DE2325245B2 - Verfahren zum Herstellen einer Sekudärelektronen emittierenden Mikrokanalplatte - Google Patents
Verfahren zum Herstellen einer Sekudärelektronen emittierenden MikrokanalplatteInfo
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Description
Mikroplatten mit gekrümmten Kanälen sind z. B. aus der US-PS 34 61332 bekannt. Die Krümmung der -15
Kanäle verursacht eine Herabsetzung einerseits der Slreuelcktronenemission und der auf den bekannten, als
lonenrückkopplung bezeichneten Effekt zurückzuführenden Strahlungen und andererseits der Durchlässigkeit
der Mikrokanäle für Streulicht.
Verfahren zum Herstellen von Mikrokanalplatten mit gekrümmten Kanälen sind in den französischen
Patentanmeldungen 70 44 663 vom 11.Dez.1970 und 72 02 226 vom 24.Jan.1972 der Anmelderin beschrieben.
In der Anmeldung 70 44 663 besteht das angewandte « Verfahren in der Bildung eines bestimmten Bündels von
Mikrokanälen, das dann mit den beiden Enden in zwei Klammern festgeklemmt wird, von denen eine feststeht
und die andere vertikal und horizontal verschiebbar ist oder eine Drehbewegung um die Achse des Bündels
durchführen ksnn. D2ni? wird azs Bünde! zwischen den
beiden Klammern bis auf die Erweichungstemperatur des Glases erhitzt. Aus dem verformten Teil des so
erhaltenen Mikrokanalbündels wird die gewünschte gekrümmte Kanalplatte geschnitten. Ein Nachteil eines
derartigen Verfahrens ist, daß eine verhältnismäßig große Materialmenge in Form eines Mikrokanalbündels
erforderlich ist, von dem ein Teil nach dem Biegen und Schneiden verloren geht. Ein weiterer Teil dieses
Verfahrens ist, daß die Krümmung der Kanäle in der erhaltenen Platte nicht überall die gleiche ist; dies ist auf
die Tatsache zurückzuführen, daß die Verformung in der Mitte des Bündels nicht die gleiche wie die am Umfang
des Bündels ist.
Beim in der genannten französischen Patentanmel- hr>
dung 72 02 226 beschriebenen Verfahren erfolgen die Behandlungen an einer vorgeformten Mikrokanalpiatte.
Folglich ist die Ausschußquote erheblich verringert. Die Kanalplatte wird einer mechanischen Vorspannung
ausgesetzt, die schräg in bezug auf die Stirnflächen der Platte angreift. Im Innern der Platte sind die zu den
Stirnflächen parallelen Ebenen isotherme Ebenen, während wenigstens in einem Teil der Platte, längs der
Normalen auf den Stirnflächen der Platte gemessen, die Temperaturverteilung ungleichmäßig ist, und zwar
derart, daß das Glas in diesem Teil sich zwischen dem plastischen und elastischen Zustand befindet.
Das Verfahren erfordert die Herstellung eines besonderen Halters zur Erzeugung der erwähnten
mechanischen Vorspannung. Dieser Halter besteht z. B. aus einem Gesenk, das aus zwei Teilen aufgebaut ist,
deren Form derjenigen der Kanalplatte entspricht, während zwischen ihnen ein gewisser Spielraum
besteht, um sie in bezug aufeinander verschieben zu können. Eine Schwierigkeit bei diesem Verfahren ist die
Erzielung der gleichen Krümmung in sämtlichen Mikrokanälen der Platte. Das Verfahren erfordert eine
Einstellung der Geometrie der Seitenränder des Gesenkes, um zu verhindern, daß die Platte infolge einer
Biegung der am Umfang liegenden Mikrokanäle unter der Einwirkung der mechanischen Vorspannung tonnenförmig
verformt wird. Der zur Erzeugung der mechanischen Vorspannung benutzte Halter kann auch
aus zwei Einsatzstücken bestehen, die durch Schweißen je auf einer der Stirnflächen der Platte angebracht sind.
Eine Schwierigkeit dabei ist, daß die mechenischen und thermischen Eigenschaften des für diese Einsatzstücke
verwendeten Materials dem thermischen Zustand angepaßt sein müssen, in dem die mechanische
Vorspannung aufgedrückt wird.
Die bei der Durchführung des Verfahrens auftretenden Schwierigkeiten finden ihre Ursache in der
Tatsache, daß das Ausgangsmaterial bereits die Abmessungen einer Kanalplatte hat und daß somit einer
Vielzahl von aneinander anschließenden Mikrokanälen eine bestimmte Krümmung erteilt werden muß.
