zum Plasmaaufstäuben von schwerschinelzenden und anderen
Materialien Verwendung finden.
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Es ist ein plasmaerhitzter chemischer Reaktor zum Behandeln von dispersen
Materialien und zwar zum Durchführen von chemischen Prozessen in einer schwebenden
Schicht (Wirbelbett) bekannt (s. UdSSR-Urheberschein Nr. 25230O, Kl. 12d, 1/01).
Dieser Reaktor hat-eine senkrechte Reaktionskammer, in deren Oberteil
sich
Mittel zum Zuführen dispersen Materials und in deren Unterteil Mittel zum Erhitzen
und Zuleiten des Betriebsgases in die Reaktionskammer befinden. Diese Mittel sind
in Form eines fackelartigen Plasmatrons ausgeführt, das längs der senkrecht ten
Achse der Reaktionskammer montiert ist.
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Der Reaktor besitzt auch einen Bunker.
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Das im fackelartigen Plasmatron erhitzte Betriebsgas strömt von unten
her in die Reaktionskammer. Mit Hilfe der Mittel zum Zuführen dispersen Materials
wird das letztere von oben her in die Reaktionskammer geleitet, wo es der Einwirkung
eines Betriebsgas-Plasmastrahls mit einer Durchschnittsmassentemperatur von 3 000
bis 5 0000 K ausgesetzt wird Gasförmige Produkte derWechselwirkung zwischen dispersem
Material und Betriebsgas werden über Mittel zum Abführen gasförmiger Produkte entfernt,
während die feste Phase in den Bunker geleitet wird.
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Nachteil des bekannten Reaktors ist u. a., daß in ihm keine schwerschmelzenden
dispersen Materialien und keine dispersen Materialien, bei deren Erhitzung geschmolzene
Teilchen oder flüssige Schlacken entstehen, behandelt werden können, da die letzteren
in die Plasmatrondüse gelangen und eine Störung des Betriebs des Plasmatrons hervorrufen
können.
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Der bekannte Reaktor erlaubt es nicht, disperse Materialien mit dem
Ziel sie zu sphärodisieren und aufzustäuben, zu behandeln, da hierbei geschmolzene
Teilchen entstehen, die in die Plasmatrondüse gelangen können.
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Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen hochintensiven plasmaerhitzten
chemischen Reaktor zu schaffen, in dem disperse Materialien behandelt werden können,
die bei der Erhitzung ir.-folge von physikalischen und chemischen Umwandlungen gasförmige,
flüssige und feste Produkte bilden, wobei zu den behandelten Materialien auch schwerschmelzende
disperse Materialien und disperse Materialien mit niedriger Wärmeleitfähigkeit gehören.
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Dies wird dadurch erreicht, daß beim plasmaerhitzten chemischen Reaktor
zum Behandeln von dispersen Materialien, der einesenkrechte Reaktionskammer, im
Oberteil der Reaktionskammer befindliche Mittel zugtinTühren des dispersen I:Iaterials
in dieselben, Mittel zum Plasmaerhitzen und Zuleiten von Betriebsgas in den Unterteil
der Reaktionskammer, Mittel zum Abführen der gasförmigen Produkte aus der Reaktionskammer
sowie einen unter der Reaktionskammer angeordneten und mit ihrem Unterteil verbundenen
Bunker besitzt, erfindungsgemäß die Mittel zum Plasmaerhitzen und Zuleiten des Betriebsgases
aus einer Reihe von Plasmatrons bestehen, deren Düsen sich am Umfang des Unterteils
der Reaktionskammer befinden und hauptsächlich senkrecht zur Vertikalachse der Reaktionskammer
gerichtet sind.
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Die Mittel zum Abführen gasförmiger Produkte können im Oberteil der
Reaktionskammer angeordnet sein.
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Der Bunker kann mit Mitteln zum Abführen gasförmiger Produkte versehen
sein.
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Die Reaktionskammer kann sich mit dem Bunker durch ein Verbindungsrohrstück
verbinden und die Mittel zum Abführen gasförmiger Produkte aus dem Bunker können
in Form eines Rohrstücks ausgeführt sein, daß von außen her das Verbindungsrohrstück
umfaßt, wodurch das letztere auf der Außenseite durch abgeführte gasförmige Produkte
erhitzt wird.
