DE2065976A1 - Photopolymerisierbare kopiermasse - Google Patents
Photopolymerisierbare kopiermasseInfo
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Description
20G5976
HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
. 3.
KALLE Niederlassung der Hoechst AG K 1970-1
5. Mai 1977 WLK-Dr.N.-ur
Photopolymerisierbare Kopiermasse
Die vorliegende Erfindung betrifft neue photopolymerisierbare Kopiermassen.
Photopolymerisierbare Massen, wie sie heute für die verschiedensten
Anwendungen, z. B. in der Reproduktionstechnik als Kopierschichten, Einsatz finden, enthalten
M photopolymerisierbare Verbindungen, z. B. Ester der ^
Acryl- oder Methacrylsäure, besonders die der Acrylsäure, mit mehrwertigen aliphatischen Alkoholen. Beispiele sind
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die folgenden Monomeren: Hexandiol-(l,6)-diacrylat, Triäthylenglykoldiacrylat, Polyäthylenglykoldiacrylat,
Neopentylglykoldiacrylat, Diglycerindiacrylat, Trimethylolpropantriacrylat,
Pentaerythrittetraacrylat, Dipentaerythrithexaacrylat und andere.
Die photopolymerisierbaren Massen erhärten im allgemeinen bei Lichteinwirkung umso rascher und vernetzen umso
stärker, sind also umso lichtempfindlicher, je größer die Zahl der Acrylsäureestergruppen in dem Monomerenmolekül
ist. Dabei ist es aber andererseits günstig, die Zahl der Acrylestergruppen pro Molekül nicht zu hoch zu
wählen, da sich dann leicht VorVernetzungen in dem Monomeren
ergeben können, d. h. die Stabilisierung derartiger Massen erschwert wird. Was die Ausgewogenheit dieser
Eigenschaften angeht, ist das Pentaerythrittetraacrylat eine besonders günstige monomere Verbindung.
Nun werden aber bei der Anwendung in photopolymerisierbaren Massen flüssige Monomere bevorzugt, da Kristallisation
besonders in Kopiermassen und daraus hergestellten Kopiermaterialien im allgemeinen zu Inhomogenitäten und Unverträglichkeit
in der Schicht und schließlich zu Kopierfehlern führt.
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ο*
Um auf Basis dieser flüssigen Monomeren zu Kopiermassen bzw. -schichten ausreichender Festigkeit zu kommen und
weiter auch um der Kopiermasse vor und nach der Belichtung noch weitere erwünschte Eigenschaften zu verleihen,
werden derartigen Kopiermassen organische Polymerisate als Bindemittel zugesetzt. Es ist günstig, Monomeres
und zugesetztes Polymerisat so aufeinander abzustimmen, daß das Monomere als verträglicher Weichmacher für das
Polymerisat fungiert und trotz hohem Monomerengehalt eine nicht klebende Schicht erhalten wird.
Es ist weiter wichtig, daß das Monomere praktisch nicht
flüchtig ist, damit es bei den Beschxchtungsprozessen, bei denen meist die Lösung einer Kopiermasse unter
Erwärmen getrocknet wird, nicht in unkontrollxerbaren Mengen verloren geht.
So weist beispielsweise das Trimethyloläthantriacrylat,
welches im übrigen die Formulierung sehr lichtempfindlicher
und leistungsfähiger Kopiennassen erlaubt, noch eine störend hohe Flüchtigkeit auf. Auch neigen damit
hergestellte Schichten relativ stark zum Kleben.
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Das Pentaerythrittetraacrylat ist zwar sehr schwer flüchtig und erlaubt die Herstellung fast klebfreier
Photopolymerschichten, dieses Acrylat ist aber eine bei Raumtemperatur feste, gut kristallisierende
Verbindung, die nach dem oben Gesagten für die diskutierte Anwendung ungünstig ist.
Φ Man hat daher versucht, möglichst zähflüssige Acrylsäureester
des Pentaerythrits mit möglichst geringer Kristallisierungsneigung herzustellen.
