DE2221673C3 - Verfahren zum Herstellen eines Halbleiterbauelementes - Google Patents
Verfahren zum Herstellen eines HalbleiterbauelementesInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Herstellen eines Halbleiterbauelementes
mit einem ein Halbleiterelement einschließenden scheibenförmigen Gehäuse, bestehend aus zwei Deckelplatten, aus zwei zwei Stirnflächen aufweisenden
Isolierstoffringen und zwei über den Rand der Isolierstoffringe hinausragenden ringförmigen Metallscheiben,
durch Verbinden der einen Stirnfläche jedes Isolierstoffringes mit jeweils einer der Deckelplatten
und Verbinden der anderen Stirnfläche mit jeweils einer der Metallscheiben, durch Einlegen des Halbletterelementes
in einen durch einen der Isolierstoffringe und einer der Deckelplatten gebildeten Hohlraum und durch
mechanisches Verbinden der Metallscheiben am äußeren Rand.
Ein solches Verfahren ist z. B. bereits in der DT-OS 14 392 beschrieben worden. Bei diesem Verfahren
werden die Deckelplatten mit einer Stirnseite der aus Keramik bestehenden Isolierstoffringe verlötet. Mit der
anderen Stirnseite der Isolierstoffringe werden die ringförmigen Metallscheiben verlötet. Diese Teile
bilden ein erstes Gehäuseteil. Nach dem Verlöten wird ein Halbleiterelement in einen durch einen der
Isolierstoffringe und einer Deckelplatte gebildeten Hohlraum eingelegt. Anschließend wird ein zweites, aus
dem anderen Isolierstoffring und einer Deckelplatte bestehendes Gehäuseteil auf das erste Gehäuseteil
aufgelegt. Beide Gehäuseteile werden durch Schweißen, Löten oder z. B. Umbördeln der ringförmigen Metallscheiben
miteinander verbunden.
Mit einem solchen Verfahren läßt sich erreichen, daß die beim Verlöten der Isolierstoffringe und der
Deckelplatten entstehenden Gase oder Dämpfe keinen schädlichen Einfluß auf das Halbleiterelement haben
können. Das Verlöten der aus Keramik bestehenden Isolierstoffringe mit den Deckelplatten setzt jedoch eine
relativ hohe mechanische Festigkeit der Isolierstoffringe voraus und erfordert ein Metallisieren der zu
verlötenden Stirnflächen der Isolierstoffringe. Ein solches Verfahren ist jedoch relativ umständlich.
Die der Erfindung zugrunde liegende Aufgabe besteht darin, ein Verfahren zum Herstellen eines
Halbleiterbauelementes gemäß der eingangs erwähnten Gattung anzugeben, bei dem der Herstellungsaufwand
vermindert ist, wobei auch ein Eindringen schädlicher Gase der oben beschriebenen Art vermieden wird.
Die Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, daß mindestens zwischen eine der einen Stirnflächen der
Isolierstoffringe und die entsprechende Deckelplatte eine ringförmige Folie eingelegt wird, die einen bei
Zimmertemperatur festen, aushärtbaren Kleber enthält, und daß jeweils der Isolierstoffring, die Folie und die
entsprechende Deckelplatte bei einer Temperatur, bei der der Kleber flüssig wird, aneinandergepreßt werden.
Gemäß einer Weiterbildung der Erfindung kann auch zwischen die andere Stirnfläche der Isolierstoffringe
und die entsprechende ringförmige Metallscheibe eine Folie eingelegt werden. Die Folie kann aus einem mit
einem Epoxydharzkleber getränkten Glasfasergewebe bestehen. Vorteilhafterweise wird die Folie zur Aushärtung
des Klebers auf eine Temperatur von 200° C erhitzt. Die zu verklebenden Flächen der Isolierstoffringe,
der Deckelplatten und der Metallscheiben werden vorteilhafterweise aufgerauht.