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Im Oberteil der Reaktionskammer kann sich eine Plasmaerhitzungseinrichtung
befinden, die zum Erhitzen des der Reaktionskamr.ler zugeführten dispersen Materials
dient.
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Die Plasmaerhitzungseinrichtung kann in Form eines längs der Reaktionskammerachse
angeordneten und koaxial mit ihr liegenden Plasmatrons mit hohler Zentralelektrode,
über die das disperse Material zugeführt wird, ausgeführt werden.
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Die Plasmaerhitzungseinrchtung kann in Form einer Mischkammer mit
radial liegenden Plasmatrons ausgeführt werden.
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Die Mittel zum Abführen gasförmiger Produkte aus der Reaktionskammer
können in Form von Stutzen ausgeführt werden, die in zwei verschiedenen Höhen zwischen
der Plasmaerhitzungseinrichtung und den Plasmatrons liegen.
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Unter dem Fachausdruck "disperses Material" sind flüssige oder feste
Teilchen des zu behandelnden Materials und auch sein Dampf zu verstehen.
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Unter dem Fachausdruck "Betriebsgas" sind Gas oder ein Gasgemisch,
Flüssigkeit oder ein Flüssigkeitsgemisch und-auch ein Gas-Flüssigkeits-Gemisch,
die in Plasmatrons erhitzt werden, zu verstehen.
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Unter dem Fachausdruck "gasförmige Produkte" sind Betriebsgas und
Produkte seiner physikalischen und chemischen Umwandlungen sowie auch ein Gemisch
aus Betriebsgas und Produkten seiner physikalischen und chemischen Umwandlungen
mit Produkten der physikalischen und chemischen Umwandlungen des behandelten Materials,
die sich in der Gasphase befinden, zu verstehen.
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Der erfindungsgemäße, plasmaerhitzte chemische Reaktor, der als Mittel
zum Plasmaerhitzen und Zuleiten des Betriebsgases eine Reihe von Plasmatrons, die
am Umfang des Unterteils der Reaktionskammer angeordnet sind, verwendet, besitzt
den Vorteil, daß er konstruktiv einfach ist und zur Behandlung unterschiedlicher
disperser Materialien mit dem Ziel verwendet werden kann, chemische Reaktionen im
Plasma durchzuführen, die erwähnten Materialien zu sphärodisieren und aufzustäuben
sowie ultradisperse Pulver und Materialien zu erhalten, die bei ihrer Erhitzung
geschmolzene Teilchen oder flüssige Schlacken bilden, und auch schwerschmelzende
disperse Materialien und disperse Materialien mit niedriger Wärmeleitfähigkeit zu
erhalten.
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Weitere Vorteile des Reaktors sind aus der Beschreibung seiner Arbeitsweise
unter Hinweis auf beiliegende Zeichnungen ersichtlich. Es zeigen: Fig. 1 einen Längsschnitt
durch den erfindungsgemäßen plasmaerhitzten chemischen Reaktor zum Behandeln von
dispersen Materialien; Fig. 2 den Schnitt II-II der Fig. 1; Fig. 3 den Schnitt III-III
der Fig. 2; Fig. 4 einen Längsschnitt durch eine andere Variante de's"era# findungsgemäßen
pl#smaerhitzten chemischen Reaktors zum Behandeln von dispersen Materialien; Fig.
5 einen Längsschnitt durch eine dritte Variante des erfindungsgemäßen plasmaerhitzten
chemischen Reaktors zum Behandeln von dispersen Materialien; Fig. 6 einen Längsschnitt
durch eine weitere mögliche Variante des erfindungsgemäßen plasmaerhitzten chemischen
Reaktors zum Behandeln von dispersen Fiterialien; und Fig. 7 einen Längsschnitt
durch eine weitere Variante des erfindungsgemäßen plasmaerhitzten chemischen Reaktors
zum Behandeln von dispersen Materialien.
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Der Asmaerhitzte Reaktor zum Behandeln von dispersen Materials lien
enthält eine senkrechte Reaktionskammer 1 (Fig. 1). Im Oberteil der Reaktionskammer
1 befinden sich Mittel zum Zuführen dispersen ASterials,die in Form eines Stutzens
2 ausgeführt sind und auch Mittel zum Piasmaerhitzen und Zuleiten von Betriebsgas,
die in Form von Plasmatrons 3 ausgeführt sind, deren Düsen 4 am Umfang des Unterteils
der Reaktionskammer 1 angeordnet und hauptsächlich senK-recht zur Vertikalachse
der Reaktionskammer 1 gerichtet sind.
