DE2142644A1 - Gas Flussigkeits Kontaktbehandlungs Vorrichtung - Google Patents
Gas Flussigkeits Kontaktbehandlungs VorrichtungInfo
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D3/00—Distillation or related exchange processes in which liquids are contacted with gaseous media, e.g. stripping
- B01D3/14—Fractional distillation or use of a fractionation or rectification column
- B01D3/16—Fractionating columns in which vapour bubbles through liquid
- B01D3/18—Fractionating columns in which vapour bubbles through liquid with horizontal bubble plates
- B01D3/20—Bubble caps; Risers for vapour; Discharge pipes for liquid
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/32—Packing elements in the form of grids or built-up elements for forming a unit or module inside the apparatus for mass or heat transfer
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Description
Dr. F. Zumstein sen. - Dr. E. Assmann Dr. R. Koenlgsberger - Dlpl.-Phys. R. Holzbauer - Dr. F. Zumstein Jun.
PATENTANWÄLTE
TELEX 529979
BANKKONTO:
BANKHAUS H. AUFHÄUSER
8 MÜNCHEN 2,
5/Li T046-25
Mitsui Shipbuilding and Engineering Co.Ltd.,Tokyo
Gas-Flüss igke it s-Kontakfbehandlungs-Vorrichtung.
Die Erfindung betrifft eine Gas-Plüssigkeits-Kontaktbehandlungs-Yorrichtung
für Warme- oder Massenaustausch, wie
eine Destillationsvorrichtung oder eine Absorptionsvorrichtung für die chemische Industrie.
Es ist ein Ziel der Erfindung, eine Gas-Flüssigkeits-Kontaktbehandlungs-Yorrichtung
zu schaffen, die bei einfachem Aufbau eine hohe Kontaktbehandlungswirksamkeit bietet.
Zur Lösung dieser Aufgabe ist die erfindungsgemäße Gas-J^lüssigkeits-Zontaktbehandlungs-Vorrichtung
mit einer Anzahl von Gas-Flüssigkeits-Kontaktbehandlungs-Anordnungen versehen,
die Gasströmungsöffnungen umgeben, die in dem Boden vorgesehen sind, wobei jede Gas-Plüssigkeits-Kontaktbehandlungs-
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Anordnung eine im horizontalen Schnitt nicht kreisförmige Form aufweist.
Im folgenden werden "beispielsweise,bevorzugte Ausführungsformen
der Erfindung anhand der "beigefügten Zeichnung näher erläutert.
Pig. 1 zeigt einen senkrechten Schnitt einer Ausführungs-'form
der Erfindung;
Pig. 2 ist ein Schnitt entlang der Linie 2-2 in Pig. 1;
Pig. 3 ist eine perspektivische Ansicht einer Gas-Flüssigkeits-Kontaktbehandlungs-Anordnung
der genannten Ausführungsform;
Pig. 4 ist ein senkrechter Schnitt durch eine andere Ausführungsform
der Erfindung;
Pig. 5 ist ein Schnitt entlang der Linie 5-5 in Fig. 4;
Pig. 6 ist eine perspektivische Ansicht der Gas-Flüssigkeits-Kontaktbehandlungs-Anordnung
der Pig. 4;
Pig. 7 ist ein Schnitt durch eine weitere Ausführungsform
der Erfindung.
In den Piguren, insbesondere in den Pig. 1 bis 3, sind Böden
12 gezeigt, die je eine Anzahl von Gas ströinungs öffnung en 11
mit halbkreisförmiger Form aufweisen und die in einer Säule 10 in geeignetem Abstand angeordnet sind. Jeder Boden 10 ist
mit Gas-Flüssigkeits-Kontaktbehandlungs-Anordnungen 13 versehen,
die jede der Gasströmungsöffnungen 11 umgeben. Jede Gas-Flüssigkeits-Kontaktbehandlungs-Anordnung
hat im Horizontalschnitt eine halbkreisförmige Form und v/eist eine Wehrplatte 14, die die Öffnung 11 uugibt η,-Λ eine Anzahl von Öffnungen
enthält, eine Platte 15, eine bogenförmige, perforierte Platte 16 und einen Deckel 17 auf. Diese Gas-Plüssigkeits-Kontaktbehandlungs-Anordnungen
sind so angeordnet, daß ein ebener Plattenbereich jeder Wehrplatte 14 gegen einen Flüssigkeitsstrom
auf dem Boden gerichtet ist und einen rechten Winkel mit der
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Fluseiglteitsstromungsrictrtiing (Pfeil a) "bildet. Jeder Boden
12 ist ebenfalls mit einer halbkreisförmigen Öffnung 18 auf einer stromabwärtigen Seite versehen. Eine Wehr- und Führungsplatte
19 bildet hier eine Abführleitung 20. Die Platte ragt nach oben über den Boden hinaus und hält so die Flüssigkeit
in einer vorbestimmten Höhe. Das untere Ende der Platte 9 liegt in der Nahe des darunterliegenden Bodens. Jede Abführleitung
ist in alternativ diametral gegenüberliegender Stellung auf jedem Boden angeordnet.
