DE222426C - - Google Patents
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Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F02—COMBUSTION ENGINES; HOT-GAS OR COMBUSTION-PRODUCT ENGINE PLANTS
- F02C—GAS-TURBINE PLANTS; AIR INTAKES FOR JET-PROPULSION PLANTS; CONTROLLING FUEL SUPPLY IN AIR-BREATHING JET-PROPULSION PLANTS
- F02C9/00—Controlling gas-turbine plants; Controlling fuel supply in air- breathing jet-propulsion plants
- F02C9/26—Control of fuel supply
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Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE222426C true DE222426C (ko) |
Family
ID=483323
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DENDAT222426D Active DE222426C (ko) |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE222426C (ko) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6486949B2 (en) | 2000-12-11 | 2002-11-26 | Corning Incorporated | Method and apparatus for evaluating the quality of an optical crystal |
| US6630117B2 (en) | 1999-06-04 | 2003-10-07 | Corning Incorporated | Making a dispersion managing crystal |
| US6669920B2 (en) | 2001-11-20 | 2003-12-30 | Corning Incorporated | Below 160NM optical lithography crystal materials and methods of making |
| US6683729B1 (en) | 1998-11-30 | 2004-01-27 | Carl Zeiss | Objective with crystal lenses and projection exposure equipment for microlithography |
| US6765717B2 (en) | 2001-05-16 | 2004-07-20 | Corning Incorporated | Preferred crystal orientation optical elements from cubic materials |
-
0
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Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6683729B1 (en) | 1998-11-30 | 2004-01-27 | Carl Zeiss | Objective with crystal lenses and projection exposure equipment for microlithography |
| US6630117B2 (en) | 1999-06-04 | 2003-10-07 | Corning Incorporated | Making a dispersion managing crystal |
| US6486949B2 (en) | 2000-12-11 | 2002-11-26 | Corning Incorporated | Method and apparatus for evaluating the quality of an optical crystal |
| US6765717B2 (en) | 2001-05-16 | 2004-07-20 | Corning Incorporated | Preferred crystal orientation optical elements from cubic materials |
| US6669920B2 (en) | 2001-11-20 | 2003-12-30 | Corning Incorporated | Below 160NM optical lithography crystal materials and methods of making |
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