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Der Unterteil der Reaktionskammer 1 steht mit einem Bunker 5 in Verbindung.
Im Oberteil der Reaktionskammer befinden sich Mittel zum Abführen gasförmiger Produkte,
wobei diese Mittel in Form von Stutzen 6 ausgeführt sind. Das P smatron 3 ist folgendermaßen
am Umfang des Unterteils der Reaktionskammer 1 angeordnet.
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An der Wand der Reaktionskammer 1 ist ein Becher 7 (Fig. 2) angeschweißt,
in dem mit Hilfe einer Gewindeverbindung das Gehäuse 8 einer Elektrode 9 des Plasmatrons
3 eingeschraubt ist. Die Elektrode 9 ist in das Gehäuse 8 eingeschweißt. In der
Elektrode 9 befindet sich ein Kanal, der als Düse 4 dient.
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Im Spalt 10 zwischen dem Gehäuse 8 und der Elektrode 9 ist ein Führungskörper
11, der zum Leiten eines Kühlmittels dient, vorgesehen. In der Wand der Reaktionskammer
1 befindet sich eine Öffnung 12, die mit der Düse 4 koaxial ist und die Düse 4 mit
einem Kanal 13 (Fig. 1, 2) im Unterteil der Reaktionskammer 1 verbindet. Zwischen
dem Gehäuse 8 (Fig. 2) und der Wand der Reaktionskammer 1 befindet sich eine ringförmige
Dichtung 14.
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In der Wand der Reaktionskammer 1 sind Öffnungen 15 (Fig. 2 und 3)
für das Kühlmittel vorgesehen. Zum Zu- und Abführen des Kühlmittels in die bzw.
aus den Öffnungen 15 sind an der Wand der Reaktionskammer 1 Flansche 16 (Fig. 3)
angeschweißt, in die Stutzen 17 mit Kanälen 18 eingeschraubt sind. Die Kanäle 18
der Stutzen 17 stehen mit ringförmigen Kanälen 19 und senkrechten Kanälen 15 in
Verbindung, die in der Wand der Reaktionskammer 1 vorgesehen sind.
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Der Bunker 5 kann mit Mitteln zum Abführen von gasförmigen Produkten
ausgerüstet werden, wobei diese Mittel in Form von Stutzen 20 (Fig. 4) ausgeführt
sind.
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Die Reaktionskammer 1 kann mit dem Bunker 5 durch ein Verbindungsrohrstück
21 (Fig. 5) verbunden werden, während die Mittel zum Abführen von gasförmigen Produkten
aus dem Bunker 5 in Form eines Rohrstücks 22 ausgeführt sind, das von außen her
das Rohrstück 21 umfaßt.
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Im Oberteil der Reaktionskammer kann eine Plasmaerhitzungseinrichtung
vorgesehen werden, wie dies bei der Reaktionskammer 23 (Fig. 6) der Fall ist. Diese
Plasmaeinrichtung ist in Form eines koaxialen Plasmatrons 24 mit hohler zentraler
Elektrode 25 ausgeführt, die zum Erhitzen des der Reaktionskammer 23 zuzufuhrsnden
dispersen Materials dient. Zwischen den koaxialen Plasmatrons 24 und den Plasmatrons
3 sind Mittel zum Abführen von gasförmigen Produkten aus -der Reaktionskammer 1
angeordnet,die in Form von Stutzen 26 ausgeführt sind. Die Stutzen 26 können sich
in zwei verschiedenen Höhen befinden, wie dies aus Fig. 7 ersichtlich ist.
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Der plasmaerhitzte chemische Reaktor kann auch eine Plasmaerhitzungseinrichtung
besitzen, die in Form einer Mischkammer 27 mit radial liegenden Plasmatrons 28 ausgeführt
ist.