Nach der Lehre der DAS 1 267 5^7 wird dies dadurch erreicht,
daß man Pentaerythrit nur partiell mit Acrylsäure verestert und zwar auf eine Stufe, die summarisch
dem Triacrylat entspricht, und die restlichen OH-Gruppen frei läßt oder diese in umständlichen Verfahren noch
weiter modifiziert, beispielsweise durch Umsetzung mit P Diazomethan, Alkylenoxiden, Chloralkyläthern und von
Acrylsäure verschiedenen Säuren.
Allen diesen Monomeren des Pentaerythrittriacrylat-Typs,
die an sich wertvolle Monomere mit günstigen Anwendungseigenschaften sind (sehr geringe Flüchtigkeit der Monomeren,
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sehr geringe Klebrigkeit und hohe Lichtempfindlichkeit der Schichten), haftet aber ein grundsätzlicher Mangel
an, dessen Wurzel im Herstellungsverfahren liegt. Bei der Herstellung dieses einem Triacrylat in der Summenzusanunensetzung
entsprechenden Esters entsteht nämlich ein in seiner Zusammensetzung etwas variierendes Gemisch
verschiedener Acrylierungsstufen. Hierin ist zwar nicht von vornherein ein Mangel zu sehen, der Mangel besteht
aber darin, daß auch das gut kristallisierende Tetraacrylat stets in wechselnder Menge mitgebildet wird und
bei der Lagerung des Monomeren früher oder später partiell aus diesem auskristallisiert. Dieses Auskristallisieren
kann sich ebensogut in der photopolymerisierbaren Masse ereignen, wodurch sich für die Qualität der unter Verwendung
derartiger Monomerer hergestellten Kopiermaterialien gravierende Unsicherheiten ergeben.
Aufgabe der Erfindung war es, eine neue photopolymerisierbare Masse zu finden, die die geschilderten Nachteile des Standes
der Technik nicht aufweist.
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Erfindungsgemäß wird eine photopolymerisierbare
Kopiermasse vorgeschlagen, die als wesentliche Bestandteile mindestens ein Bindemittel, mindestens eine polymerisierbare Verbindung und mindestens einen Photoinitiator
enthält und die dadurch gekennzeichnet ist, daß sie als polymerisierbare Verbindung mindestens eine Verbindung
der allgemeinen Formel A der anliegenden Formelzeichnung
enthält, worin
eine CH2-0ruppe,
Z eine der Gruppen -CO- und -CHOH- ist und R1, R2, R3 und R^ gleich oder verschieden sind und
Wasserstoffatome, Acryloyl- oder Methacryloylreste
bedeuten, wobei Z eine Carbonylgruppe bedeutet, wenn X eine Einfachbindung ist, und im Mittel mindestens einer
der Reste R1, R2, R3 und R^ ein Acryloylrest ist.
Die in der erfindungsgemäßen Kopiermasse enthaltenen neuen Monomeren zeigen auch bei hohem Veresterungsgrad praktisch
keine Kristallisationsneigung.
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Die neuen Acrylester werden durch saure azeotrope Veresterung der entsprechenden Tetra- bzw. Pentaalkohole
erhalten. Es ist überraschend, daß unter den wasserentziehenden Bedingungen dieser Synthese in hoher
Ausbeute die gewünschten Acrylsäureester erhalten werden, findet sich doch in B. J58, 209 (1955) der
Hinweis, daß bei Verbindungen dieses Typs überaus leicht unter innermolekularer Wasserabspaltung aus
zwei Methylolgruppen ein Perhydropyranring geschlossen
wird.
Um eine möglichst hohe Vernetzungsdichte, d. h. möglichst
hoch lichtempfindliche photopolymerisierbare Massen zu erzielen, ist es günstig, bei der Herstellung der Monomeren
die Veresterung mit Acrylsäure bzw. Acryl- und Methacrylsäure möglichst weit zu führen, also zum Trioder
Tetraester. Eine Veresterung der sekundären OH-Gruppe in den Verbindungen, welche eine solche enthalten, verläuft
außerordentlich träge, so daß als Endstufe der Veresterung im allgemeinen der Tetraester anfällt.