Die Erfindung wird anhand eines Ausführungsbeispiels in Verbindung mit den Fig. 1 und 2 näher
erläutert. Es zeigt:
Fig. 1 die Einzelteile einer Gehäusehälfte eines scheibenförmigen Halbleiterbauelementes vor dem
Zusammensetzen und
Fig.2 ein fertiges scheibenförmiges Halbleiterbauelement.
In F i g. 1 ist ein Isolierstoffring mit 1 bezeichnet.
Dieser Isolierstoffring besteht z. B. aus Keramik oder einem sonstigen harten Isolierstoff. Der Isolierstoffring
1 weist eine obere Stirnfläche 4 und eine untere Stirnfläche 5 auf. Auf die obere Stirnfläche 4 wird eine
Folie 6 aufgelegt, die z. B. aus einem mit einem Epoxydkleber getränkten Glasfasergewebe besteht. Die
Folie 6 kann auch aus einem anderen Material bestehen, zur einfachen Handhabung der Folie sollte sie jedoch
einen Kleber aufweisen, der bei Zimmertemperatur fest ist. Auf diese Folie 6 wird eine napfförmige Deckelplatte
2 aufgesetzt. Diese Deckeiplatte besteht l. B. aus
versilbertem Kupfer.
Die Deckelplatte 2 wird an die Stirnfläche 4 des Isolierstoffringes 1 angepreßt, wobei die Teile auf eine
Temperatur von z. B. 200° C erhitzt werden. Bei dieser
Temperatur schmilzt der in der Folie 6 enthaltene Kleber und benetzt sowohl die Stirnfläche 4 als auch den
über der Stirnfläche 4 liegenden Teil der Deckelplatte 2.
Die Deckelplatte 2 und der Isolierstoffring 1 werden vorzugsweise bis zur Aushärtung des Klebers aufeinandergepreßt.
Das Aushärten erfolgt zweckmäßigerweise bei der gleichen Temperatur, also z. B. 200° C. Zur
besicren Haftung werden die zu verklebenden Flächen z. B. durch Schleifen oder Sandstrahlen aufgerauht.
Gleichzeitig oder anschließend wird mit der unteren Stirnseite 5 des Isolierstoffringes 1 eine ringförmige
Metallscheibe 3 verbunden. Zu diesem Zweck wird zwischen die untere Stirnseite 5 des Isolierstoffringes I
und die ringförmige Metallscheibe 3 eine Folie 7 gelegt, deren Zusammensetzung der der Folie 6 entspricht. Die
ringförmige Metallscheibe 3 besteht zweckmäßigerweise aus einem Metall, dessen Ausdehnungskoeffizient
dem des Isolierstoffringes 1 wenigstens etwa entspricht. Sie kann z. B. aus einer Eisen-Nickel-Kobalt-Legierung
bestehen. Die genannten Teile bilden eine erste Gehäusehälfte. Auch hier werden die zu verklebenden
Flächen zweckmäßigerweise aufgerauht.
In Fig. 2 ist ein vollständiges scheibenförmiges Halbleiterbauelement gezeigt, das aus zwei nach dem in
Verbindung mit F i g. 1 beschriebenen Verfahren zusammengesetzten Gehäusehälften besteht. Gleiche Teile
sind hier mit gleichen Bezugszeichen wie in Fig. 1 versehen. Das Halbleiterbauelement nach Fig. 2 weist
eine zweite Gehäusehälfte auf, deren Abmessungen denen der ersten Gehäusehälfte identisch sein können.
Sie weist einen Isolierstoffring 8 eine Deckelplatte 9 und eine ringförmige Metallscheibe 10 auf. In einen durch
den Isolierstoffring 8 und Deckelplatte 9 gebildeten
Hohlraum iJ wird ein Halbleiterelement eingelegt, das
aus einem z. B. aus Silicium bestehenden Halbleiterkörper 12, einer z. B. aus Gold bestehenden Elektrode 13
und einer z. B. aus Molybdän bestehenden Elektrode 14 besteht. Auf die Elektroden 13 wird eine aus Strom und
Wärme gut leitendem Material, z. B. Kupfer, bestehende Anschlußelektrode 18 aufgelegt. Nach Einlegen der
Kontaktelektrode 18 wird die obere Gehäusehälfte aufgelegt. Anschließend werden die ringförmigen
Metallscheiben 3 und 10 am äußeren Rand z. B. mittels zweier ringförmiger Schweißelektroden 15 und 16
miteinander verschweißt. Dazu kann mindestens eine der ringförmigen Metallscheiben am Rand eine
ringförmige Einprägung aufweisen, die als Schweißwulst dient.
Dieses Verfahren hat gegenüber dem bisher bekannten Verfahren den Vorteil, daß es wesentlich aufwendig
ist. Gleichzeitig wird vermieden, daß beim Aushärten des Klebers auftretende Dämpfe oder Gase vom
Halbleiterkörper ferngehalten werden. Eine Beeinflussung des Halbleiterkörpers, die z. B. zu einer Verschlechterung
der Sperrkennlinien führen kann, wird damit vermieden.
Die beiden Gehäusehälften müssen nicht unbedingt verschweißt werden, sie können z. B. auch durch
Umbördeln des äußeren Randes der ringförmigen Metallscheiben 3 und 10 miteinander verbunden
werden. Die Deckelplatten müssen nicht unbedingt napfförmig ausgebildet sein, sie können z. B. auch ein
z. B. aus Kupfer bestehendes massives Mittelstück aufweisen, das mit dem mit den Isolierstoffscheiben
verklebten Rand der Deckelplatten bündig abschließt oder über diesen Rand hinausragt. Die Erfindung läßt
sich auch bei Thyristoren mit scheibenförmigem Gehäuse verwenden. Ein Ende der Steuerelektrodenzuführung
kann zwischen die ringförmigen Metallscheiben gelegt und wird beim Verbinden dieser Scheiben
gleichzeitig mit diesen kontaktiert. Die Scheiben bilden dann den Steueranschluß.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (5)
1. Verfahren zum Herstellen eines H eiterbauelementes
mit einem ein Halbleiterelement einschließenden scheibenförmigen Gehäuse, bestehend
aus zwei Deckelplatten, aus zwei zwei Stirnflächen aufweisenden Isolierstoffringen und zwei über den
Rand der Isolierstoffringe hinausragenden ringförmigen
Metallscheiben, durch Verbinden der einen Stirnfläche jedes Isolierstoffringes mit jeweils einer
der Deckelplatten und Verbinden der anderen Stirnfläche mit jeweils einer der Metallscheiben,
durch Einlegen des Halbleiterelcmentes in einen
durch einen der Isolierstoffringe und einer der '5 Deckelplatten gebildeten Hohlraum und durch
mechanisches Verbinden der Metallscheiben am äußeren Rand, dadurch gekennzeichnet,
daß mindestens zwischen eine der einen Stirnflächen
(4) der Isolierstoffringe (1, 8) und die entsprechende *o
Deckelplatte (2, 9) eine ringförmige Folie (6) eingelegt wird, die einen bei Zimmertemperatur
festen, aushärtbaren Kleber enthält, und daß jeweils der Isolierstoffring (1, 8), die Folie (6) und die
entsprechende Deckelplatte (2, 9) bei einer Temperatur, bei der der Kleber flüssig wird, aneinandergepreßt
werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß auch zwischen die andere Stirnfläche
(5) der Isolierstoffringe (1,8) und die entsprechende ringförmige Metallscheibe (3, 10) eine Folie (7)
eingelegt wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß eine Folie (6, 7) eingelegt wird,
die aus einem mit einem Epoxydharzkleber getränkten Glasfasergewebe besteht.
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Folie (6, 7) zur Aushärtung des
Klebers auf eine Temperatur von 200° C erhitzt wird.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die zu verklebenden
Flächen der Isolierstoffringe (1, 8), der Deckelplatten (2, 9) und der Metallscheiben (3, 10) aufgerauht
werden.
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