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Der erfindungsgemäße, plasmaerhitzte chemische Reaktor zum Behandeln
von dispersen Materialien arbeitet folgendermaßen: Das zu behandelnde disperse Material
wird wird mit der erforderlichen Geschwindigkeit über den Stutzen 2 (Fig. 1) der
Reaktionskammer 1 zugeführt. In dieselbe Kammer wird über die Düsen 4 das in den
Plasmatrons 3 erhitzte Betriebsgas geleitet. Hierbei strömt
das
Betriebsgas nach oben, erhitzt das sich entgegengesetzt bewegende disperse Material
und wird dann über die Stutzen 6 abgeführt. Das disperse Material wird während seiner
Abwärtsbewegung physikalischen und chemischen Umwandlungen unterzogen. In der Reaktionskammer
1 kann das disperse Material verdampfen und sich zersetzen. In diesem Fall werden
die Verdampfungs- und Zersetzungsprodukte zusammen mit dem Betriebsgas über die
Stutzen 6 abgeführt. Geschmolzene Teilchen des dispersen Materials und/ oder Schlacke
fliegen durch den Unterteil der Reaktionskammer 1 in den Bunker 5, von wo sie ununterbrochen
oder periodisch entfernt werden.
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Es ist ein Vorteil der beschriebenen Variante des plasmaerhitzten
chemischen Reaktors zum Behandeln von dispersen Materialien, daß dank der Anordnung
der Plasmatrons 3 am Umfang des Unterteils der Reaktionskammer 1 die gebildete schmelzflüssige
Schlacke, die an den Wänden der Kammer 1 herabfließen kann, und das disperse Material
die Plasmatrons in ihrer Tätigkeit nicht stören und keinen Einfluß auf ihre Arbeitsweise
haben.
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Beim Behandeln dispersen Materials in einem plasmaerhitzten chemischen
Reaktor, dessen Variante aus Fig. 4 ersichtlich ist, wird das aus den Plasmatrons
kommende Betriebsgas teilweise in den Oberteil der Reaktionskammer 1 geleitet, wo
es das disperse Material, das sich entgegengesetzt zum Betriebsgasstrom bewegt,
auf die erforderlichen Temperaturen erhitzt, beispielsweise auf Temperaturen, die
zum Verdampfen der Feuchtigkeit und/oder der flüchtigen Bestandteile des dispersen
Materials ausreichend sind.
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Diese Feuchtigkeit und/oder flüchtigen Bestandteile werden aus der
Reaktionskammer 1 zusammen mit dem nach oben geleiteten Teil des Betriebsgases über
die Stutzen 6 entfernt. Das erhitzte disperse Material, aus dem Feuchtigkeit und/oder
flüchtige Bestandteile entfernt sind, wird einer Weiterbehandlung im gleichgerichteten
Strom unterzogen, der aus dem Restteil des Betriebsgases besteht, der nach unten
geleitet wird und über die am Dunker 5 angebrachten Stutzen 20 abgeführt wird.
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Die Verwendung der in Fig. 4 dargestellten Variante des plasmaerhitzten
chemischen Reaktors ermöglicht es, das Betriebsgas in zwei Ströme zu unterteilen,
von denen jeder bestimmte Behandlungsprodukte des dispersen Materials trägt. Hierdurch
wird es möglich, die Konzentration gasförmiger Produkte im Strom zu erhöhen sowie
infolgedessen den Ausscheidungsprozeß derselben zu vereinfachen und zu verbilligen.
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Disperses Material kann auch in einem plasmaerhitzten chemischen Reaktor
behandelt werden, dessen mögliche Variante aus Fig.5 ersichtlich ist.
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In diesem Fall umspülen der in den Plasmatrons 3 auf hohe Temperaturen
erhitzte Betriebs strom und die gasförmigen, in den Bunker 5 geleiteten Produkte
sowohl die Innen- als auch die Außenwände des Verbindungsrohrstücks 21 und sorgen
dafür, daß die Temperatur seiner Innenwände ausreichend hoch, beispielsweise höher
als die Schmelztemperatur des behandelten Materials, bleibt.
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Auf diese Weise werden die Wärmeverluste über die Wände des plasmaerhitzten
chemischen Reaktors vermindert, eine hohe Temperatur des Betriebsgasstroms auf einer
größeren Länge der Reaktionszone aufrechterhalten und hierdurch die Effektivität
des plasmaerhitzten chemischen Reaktors im ganzen vergrößert. Außerdem erstarren
die schmelzflüssige Schlacke oder das disperse Material, die auf die heiße Innenwand
des Verbindungsrohrstücks 21 gelangen, auf dieser Wand nicht, sondern fließen ungehindert
in den Bunker 5 herab.
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Beim Verwenden des plasmaerhitzten chemischen Reaktors zum Behandeln
von dispersen Materialien in der aus Fig. 6 ersichtlichen Variante wird das disperse
Material mit Hilfe von Zuführungsmitteln, die in Form einer hohlen Elektrode 25
ausgeführt sind, in einer Plasmaerhitzungseinrichtung, die in Form eines koaxialen
Plasmatrons
24 ausgeführt ist, vorerhitzt und gelangt dann in die Reaktionskammer 23. Im gleichgerichteten
Strom aus Hochtemperatur-Betriebsgas, der im koaxialen Plasmatron 24 erzeugt ist,
wird das disperse Material erhitzt und beschleunigt. Beim Erhitzen können aus dem
dispersen Material Feuchtigkeit und/oder flüchtige Bestandteile ausgeschieden werden,
die zusammen mit dem BetriebsgassSrom aus der Reaktlonskammer 23 über die Stutzen
26 abgeführt werden.
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Die Temperatur des Betriebsgasstroms, der über die Stutzen 26 abgeführt
wird, soll höher als die Temperatur sein, auf die das disperse Material erhitzt
werden muß, um aus ihm Feuchtigkeit und/oder flüchtige Bestandteile zu entfernen.
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Ein unbedeutender Teil des Betriebsgases, der in den Plasmatrons 3
erhitzt ist, strömt aus dem Unterteil der Reaktionskammer 23 nach oben dem dispersen
Material entgegen, das durch einen Betriebsgasstrom erhitzt und beschleunigt ist,
der in einem koaxialen Plasmatron 24 erzeugt wurde, und wird dann über die Stutzen
26 abgeführt. Das erhitzte disperse Material setzt seine Abwärtsbewegung fort und
gelangt in den gleichgerichteten Strom -des Hochtemperatur-Betriebsgases, der aus
dem Restteil des in den Plasmatrons 3 erhitzten Betriebsgases besteht. Beim weiteren
Erhitzen wird das disperse Material, aus dem Feuchtigkeit und/ oder flüchtige Bestandteile
entfernt sind, physikalisch-chemischen Umwandlungen unterzogen, die im Allgemeinfall
zur Folge haben, daß gasförmige, flüssige und feste Produkte sowie auch Schlacke
entstehen können.
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Der gleichgerichtete Gasstrom gibt seine Energie an das zu erhitzende
disperse Material und an die Wände des Unterteils der Reaktionskammer 23 und des
Bunkers 5 ab, wodurch die Temperatur des gleichgerichteten Stroms gesenkt wird.
Die Mindesttemperatur
des gleichgerichteten Gasstroms soll in der
Zone, in der die Endprodukte entstehen, über der optimalen Temperatur liegen, auf
die das disperse Material erhitzt werden muß.
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Der gleichgerichtete Gasstrom wird zusammen mit den gasförmigen Produkten
über die Stutzen 20 abgeführt, während Schlacke oder feste und flüssige Produkte
in den Bunker 5 gelangen, von wo sie ununterbrochen oder periodisch entfernt werden.
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Neben den durch das Trennen der Ströme erhaltenen Vorteilen ermöglicht
die Verwendung der aus Fig. 6 ersichtlichen Variante des plasmaerhitzten chemischen
Reaktors, die Länge der Hochtemperaturzone zu vergrößern und das erhitzte disperse
Material in die Reaktionskammer 23 mit der für den Behandlungsprozeß erforderlichen
Geschwindigkeitzuleiten, da die Teilchen des dispersen Materials im gleichgerichteten
Betriebsgasstrom, der im koaxialen Plasmatron 24 erhitzt ist, beschleunigt werden.
Die Verwendung einer Plasmaerhitzungseinrichtung in Form des koaxialen Plasmatrons
24 ermöglicht es, das erforderliche Gesetz der Temperatur-und Geschwindigkeitsänderung
des Betriebsgasstroms auf dem ganzen vom dispersen Material zurückgelegten Weg einzuhalten.