Als Beispiele für der allgemeinen Formel entsprechende spezielle Vertreter der Polyole seien die folgenden Typen
genannt: 2,2,5,5-Tetra-hydroxymethyl-cyclopentanon (I),
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•49-
2,2,6,6-Tetra-hydroxymethyl-cyclohexanon (II),
2,2,6,6-Tetra-hydroxymethyl-cyclohexanol (III),
3,3,5,5-Tetra-hydroxymethyl-tetrahydro-l,4-pyron (IV) und 3,3,5,5-Tetra-hydroxymethyl-^-hydroxy-tetrahydropyran (V).
Die bevorzugten Monomeren leiten sich von den Polyolen I und III ab.
Besonders vorteilhaft sind die Ester von I, vorzugsweise das möglichst hoch veresterte Produkt, da dieses besonders
leicht herstellbar ist, und die unter dessen Verwendung hergestellten Kopierschichten, die günstigste Lichtempfindlichkeit aufweisen.
artige Konsistenz. Die damit hergestellten photopolymerisierbaren Massen können je nach geplanter Anwendung
und je nach den gewünschten Eigenschaften verschiedenartige Stoffe als Zusätze enthalten. Beispiele sind:
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Inhibitoren zur Verhinderung der thermischen Polymerisation
der Massen,
Wasserstoffdonatoren,
die sensitometrischen Eigenschaften derartiger
Wasserstoffdonatoren,
die sensitometrischen Eigenschaften derartiger
Schichten modifizierende Stoffe, Farbstoffe,
gefärbte und ungefärbte Pigmente, Farbbildner,
Indikatoren,
Weichmacher usw.
Indikatoren,
Weichmacher usw.
Diese Bestandteile sind zweckmäßig so auszuwählen, daß sie in dem für den Initiierungsvorgang wichtigen
aktinischen Bereich möglichst wenig absorbieren.
Als Photoinitiatoren in der erfindungsgemäßen Kopiermasse können eine Vielzahl von Substanzen Verwendung finden.
Beispiele sind Benzoin, Benzoinäther, Mehrkernchinone, z. B. 2-Äthyl-anthrachinon, Acridinderivate, z. B.
9-Phenyl-acridin, 9-p-Methoxyphenyl-acridin, 9-Acetylarainoacridin,
Benz(a)acridin; Phenazinderivate, z. B. 9,10-Dimethyl-benz(a)phenazin,
9-Methyl-benz(a)phenazin, 10-Methoxy-benz(a)phenazinj Chinoxalinderivate, z. B.
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Dimethoxy-2,3-diphenyl-5-aza-chinoxalin; Chinazolinderivate und dgl. mehr.
Als Bindemittel können eine Vielzahl löslicher organischer Polymerisate Einsatz finden. Als Beispiele seien genannt:
Polyamide, Polyvinylester, Polyvinylacetat, Polyvinyläther, Polyacrylsäureester, Polymethacrylsäureester,
Polyester, Alkydharze, Polyacrylamid, Polyvinylalkohol, Polyäthylenoxid, Polydimethylacrylamid, Polyvinylpyrrolidon,
Polyvinylmethylformamid, Polyvinylmethylacetamid sowie
Mischpolymerisate der Monomeren, die die aufgezählten Homopolymerisate bilden.
Ferner kommen als Bindemittel Naturstoffe oder abgewandelte Naturstoffe in Betracht, z. B. Gelatine, Celluloseäther
und dgl.
Mit Vorteil werden Bindemittel verwendet, die in wäßrigalkalischen Lösungen löslich und mindestens quellbar
sind, da sich Schichten mit solchen Bindemitteln mit den bevorzugten wäßrig-alkalischen Entwicklern entwickeln
lassen. Derartige Bindemittel können z. B. die folgenden Gruppen enthalten: -COOH, -PO3H3, -SO3H, -SO3NH2, -SO3-NH-CO-
und dgl.. Als Beispiele hierfür und zugleich als bevorzugte
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Vertreter seien genannt: Maleinatharze, Polymerisate aus N-(p-Tolylsulfonyl)-carbaminsäure-(ß-methacryloyloxy)-äthylester
und Mischpolymerisate dieser und ähnlicher Monomerer mit anderen Monomeren (beschrieben in der
Patentanmeldung P 20 27 466.2), Styrol-Maleinsäureanhydrid-Mischpolymerisate und Methylmethacryla.t-Methacrylsäure-Mischpolymerisate.