Die Flüssigkeit auf dein Boden 12 strömt über das durch die
Platte 19 gebildete Wehr und fließt entlang deren Innenseite nach unten. Die Flüssigkeit wird auf dem Boden in einer Höhe
gehalten, die durch die Höhe der Wehrplatte 19 "bestimmt ist.
Sie strömt durch die Öffnungen der Wehrplatte 14 auf die Innenseite jeder KontaktbehandlungS'-Airjrdnung der ersten Reihe
und fließt in Richtung der Öffnung 11 des Bodens aufgrund der Schwerkraft der Flüssigkeit auf dem Boden. Die Flüssigkeit,
die über die Kante der Öffnung 11 geflossen ist, wird durch Gas, das durch die Öffnung aufsteigt, nach oben geblasen, ohne
durch die Öffnung nach unten zu fallen.
Auf diese Weise bilden Flüssigkeit und Gas einen Gas-Flüssigkeits-Mischstrom.
D er Gas-Flüssigkeits-Mischstrom steigt auf
und wird durch den Deckel 17 umgelenkt. Dadurch wird der Gas-Flüssigkeits-Mischstrom
von der Anordnung durch die perforierte Platte 16 auf der stromabwärtigen Seite gelenkt. Das Gas wird
von der Flüssigkeit getrennt, wenn der Strom durch die Öffnungen der perforierten Platte verläuft, und steigt zu den Öffnungen
11 des oberen Bodens auf. Die aus dem Strain abgeschiedene
Flüssigkeit fällt in die Flüssigkeit, die auf dem Boden steht, strömt stromabwärts, wie durch den Pfeil a gezeigt ist, und
tritt in die Kontaktbehandlungs-Anordnungen der nächststromabwärtigen
Reihe ein. So wird der Gas-Flüssigkeits-Kontakt wiederholt in jeder Kontaktbehandlungs-Anordnung durchgeführt.
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Schließlich fließt die Eitlesigke.it auf dem Boden durch die
Abftihrleitung 20 herab auf den nächsten Boden.
Erfindungsgemäß ist es möglich, mehr Gas-Flüssigkeits-Kontaktbehandlungs-Anordnungen
auf dem Boden vorzusehen, als es boi zylindrischen Anordnungen der Pail wäre, da die Anordnungen
im horzontalen Schnitt eine halkreisförmige Form aufweisen.
Dadurch wird die Wirksamkeit der Gas-Flüssigkeits~Koiitaktbehandlung
je Boden erhöht. Weiterhin ist die Strömungsrichtung des Gas-Plüssigkeits~Misehstromes dieselbe wie die der
Flüssigkeit auf dem Boden, so daß eine gleichmäßige Arbeitsweise sichergestellt ist.
Die Gas-Flüssigkeits-Kontaktbehandlungs-Vorrichtung der Fi/r.
bis 6 ist mit einer Anzahl von rechtwinkligen Gasetrömungsöffnungen
11 auf jedem Boden versehen. Die rechtwinkligen Öffnungen 11 sind parallel und entlang der durch den Pfeil a
gekennzeichneten Strömungsrichtung der Flüssigkeit angeordnet.
Die Gas-Flüssigkeits-Kontaktbehandlungs-Anordnung 13 ist'
quaderförmig und weist eine Wehrplatte 14» die die Öffnung umgibt, und eine Anzahl von Öffnungen 22 besitzt, eine perforierte
Platte 16, einen Deckel 17 und !rennplatten 21, die in der Anordnung vorgesehen sind, auf. Die übrigen Teile dieser
Anordnung stimmen mit der vorhergehenden Ausführungsform überein,·
und gleiche Bezugsziffern sind für gleiche Teile verwendet worden.
