DE2329052C3 - Verfahren zur Herstellung von Schaltungsmoduln - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von SchaltungsmodulnInfo
- Publication number
- DE2329052C3 DE2329052C3 DE19732329052 DE2329052A DE2329052C3 DE 2329052 C3 DE2329052 C3 DE 2329052C3 DE 19732329052 DE19732329052 DE 19732329052 DE 2329052 A DE2329052 A DE 2329052A DE 2329052 C3 DE2329052 C3 DE 2329052C3
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- substrate material
- line pattern
- semiconductor circuit
- carrier plate
- conductor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 35
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 24
- 239000000969 carrier Substances 0.000 claims description 22
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 19
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 15
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 15
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 15
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 5
- 230000001070 adhesive Effects 0.000 claims description 5
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 claims description 5
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 5
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Chemical group [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 3
- 230000000873 masking Effects 0.000 description 3
- 238000004382 potting Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N iso-propanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 241000239290 Araneae Species 0.000 description 1
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N N'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001721 Polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N Tetrafluoroethylene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 silicon nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-M stearate Chemical class CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 1
Description
Die Erfindung betrifft ein Herstellungsverfahren für Moduln zur Aufnahme integrierter Halble.terschaltungen
bei dem auf eine metallische Trägerplatte d,e ein das aufzubringende Leitermaterial nicht annehmendes
Negativ des herzustellenden Le.tungsmusters tragt ein
Leitermaterial aufgebracht wird, das entstandene
Leitungsmuster mit einem Substratmater.al verbunden und von der Trägerplatte abgenommen wird. Das
Verfahren ist eeeignet zur Herstellung besonders kleiner Moduln mit derartigen Schaltungen sowie zur
Einkapselung empfindlicher Halbleiterschaltungen.
Bekannte Herstellungsverfahren iur Schaltmoduln sind kostspielig und schwierig durchzuführen, besonders
dann wenn die Abmessungen immer mehr verkleinert und 'die stromführenden Leitungen immer mehr
verfeinert werden sollen. Auch ist, bedingt durch den Aufbau des Moduls, die Anzahl der Schaltungen, die mit
dem Modul verbunden werden können, begrenzt.
E;n di-rch die Zeitschrift »Electronics«, 16. September
1968 Seiten 58 u. 60, bekanntes Verfahren mit der Bezeichnung »Spider Approach« benutzt aus einem
Rahmen ausgestanzte Leitungsverbindungen, auf welche eine integrierte Halbleiterschaltung aufgebracht
und elektrisch mit ihnen verbunden wird. Mit der stetigen Verkleinerung der Abmessungen elektronischer
Elemente zeigt dieses Verfahren jedoch Nachteile infolge der durch das mechanische Stanzen bedingten
Toleranzen. Auch müssen die gestanzten Leitungsverhmdungen
eine gewisse Dicke aufweisen, um genügende mechanische Stabilität zu gewährleisten. Zwar können
durch ein Ätzverfahren oder durch Aufdampfen hergestellte Leitungsmuster mit wesentlich kleineren
Abmessungen hergestellt werden, die dazu benötigten Verfahren sind jedoch nicht wirtschaftlich. Schwierigkeiten
entstehen weiterhin dadurch, daß beim Einbringen von Vergußmassen häufig Leitungsverbindungen
verschoben und unterbrochen werden.
Bei einem anderen bekannten Herstellungsverfahren für Schaltungsmoduln, das in der Zeitschrift »Solid State
Technology«, August 1968, Seiten 37 bis 42 unter dem Titel »Manufacturing the Plastic Dual in-Line Integrated
Circuit« beschrieben ist, werden Leitungsverbindungen aufgebracht, ausgeätzt und darauf mit Kunststoffmasse
vergossen. Die Kunststoffmasse wird durch maschinelle Verarbeitung teilweise entfernt, so daß die
Anschlußenden der Leitungen zum Vorschein kommen. Bedingt durch die Toleranzen des Vergießens, des
Ätzens und der maschinellen Bearbeitung ist auch dieses Verfahren auf die Herstellung von Moduln einer
gewissen Größe beschränkt.