Infolgedessen ist es schwierig, sämtlichen Mikrokanälen die gleiche Krümmung zu erteilen. Der im Patentanspruch
angegegebenen Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zum Herstellen einer Mikrokanalpiatte
zu schaffen, das einfacher auszuführen ist, sich besser für die Massenfertigung eignet und zu gleichmäßigeren
Krümmungen der Mikrokanäle führt.
Mit dem Verfahren nach der Erfindung wird eine gleichmäßige Krümmung aller Mikrokanäle erreicht,
wobei diese Kanäle einen beliebigen, z. B. kreisförmigen, quadratischen, r :chteckigen oder vieleckigen
Querschnitt haben können.
!rr. l'aüe eines rechteckigen, dreieckigen oder
sechseckigen Querschnitts kann der Füllfaktor der Mikrokanäle einen Höchstwert aufweisen.
Nachstehend wird die Erfindung anhand der Zeichnungen näher erläutert. Es zeigt
F i g. 1 eine Schicht aus nebeneinander angeordneten Mikrokanälen (Einlagenschicht).
Fig. 2 eine Ausführungsform einer Spannbacke zur
Einklemmung der Einlagenschicht während des Profiliervorganges bei dem Verfahren nach der Erfindung.
Fig. 3 eine Seitenansicht dieser Vorrichtung zur Profilierung einer derartigen Schicht unter der Einwirkung
einer Druckkraft.
Fig.4 mehrere aufeinander gestapelte profilierte Einlagenschichten.
F i g. 5 schematisch das Verfahren nach der Erfindung bei der gleichzeitigen Profilierung mehrerer Einlagenschichten
von Mikrokanälen.
Um die Zeichnung möglichst anschaulich zu machen,
sind in den Figuren Mikrokanäle mit quadralischem Querschnitt dargestellt.
In Fig. 1 bezeichnet Peine Flache, auf der identische
Mikrokanäle 11 mit Querschnitten 12 nebeneinander zu einer Einlagenschicht 1 angeordnet sind. J'.'der Mikrokanul
1 kann durch einige zu einem kompakten Bündel vereinigte Kanäle mit ebenfalls quadratischem Querschnitt
ersetzt werden.
Fig. 2 zeigt eine Spannbacke 20, die z.B. aus iu nichtrostendem Stahl besteht. Eine der Flächen dieser
Backe weist ein Wellenmuster paralleler Streifen auf, die abwechselnd in einer von zwei Ebenen liegen. Die
Streifen 21, 23 und 25 z. B. liegen in einer gemeinsamen F.bene, während die Streifen 22, 24 und 26 in einer
anderen gemeinsamen Ebene liegen. Die Verbindung zwischen zwei aufeinander folgenden, in verschiedenen
Ebenen liegenden Streifen besteht aus einer schiefen Ebene, z. B. der Ebene 27, wobei unter Berücksichtigung
der Symmetrie der Ebenen 27 in bezug auf die Streifen
der Winkel zwischen jeder Ebene 27 und der Senkrechten aus den erwähnten Streifen der gleiche ist.
Das Wellenniuster kann jede beliebige Form haben, es muß lediglich das Muster der ersten Backe in das Muster
der zweiten Backe eingreifen.
Beim erfindungsgemäßen Verfahren werden die mit den Streifen versehenen Flächen der Spannbacken auf
die in F i g. 3 dargestellte Weise einander gegenüber angeordnet. Die Spannbacken 30 und 31 haben einen
bestimmten Abstand voneinander, wobei die Streifen sämtlich parallel zueinander verlaufen und ineinander
greifen können, wenn eine der Backen in einer Richtung quer zur Ebene der Streifen verschoben wird.
Zwischen die Backen wird eine Mikrokanalschicht nach F i g. I gelegt. ir>
Unter der Einwirkung der Druckkraft C in einer Richtung quer zu den Außenflächen 32 und 38 der
Backen 31 und 30 wird der Einlagenschicht 1 eine gewisse Verformung erteilt.
Der Zusammenpreßvorgang erfolgt vorzugsweise unter den nachstehenden Bedingungen:
— durch nicht dargestellte Heizmittel wird die Einlagenschicht 1 auf eine derartige Temperatur
gebracht, daß sich ihr Material (Glas) in einem Zustand zwischen dem plastischen und dem elastischen Zustand
befindet;— die Spannbacken bestehen aus einem während des Verfahrens wenig oxidierenden Material,
z. B. aus nicht-rostendem Stahl, der mit einer Wolframcarbidschicht überzogen ist, wodurch das Kanalmaterial
nicht an den Backen haftet;— der Preßvorgang wird in ciiiei 1 Vakuum oder einer reduzierenden Atmosphäre
durchgeführt, um eine Oxidation des Metalles während des Verfahrens zu verhindern;— die erwähnten
Heizmittel bestehen vorzugsweise aus den Backen selber, die zu diesem Zweck mit elektrischen Heizelementen
versehen sind.