Den neuen Monomeren können auch bekannte Monomere, besonders Acrylester mehrwertiger aliphatischer
Alkohole, zugesetzt werden, wobei selbstverständlich im Auge zu behalten ist, daß durch diese die durch die
Verwendung der neuen Monomeren in der photopolymerisierbaren Masse erzielten, oben erläuterten Vorteile
nicht zu stark herabgesetzt werden.
Die photopolymerxsierbare Masse
kann für die verschiedensten Anwendungen Einsatz finden, beispielsweise zur Herstellung von Sicherheitsglas, von
Lacken, die durch Licht oder Korpuskularstrahlen, z. B. Elektronenstrahlen, gehärtet werden, und insbesondere als
lichtempfindliche Kopiermasse auf dem Reproduktionsgebiet.
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Ά.
Die detaillierte Beschreibung der Erfindung beschränkt sich auf dieses Anwendungsgebiet, jedoch ist die Erfindung
nicht hierauf beschränkt. Als Anwendungsmöglichkeiten auf diesem Gebiet seien genannt: Kopierschichten für die
photomechanische Herstellung von Druckformen für den Hochdruck, den Flachdruck, den Tiefdruck, den Siebdruck, von
Reliefkopien, ζ. B. Herstellung von Texten in Blindenschrift, von Einzelkopien, Gerbbildern, Pigmentbildern
usw.. Weiter sind die Massen zur photomechanischen Herstellung von Ätzreservagen, z. B. für die Fertigung von
Namensschildern, von kopierten Schaltungen und für das Formteilätzen, anwendbar. Besondere Bedeutung haben die
erfindungsgemäßen Kopiermassen als Kopierschichten für die photomechanische Herstellung von Flachdruckformen
und von Ätzreservagen, insbesondere als vorsensibilisierte Materialien.
Die gewerbliche Verwertung der Kopiermasse für die genannten Anwendungszwecke kann in der Form einer flüssigen
Lösung oder Dispersion, z. B. als sogenannter Kopierlack, erfolgen, die vom Verbraucher selbst auf einen individuellen
Träger, z. B. zum Formteilätzen, für die Herstellung kopierter Schaltungen, von Siebdruckschablonen und dgl., aufgebracht wird. Die Masse kann auch als feste lichtempfindliche Schicht auf einem geeigneten Träger in Form eines
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lagerfähig vorbeschichteten lichtempfindlichen Kopiermaterials, z. B. für die Herstellung von Druckformen,
vorliegen.
Es ist im allgemeinen günstig, die Massen während der Lichtpolymerisation dem Einfluß des Luftsauerstoffee
weitgehend zu entziehen. Das kann z. B. durch Einarbeiten von Paraffin erfolgen, das sich auf der Schichtoberfläche
ansammelt und eine Barriere gegen den Sauerstoff ausbildet.
Im Fall der Anwendung der Masse in Form dünner Kopierschichten ist es empfehlenswert, einen geeigneten, für
Sauerstoff wenig durchlässigen Deckfilm aufzubringen. Dieser kann selbsttragend sein und vor der Entwicklung
der Kopierschicht abgezogen werden. Für diesen Zweck sind z. B. PoIyesterfilme geeignet. Der Deckfilm kann
auch aus einem Material bestehen, das sich in der Entwicklerflüssigkeit
löst oder mindestens an den nicht gehärteten Stellen bei der Entwicklung entfernen läßt.
Hierfür geeignete Materialien sind z. B. Wachse, Polyvinylalkohol, Polyphosphate, Zucker usw..
Als Träger für mit der erfindungsgemäßen Kopiermasse hergestellte Kopiermaterialien sind beispielsweise
Aluminium, Stahl, Zink, Kupfer und Kunststoff-Folie,
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ζ. B. aus Polyäthylenterephthalat oder Celluloseacetat,
sowie Siebdruckträger, wie Perlongaze, geeignet. Es ist • in vielen Fällen günstig, die Trägeroberfläche einer
Vorbehandlung (chemisch oder mechanisch) zu unterwerfen, deren Ziel es ist, die Haftung der Schicht
richtig einzustellen bzw. das Reflexionsvermögen des Trägers im aktinischen Bereich der Kopierschicht
herabzusetzen (Lichthofschutz).
Die Herstellung der lichtempfindlichen Materialien unter Verwendung der erfindungsgemäßen Kopiermasse erfolgt in
bekannter Weise.
So kann man diese in einem Lösungsmittel aufnehmen und die Lösung bzw. Dispersion durch Gießen, Sprühen, Tauchen,
Antrag mit Walzen usw. auf den vorgesehenen Träger als Film antragen und anschließend antrocknen. Dicke Schichten
(z. B. von 250/U und darüber) werden vorteilhaft durch
^ Extrudieren oder Verpressen als selbsttragende Folie
hergestellt, welche dann auf den Träger laminiert wird.
Die Verarbeitung der Kopiermaterialien wird in bekannter Weise vorgenommen.
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Die polymerisierbaren ungesättigten Ester sind relativ einfach herzustellen. Als Ausgangsmaterial dienen die
oben beschriebenen Polyalkohole der Formeln I bis V, die als technische Produkte bezogen oder nach folgenden
Arbeitsvorschriften synthetisiert werden können:
Formel I: B. 56, S. 8*13 (1923) und
USA-Patentschrift 2 500 570 Fp: 1^3° C
Formel II: B. £6, S. 840 (1923) 143° C
Formel III: Org. Synth. Bd. 31, S. 101 129-13O0C
Formel IV: B. £8, S. 210 127° C
Formel V: B. 88, S. 205-212 135-146° C
Handelsprodukt der Trojan Powder, Allentown, USA.
Da alle Polyalkohole im Molekulargewicht nicht erheblich differieren, kann eine allgemeine ArbeiteVorschrift für
die Herstellung der Tetraester wie folgt angegeben werden:
In einem Dreihalskolben mit Rührer, Wasserabscheider und Rückflußkühler werden
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'/ft-
200 - 210 Gt. Polyalkohol,
Methacrylsäure (100 Zig), 500 - 800 Gt. Benzol,
5 - 20 Gt. konz. Schwefelsäure, 0,5 - 5 Gt. Kupfer-I-oxid
vorgelegt und die Mischung unter Rühren am Rückfluß erhitzt. In etwa 3-7 Stunden ist die berechnete
Wassermenge azeotrop abgeschieden· Nach dem Erkalten des Reaktionsgemisches wird der Säureüberschuß durch
Waschen mit 10 - 20 £iger Natriumchlorid-Lösung und anschließend mit 15 - 25 Ziger Kaliumbicarbonat-Lösung
entfernt.
Nach Abscheiden und Trocknen der organischen Phase mit Natriumsulfat wird diese unter Zusatz von 2 - 10 Gt.
Stabilisator, z. B. p-Methoxyphenol, durch Vakuumdestillation vom Benzol befreit.
Als Rückstand resultiert der gesuchte Tetraester des Polyalkohole in einer Ausbeute von 40 - 90 % d. Th. Die
Ausbeute ist optimal bei dem Tetraacrylat der Verbindung Formel I.
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Die Herstellung der unvollständig veresterten Produkte erfolgt am einfachsten durch Abbrechen der Veresterungsreaktion bei dem gewünschten Veresterungsgrad, der an der
Menge des abgeschiedenen Wassers erkennbar ist.
Die folgenden Beispiele erläutern bestimmte Ausführungsformen der Erfindung, die aber nicht auf diese Ausführungsformen
beschränkt ist. Prozente sind, wenn nichts anderes angegeben ist, Gewichtsprozente. 1 Oewichtsteil (Gt.)
entspricht 1 g, wenn als Volumteil (Vt.) 1 ecm gewählt wird.
