DE2428225A1 - Verfahren und anordnung zur praezisionsausrichtung eines elektronenstrahls im verhaeltnis zu ausgewaehlten bereichen einer hauptflaeche eines koerpers - Google Patents

Verfahren und anordnung zur praezisionsausrichtung eines elektronenstrahls im verhaeltnis zu ausgewaehlten bereichen einer hauptflaeche eines koerpers

Info

Publication number
DE2428225A1
DE2428225A1 DE19742428225 DE2428225A DE2428225A1 DE 2428225 A1 DE2428225 A1 DE 2428225A1 DE 19742428225 DE19742428225 DE 19742428225 DE 2428225 A DE2428225 A DE 2428225A DE 2428225 A1 DE2428225 A1 DE 2428225A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
electron beam
layer
markings
alignment
cathode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE19742428225
Other languages
German (de)
English (en)
Inventor
Paul R Malmberg
Terance W O'keeffe
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Westinghouse Electric Corp
Original Assignee
Westinghouse Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Westinghouse Electric Corp filed Critical Westinghouse Electric Corp
Publication of DE2428225A1 publication Critical patent/DE2428225A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/304—Controlling tubes by information coming from the objects or from the beam, e.g. correction signals
    • H01J37/3045—Object or beam position registration

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Cold Cathode And The Manufacture (AREA)
DE19742428225 1973-06-15 1974-06-11 Verfahren und anordnung zur praezisionsausrichtung eines elektronenstrahls im verhaeltnis zu ausgewaehlten bereichen einer hauptflaeche eines koerpers Withdrawn DE2428225A1 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US37055873A 1973-06-15 1973-06-15
US402248A US3895234A (en) 1973-06-15 1973-10-01 Method and apparatus for electron beam alignment with a member

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE2428225A1 true DE2428225A1 (de) 1975-03-20

Family

ID=27005005

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19742428225 Withdrawn DE2428225A1 (de) 1973-06-15 1974-06-11 Verfahren und anordnung zur praezisionsausrichtung eines elektronenstrahls im verhaeltnis zu ausgewaehlten bereichen einer hauptflaeche eines koerpers

Country Status (6)

Country Link
US (1) US3895234A (enrdf_load_stackoverflow)
JP (1) JPS5811744B2 (enrdf_load_stackoverflow)
CA (1) CA1005173A (enrdf_load_stackoverflow)
DE (1) DE2428225A1 (enrdf_load_stackoverflow)
FR (1) FR2267583B1 (enrdf_load_stackoverflow)
GB (1) GB1477872A (enrdf_load_stackoverflow)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1520925A (en) * 1975-10-06 1978-08-09 Mullard Ltd Semiconductor device manufacture
GB1557064A (en) * 1976-09-09 1979-12-05 Mullard Ltd Masks suitable for use in electron image projectors
JPS5915977A (ja) * 1982-07-20 1984-01-27 株式会社東芝 表示装置
US4742234A (en) * 1985-09-27 1988-05-03 American Telephone And Telegraph Company, At&T Bell Laboratories Charged-particle-beam lithography
US4902897A (en) * 1986-10-13 1990-02-20 Seiko Epson Corporation Ion beam gun and ion beam exposure device
JPH01158731A (ja) * 1987-12-15 1989-06-21 Fujitsu Ltd 光電子転写露光方法およびこれに用いられるマスク
US5224137A (en) * 1991-05-23 1993-06-29 Imatron, Inc. Tuning the scanning electron beam computed tomography scanner
JP4055543B2 (ja) * 2002-02-22 2008-03-05 ソニー株式会社 レジスト材料及び微細加工方法
US7015467B2 (en) * 2002-10-10 2006-03-21 Applied Materials, Inc. Generating electrons with an activated photocathode
CN100380485C (zh) * 2002-10-10 2008-04-09 索尼株式会社 光盘用原盘的制造方法和光盘的制造方法
US7446474B2 (en) * 2002-10-10 2008-11-04 Applied Materials, Inc. Hetero-junction electron emitter with Group III nitride and activated alkali halide
US7049616B2 (en) * 2004-05-17 2006-05-23 General Electric Company Methods, apparatus, and software for adjusting the focal spot of an electron beam