Bei Verwendung üblicher Giasarten für die Mikrokanalwändc ist die Temperatur, bei der die erwähnte
Behandlung erfolgt, beispielsweise etwa 500"C.
Die Profilbildung kann gegebenenfalls gleichzeitig mit der Zusammenbringung und Verkittung der
Glasfasern der Einlagenschicht erfolgen. Zu diesem Zweck wird einer der Ränder der Mikrokanalschicht,
z. B. der Rand 33, mit Hilfe eines Anschlages 34, der einen flachen Rand aufweist und seitlich in den Punkten
35, 36 und 37 an der Backe 31 befestigt ist, mit der Seitenfläche der Backen in eine Ebene gebracht. Indem
überdies die Druckkraft C in einer von 90" abweichenden Richtung in bezug auf die Ebene der Einlagenschicht
ausgeübt wird, ergibt sich eine Komponente in der Ebene der Einlagenschicht. Durch diese Komponente
werden die Elemente der Einlagensc/ircht gegen den
Anschlag 34 gedrückt.
Nach der Profilierung einer gewissen Schichtenzahi werden die erhaltenen Schichten, z. B. 41,42 und 43, auf
die in F i g. 4 dargestellte Weise gestapelt.
Die Schichten werden durch ein Wärmedruckverfahren zwischen zwei Spannbacken vom Typ der Backen
30 und 31 in F i g. 3 miteinander verkittet.
Nach der Stapelung und dem Wärmedruckvorgang ergeben sich dadurch gekrümmte Mikrokanalplatten,
daß vom erhaltenen Gebilde Teile abgeschnitten werden, vorzugsweise in einer Richtung quer zur
Längsrichtung der Mikrokanäle, z. B. gemäß den Ebenen 40 und 50 der F i g. 4.
Die Massenherstellung gekrümmter Mikrokanalplatten erfolgt vorzugsweise durch gleichzeitige Profilicrung
mehrerer Einlagenschichten.
Wie in F i g. 5 dargestellt ist, werden zu diesem Zweck mehrere Einlagenschichten aufeinander gestapelt, während
jeweils zwischen zwei Schichten ein Trennstück 51 angebracht wird, das z. B. aus nichtrostendem Stahl mit
einem Wolframcarbidüberzug, um ein Haften am Glas zu vermeiden, besteht. Das so erhaltene Gebilde wird
zwischen den beschriebenen Spannbacken zusammengepreßt.
Das Trennstück 51 hat auf den Hauptflächen die gleichen Streifen und Verbindungsebenen wie die ihm
gegenüberliegende Backe. Dabei erfolgt die Profilierung auf die gleiche Weise und mit den gleichen Mitteln
wie bei einer Einlajenschicht, und zwar mittels einer Wärmebehandlung in einem Vakuum.
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen
Claims (1)
- Patentanspruch:Verfahren zum Herstellen einer Sekundärelektronen emittierenden Mikrokanalpiatte, die aus einem Stapel von Mikrokanalschichten aufgebaut ist, deren Kanäle in der Achsrichtung gekrümmt sind und die Lage jedes Kanals von der Lage eines anderen Kanals durch eine Translationsbewegung in einer bestimmten Richtung entsteht, dadurch gekennzeichnet, daß zur Erzielung der gleichen ι ο Krümmung sämtlicher Mikrokanäle der Platte die Mikrokanäle (II) mit gleichem Querschnitt nebeneinander zu einer Schicht (1) angeordnet werden, die zwischen zwei Spannbacken (30, 31) mit komplementärem Profil und einem gleichen regelmäßigen Wellenmuster eingespannt wird, deren Rippen sich senkrecht zu den Achsen der Mikrokanäle erstrekken, die Mikrokanalschichl durch einen auf die Spannbacken ausgeübten Druck bei höherer Temperatur, bei der das Material der Schicht zwischen dem plastischen und elastischen Zustand befindet, verformt wird, jeweils zwei der profilierten Schichten unter Zwischenfügung eines Trennelementes (51) mit gleichem Profil aufeinander gestapelt und der Stapel zwischen den Spannbacken bei höherer Temperatur durch Druck geformt wird, der dann in mehreren zueinander parallelen Ebenen (40, 50), die einen Winkel mit der Kanalrichtung einschlließen, durchschnitten wird.JO
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