DE2247882A1 - Elektrisches relais - Google Patents
Elektrisches relaisInfo
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Description
Patentanwalt Dipl.-Phys. Gerhard Liedl 8 München 22 Steinsdorfstr. 21-22 Tel. 29 84
B 5777
MULTI-STATE DEVICES Ltd.
133o Trans Canada Highway South, DORVAL 74o, Quebec / Canada
133o Trans Canada Highway South, DORVAL 74o, Quebec / Canada
Elektrisches Relais
Die Erfindung betrifft ein elektrisches Relais.
Viele Jahre lang waren Relais fast unverändert von elektromagnetischer
Natur, und es war äußerst einfach, für eine elektrische Isolierung zwischen
der Erregerspüle des Relais und den Kontakten, die den gesteuerten
Strom führten, zu sorgen.
Halbleiter haben jedoch bezüglich des Schaltens ein neues Anwendungsfeld eröffnet, wobei Relais vorliegen, die klein, leicht, billig und zuverlässig sind, und zwar Ln einem Ausmaß, das mit einer mechanischen Vorrichtung nur schwer zu erreichen 1st.
Bei Halbleitervorrichtungen wird ein kleiner Steuerstrom oder eine
kleine Steuerspannung zur Steuerung eines Stromflusses verwendet. Dem Arbeltsprinzip dieser Vorrichtungen 1st eigen, daß zwischen
den Steuerelementen und den stromführenden Elektroden nur ein sehr
geringer Abstand verwendet wird. Das hat zur Folge, daß es nicht
praktikabel 1st, Im gesteuerten Schaltkreis große Spannungen anzuwenden, es sei denn, die den Steuerelementen zugeordneten Schaltkreise sind so ausgebildet, daß sie diesen hohen Spannungen widerstehen können.
zu schaffen, das bei gleicher Größenordnung wie ein Halbleiterschalter
oder ein Relais mit ähnlichen Leistungsdaten für praktische Anwen-
fttr
dungszwecke/elne tatsächlich vollständige elektrische Isolierung zwischen seinen Steuerungselementen und seinen stromführenden Elektroden
sorgt.
Zur Lösung dieser Aufgabe Ist das erfindungsgemäß geschaffene elektrische Relais gekennzeichnet durch ein plattenähnllches Substrat au«
elektrisch Isolierendem Material, durch Im Abstand voneinander angeordnete elektrische Kontakte auf einer Seite des Substrates, durch
eine Schicht aus ausgewähltem Material, das die voneinander entfernten Kontakte Überbrückt, und durch eine auf* dem Substrat vorgesehene
elektrische Vorrichtung, die Joule'sehe Wärme entwickelt, wöbet das
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ausgewählte Material den folgenden Kriterien derart genügt, -daß es
a) Elemente enthält, dessen Atome tei chemischer Kombination mit
anderen Elementen eine unvollständig gefüllte d-Schale oder eine unvollständig gefüllt f-Schale aufweisen,
b) eine Substanz enthält, die s- und p-Elektroden von den Leitungsbändern
der Atome entfernt, und ,
c) bei einer bestimmten kritischen Temperatur einen scharfen, deutlichen
Wechsel der Leitfähigkeit zwischen einem isolierenden Zustand und einem leitenden Zustand zeigt.
"Weitere Merkmale der Erfindung ergeben sich aus den Unteransprüchen.
Die Erfindung wird Im folgenden in Form bevorzugter Ausführungsbeisplele
anhand der Zeichnung erläutert. Diese zeigt In:
Flg. 1 in Seitenansicht ein sehr kleines, nicht maßstabsgerecht gezeichnetes
Relais;
Flg. 2 eine Ansieht des Relais gemäß Linie Π-ΤΙ in Flg. 1;
Flg. 3 perspektivisch die Vorrichtung gemäß Flg. 1 und 2 auf einem
T05-header, dessen Deckel lediglich strichpunktiert dargestellt ist;
Flg. 4 ein Diagramm über die Temperatur/Widerstahdscharäktefistlk
des im Relais gemäß Flg. 1 bis 3 verwendeten Materials;
Flg. 5 perspektivisch ähnlich gemäß Flg. 3 eine abgewandelte Vorrichtung für die Steuerschaltung gemäß Flg. 9;
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Flg. 6 Schaltdiagramme, die typische Anwendungebeispiele der S Vorrichtung gemäß FIg. 1 bis 3 zeigen, und
Flg. 10 Diagramme zur Hlustrterung der unterschiedlichen Wirkung
dieser Vorrichtung, wenD diese an Wechselstrom und an
Gleichstrom angelegt wird.