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2556455A (en) * 1948-03-02 1951-06-12 Rauland Corp Cathode-ray tube focusing system
US2749449A (en) * 1953-09-28 1956-06-05 Philco Corp Photocell indexing system
US3037123A (en) * 1958-05-02 1962-05-29 Standard Oil Co Electronic arbitrary function generator
GB1065060A (en) * 1963-04-19 1967-04-12 United Aircraft Corp Improvements in and relating to apparatus for working articles with energised beams
US3491236A (en) * 1967-09-28 1970-01-20 Gen Electric Electron beam fabrication of microelectronic circuit patterns
US3679497A (en) * 1969-10-24 1972-07-25 Westinghouse Electric Corp Electron beam fabrication system and process for use thereof
US3710101A (en) * 1970-10-06 1973-01-09 Westinghouse Electric Corp Apparatus and method for alignment of members to electron beams
US3745358A (en) * 1971-05-10 1973-07-10 Radiant Energy Systems Alignment method and apparatus for electron projection systems
US3832560A (en) * 1973-06-13 1974-08-27 Westinghouse Electric Corp Method and apparatus for electron beam alignment with a member by detecting cathodoluminescence from oxide layers
US3840749A (en) * 1973-06-19 1974-10-08 Westinghouse Electric Corp Method and apparatus for electron beam alignment with a semiconductor member

Also Published As

Publication number Publication date
US3895234A (en) 1975-07-15
FR2267583B1 (enrdf_load_stackoverflow) 1979-10-12
GB1477872A (en) 1977-06-29
JPS5811744B2 (ja) 1983-03-04
JPS5035800A (enrdf_load_stackoverflow) 1975-04-04
FR2267583A1 (enrdf_load_stackoverflow) 1975-11-07
CA1005173A (en) 1977-02-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2050763C2 (de) Verfahren zur Herstellung von genau lokalisierten geänderten Oberflächenbereichen auf Halbleiter-Substraten, insbesondere für integrierte Schaltungen, sowie Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens.
DE2061699C3 (de) Verfahren zur Herstellung einer Halbleiteranordnung
EP0120834B1 (de) Optisch strukturiertes Filter und Verfahren zu dessen Herstellung
DE69026353T2 (de) Feldemissionsvorrichtung und Verfahren zur Herstellung derselben
DE69027702T2 (de) Elektronenstrahllithographiemaschine und Bildwiedergabeapparat
DE10261035B4 (de) Fotomasken-Reparaturverfahren und Vorrichtung
DE2659247A1 (de) Elektronenstrahlenbuendel benutzendes, lithografisches system
DE60201689T2 (de) Verfahren zur Herstellung einer Kohlenstoffnanoröhren-Feldemissionsanordnung mit Triodenstruktur
DE3420353C2 (de) Verfahren zum Korrigieren und Modifizieren von lithographischen Masken
EP0399998B1 (de) Verfahren zur Herstellung von hochauflösenden Silizium-Schattenmasken
DE2801338C2 (de) Verfahren zur Erzeugung von aus unterschiedlichen Metallen bestehenden Elektroden für Halbleiter-Bauelemente kleiner Dimension
DE2428225A1 (de) Verfahren und anordnung zur praezisionsausrichtung eines elektronenstrahls im verhaeltnis zu ausgewaehlten bereichen einer hauptflaeche eines koerpers
DE2429026A1 (de) Verfahren zum kopieren von duennfilmmustern auf einem substrat und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens
EP0014759B1 (de) Verfahren zum reliefartigen Strukturieren von Siliciumoberflächen
DE2222665A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Ausrichten von Elektronenprojektionssystemen
DE2939044A1 (de) Einrichtung fuer elektronenstrahllithographie
DE1439707B2 (de) Kathodenstrahlroehre zur bistabilen elektrischen speicher ung von bildern
DE69123677T2 (de) Reflektionsmaske und eine solche Reflektionsmaske verwendendes geladenes Teilchenstrahl-Belichtungsgerät
EP0203215A1 (de) Verfahren zur Reparatur von Transmissionsmasken
DE2149344A1 (de) Verfahren und Anordnung zur Beaufschlagung genau angeordneter Gebiete eines Elementes mit einem Elektronenstrahl bestimmter Gestalt
DE3046856C2 (enrdf_load_stackoverflow)
US4008402A (en) Method and apparatus for electron beam alignment with a member by detecting X-rays
DE3783239T2 (de) Roentgenstrahlmaske.
DE3121666A1 (de) Verfahren und einrichtung zur gegenseitigen ausrichtung von objekten bei roentgenstrahl- und korpuskularstrahl-belichtungsvorgaengen
DE2428303A1 (de) Verfahren und anordnung zur praezisionsausrichtung eines elektronenstrahls mit ausgewaehlten bereichen einer hauptflaeche eines halbleiterkoerpers

Legal Events

Date Code Title Description
8110 Request for examination paragraph 44
8139 Disposal/non-payment of the annual fee