Bei einem weiteren, durch die DT-AS 11 01
bekannten Verfahren wird auf eine metallische Trägerplatte ein Negativ des gewünschten Stromkreisverlaufs
in Form eines fest haftenden, filmartigen Überzugs
aufgebracht, aus einem Material, welches das Leitermaterial nicht annimmt. Danch wird an den freigelegten
Stellen galvanisch das Leitermaterial ohne feste Bindung aufgetragen. Anschließend wird das aufgebrachte
Stromkreismuster mit einem Träger aus Isolierstoff verklebt. Die auf diese Weise hergestellte,
gedruckte Schaltungsplatte weist jedoch keine mit den Leiterzügen verbundenen Anschluß-Stifte auf. Auch
sind mit den Leiterzügen keine, in das Isoliermaterial eingebettete Schaltungsplättchen verbunden.
Aufgabe der Erfindung ist' es ein vereinfachtes
Verfahren zur Herstellung von Schaltungsmoduln mit in Isolierstoff gelagerten Anschluß-Stiften anzugeben. Die
Moduln, die mit diesem Verfahren hergestellt werden, sollen auch integrierte Schaltungen aufnehmen, die mit
verschiedenen Verfahren mit den Leiterzügen elektrisch
verbunden werden können.
Gemäß der Erfindung wird diese Aufgabe bei einem Verfahren der eingangs genannten Art dadurch gelöst,
daß auf oder an der Trägerplatte vor dem Aufbringen des Leitermaterials metallische Anschlußelemente angebracht
werden, daß daraufhin das Leitermaterial auch zumindest auf Teilen der Anschlußelemente aufgebracht
wird, daß das entstandene Leitungsmuster und die Anschlußelemente mit einem Substratmaterial
verbunden und von der Trägerplatte abgenommen werden.
Ein vorteilhafte Ausgestaltung des Verfahrens besteht darin, daß als Substratmaterial ein fließfähiger
Kunststoff, insbesondere ein Polymer, verwendet wird, der in eine Form eingepreßt wird, und daß die Form
nach dem Einbringen des Substratmaterials rasch abgekühlt wird. Eine weitere vorteilhafte Ausbildung
des Verfahrens besteht darin, daß auf das hergestellte Leitungsmuster ein Haftmittel aufgetragen und erst
danach das Subtratmaterial aufgebracht wird.
Zum Ausgleich der verschiedenen thermischen Ausdehnungskoeffizienten des Substratmaterials und
der integrierten Halbleiterschaltungen ist es bei dem erfindungsgemäßen Verfahren vorteilhaft, daß beim
Aufbringen des Substratmaterials ein Kühlelement in das Modul integriert wird. Dabei ist es vorteilhaft, daß
das Kühlelement derart in der Form gehalten wird, daß es vom eingebrachten Substratmaterial zumindest
teilweise umschlossen wird.
Eine weitere vorteilhafte Ausbildung des Verfahrens besteht darin, daß das Leitungsmuster mit Anschlußstellen
versehen wird, an die mindestens eine integrierte Halbleiterschaltung angeschlossen wird. Vorteilhaft ist
es dabei, daß die integrierte Halbleiterschaltung auf der der Trägerplatte abgewandten Seite des Leitungsmusters
angebracht und von dem Substratmaterial mit umschlossen wird. Dabei wird die integrierte Halbleiterschaltung
auf dem Leitungsmuster nach dessen Ablösung von der Trägerplatte auf der der letzteren
zugewandten Seite befestigt.
Vorteilhaft ist es ferner, daß die Schichtdicke des zwischen dem Kühlelement und der Halbleiterschaltung
verbleibenden Substratmaterials so bemessen wird, daß eine vorgebbare Wärmeausdehnung des Leitungsmusters
in der Umgebung der Halbleiterschaltung, insbesondere die der Halbleiterschaltung selbst, erzielt
wird. Das Leitungsmuster und/oder die integrierte Halbleiterschaltung werden dabei mit einem Isoliermaterial
abgedeckt.
Die Erfindung wird anhand von durch die Zeichnungen erläuterten Ausführungsbeispielen beschrieben. Es
zeigen:
Fig. 1 eine schaubildliche Darstellung zur Erläuterung
der wesentlichen Verfahrensschritte,
F i g. 2 im Querschnitt, eine Gußform zur Herstellung eines Moduls,
F i g. 3 ein fertiggestellter Modul, im Querschnitt,
F i g. 4 in einer Reihe von Querschnittsdarstellungen Verfahrensschritte für ein weiteres Ausführungsbeispiel
und
F i g. 5 eine graphische Darstellung des von itühlelementen
beeinflußten thermischen Ausdehnungskoeffizienten in Abhängigkeit von der Dicke der polymeren
Schicht.