Wie aus Flg. 1 ersichtlich, ist eine rechteckige Saphlrschelbe 1 oder
ein Saphlrplättchen vorgesehen, das eine Breite von 0,4318 mm, eine
Länge von 0,7620 mm und eine Dicke von 0,1524 mm aufweist Auf lediglich einer Seite des Saphlrplättchens 1 Ist an seinen beiden Enden
ein Film 3 aus Nlchrom vorgesehen, wobei sich auf Jedem Film 3
eine Goldschicht S befindet, die eine geringere Größe als der Film 3
aufweist und als Anschluß bzw. als Pol dient. Der Baum zwischen den
beiden Filmen 3 1st von einer dünnen Schicht 4 aus Vanadiumdioxid VO. überbrückt, die steh bis über den Film 3 erstreckt, jedoch kurz
vor der Goldschicht 5 endet.
Auf der Rückseite des Platt chene 1 Ist ein als Heizelement wirkender
Nlchrom-Wlderstand 7 des Dünnftlmtyps vorgesehen, auf dessen Enden
jeweils eine Goldschloht 8 aufgebracht Ist, die ebenfalls als Anschluß
dient.
Die beschriebenen Teile sind auf einer Keramikplatte 9 angeordnet,
die besondere deutlich aus FIg. 3 ersichtlich ist Die Grüße dieser
Platte 9 Ist nicht von Bedeutung mit der Ausnahme, daß sie, wie aus
Flg. 3 ersichtlich, In einer Standardvorrichtung Il angeordnet 1st, die
In der Fachsprache mit dem englischen Ausdruck T05-header bezeichnet wird und aus einer metallenen Bodenplatte 13 sowie aus vier
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Kontaktstiften 15, 17, 19 und 21 besteht, die sich jeweils durch vier
Isolierfassungen 25, 27, 29 und 31 hindurch durch die Bodenplatte 13 erstrecken. Die Platte 9 besteht bei dem dargestellten Ausführungsbeispiel aus Aluminium (Al-O ). Auf der Oberfläche der Platte 9 sind
a O
vier metallische Kontaktbereiche 35, 37, 39 und 41 vorgesehen, die
jeweils über Zuleitungen 45, 47, 49 und 51 mit den Stiften 15, 17, 19
und 21 verbunden sind.
Die Goidschlchten 5 sind jeweils mit einer Lötkugel 53 versehen, die
geeigneterweise aus einer Germanlum-Goldleglerung oder aus einer
Zlnn-Goldleglerung besteht und durch welche das Saphlrplättchen 1 und
die davon getragenen Teile auf der Keramikplatte 9 befestigt sind. Die
beiden Lötkugeln 53 stehen jeweils mit den Kontaktbereichen 35 und In Verbindung. Zuleitungen 55 und 57 verbinden jeweils die beiden
Goldschichten 8 mit den beiden Kontaktbereichen 39 und 41.
Aus Flg. 3 Ist die vollständige Anordnung ersichtlich, wobei ein vor- .
gesehener üblicher Abschlußdeckel 59 strichpunktiert dargestellt ist.
Selbstverständlich können verschiedene der zuvor In Verbindung mit
der bevorzugten Ausführungsform erwähnten Materialien durch andere geeignete Materlallen ersetzt werden, wobei die Auswahl anderer
Materlallen derart erfolgen muß, daß die erforderlichen, einzeln aufeinanderfolgenden Stufen bei der Herstellung die Materlallen und schon
erzielten Ausbildungen nicht nachteilig beeinflussen.
Anstelle des Saphlrplättchens 1 können an anderen Materialien auch
Quarz und andere Glasformen verwendet werden, obgleich auch Berylllumoxid (BeO) oder Aluminium (Al0O0) verwendet werden kann,
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Es Ist von wesentlicher Bedeutung, daß das Plättchen ein elektrischer
Isolator mit hoher dielektrischer Stärke Ist und eine gute thermische
Leitfähigkeit aufweist. Nlchrom wird deswegen verwendet, da es
Saphir gut bindet. Falls für das Plättchen andere Materialien verwendet werden, kann es wünschenswert sein, auch für den Film 3 ein
anderes Material zu verwenden. Das Gold wird deswegen verwendet,
um ein befriedigendes Aneehlußkiemmenmaterlal zu schaffen.
Der Film aus Vanadiumoxid Ist von großer Bedeutung, da dieses
Material einer Klasse von Materialien zugehört, die bei Erhitzung
über eine kritische Temperatur hinaus eine sehr große Widerstandsänderung In der Größenordnung von 1. 000 :1 erfahren. Die Charakteristiken dieses Materials und der In diese Klasse fallenden Materlallen werden welter unten erläutert.
Bei der Herstellung der Vorrichtung gemäß Flg. 1 bis 3 wird das
Plättchen 1 zuerst über seine gesamte Fläche mit den Nlchrom-Fllmen überzogen, was mittels einer an sich bekannten Verdampfungetechnik In einer geeigneten inerten Atmosphäre erfolgt. Der Film besitzt typischerweise eine Dicke in der Größenordnung von
500 - 1. 000 Ä\ Der Goldfilm wird sodann mittels einer ähnlichen
Technik In einer Dicke von beispielsweise 2. 000 % aufgebracht.
Mittels eines lichtelektrischen Widerstandsverfahrene wird sodann das Gold zuerst vom mittleren Teil des Plättchens 1 wieder abgeätzt,
worauf sodann mittels eines weiteren Uchtelektrtschen Wlderstandsverfahrens auch das Nlchrom abgeätzt wird, jedoch In einem etwas
geringeren Ausmaß, so daß die Schultern verbleiben, auf denen, wie
aus Flg. 1 ersichtlich, der Vanadlumdloxld-Fllm 4 gelagert ist Der
erforderliche Vanadlumoxld-Fllm wird mittels eines Zerstäubungsver-
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fahrens aufgetragen, das bei einer Temperatur von 350 - 450°C
durchgeführt wird. Hierbei wird ein Vanadlum-Tärget, d. h, eine
Vanadium-Elektrode, in einer Atmosphäre aus Argon und Sauerstoff verwendet, deren Telldrücke so gewählt werden, daß sich die gewünschten
Ablagerungen des Vanadiumoxids ergeben. Dieser Film weist eine Dicke von 15oo - 25oo A auf und es Ist außerordentlich
wichtig, daß sich das Vanadiumoxid Im polykristallinen und nicht Im
Teil des amorphen Zustand befindet. Dieser Film bedeckt den. mtttleren/Saphlrplättchens
1, die beiden Schultern aus Nlchrom und die beiden Kontaktschichten
5 aus Gold. Der Film wird sodann wieder abgeätzt, um die
Goldkontaktschichten 5 freizulegen.
Wie schon erwähnt, kann eine Vertauschung eines der genannten Materialien
auch eine Änderung des angewendeten Verfahrens erforderlich machen. Hierbei muß insbesondere Sorge dafür getragen werden, daß
keiner der Filme durch Übermäßige Diffusion der anderen Mater lallen,
die sich in großer Nähe hierzu befinden, Schaden erleidet.
Das Vanadiumoxid wird als repräsentatives Material aus einer Klasse
von Materialien verwendet, die der untenstehenden Definition folgen:
Ein solcher Materlalkörper
a) enthält Elemente, dessen Atome bei chemischer Kombination mit
anderen Elementen eine unvollständig gefüllte d-Schale oder eine
unvollständig gefüllte f-Schale aufweisen,
b) enthält eine Substanz, die s- und p-Elektronen aus den Leitungsbändern
der Atome entfernt, und
c) zeigt bei einer bestimmten definierten, kritischen Temperatur
einen scharfen, deutlichen Wechsel der Leitfähigkeit zwischen einem
Isolierenden Zustand und einem leitenden Zustand.
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Das Diagramm gemäß Flg. 4 verdeutlicht, wie sich der Widerstand
eines Körpers aus solch einem Material ändert, wenn dessen Tempo«
ratur Ober eine kritische Temperatur T hinaus gesteigert oder Abgesenkt wird.
Bei dem dargestellten Auaftthrungsbelsplel Ist die Hystereseschleife
zwischen der steigenden Temperatur und der abfallenden Temperatur relativ breit, jedoch Ist es, falls erwünscht« möglich, mittels des
zur Herstellung des Materials verwendeten Verfahrene eine schmalere
Hystereseschleife zu erhalten, so daß die Vorrichtung für alle praktischen Anwendungszwecke die gleiche kritische Temperatur aufweist,
und zwar sowohl für das "Schalten" zwischen einem hohen Widerstand
(bei einer Temperatur unterhalb der kritischen Temperatur) und einem
niedrigen Widerstand (bei einer Temperatur Über der kritischen Temperatur) als auch für das "Schalten" bei einem umgekehrten Temperaturwechsel.
Um daher entscheiden zu können, ob sich ein bestimmtes Material
für die erfindungsgemäße Vorrichtung eignet, ist es erforderlich, sich
zu vergewissern, ob die In Frage stehende Substanz sämtlichen drei
genannten Erfordernissen genügt.
Die erste Forderung wird durch viele Metalle der drittem Elementenreihe erfttllt, beispielsweise durch
Sc | Scandium |
Tl | Titan |
V | Vanadium |
Cr | Chrom |
Mn | Mangan |
Fe | Elsen |
Co | Kobalt |
Nl | Nickel |
Cu | Kupfer |
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Die erste Forderung wird ebenfalls durch viele Metalle der vierten
Elementenreihe erfüllt, beispielsweise durch
Y | Yttrium |
Zr | Zirkon |
Nb | Niob |
Mo | Molybdän |
Tc | Technetium |
Ru | Ruthenium |
Rh | Rhodium |
Pd | Palladium |
Ag < | Silber. |
Die erste Forderung wird außerdem durch viele Metalle der fünften
Elementenreihe, beispielsweise .
Hf | Hafnium |
Ta | Tantal |
W | Wolfram |
Re | Rhenium |
Os | Osmium |
Ir | Iridium |
Pt | Platin |
sowie durch die Lanthanolde erfüllt:
La | Lanthan |
Ce | Ger . |
Pr | Praseodym |
Nd | Neodym |
Pm | Promethium |
Sm | Samarium |
Eu | Europium |
Gd | Gadolinium |
Tb | Terbium |
Dy | Dysprosium |
Ho | Holmium |
Er | Erbium |
Tm | Thulium |
Yb | Ytterbium |
Lu | Lutetium. |
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Um die zweite Bedingung b zu erfüllen, kann das Metall wie Im obendargelegten
Ausführungsbelsplel In Form seiner Oxide vorliegen. Es
können auch andere Verbindungen verwendet werden, beispielsweise die Nitride, Sulfate, Sulfide oder Phosphide oder jede ander· Verbindung des Metalle, die In der angegebenen Welse wirkt und die s- und
p-Elektronen aus den Leitungsbändern der Atome entfernt.
Wie bekannt, weisen Elementenrelheader Übergangsperiode und seltene
Erden unvollständige d*· oder f-Schalen auf. Wenn daher eine Anzahl
von Atomen dieser Materlallen nahe beieinander angeordnet Wird,
kann ein Elektron von einer d- oder f-Schale zu der anderen Schale
Überwechseln. Falls die normalen Valenz-Elektronen vorhanden und
nicht gebunden sind (dies sind die B-'und p-Elektronen), 1st die Vorrichtung
nutzlos, da kein starkes elektrisches Feld mehr angelegt werden kann. Bei der erfindungsgemäßen Vorrichtung werden die
Valenz-Elektronen durch eine chemische Kombination des elementaren
Metalles mit einem anderen Element unwirksam gemacht, wobei beispielsweise
ein Metalloxid, ein Metallsalz oder eine äquivalente Verbindung
geschaffen wird.
Im Gegensatz zu Halbleitervorrichtungen benötigt die erfindungsgemäße
Vorrichtung unabdingbar ein Element mit einer unvollständigen d- oder
f-Schale. Germanium, das eines der am meisten verwendeten Halbleitermaterialien Ist, genügt diesem Erfordernis nicht.
Viele Substanzen, welche den obengenannten ersten und zweiten Kriterien
a und b genügen, erfüllen das dritte Erfordernis ο nicht, daß nämlich das Material bei einer bestimmten kritischen Temperatur
einen scharfen und deutlichen Wechsel der Leitfähigkeit zwischen
einem Isolierenden Zustand und einem leitenden Zustand zeigen soll.
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Diese Eigenschaft läßt sich bei jedem beliebig vorgegebenen Material
leicht durch Me'ssen seiner Leitfähigkeit bei unterschiedlichen Temperaturen nachprüfen. Die meisten Materialien weisen jedoch keinen
scharfen, deutlichen Wechsel In der Leitfähigkeit auf, sondern zeigen
eine allmähliche Änderung über einen ziemlich weiten Temperaturbereich.
Einige Materlallen, die den scharfen Wechsel der Leitfähigkeit aufweisen
und verwendet werden können, sind beispielsweise folgende:
Vanadiumdioxid | V02 |
Vanadlumtrloxld | V2°3 |
Silbersulfid | Ag2S |
Titanoxid | . Ti3°5 |
Vanad iumtrloxld (V0O0) weist einen scharfen Übergang bei etwa
150 K sowie einen unzureichend definierten Übergang bei etwa 500 K auf. Durch Dotieren dieses Materials mit 1% Chromtrioxid (CrOJ
2 ο
wird jedoch erreicht, daß sich der Tieftemperaturtibergang zu etwa
170°K verschiebt, während sich der Hochtemperaturtibergang schärfer ausbildet und auf etwa 270°K absenkt. Dieser zweite Übergang liegt
in entgegengesetzter Richtung zum ersten Übergang. Diesl verdeutlicht
die Möglichkeit, wie Dotlermaterlalien verwendet werden können, um
Materlallen mit vorteilhaften Übergängen bzw. Übergangseigenschaften
zu schaffen. Die jeweilige Übergangstemperatur kann durch Variieren
der Dotlermaterlalmenge eingeregelt werden.
Die dargestellte Vorrichtung kann als Relais verwendet werden, dessen
Zustand durch Erhitzen und Kühlen des Vanadlumoxld-Fllms geändert wird. Das Im Film 4 verwendete Vanadiumoxid Ist dotiert worden, so
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daß »Ine kritische oder Schalttemperatur bei 550C lieft Wenn die
Fllmtemperatttr unterhalb der kritischen Temperatur liegt, betrügt
der Widerstand zwischen den Stiften 15 und 17 typlscherwelse
200 χ 10 Q . Wenn zwischen den Stiften 19 und 21 eine Spannung ungelegt wird, fließt ein Strom durch den Wlderetandsfllm 7, wobei die
derart erzeugte Hitze In das Saphlrplättchen 1 übergeleitet wird and
den Vanadlumoxld-Film 4 aufheizt. Wenn dieser Film 4 seine kritische
Temperatur erreicht, fällt der Widerstand zwischen den Stiften IS
und 17 abrupt auf einen sehr viel kleineren Wert ab, typtscherwelse
auf 200 Ω .
Bet dem hler beschriebenen speziellen Anwendungsfall hat eich beispielsweise gezeigt, daß der Film 4 nach etwa 15 ms umschaltet,
wenn der Film 7 eine Leistung In der Größenordnung von 500 mW
verbraucht. Die Zelt, die der Film 4 benötigt, um wieder In seinen
ursprünglichen Tief temperatur- und Hochwiderstand- (hochohmlgen)-Zustand zu gelangen (wenn er keinen Strom führt), ist etwa gleich
groß, d.h. 15ms. Es Ist möglich, ein sehr viel schnelleres Umschalten zwischen dem Hochwiderstand-Zustand und dem Tlefwiderstand-Zustand zu erzielen, indem nämlich dem Film 7 eine höhere Leistung
zugeführt wird; der erhöhte Wärmestau Im Plättchen 1 bewirkt jedoch,
daß die RUckstellzelt größer wird. Es hat sich jedoch als möglich erwiesen, die Wärme als Impuls von relativ hoher Leistung zuzuführen,
wodurch man das erwünschte schnellere Umschalten In der Richtung von hohem zu niedrigem Widerstand erhält, während gleichzeitig die
Gesamtwärmezufuhr niedrig gehalten wird und dadurch eine relativ schnelle Rückkehr in den Hochwiderstand-Zustand möglich 1st.
Es erscheint angebracht, an dieser Stelle einige Betrachtungen über
den Vorgang der Leitung in einem Filmmaterial, wie dem Film 4,
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anzustellen. Obwohl das Material unterhalb der kritischen Temperatur
etnen hohen Widerstand besitzt, Ist dieser Widerstand jedoch nicht unendlich,
sondern endlich groß. Das hat zur Folge, daß ein geringer Strom fließt und sich eine Ohmsche Erwärmung ergibt, wenn an das
Material eine Spannung angelegt und aufrechterhalten wird. In einigen
Fällen kann selbst schon diese Ohmsche Erwärmung ausreichen, daß das Material, wenigstens örtlich, seine kritische Temperatur erreicht
und In größerem Ausmaß leitend wird. Bei den meisten Anwendungsfällen werden die Schaltkrelsbedlngungen jedoch so gewählt, daß dies
zumindest nicht unmittelbar erfolgt, weswegen eine Wärmezufuhr von
außen verwendet wird, um die Erhitzung auf die kritische Temperatur
zu bewirken. . .
Wie durch die freihändig gezeichneten Linien In Flg. 11 angezeigt, Ist
der Stromfluß über den Querschnitt des Materials verteilt, wenn das
Material erhitzt wird, um es über seine kritische Temperatur zu
bringen. Wenn der Stromfluß durch äußere Schaltkrelsbedlngungen verringert oder wenn das Material auf eine Temperatur abgekühlt wird,,
die etwas niedriger als diejenige liegt, bei der es hochleltend wurde,
datin zeigt der Stromfluß die Neigung, sich In einer schmaleren, längserstreckenden
Gegend des Materials zu konzentrieren. Der konzentrlertere
Strom erzeugt auereichend thermische Wärme, um diesen Teil
des Materials In seinem stärker leitenden Zustand zu halten.
Wenn das angelegte Potential ein Qletchstrom erzeugendes Potential Ist,
dann Ist eine beträchtliche Verringerung entweder der Temperatur oder
des Stromes (durch äußere Schalteinwirkung) erforderlich, um das gesamte Matertal In den Zustand ζurückzuverbringen, In dem es einen
höheren Widerstand aufweist. Falls das angelegte Potential jedoch ein
Wechselstrom erzeugendes Potential Ist, dann fällt der Heizstrom und
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daher auch der Heizeffekt zweimal während jeder Schwlngungspertode
auf Null ab. Hierdurch kann das Materlat In seinen Hochwider β tand-Zustand zurückgelangen, und zwar bei einer Temperatur, die üblicherweise nahe derjenigen liegt, bei welcher der übergang bzw. Wechsel
In entgegengesetzter Richtung stattfindet.
Hieraus wird deutlich, daß es bei Anwendung der Vorrichtung erforderlich 1st, steh zu vergegenwärtigen, ob der gesteuerte Strom ein
Wechselstrom oder ein In einer Richtung wirkender Strom, d.h. ein
Gleichstrom 1st, damit In Erfahrung gebracht werden kann, wie die
Vorrichtung auf unterschiedliche Betriebsbedingungen reagiert.
Flg. 6 zeigt eine Schaltung, die Im Verbraucher B 603 einen überstrom
mißt und den npn-Translstor Ql ausschaltet, um den Strom Im Verbraucher auf einen sicheren Wert zu begrenzen. Der Wideretand R
wird so gewählt, daß er genug Basisstrom gibt, um es dem Transistor
Ql zu gestatten, Last- bzw. Verbraucherstrom unter normalen Arbeitebedingungen zu liefern. Der Film 4 wird zwischen dem Emitter und
der Basis des Transistors Ql angeschlossen, und zwischen der Basis
und dem Kollektor liegt ein Widerstand R 60S von l.ooo 0 .Der Erhltzungswlderstandsfllm 7 liegt In Reihe zum Verbraucher R 603.
Bei normalen Arbeltebedingungen Ist der Transistor Ql leitend, da
die Temperatur des Films 4 unterhalb der kritischen Temperatur liegt. Wenn jedoch durch den Verbraucher It 603 und den Hetzfilm 7
ein überstrom fließt, wird der Film 4 In seinen Tlefwlderstand-Zustand geschaltet; dies begrenzt den durch den Verbraucher B 603
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fließenden Strom auf denjenigen Wert, der erforderlich Ist, um den
Film 4 In seinem leitenden Zustand zu halten.
Die Schaltung gemäß Fig. 7 Ist der zuvor erläuterten ähnlich, jedoch
mit derjenigen Ausnahme, daß sie selbstschaltend Ist, wenn der
Film 4 auf seinen Tiefwiderstand-Zustand erwärmt worden Ist.
Ein npn-Translstor Q3 Ist über den Heizfilm 7 und einen Ohmschen
Verbraucher R 803 an eine Gleichstromquelle 805 angeschlossen. Der
Film 7 liegt mit einem Widerstand R 807 In Reihe an der Gleichstromquelle
805, und die Basis des Transistors Q3 Ist über eine
Zenerdiode D801 an die Verbindungsstellen des Films 4 mit dem Widerstand R807 angeschlossen. Hierdurch wird aufgrund der
Joule'sehen Erwärmung im Film 4, die aufgrund des durch den
Widerstand R807 fließenden Stromes erzeugt wird, eine selbstschaltende
bzw. selbsthaltende Schaltung erzeugt. Die Zenerdiode D801 wird verwendet, um die Basis des Transistors Q3 auf einen korrekten
Pegel hochzubringen, bei dem die Restspannung im Film 4 ausgeglichen wird, wenn sich die Vorrichtung in eingeschaltetem Zustand
befindet. Der Widerstand R809 liegt zwischen der Basis und dem Emitter des Transistors Q3, um den Kriechstrom bzw. Streustrom
von der Zenerdiode D801 von der Basis des Transistors Q3 ·
abzuzweigen.
Die aus Flg. 8 ersichtliche Schaltung Ist eine Weiterentwicklung der
zuvor erläuterten Schaltung, wobei anstelle einer Zenerdiode eine unabhängige Vorspannungsquelle 907 dazu verwendet wird, die Spannung
am Film 4 auszugleichen. Darüber hinaus Ist der Helzfllm 7
In Nebenschluß zu einem niedrig bemessenen Widerstand R905 geschaltet,
so daß bei der Schaltung höhere Lastströme verwendet
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werden können. Wie schon bei der zuvor erläuterten Schaltung verwendet diese Schaltung einen npn-Translstor Q4, der In Reihe mit
dem Heizwiderstand 7 und einem Ohmschen Verbraucher R901 liegt und an eine Gleichstromquelle 903 angeschlossen 1st Der Film 4
liegt In Reihe mit der als Vorspannungsquelle dienenden Qlelofaspannungsquelle 907 sowie mit einem Widerstand R909 und 1st ebenfalls an die Glelchspannungsquelle 903 angeschlossen. DI· Basis des
Traneistore Q4 Ist an die Verbindungsstelle des Films 4 mit dem
Widerstand R909 angeschlossen. Diese Schaltung 1st ebenfalls selbatschaltend bzw. selbsthaltend, wenn der Film 4 In seinen Niedrigwiderstand-Zustand erwärmt worden 1st.
Die aus Fig. 9 ersichtliche Schaltung macht Gebrauch von der Vorrichtung gemäß Flg. 1 bis 3 In Verbindung mit einer In zwei Richtungen
gesteuerten Slllkon-Glelchrlchteivorrlchtung 950, die Üblicherweise als
TRIAC bezeichnet wird. Der TRIAC 950 ist ein Wechselstromschalter
und In Reihe mit einer Wechselstromquelle 951 sowie einem Verbraucher 953 verbunden. Parallel zum TRIAC 950 liegen In Reihe geschaltet der Film 4 und ein Widerstand R955 von 1. ooo Q , und die
Trigger-Elektrode des TRIAC 950 1st an die Verbindungsstelle zwischen
Film 4 und Widerstand R955 angeschlossen. Der Hetzwiderstand 7 1st
an eine regelbare Steuerstromquelle 957 angeschlossen, die typischerweise bei Spannungen In der Größenordnung von 5 - 50 V arbeitet.
Demgegenüber kann die Spannung zwischen der Verbraucherschaltung und der Steuerschaltung durchaus 1. 5oo V ., betragen.
Bei dieser Vorrichtung wird die kleine Steuerspannung zur Steuerung
des Widerstandes des Films 4 verwendet und die danach der Trigger-Elektrode des TRIAC 950 angelegte Spannung steuert über den Verbraucher 953 den Strom. Im Verbraucher 953 fließt solange ein Strom,
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wie der Film 4 aufgrund der dem Heizwiderstand 7 angelegten Spannung
auf eine Temperatur oberhalb seiner kritischen Temperatur gehalten
wird.
Die Schaltung gemäß Fig. 9 verdeutlicht besonders gut die Vorteile
des erfindungsgemäßen Relais. Der Steuerspannungskreis Ist elektrisch
Isoliert von der gesteuerten Schaltung, weswegen es möglich Ist, zur
Steuerung hoher Spannungen und Ströme eine einfache, billig© und
sichere Steuerschaltung zu verwenden.
Die Schaltung gemäß Fig. 9 verwendet ein Relais, das in seiner Größs
mit einem üblichen Transistor vergleichbar Ist, wobei e@ tatsächlich
vom gleichen T05-header Gebrauch macht» Im Gegensatz zu ©Inem
Transistor Ist jedoch hier für eine elektrisch© Isolation zwischen
der Steuerschaltung und der gesteuerten Schaltung gesorgt, die ledig~
lieh durch die Dicke und das Material des Plättchens 1 begrenzt ist.
Wie schon erwähnt, können statt der verwendeten Materialien andere
Materialien zur Anwendung gelangen und es kann auch die Ausbildung
der einzelnen Teile Änderungen erfahren, wobei Immer noch wenigstens einige der durch die Erfindung erzielten Vorteile beibehalten
werden.