Die Gas-Flüssigkeits-Berührung wird nacheinander in jedem Raum durchgeführt, der durch die Trennplatten 21 abgeheilt ist.
Genauer gesagt, der Gas-Flüssigkeits-Mischstrom kann nicht von
einem Raum in den nächststromabwärts gelegenen Raum fließen,
da dies durch die Trennplatte verhindert wird. Daher fließt der Gas-Flüssigkeits-Mischstrom durch die perforierte Platte
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16, und die abgetrennte Flüssigkeit fällt auf den Boden herab. Sodann fließt die Flüssigkeit auf dem Boden stromabwärts, tritt
in den nächsten Raum der Gas-Flüssigkeits-Kontaktbehandlungs-Anordnung
durch die Öffnungen 22 ein, Dadurch kommt die Flüssigkeit erneut mit dem Gas in Berührung.
Die Gas-Flüssigkeits-Kontaktbehandlungs-Anordnung der Fig.
ist im rechten Winkel zu dem Flüssigkeitsstrom angeordnet. Diese Anordnung ist nicht mit einer Trennplatte, wie der Platte
21 der zuvor beschriebenen Ausführungsform, versehen.
Bei dieser Konstruktion muß die Flüssigkeit auf dem.Boden
zwangsläufig in die Gas-Flüssigkeits-Kontaktbehandlungs-Anordnung
eintreten, so daß eine wirksame Berührung erzielt wird.
Es versteht sich, daß es möglich ist, die Gasstromungsöffnungen
11 auf dem Boden mit größerer Gesamtfläche auszubilden, als es bei runden Öffnungen der Fall ist, so daß es ermöglicht
wird, die Torrichtung klein auszubilden.
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Claims (4)
1. Gas-Flüssigkeits-Kontaktbehandlungs-Vorrichtung mit
Böden, die in einer Säule in senkrechtem Abstand angeordnet sind, dadurch gekennzeichnet,
daß jeder Boden mit einem Wehr versehen ist, das eine Flüssigkeitstiefe auf dem Boden aufrecht erhält, wobei
eine Abführleitung vorgesehen ist, die mit dem Wehr in Verbindung steht, daß Öffnungen vorgesehen sind, die
mit dem unterhalb des Bodens liegenden Räume in Verbindung stehen, und daß Kontaktbehandlungs-Anordnungen diese Öffnungen
umgeben, die je einen Deckel, der ein Aufsteigen von Gas und Flüssigkeit verhindert, und eine perforierte
Platte aufweisen, wobei die Kontaktbehandlungs-Anordnung im horizontalen Schnitt eine nicht kreisförmige Form auf- .
weist.
2. Gas-Flüssigkeits-Kontaktbehandlungs-Vorriehtung nach
Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Kontaktbehandlungs-Anordnung im horizontalen Schnitt eine Halbkreisform
bildet.
3. Gas-Flüssigkeits-Kontaktbehandlungs-Vorrichtung nach Anspruch
1, dadurch gekennzeichnet, daß die Kontaktbehandlungs-Anordnung im horizontalen Schnitt eine Rechteckform
besitzt.
4. Gas-Flüssigkeits-Kontaktbehandlungs-Vorrichtung nach Anspruch
1, dadurch gekennzeichnet , daß die Kontaktbehandlungs-Anordnung eine halbkreisförmige, zylindrische Wehrplatte
mit einer Anzahl von Öffnungen, eine auf der Wehrplatte vorgesehene Platte, eine bogenförmige, perforierte
Platte und einen Deckel aufweist, wobei der ebene Bereich der Wehrplatte der Strömungsrichtung der Flüssigkeit auf
dem Boden gegenüberliegt.
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Leerseite
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8489770U JPS4929646Y1 (de) | 1970-08-26 | 1970-08-26 | |
| JP8489770 | 1970-08-26 | ||
| JP9187270 | 1970-09-16 | ||
| JP9187270U JPS4944908Y1 (de) | 1970-09-16 | 1970-09-16 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE2142644A1 true DE2142644A1 (de) | 1972-03-02 |
| DE2142644B2 DE2142644B2 (de) | 1976-07-01 |
| DE2142644C3 DE2142644C3 (de) | 1977-02-17 |
Family
ID=
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US3779528A (en) | 1973-12-18 |
| GB1361795A (en) | 1974-07-30 |
| DE2142644B2 (de) | 1976-07-01 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
| E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 | ||
| 8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |