DE2138582A1 - Photosensitives Material - Google Patents

Photosensitives Material

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DE2138582A1 DE19712138582 DE2138582A DE2138582A1 DE 2138582 A1 DE2138582 A1 DE 2138582A1 DE 19712138582 DE19712138582 DE 19712138582 DE 2138582 A DE2138582 A DE 2138582A DE 2138582 A1 DE2138582 A1 DE 2138582A1
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relief plate
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ethylene glycol
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DE19712138582
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Robert Lawrence Granger St Joseph Ind Vamvaketis Stephen Cranston RI Hess Maclean Roderick South Bend St Joseph Ind Lauchlan, (V St A )
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Uniroyal Inc
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Uniroyal Inc
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    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F279/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of monomers having two or more carbon-to-carbon double bonds as defined in group C08F36/00
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Description

DR. R. POSCHENRIEDER - O 1
DR. E. BOETTNER ^ \
DIPl. -IV·-, hUI. MÖLLER
I ■ Γ-t IllWaite
8Μ..,ν.ιιΠΝΒβ / Docket F-4566
Lueile-Grdhn-Strai;e38 -~ „ /τ,
ieluion 475155 Dr.Kn/Hg
Uniroyal, Inc., 1230 Avenue of the Americas New York, IST.Y. 10020 (V.St.A.)
Photosensitives Material
Die Erfindung "betrifft neue photosensitive Materialien für die Herstellung von Relief-Druckplatten, die durch ausgezeichnete Weichheit, Flexibilität, ausgezeichnetes Rückstellvermögen und hervorragende Verschleißfestigkeit gekennzeichnet sind. Die Erfindung betrifft insbesondere Relief-Druckplatten, hergestellt aus Zusammensetzungen, die aus
1. einem Hitrilkautschuk;
2. einem additions-photopolymerisierbaren, polyungesättigten Ester, der von Acrylsäure oder Methacrylsäure abgeleitet ist; und
3. einem durch aktinische Strahlung aktivierbaren Initiator für Additionspolymerisationen besteht.
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Die photopolymerisierbaren Zusammensetzungen der vorliegenden Erfindung enthalten wenigstens 40 Gew. io eines Hitrilkautschuks und wenigstens 5 Gew. io eines additions-photopolymerisierbaren polyungesättigten Acrylsäure- oder Methacrylsäureester und katalytisch^ Mengen eines Additionspolymerisations-Initiators, der durch, aktinisches Licht aktivierbar ist· Die Relief-
k platte der vorliegenden Erfindung, die eine
0,05 - 5,08 mm (2 - 200 mil) dicke Schicht aus der oben bezeichneten photopolymerisierbaren Zusammensetzung besitzt, die auf einer flexiblen Unterlage - in Zukunft als Substrat bezeichnet haftet, wird durch ein, ein Motiv tragendes durchscheinendes Leuchtbild, das aus im wesentlichen klaren und lichtundurchlässigen Gebieten besteht und in enger Berührung mit der photopolymerisierbaren Schicht gehalten wird, mit aktinischer Strahlung belichtet. An den Stellen der Schicht, die den klaren Stellen des Leuchtbildes entsprechen, findet eine Additions-Photopolymeri-
k sation statt, während an den Stellen, die den
undurchsichtigen Stellen des Leuchtbildes entsprechen, praktische keine Polymerisation stattfindet. Entfernt man die nicht polymerisierten Teile ( in Zukunft als nicht belichtete Gebiete bezeichnet) durch Behandlung mit einem geeigneten Lösungsmittel, das die nicht polymerisierten Stellen auflöst, jedoch praktisch keine Wirkung auf die photopolymerisierten Stellen (in Zukunft als belichtete Stellen bezeichnet) ausübt, so erhält man eine Relief-Druckplatte.
- 3 109Ö87/133Q
Die Bezeichnung Nitrilkautschuk bezieht sich hier auf elastomere Mischpolymerisate, die wenigstens 50 Gew. io eines mischpolymerisierten, konjugierten Diens, das 4 - einschl. 10 Kohlenstoffatome besitzt, wie Kohlenwasserstoffdiene, z.B. Butadien, Hexadien, Heptadien, Oktadien und Konadien und die wenigstens 2 Gew. # eines raischpolymerisierten * "^^QQ-substituierten Acrylnitril wie Ghloracrylnitril und Methacrylnitril enthalten. Bevorzugt werden Mischpolymerisate, die 2-50 Gew. 0Jo mischpolymerisiertes Acrylnitril und vorzugsweise 20 - 40 Gew. $ mischpolymerisiertes Acrylnitril enthalten, insbesondere wenn der Kautschuk mischpolymerisiertes 1,3-Butadien ist. Acrylnitril/Butadien-Mischpolymerisate können nach der TJS Patentschrift 1 937 000 hergestellt werden.
Die oben beschriebenen Nitrilkautschuke sind für die Zwecke der vorliegenden Erfindung bestens geeignet, da derartige Polymerisate in den im Buchverlagswesen und in der Zeitungsindustrie verwendeten Druckfarben sehr quellbeständig sind. Diese Druckfarben gründen sich zum größten Teil auf aliphatische Naphtha-Lösungs· mittel, wie Hexan, Oktan, Mineralextrakte und dergl.
Ein weiterer Vorteil derartiger Nitrilkautschuke ist ihre leichte Löslichkeit in Lösungsmitteln, wie halogenieren Kohlenwasserstoffen, organischen Estern und Ketonen, wodurch eine rasche Entfernung der bei der HeB*tellung der Reliefplatte nicht photopolymeri*- aierten leile ermöglicht wird.
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Für die vorliegende Erfindung geeignete, polyungesättigte Ester sind solche, die sich von Acrylsäure oder Methacrylsäure ableiten. Als Beispiele seien genannt;
Äthylenglycο1-diacrylat und -dimethacrylat, Propylenglycol-diacrylat und -dimethacrylat, ^ 1,4 - Butandiol-diacrylat und -dimethacrylat,
1.5 - Pentandiol-diacrylat und -dimethacrylat,
1.6 - Hexandiol-diacrylat und -dimethacrylat, 1,10 - Decamethylenglycol-diacrylat und -dimethacrylat,
Diäthylenglycol-diacrylat und -dimethacrylat, Triäthylenglycol-diacrylat und -dimethacrylat, Tetraäthylenglycol-diacrylat und -dimethacrylat, Dipropylenglycol-diacrylat und -dimethacrylat, Tripropylenglycol-diacrylat und -dimethacrylat, Tetrapropylenglycol-diacrylat und -dimethacrylat, Octapropylenglycol-diacrylat und -dimethacrylat, Nonapropylenglycol-diacrylat und -dimethacrylat, Decapropylenglycol^diacrylat und -dimethacrylat, 2,2-Dimethylpropa»c:aiacrylat und -dimethacrylat, Glyceryltriacrylat und -trimethacrylat, Trimethylolpropan-triacrylat und -trimethacrylat, Pentaerythrit -tetra-acrylat und -tetramethacrylat, Neopentylglycol-diacrylat und -dimethacrylat, Äthylendiacrylat,
Glyderindiacrylat,
Glycerintriacrylat,
1,4 - Cyclohexandiol-diacrylat, 1,4 - Dihydroiybenzol-dimethacrylat.
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Derartige polyungesättigte Acryl- und Methacrylsäureester sind für die Zwecke der vorliegenden Erfindung "besonders gut geeignet, da sie mit großer Geschwindigkeit additions-photopolymerisiert werden können. Außerdem führt die Vielzahl ungesättigter Stellen zu einer relativ raschen Ausbildung eines Polymerisates mit vernetzter Struktur, das in dem Lösungsmittel, das zur Entfernung der nicht photopolymerisierten Teile bei der Herstellung der Relief-Druckplatte verwendet wird, praktisch unlöslich ist.
die vorliegende Erfindung geeignete Initiatoren oder Katalysatoren sind solche, die unter dem Einfluß von aktinischem Licht zur Initiierung von Additions--E>hotopolymerisationen befähigt sind. Die bevorzugten Katalysatoren oder Initiatoren sind in dem photopolymerisierbaren, polyungesättigten Ester im wesentlichen löslich und bewirken eine beschleunigte, rasche Polymerisation, wodurch die Zusammensetzung gehärtet wird. Zu geeigneten Photopolymerisationsinitiatoren oder -katalysatoren gehören Tiöinale Ketaldonylverbindungen, wie Diacetyl, Benzil- usw.; oc-Ketaldonylalkohole, wie Benzoin, Pivaloin usw.; Acyloinäther, wie Benzoinmethyl- oder -äthyläther; Kohlenwasserstoffsubstituierte aromatische Acyloine einschl. ©C -Methylbenzoin, oc -Alkylbenzoin und cC -Phenylbenzoin usw.; Diarylketone wie Benzophenon.
In den Zusammensetzungen der vorliegenden Erfindung macht der Hitrilkautschuk wenigstens 40 jiew. <fo der Gesamtzusammensetzung aus. Der polyungesättigte Acryl- oder Methacrylsäureester liegt in einer Menge von wenigstens 5 Gew. fo der Gesamtzusammensetzung vor,
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Der Additions-Polymerisationsinit&ator liegt in katalytischer! Mengen.* d.h.. in Mengen von 0,1 — 10 Gew.% der Gesamtzusammensetzung vor.
Gemäß einer "bevorzugten Ausführungsform enthalten die Zusammensetzungen der vorliegenden Erfindung
1. etwa 60 io bis etwa 85 Gew. $ eines Kitrilkautsohuks,
2. etwa 40 % bis etwa 15 Gew. io Äthylenglycol-di-
fc aorylat oder -methacrylat, Trimethylolpropan—tri—
acrylät oder -methacrylat, Pentaerythrit-tetra— acrylat oder -methacrylat, und
3. etwa 1,5 ^ bis etwa 4,0 Gew. io Benzophenon.
Die Methode der Termischens der photosensitiven Zusammensetzungen der vorliegenden Erfindung ist nicht entscheidend. Man fand, daß optimale Homogenität erreicht wird, wenn der Additions-lolymerisationsinitiator mit dem polyungesättigten Acryl- oder Methacrylsäureester - vor der Einarbeitung in den Nitrilkautseh.uk: - vereinigt wird. Die so erhaltenen polymerisierbaren Zusammensetzungen k können in Form einer flüssigen Lösung, einer flüssigen Dispersion oder als feste Mischung vorliegen. Die flüssige Lösung oder flüssige Dispersion kann direkt auf das Substrat gegossen werden oder zuerst auf eine geeignete Scheibe oder ein Band gegossen, abgestreift und dann auf der Oberfläche des gleichen Substrates befestigt werden. Die feste Mischung kann extrudiert oder direkt auf das Substrat kalandriert werden oder als selbsttragende 3?olie hergestellt und dann auf der Oberfläche des gleichen Substrates befestigt werden.
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Lösungen und Dispersionen der photopolymerisierbaren Zusammensetzungen können z.B. mit Lösungsmitteln wie chlorierten Kohlenwasserstoffen, z.B. Chloroform, Tetrachlorkohlenstoff, Triehloräthylen und Chlortoluol; Ketonen, z.B. Methyl-äthylketon, Diäthylketon und Methylisobutylketon; organischen Estern, z.B. ithylenacetate und Gemischen derartiger Lösungsmittel hergestellt werden.
Andererseits können feste Gemische hergestellt werden, indem man die Komponenten auf einer Mühle oder in einem Innenmischer, wie einem "Banbury-Mischer", durchmischt.
Das Substrat, das als Träger für die photosensitive Verbindung dient, kann irgendein natürliches oder synthetisches Produkt sein, das dimensionsstabil und flexibel ist und in PiIm- oder Folienform JiBrsteirbar ist. Als Substrat verwenden die Fachleute üblicherweise Metallfolien, wie Aluminium- oder Stahlfolien oder Kunststoffe, wie Polyester oder Bolyamid. In jedem Falle werden derartige Materialien nichtreflektierend gemacht, falls nötig durch Beschichten mit einer Lichthofschutzschicht. Geeignete Lichthofachutz-Überzttge können hergestellt werden, indem man in einer Lösung oder wässerigen Dispersion eines Harzes oder Polymerisates einen fein verteilten Farbstoff oder ein Pigment, (der) das praktisch das aktinische Lieht absorbiert, dispergiert. Die Lichthofschutzschicht kann auch so formuliert werden, daß sie als Bindemittel oder Haftschicht zwischen dem Substrat und der photo-
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sensitiven Zusammensetzung wirkt. Zu den Lichthofschutz-Pigmenten gehören Ruß, Mangandioxyd und Farbstoffe, wie Acid Blue Black (CI 20470) und Acid Magenta 0 (CI 4-2685). Eine angefärbte Metallplatte ist ebenfalls geeignet.
Zur Belichtung der photosensitiven Zusammensetzungen der vorliegenden Erfindung kann praktisch jede Lichtquelle hoher Intensität verwendet werden. Dazu gehören z.B. Lichtquellen wie Quecksilberdampflampen, Xenonlampen und Kohle-Lichtbogenlampen. Das Licht kann aus einer punktförmigen Quelle austreten oder in Form von Parallelstrahlung oder divergierender Strahlung auftreten. Vorzugsweise besitzt die Lichtquelle soviel Intensität, daß die Zusammensetzungen der vorligenden Erfindung innerhalb eines relativ kurzen Zeitraumes photopolymerisiert werden können.
Das das Motiv tragende Leuchtbild, durch welches die Druckplatte belichtet wird, ist ein Leuchtbild wie es üblicherweise in der Photographie, Photolithographie, in der graphischen Kunst usw., verwendet wird. Um das schärfste Detail zu erzielen, werden die sogenannten "schwarz-schwarz" Lichtbilder, wie Du Pont Typ Ortho-D, Kodak Estar oder ähnliche Typen, die speziell für graphische Verfahren hergestellt werden, bevorzugt. Die schärfsten Bilder werden auch erhalten, wenn das, das Bild tragende Lichtbild in engen Kontakt mit der photosensitiven Druckplatte gebracht wird.
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Um das, das Bild tragende Lichtbild nach der Photopolymerisation leicht von der Druckplatte entfernen zu können ist es wünschenswert, die Druckplatte mit einer "Trennschicht" oder einem gleitfähigen Überzug zu versehen. Zu geeigneten Überzügen gehören die üblichen Acryllatex-fileitüberzüge, Siliconfette usw.
Mach der Belichtung der Platten werden die nicht belichteten Flächenteile mit Hilfe einer geeigneten Lösungsmittelflüssigkeit entfernt, die eine gute Lösungsmittelwirkung auf den ETitrilkautsch.uk ausübt und während der, für die Entfernung der nicht polymerisieren Teile nötigen Zeit eine relativ geringe Wirkung auf das unlöslich gemachte, photopolymerisierte Bild oder auf das Substrat, den Lichtschutz-Überzug oder die Verankerungsschicht hat. Zu geeigneten organischen Lösungsmitteln gehören aliphatisch^ Ester, wie Äthylenacetat, aliphatische Ketone, wie Aceton, Methyl-äthylketon usw., halogenierte organische Lösungsmittel, wie Methylenchlorid, Freors-'usw. und Gemische derartiger Lösungsmittel. Das am besten geeignete spezifische Lösungsmittel wird weitgehend nach der genauen Zusammensetzung der photosensitiven Druckplatte bestimmt. In der Entwicklungsstufe, in der das Relief gebildet wird, kann das Lösungsmittel in irgendeiner geeigneten Weise, z.B. durch Eingießen, Eintauchen oder Sprühen, angewendet werden. Bürsten oder Rühren unterstützt die Entfernung der nicht polymerisieren Teile der Zusammensetzung.
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- ίο -
Die Relief-Platte der vorliegenden Erfindung besitzt eine 0,05 - 5,08 mm (2 - 200 mil) dicke Schicht der photopolymerisierbaren Zusammensetzung, die auf einer flexiblen Unterlage haftet. Schichten mit einer Dicke im Bereich von 0,076 - .1,524 mm (3 - 60 mil) werden für die Mehrzahl der Buchdruckereiplatten verwendet. Schichten dicker als 1,27 - 1,524 mm (50 - 60 mil) können zum Druck von Musternund zum Bedrucken von relativ großen Flächen in Buchdruekplatten verwendet werden. Ganz allgemein sollte die die Höhe des Reliefs bildende Lage der photopolymerisierbaren Schicht im wesentlichen kein Licht streuen. Wichtig ist, daß die fertige photosensitive Zusammensetzung eine ausreichende Durchsichtigkeit besitzt, damit soviel Licht hindurchtreten kann, daß die Additions-Photopolymerisation bewirkt wird.
Erfindungsgemäß wird eine einfache, leistungsfähige Relief-Druckplatte unter Verwendung billiger Materialien und bei minimalem Arbeitsaufwand geschaffen. Die erhaltenen Bilder sind scharf und zeigen genaue Übereinstimmung mit dem Original-Lichtbild, sowohl in Bezug auf kleine Details als auch in den Gesamtabmessungen. Ein bemerkenswerter Vorteil liegt in der Tatsache begründet, daß die Weichheit und Flexibilität der photopolymerisierten Druckplatten die Anwendung von Drucktechniken ermöglicht, welche als "Kussabdruck'^Drucktechnik bezeichnet wird ("kiss-impression^Drucktechnik ). Diese Drucktechnik wird insbesondere bei der Buchverlagsindustrie bevorzugt, da sie sowohl die Verwendung von groben, antiken Papieren als auch höhere Druck— geschwindigkeiten gestattet.
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Die folgenden Beispiele sollen die Erfindung näher erläutern, ohne sie jedoch einzuschränken,
Beispiel 1
Es wurde eine phot©empfindliche Zusammensetzung hergestellt, die aus der folgenden Mischung bestand:
a) 100 Teile Nitrilkautschuk
b) 20 Teile Trimethylolpropan-triacrylat
c) 2 Teile Benzophenon
Dieser besondere Uitrilkautschuk war ein Acrylnitril-butadien-Mischpolymerisat mit der Bezeichnung "Paracril BJ" von der Uniroyal, Inc. und enthielt ungefähr 27 Gew.# willkürlich verteiltes Acrylnitril. Die Relief-Platte wurde hergestellt, indem man die Zusammensetzung in Methylisobutylketon löste und dann die Lösung mit Hilfe einer Rakel zu einer Dicke von ungefähr 0,635 mm (25 mil) auf einer Polyesterunterlage ausbreitete. Die Unterlage war zuvor mit einer 0,05 mm (0,002 inch) dicken Lichthofschutzschicht bedeckt worden, die aus der photosensitiven Zusammensetzung mit dem Zusatz von 0,125 Teilen Ruß bestand.
Die photosensitive Schicht wurde dann mit einer Gleitschicht auf der Basis eines (trockenen) Acryllatex beschichtet. Dann brachte man ein 20,32 χ 25,4 cm (8x10 inch) Stück der erhaltenen Platte in eine Vakuumfassung und brachte die beschichtete Photo-
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polymerisac-Oberflache in Berührung mit einem Negativ zur Herstellung von Linien. Das Element wurde dann mit aktinischer Strahlung aus einer 1400 Watt Quecksilberdampflampe 4,00 Min. lang belichtet. Nach der Belichtung wurde das Negativ von dem Element abgestreift und das Element 4 Min. lang bei einem Druck von 2,8 kg/cm (40 psi) mit Methylenchlorid ^ besprüht, um das unbelichtete Polymerisat zu ™ entfernen. Man erhielt ein Reliefbild, welches den durchsichtigen Flächen des Negativs entsprach.
Die photopolymerisierte Relief-Platte war durch ausgezeichnete Weichheit, Rückstellvermögen und Schärfe des Bildes gekennzeichnet. Man brachte die Platte auf einen Druckereizylinder und erhielt ausgezeichnete Drucke des Originalbildes. Die Relief-Platte war auch äußerst abriebfest, dauerhaft und widerstandsfähig gegenüber den Druckfarben-Lösungsmitteln, insbesondere gegenüber Druckfarben auf der Basis von Naphtha.
Beispiel 2
Man stellte eine Relief-Platte wie in Beispiel 1 her, aus 100 Teilen des gleichen Nitrilkautschuks, 20 Teilen Pentaerythrit-tetra-acrylat und 2 Teilen Benzophenon. Die erhaltene Druckplatte besaß die gleichen Eigenschaften wie die in Beispiel 1 beschriebenen.
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Beispiel 3
Eine Relief-Platte wurde wie in Beispiel 1 aus 100 Teilen eines Nitrilkautschuks (Acrylnitril-butadien-Mischpolymerisat), der ungefähr 30 io Acrylnitril der Bezeichnung "Paracril OJLT" enthielt, 20 Teilen Trimethylolpropantriacrylat und 2 Teilen Benzophenon hergestellt. Hach der Belichtung legte man die Platte in eine Schale, die ein Azeotrop aus Aceton-lPreon-Lösungsmittel enthielt, und die nicht "belichteten Plächenteile wurden durch leichtes Bürsten entfernt. Die erhaltene Druckplatte besaß die gleichen Eigenschaften wie die in Beispiel 1 "beschriebenen.
Beispiel 4
Es wurde eine Relief-Platte wie in Beispiel 1 aus 100 Teilen des gleichen Uitrilkautschuks, 60 Teilen Trimethylolpropan-triacrylat und 6 Teilen Benzophenon hergestellt, mit der Ausnahme, daß die Platte 5 Min. lang mit einer OT-Lampe
("black light lamp") belichtet wurde. Die erhaltenen Reliefbilder besaßen die gleichen Eigenschaften wie die in Beispiel 1 beschriebenen«
- Patentansprüche - 14 -

Claims (1)

  1. - 14 Patentansprüche
    1. Photopolymerisierbare Zusammensetzung,
    gekennzeichnet durch.
    I. wenigstens 40 Gew.$ eines elastomeren
    Hitrilkautschuks;
    II. wenigstens 5 Gew.5& eines additions-
    photopolymerisierbaren polyungesättigten W Acryl- oder Methacrylsäureesterί und
    III. 0,1 bis 10 Gew.$ eines durch aktinisches
    Licht aktivierbaren Additionspolymerisations-Initiators.
    2. Zusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Nitrilkautseh.uk wenigstens 50 Gew.$ mischpolymerisiertes konjugiertes Dien mit 4 bis einschl. 10 Kohlenstoffatomen und wenigstens 2 Gew. $ eines misehpolymerisierten oü-substituierten Acrylnitrils enthält.
    ψ 3, Zusammensetzung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das konjugierte Dien das
    1,5—butadien ist.
    4. Zusammensetzung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß dasöC-substituierte Acrylnitril das Acrylnitril ist.
    % Zusammensetzung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Nitrilkautschuk ein
    aus Acrylnitril und Butadien;
    - 15 1 09 887/133Ol
    6. Zusammensetzung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß der Ester (II) ausgewählt wird aus Äthylenglycol-diacrylat, Äthylenglyc ol-dimethacrylat, Trimethylolpropantriacrylat, Trimethylolpropan-trimethacrylat, Pentaerythrit-tetra-aerylat, Pentaerythrittetramethacrylat·
    7. Zusammensetzung nach Anspruch. 5, dadurch gekennzeichnet, daß der Ester (II) Äthylenglycoldiacrylat ist.
    8. Zusammensetzung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß der Ester (II) Äthylenglycoldimethacrylat ist.
    9. Zusammensetzung nach Anspruch. 5, dadurch gekennzeichnet, daß der Ester (II) Trimethylolpropantriacrylat ist.
    10. Zusammensetzung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß der Ester (II) Trimethylolpropantrimethacrylat ist.
    11. Zusammensetzung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß der Ester (II) Pentaerythrittetra-acrylat ist.
    12. Zusammensetzung nach Anspruch 5» dadurch gekennzeichnet, daß der Ester (II) Pentaerythrittetra-methaerylat ist.
    : f>^ :i""11' ' - 16 -
    109887/1330
    13. Zusammensetzung nach. Anspruch. 6, dadurch gekennzeichnet, daß der Initiator (III) Benzophenon ist.
    14. Relief-Druckplatte mit einem Substrat aus dimensionsstabilem, flexiblem Material, das mit einer photopolymerisierbaren Zusammensetzung beschichtet ist, dadurch gekennzeichnet,
    fc daß die photopolymerisierbare Zusammensetzung
    I. wenigstens 40 Gew. io eines elastomeren Witril-
    kautschuks;
    II. wenigstens 5 Gew. $ eines additions-photopolymerisierbaren polyungesättigten Acryl- oder Methacrylsäureesters; und
    III. 0,1 - 10 Gew. $ eines durch aktinisches Licht
    aktivierbaren Additionspolymerisations-Initiators enthält.
    15. Relief-Platte nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat ein Polyesterfilm ist.
    " 16. Relief-Platte nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß die Beschichtung 0,05 - 5.08 mm (2 - 200 mil) dick ist.
    17* Relief-Platte nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, daß der Nitrilkautschuk wenigstens 50 Gew. io eines miachpolymerisierten, konjugierten Diens mit 4 - einschl. 10 Kohlenstoffatomen und wenigstens 2 Gew. io eines mischpolymerisierten oc -substituierten Acrylnitrils enthält.
    - 17 -109887/1330
    18. Relief-Platte nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, daß das konjugierte Dien das 1,3-Butadien ist.
    19. Relief-Platte nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, daß das c<>-substituierte Acrylnitril das Acrylnitril ist.
    20. Relief-Platte nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, daß der Nitrilkautsch.uk ein
    Mischpolymerisat aus Acrylnitril und Butadien ist.
    21. Relief-Platte nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, daß der Ester (II) ausgewählt wird unter Äthylenglycol-diacrylat, Äthylenglycol-dimethacrylat, Trimethylolpropan-triacrylat, Trimethylolpropan-tritnethacrylat,
    Pentaerythrit-tetra-acrylat, Pentaerythrittetra-methacrylat.
    22. Relief-Platte nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, daß der Ester (II) Äthylenglycoldiacrylat ist.
    23. Relief-Platte nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, daß der Ester (II) Ithylenglycoldimethacrylat ist.
    24. Relief-Platte nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, daß der Ester (II) Trimethylolpropantriacrylat ist.
    - 18 109887/1330
    25. Relief-Platte nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, daß der Ester (il) Trimethylolpropan-trimethacrylat ist.
    26. Relief-Platte nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, daß der Ester (II) Pentaerythrit- -tetra-acrylat ist.
    27. Relief-Platte nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, daß der Ester (II) Pentaerythrittetra-methacrylat ist,
    28. Relief-Platte nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet, daß der Initiator (III) Benzophenon ist.
    10988771330
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