Eine Beschichtungslösung bestehend aus
1,4 Gt. eines Methylmethacrylat/Methacrylsäure-Mischpolymerisates
mit einem mittleren
Molekulargewicht von 33.000 und der *
Säurezahl 85,5,
Ι,Ί Gt. des mit Acrylsäure veresterten 3,3,5,5-Tetra-hydroxymethyl-lJ-hydroxytetrahydropyrans
der Formel V (Verseifungszahl 155),
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-3,9.
0,2 Qt. 1,6-Di-hydroxyäthoxy-hexan,
0,05 Gt. 9-Phenyl-acridin,
0,02 Gt. Supranolblau Gl (CI. 50.335) und
15 Gt. Äthylenglykolmonoäthylather
wird auf eine elektrolytisch aufgerauhte und durch W Anodisierung gehärtete 0,3 mm starke Aluminiumfolie
durch Aufschleudern aufgetragen und getrocknet. Das
Schichtgewicht beträgt 5-6 g/m .
In einem zweiten Arbeitsgang wird auf die getrocknete, lösungsmittelfreie Photopolymerschicht ein für Sauerstoff
wenig durchlässiger Deckstrich aus einer Lösung folgender Zusammensetzung
1 Gt. Rohrzucker,
^ 1 Gt. Methylcellulose (Tylose MH 20 der
^ 1 Gt. Methylcellulose (Tylose MH 20 der
Kalle AG, Wiesbaden-Biebrich),
1 Gt. Saponin,
0,1 Gt. Sorbinsäure in 96,9 Gt. Wasser
0,1 Gt. Sorbinsäure in 96,9 Gt. Wasser
in einer Stärke von 1 g/m2 aufgebracht.
Die erhaltene Photopolymerplatte wird 1 Minute unter
einem Negativ mit einer Xenon-Punktlichtlampe (COP XP 5000
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der Firma Staub, Neu Isenburg, Handelsbezeichnung "Xenokop") in einem Abstand von 80 cm zwischen Lampe
und Kopierrahmen belichtet. Nach der Belichtung werden mit einem wäßrig-alkalischen Entwickler - wie er in
Beispiel 8 der deutschen Patentschrift 1 193 366 beschrieben
ist - die Nichtbildbereiche entfernt. Anschließend wird kurz mit verdünnter 1 Jiiger wäßriger
Phosphorsäure überwischt. Man erhält eine gut Farbe annehmende positive Druckform, deren Nichtbildbereiche
tonfrei bleiben.
Wird die Platte nicht sofort nach der Herstellung gedruckt, kann sie in bekannter Weise gummiert werden.
Eine Beschichtungslösung bestehend aus
1,4 Qt. des mit Acrylsäure veresterten 2,2,6,6-Tetra-hydroxymethyl-cyclohexanols
der Formel III (Verseifungszahl 480,6),
0,5 Qt. eines Acrylharzes mit einem mittleren
Molgewicht von 36.000 (Elvacite 2008 der
du Pont de Nemours and Co., Wilmington, USA),
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0,9 Qt. einee Methylmethacrylat/Methacrylsäure-Nischpolymerisats mit einem mittleren
Molgewicht von 40.000 und einer Säurezahl von 90 - 105,
0,05 Qt. 2,3-Di-(l»-methoxy-phenyl)-6-methoxy-
chinoxalin,
0,2 Qt. 1,6-Di-hydroxyäthoxy-hexan, 0,02 Qt. Supranolblau Ql,
15,0 Qt. Athylenglykolmonoäthyläther
wird auf elektrolytisch aufgerauhtes 0,1 mm starkes Aluminium (Rotablatt der Rotaprint AQ, Berlin) durch
Aufschleudern aufgetragen. Danach trocknet man die Schicht bei 100° C 2 Minuten im Trockenschrank, die dann eine
Stärke von ca. 5 g/m hat.