Die gezeigten Schaltungen sind Grundschaltungen, Es 1st jedoch selbstverständlich,
daß in diesen Schaltungen In bekannter Weise ein Temperaturausgleich
für Umgebungstemperatur änderungen vorgesehen werden kann.
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Claims (16)
- Patentansprüche\.J Elektrisches Relais, gekennzeichnet durch ein plattenähnllches Substrat (1) aus elektrisch Isolierendem Matertal, durch im Abstand voneinander angeordnete elektrische Kontakte (3) auf einer Seite dee Substrates, durch eine Schicht (4) aus ausgewähltem Material, das die voneinander entfernten Kontakte Überbrückt, und durch eine auf dem Substrat vorgesehene elektrische Vorrichtung (7), die Joule'sehe Wärme entwickelt, wobei das ausgewählte Material den folgenden Kriterien derart genügt, daß esa) Elemente enthält, dessen Atome bei chemischer Kombination mit anderen Elementen eine unvollständig gefüllte d-Scbale oder eine unvollständig gefüllte f-Schale aufweisen,b) eine Substanz enthält, die β- und p-Elektronen von den Leitungsbändern der Atome entfernt, undc) bei einer bestimmten kritischen Temperatur einen scharfen, deutlichen Wechsel der Leitfähigkeit zwischen einem isolierenden Zustand und einem leitenden Zustand zeigt.
- 2. Relais nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die elektrische Vorrichtung ein dünner Ohmscher Widerstandsfllm(7) aus Metall ist.
- 3. Relais nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat durch ein Saphlrplättchen (1) gebildet Ist und daß die voneinander entfernten elektrischen Kontakte (3) aus Nichrom bestehen.5777 3098UA092
- 4. Relais nach einem oder mehraren der Ansprüche 1 bis S, dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat (1) auf einer Keramikplatte (9) von sehr viel größerer Abmessung angeordnet und die gesamte Einheit eingekapselt Ist.
- 5. Relais nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat (1) zusammen mit der Schicht aus ausgewähltem Material (4) auf der Keramikplatte (9) smgeovdmt Ist, wobei dl© Materlalschlcht Im Abstand zur Keramikplatte dieser zugekehrt ist.
- 6. Relais nach einem oder mehreren der Ansprttche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, da® das Substrat (1) In einem T05-Gehäuse (11) eingekapselt Ist.
- 7. Relais nach einem oder mehreren der Ansprttche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß das ausgewählte Material (4) Vanadlumdloxld Ist.
- 8. Relais nach einem oder mehreren der Ansprttche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß das ausgewählte Material (4} Vanadlumtrloxld Ist.
- 9. Relais nach einem oder mehreren der Ansprttche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß das ausgewählte Material (4) Sllbersulfld Ist.
- 10. Relais nach einem oder mehreren der Ansprttche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß das ausgewählte Material (4) Titanoxid Ist.5777 3098 U/0929
- 11. Relais nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß das ausgewählte Matertal (4) durch Zugabe eines Materials dotiert Ist, das In entgegengesetzter Richtung bei einer zweiten bestimmten kritischen Temperatur, die höher liegt als die kritische Temperatur gemäß Kriterium c, einen zweiten plötzlichen Wechsel der Leitfähigkeit bewirkt.
- 12. Elektrische Schaltung mit einem elektrischen Relais gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß sie zur Steuerung der Schaltung einer zweiten elektrischen Vorrichtung (Ql bis Q4, 950) ausgebildet Ist.
- 13. Schaltung nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß das Relais und die zweite elektrische Vorrichtung (Ql bis Q4, 950) In einem einzigen Gehäuse eingekapselt sind.
- 14. Schaltung nach Anspruch 12 oder 13, dadurch gekennzeichnet, daß die zweite elektrische Vorrichtung ein Transistor (Ql bis Q4) Ist.
- 15. Schaltung nach Anspruch 12 oder 13, dadurch gekennzeichnet, daß die zweite elektrische Vorrichtung ein TRIAC (950) ist
- 16. Schaltung nach Anspruch 12 oder 13, dadurch gekennzeichnet, daß die die Joul'sche Wärme entwickelnde elektrische Vorrichtung (7) vom Schaltkreis der zweiten elektrischen Vorrichtung (Ql bis Q4) elektrisch isoliert Ist.5777 309814/0929Leerseite
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