F i g. 1 zeigt schematisch die Verfahrensschritte zur
Herstellung eines vergossenen und mit Anschlußstiften versehenen Moduls zur Aufnahme einer integrierten
Schaltung. Ausgegangen wird von einer Trägerplatte 10 aus rostfreiem Stahl, die eine Anzahl von öffnungen
aufweist. Die öffnungen sind so angebracht, daß sie der gewünschten Anordnung der Anschlußstifte, beispielsweise
der eines »Dual in-Line«-Moduls entsprechen. Auf der Platte wird ein isolierender Überzug 11
aufgebracht. Dazu eignen sich Materialien wie polymerisiertes Tetrafluoräthylen, Polyimide oder Silicium-Nitride.
Sodann wird das gewünschte Muster der elektrischen Verbindungen mittels geeigneter Maskierungs-
und Ätzverfahren hergestellt. Dann werden die Anschlußstifte, von denen einer mit 14 bezeichnet ist,
mittels einer (nicht dargestellten) Vorrichtung eingesetzt und ausgerichtet.
Nun werden auf der Trägerplatte 10 in einem Plattierungsbad die metallischen Verbindungen 16 an
den Stellen niedergeschlagen, an denen die Trägerplatte 10 durch das Maskierungs- und Ätzverfahren nicht mit
der isolierenden Schicht 11 bedeckt ist. Dazu kann ein standardisiertes Bad zum Niederschlagen von Kupfer
verwendet werden, wie beispielsweise eine wäßrige Lösung, die pro Liter 200 g CuSO4, 5H2O, 50 g H2SO4,
0,1 ml CHl und 0,5 ml eines geeigneten Aufhellers enthält. Es können auch andere Plattierungsbäder, z. B.
solche zum Niederschlagen von Nickel oder Silber usw., benutzt werden. Es ist zu bemerken, daß die in Form
eines dünnen Metallfilms niedergeschlagenen Verbindungen 16 in unmittelbarem Kontakt mit dem oberen
Teil der Anschlußstifte 14 stehen und mit diesen gute elektrische und mechanische Verbindungen bilden.
Die Trägerplatte 10 wird als nächstes in eine Gießform eingesetzt, und ein geeignetes Polymer wird
auf dit Oberfläche des isolierenden Überzuges 11 aufgebracht, wodurch ein Modulkörper 18 entsteht.
Dafür sind viele handelsübliche Materialien geeignet. Beispielsweise haben Polymere, die epoxilierte Novolake
enthalten und mit Novolakharz gehärtet sind, sowohl dielektrisch als auch ausdehnungsmäßig brauchbare
Eigenschaften. In einer Ausführungsform wird der Modulkörper 18 mittels einer Injektionspresse hergestellt.
Hierbei wird das Polymer-Pulver tablettiert und dann für eine genügende Zeit aufgeheizt. Nach dem
Einführen der Tablette in die Presse wird das Material mit geeigneter Geschwindigkeit in die Form gepreßt.
Nach dem Ausstoßen aus der Form wird der Modulkörper gekühlt. Um beste Stabilität und genügende
Haftung des Polymers zu erreichen, kann eine weitere Wärmebehandlung vorteilhaft sein. Die rechte
Zeichnung in F i g. 1 soll das Ausstoßen des Modulkörpers aus der Presse veranschaulichen.
Es ist zu bemerken, daß zunächst die Unterseite 19 der metallischen Verbindung 16 auf der Oberfläche der
Trägerplatte 10 haftet. Während des Pressens entsteht eine Haftung zwischen der oberen Oberfläche der
Verbindung 16 und der unteren Fläche 21 des aus dem Polymer bestehenden Modulkörpers 18. Diese letztere
Haftung ist wesentlich stärker als die erste, weshalb der isolierende Überzug 11 und die Trägerplatte i0 beim
Auswerfen des gepreßten Modulkörpers sich von
diesem ohne weiteres ablösen, so daß die Anschlußstifte 14 und die Verbindungen 16 als Bestandteil des
Modulkörpers 18 bestehen bleiben.
Normale Polymer-Vergußmassen sind im allgemeinen so zusammengesetzt, daß sie leicht von der
Oberfläche der Gußform zu lösen sind. Metallstearate, Wachse und bisweilen reaktive organische Verbindungen werden den Polymeren zur Erreichung dieser
Eigenschaften zugesetzt. Im vorliegenden Verfahren ist es aber notwendig, eine genügende Haftfestigkeit
zwischen der unteren Oberfläche 21 des Modulkörpers 18 und der oberen Oberfläche 20 der Leitungen 16
herzustellen. Dazu wird ein Haftmittel, beispielsweise eine hydrolysierte Organo-Silan-Mischung auf die
Oberfläche 20 der metallischen Leitungen 16 aufgebracht. Das in diesem Ausführungsbeispiel verwendete
Haftungsmittel bestand aus einer Mischung von 1 g Aminoäthyl-Aminopropyltrimethoxy-Silan,20 g lsopropyl-Alkohol, 80 g H2O und einstündiger Hydrolyse.
Fig.2 zeigt eine Ausführung des Verfahrens, nach
welcher ein Modul hergestellt wird, der mit einem Kühlelement für eine Halbleitervorrichtung ausgerüstet
ist. Der Modul soll einen thermischen Ausdehnungskoeffizienten aufweisen, der eine direkte Lötverbindung
der Anschlußstifte mit einer integrierten Schaltung ermöglicht in einer Löttechnik, bei der Lötzinnkügelchen der integrierten Schaltung wieder verflüssigt
werden. Dazu werden eine obere Form 26 und eine untere Form 27 benutzt, wobei die letztere eine
Trägerplatte 28 aufnimmt. In den in Verbindung mit F i g. 1 beschriebenen Schritten werden Anschlußstifte
30 und 32 eingesetzt und ein Muster metallischer Verbindungen 34 auf der Trägerplatte erzeugt. Wie
beschrieben, werden die Verbindungen überall dort niedergeschlagen, wo die Trägerplatte 28 nicht von
einer isolierenden Schicht 36 bedeckt ist.
Eine typische, durch Wiederschmelzen hergestellte Lötverbindung zwischen metallischem Lot und den
Anschlußleitungen eines Silicium-Halbleiterplättchens
hat einen Ausdehnungskoeffizienten von etwa 2,4 · 10-6/°C. Ein für die Modul-Herstellung geeignetes
Polymer dagegen hat einen Ausdehnungskoeffizienten zwischen 20 und 30 · 10-6/°C. Es entsteht daher eine
thermische Fehlanpassung, welche die Ursache zum Versagen der Leitungsverbindungen infolge wiederholter Erwärmung und Abkühlung sein kann. Das Problem
kann dadurch gelöst werden, daß ein Kühlelement 40 mit geringem Ausdehnungskoeffizienten einen Teil des
Modulkörpers bildet. Im vorliegenden Beispiel wurde eine Nickellegierung mit 36% Nickel verwendet, die
einen Ausdehnungskoeffizienten von 1,7 · 10-6/°C
aufweist. Durch das Zusammenwirken des Kühlelementes 40 mit geringem Ausdehnungskoeffizienten mit dem
Polymer, das einen höheren Ausdehnungskoeffizienten
aufweist, entsteht eine Anschlußfläche für die Lötverbindungen, die einen wesentlich geringeren Ausdehnungskoeffizienten aufweist als das Polymer allein. Die
tatsächlichen Wärmeausdehnungskoeffizienten des Moduls sind in Fig.5 für zwei geringfügigiverschiedene
Polymere dargesteUt. Die Dicke der polymeren Schicht
ist entlang der Abszisse aufgetragen. Sie entspricht dem Abstand zwischen der unteren Fläche des Kühlelements
40 und der oberen Fläche der Ebene der Verbindungen 34, die in Fi g. 2 mit Z bezeichnet ist. Durch geeignete
Bemessung des Kühlelementes 40, des Abistandes Z und der Wahl der Lötverbindungen können die
Ausdehnungskoeffizienten gegenseitig angepaßt werden.
Vor dem Vergießen mit dem erwärmten polymeren Material wird das Kühlelement 40 in vorgegebenem
Abstand Z über die Oberfläche der metallischen Verbindungen 34 in der Form angeordnet. Dazu dient
eine Schraube 42, die das Kühlelement aim Oberteil 26
der Form festhält. Nachdem die Form geschlossen ist, wird das fließfähige Polymer durch eine öffnung 46
eingepreßt, wodurch ein Modulkörper 50 entsteht.
