DE2208699A1 - Naphthochinondiazidverbindung und lichtempfindliche, diese Verbindungen enthaltende Reproduktionsmaterialien - Google Patents

Naphthochinondiazidverbindung und lichtempfindliche, diese Verbindungen enthaltende Reproduktionsmaterialien

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DE2208699A1
DE2208699A1 DE19722208699 DE2208699A DE2208699A1 DE 2208699 A1 DE2208699 A1 DE 2208699A1 DE 19722208699 DE19722208699 DE 19722208699 DE 2208699 A DE2208699 A DE 2208699A DE 2208699 A1 DE2208699 A1 DE 2208699A1
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DE
Germany
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light
naphthoquinone
sulfonic acid
ester
compounds
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Application number
DE19722208699
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Gerardus Johannes Wilhelmus Velden Ponjee (Niederlande)
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Canon Production Printing Holding BV
Original Assignee
Oce Van der Grinten NV
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/022Quinonediazides

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  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2616992A1 (de) * 1976-04-17 1977-11-03 Agfa Gevaert Ag Lichtempfindliches material zur herstellung von druckformen und aetzresistagen

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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DE2616992A1 (de) * 1976-04-17 1977-11-03 Agfa Gevaert Ag Lichtempfindliches material zur herstellung von druckformen und aetzresistagen

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ES399239A1 (es) 1974-12-16
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IT951096B (it) 1973-06-30
FR2127814A5 (enrdf_load_stackoverflow) 1972-10-13
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BE779865A (nl) 1972-08-25

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