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Eine andere Variante des plasmaerhitzten chemischen Reaktors zum Behandeln
von dispersen Materialien ist aus Fig. 7 ersichtlich und arbeitet folgendermaßen:
Das Betriebsgas wird in Plasmatrons 28 erhitzt und in eine Mischkammer 27 geleitet.
Gleichzeitig wird der Mischkammer 27 über den Stutzen 2 disperses Material zugeführt,
das in der Mischkammer 27 mit dem Hochtemperaturgasstrom durchgemischt wird, der
aus in den Plasmatrons 28 erhitztem Betriebsgas gebildet wird.
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Der Hochtemperaturgasstrom wird weiter in den Oberteil der Reaktionskammer
23 geleitet. Das disperse Katerial wird in der Kischkammer 27 und im Oberteil der
Reaktionskammer 23 durch den Lochtemperaturstrom erhitzt. Der Hochtemperaturgasstrom,
der gasförmige Produkte trägt, die beim Erhitzen des dispersen Materials entstanden
sind, wird über die höherliegenden Stutzen 26 abgeführt.
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Das gesamte in den Plasmatrons 3 erhitzte Betriebsgas wird nach oben
dem dispersen Material entgegengeleitet, das im gleichgerichteten Betriebsgasstrom
erwärmt und beschleunigt ist. Der letztgenannte Strom entsteht in der Mischkammer
27. Der in den Plasmatrons erhitzte Betriebsgasstrom und die durch die weitere Erhitzung
dispersen Materials entstandenen gasförmigen Produkte werden hauptsächlich über
die niedriger liegenden Stutzen 26 abgeführt. Der unbedeutende Restteil des Betriebsgasstroms
und derhàsförmigen Produkte wird über die höher liegenden Stutzen 26 abgeführt.
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Bei Verwendung der aus Fig. 7 ersichtlichen Variante des plasmaerhitzten
chemischen Reaktors kann, außer den mit getrennter Ab führung der Ströme und vergrößerten
Länge der Hochtemperaturzone verbundenen Vorteilen, die erforderliche FortbeweOungsgeschwindigkeit
des dispersen Materials bei seinem Eintritt in den entgegengesetzt gerichteten Betriebsgasstrom
gewährleistet und hierdurch optimale Bedingungen für die Erhitzung des dispersen
Materials geschaffen werden.
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Das Abführen des ganzen Betriebsgasstroms, der in den Plasmatrons
28 erhitzt ist, und des in den Plasmatrons 3 erhitzten Betriebsgasstroms-über die
Stutzen 26 ermöglicht es, die Temperatur der erwähnten Ströme am Austritt aus der
Reaktionskammer 23 zu senken. In diesem Fall kar4iie Temperatur der Ströme nur unbedeutend
über der Temperatur des dispersen Materials im Bereich der Stuszen
26
liegen, wodurch Energieverluste mit den Abgasen vermindert werden und hierdurch
der Wirkungsgrad des plasmaerhitzten chemischen Reaktors erhöht wird.
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Zweckmäßigerweise wird das koaxiale Plasmatron 24 (Fig' 6) bei geringen
Durchsatzmengen dispersen Materials in der Größenordnung-von einigen Dutzend Kilogramm
pro Stunde verwendet, wenn das Vorerhitzen des dispersen Materials keinen wesentlichen
Energieaufwand erfordert.
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Vorzugsweise wird die Mischkammer 27 (Fig. 7) bei großen Durchsatzmengen
dispersen Materials in der Größenordnung von tausend Kilogramm verwendet, wenn zum
Vorerhitzen des dispersen Materials eine bedeutende Energiemenge erforderlich ist.
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Die gemeinsame Verwendung der Mischkammer 27 mit den Plasmatrons 28
und der Mittel zur Plasmaerhitzung, die aus einer Reihe der am Umfang des Unterteils
der Reaktionskammer 23 angeordneten Plasmatrons 3 bestehen, ermöglicht es, im weiten
Bereich die Energiezuleitung in die Reaktionskammern 23 zu regeln, sowie das Verhältnis
zwischen Betriebsgasmengen und Energiemengen zu ändern, die über die Plasmatrons
28 und 3 der Reaktionskammer 23 zugeführt werden.
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Patentansprüche