F i g. 3 zeigt einen fertiggestellten und mit integrierten Schaltungen bestückten Modul, wobei auch die
integrierten Schaltungen eingekapselt sind. Wie schon erwähnt, können dazu verschiedene Anschluß- und
Verbindungsverfahren benutzt werden. Eine integrierte Schaltung ist in Form eines Chips 52 dargestellt, das
mittels Lötkügelchen 56 und 58 mit den metallischen Verbindungen 34 verbunden ist. Zur Herstellung einer
Abdeckung 60 sind viele brauchbare Verfahren bekannt. Diese kann beispielsweise in einer weiteren Vergußoperation oder aber durch Verkleben einer passenden
Abdeckplatte, die eine Aussparung 62 für das Halbleiterchip 52 aufweist, aufgebracht werden.
Eine weitere Ausführungsform des Verfahrens ist in F i g. 4 dargestellt. Hier wird ein Halbleiterchip während
der Herstellung des Moduls eingebaut Wie zuvor beschrieben, wird eine Trägerplatte 70 aus Stahl
verwendet, auf die eine isolierende Schicht 72 aufgebracht wird, öffnungen 74 und 76 dienen zur
Aufnahme der Anschlußstifte. Mittels geeigneter Maskierungs- und Ätzverfahren wird das Muster der
Anschlußleitungen 80 festgelegt. Abweichend von der zuvor beschriebenen Ausführung werden jetzt ein oder
mehrere Halbleiterchips 82 mit den Anschlußleitungen verbunden. Nach der Darstellung geschieht dies wieder
durch bekannte Lötkügelchen 84 und 86. Es können auch andere Anschlußverfahren verwendet werden.
Schließlich wird ein Modulkörper 90 durch Gießen hergestellt, wie dies schon zuvor beschrieben wurde. Die
Trägerplatte 70 wird abgelöst, und der Modul ist fertiggestellt, wie in der letzten Zeichnung der F i g. 4
dargestellt ist.
Claims (10)
1. Herstellungsverfahren für Moduln zur Aufnahme integrierter Halbleiterschaltungen, bei dem auf
eine metallische Trägerplatte, die ein das aufzubringende Leitermaterial nicht annehmendes Negativ
des herzustellenden Leitungsmusters trägt, ein Leitermaterial aufgebracht wird, das entstandene
Leitungsmuster mit einem Substratmaterial verbunden und von der Trägerplatte abgenommen wird,
dadurch gekennzeichnet, daß auf oder an der Trägerplatte (10,28,70) vor dem Aufbringen des
Leitermaterials metallische Anschlußelemente (14, 30, 32) angebracht werden, daß daraufhin das
Leitermaterial auch zumindest auf Teilen der AnschlußeJemente (14,30,32) aufgebracht wird, daß
das entstandene Leitungsmuster (16,34, 80) und die Anschlußelemente (14, 30, 32) mit einem Substratmaterial
(18, 50, 90) verbunden und von der Trägerplatte (10,28,70) abgenommen werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Substratmaterial (18, 50, 90) ein
fließfähiger Kunststoff, insbesondere ein Polymer, verwendet wird, der in eine Form (2b) eingepreßt
wird.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Form (26) nach dem Einbringen des
Substratmaterials(18,50,90) rasch abgekühlt wird.
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß auf das hergestellte Leitungsmuster
(16, 34, 80) ein Haftmittel aufgetragen und erst danach das Substratmateria! (18,50,90) aufgebracht
wird.
5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß beim Aufbringen des Substratmaterials
(50) ein Kühlelement (40) in das Modul integriert wird.
6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Kühlelement (40) derart in der
Form (26) gehalten wird, daß es vom eingebrachten Substratmaterial (50) zumindest teilweise umschlossen
wird.
7. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Leitungsmuster (34, 80) mit
Anschlußstellen versehen wird, an die mindestens eine integrierte Halbleiterschaltung (52, 82) angeschlossen
wird.
8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die integrierte Halbleiterschaltung (82)
auf der der Trägerplatte (70) abgewandten Seite des Leitungsrnusters (80) angebracht und von dem
Substratmaterial (90) mit umschlossen wird.
9. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die integrierte Halbleiterschaltung (52)
auf dem Leitungsmuster (36) nach dessen Ablösung von der Trägerplatte (28) auf der der letzteren
zugewandten Seite befestigt wird.
10. Verfahren nach den Ansprüchen 6 und 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Schichtdicke (Z in
F i g. 2) des zwischen dem Kühlelement (40) und der Halbleiterschaltung (52) verbleibenden Substratmaterials
(50) so bemessen wird, daß eine vorgebbare Wärmeausdehnung des Leitungsmusters (34) in der
Umgebung der Halbleiterschaltung (52), insbesondere die der Halbleiterschaltung (52) selbst, erzielt
wird.
ti. Verfahren nach mindestens einem der
Ansprüche 1,8 oder 9, dadurch gekennzeichnet daß LehSngsmuster (16, 34. 80) und/oder integrierte
Halbleiterschaltung (52) m.t e.nem Isoliermaterial
(60) abgedeckt werden.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US26284872A | 1972-06-14 | 1972-06-14 | |
US26284872 | 1972-06-14 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2329052A1 DE2329052A1 (de) | 1973-12-20 |
DE2329052B2 DE2329052B2 (de) | 1977-02-17 |
DE2329052C3 true DE2329052C3 (de) | 1977-09-29 |
Family
ID=
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0361195B1 (de) | Leiterplatte mit einem spritzgegossenen Substrat | |
EP2260683B1 (de) | Verfahren zur herstellung einer elektronischen baugruppe | |
DE2330732A1 (de) | Schaltungskarte fuer integrierte schaltungen | |
DE102014114808B4 (de) | Elektronikmodul und Verfahren zur Herstellung eines Elektronikmoduls | |
EP2819492B1 (de) | MID-Bauteil, Verfahren zur Herstellung | |
DE102012206758B3 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Substrats und ein Leistungshalbleitermodul mit einem Substrat für mindestens ein Leitungshalbleiterbauelement | |
DE69723801T2 (de) | Herstellungsverfahren einer Kontaktgitter-Halbleiterpackung | |
DE3839891C2 (de) | Verfahren zum Herstellen von Lötschichten auf elektronischen Chip-Bauteilen | |
DE102014117245B4 (de) | Verfahren zum Herstellen eines Halbleiterelements mit Substratadapter und damit hergestelltes Halbleiterelement mit Substratadapter und Verfahren zum Kontaktieren dieses Halbleiterelements | |
EP0718878A2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Leiterbahnen auf einem Vertiefungen aufweisenden Substrat | |
DE19532755C1 (de) | Chipmodul, insbesondere für den Einbau in Chipkarten, und Verfahren zur Herstellung eines derartigen Chipmoduls | |
DE102006041610B3 (de) | Metallisierte Kunststoffoberfläche und Verfahren zum Bearbeiten von metallisierten Kunststoffoberflächen | |
EP0968631B1 (de) | Verfahren zur bildung metallischer leitermuster auf elektrisch isolierenden unterlagen | |
DE2329052C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von Schaltungsmoduln | |
DE2329052B2 (de) | Verfahren zur herstellung von schaltungsmoduln | |
DE102013201417A1 (de) | Verfahren zur Herstellung eines MID-Bauteils, MID-Bauteil | |
DE2546443C3 (de) | Zusammengesetzte Mikroschaltung und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
DE3522852C2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Zwischenträgers für Halbleiterkörper | |
DE2031285C3 (de) | Verfahren zum Herstellen einer Anzahl plättchenförmiger elektronischer Bauelemente mit Kunststoffgehäuse | |
EP0278485B1 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Digitalisiertabletts | |
DE102009023629B4 (de) | Leiterplatte und Herstellungsverfahren | |
DE1953678A1 (de) | Schaltungstraeger fuer elektrische Schaltungselemente und -bestandteile,sowie Verfahren zu dessen Herstellung | |
DE102019132852B4 (de) | Verfahren zum Herstellen eines Leiterstrukturelements und Leiterstrukturelement | |
DE3035717C2 (de) | Verfahren zur serienmäßigen Herstellung von Folienwiderständen oder Netzwerken von Folienwiderständen | |
DE69733801T2 (de) | Verfahren und herstellung erhöhter metallischer kontakte auf elektrischen schaltungen für permanente verbindungen |