In einem zweiten Arbeitsgang wird ein Deckstrich aus einer Lösung von
15 Gt. Polyvinylalkohol (Elvanol 52-22 der
Du Font de Nemours and Co., Wilmington, USA) und 0,25 Qt. Natriumalkylbenzolsulfonat als Netzmittel in
485 Qt. Wasser
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in einer Stärke von 0,5-1 g/m auf die Photopolymer schicht aufgebracht.
Die Schichtkombination wird wie in Beispiel 1 unter einer negativen Vorlage 1 Minute belichtet und entwickelt.
Man erhält eine gut Farbe annehmende, tonfreie, sehr hohe Druckauflagen leistende, positive Druckform.
Ähnlich gute Ergebnisse werden erhalten, wenn man eine
sonet gleiche Sensibilisierungslösung verwendet, in der aber der Acrylsäureester des Tetrahydroxymethylcyclohexanols durch die gleiche Menge eines Monomeren ersetzt
wird, das durch Verestern von 2,2,5,5-Tetra-hydroxymethyl·
cyclopentanon (I) mit einem Gemisch aus gleichen molaren Anteilen Acryl- und Methacrylsäure erhalten worden ist.
(Verseifungszahl 517 )
Eine 0,125 rom dicke biaxial verstreckte Polyäthylenterephthalatfolie, die mit einer Haftvermittlerschicht
nach DAS 1 228 414 versehen ist, wird mit folgender
Beschichtungslösung überzogen, und die Beschichtung wird angetrocknet.
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1,4 Gt. Lytron 822 (Styrol/Maleinsäureanhydrid-Mischpolymerisat,
mittleres Molekulargewicht 10.000, Säurezahl 190, Hersteller:
Monsanto Chemical Co., St. Louis/USA), 1,3 Gt. 2,2,6,6-Tetra-acryloxymethyl-cyclohexanol
(Typ III) (Verseifungszahl 480),
0,1 Gt. Benz-(a)-acridin (Revised Ring Index 5007), 0,2 Gt. 1,6-Di-hydroxyäthoxy-hexan,
17 Gt. Äthylenglykolmonoäthylather.
Anschließend überschichtet man die Folie mit einer Lösung von
1 Gt. Rohrzucker,
1 Gt. Saponin,
1 Gt. Methylcellulose wie in Beispiel 1,
0,1 Gt. Sorbinsäure in
96,9 Gt. Wasser
und trocknet die Schicht.
Nach 3 Minuten Belichtung unter einer Negativ-Vorlage und der in Beispiel 1 angegebenen Lichtquelle wird mit
dem in Beispiel 1 verwendeten Entwickler entwickelt. Man erhält eine positive Flachdruckform.
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Eine Einstufen-Zinkätzplatte wird mit einer Lösung
folgender Zusammensetzung überzogen, und die Beschichtung wird angetrocknet:
1,1I Qt. Alresen 500 R (Terpenphenolharz der Reichhold-Albert-Chemie
AQ, Wiesbaden-Biebrich),
1,0 Qt. 2,2,5,5-Tetra-acryloxymethyl-eyclopentanon
(Typ I) (Verseifungszahl 51JO),
0,02 Gt. Sudanblau II (CI. Solvent Blue 35), 0,05 Gt. 9-(p-Tolyl)-acridin,
8,0 Qt. Methyläthylketon.
Anschließend wird mit einem dünnen Polyvinylalkoholfilm (1 - 2^u) überzogen und unter einer negativen Strichvorlage
2 Minuten mit der in Beispiel 1 genannten Lichtquelle belichtet.
Nach der Entwicklung wie in Beispiel 1 wird die freigelegte Zinkoberfläche tiefgelegt, indem sie 5 Minuten
mit 6 Ziger Salpetersäure bei Raumtemperatur behandelt wird. Man erhält eine Hochdruckform.
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Eine mit einer dünnen Kupferschicht belegte Aluminiumplatte wird zur Reinigung mit Bimssteinmehl abgerieben,
anschließend 30 Sekunden in 1,5 iSige Salpetersäure getaucht und dann 1 Minute mit einer Lösung aus 84 ml
Wasser und 8 ml einer Chromatlösung (Kenvert Nr. 31 der Conversion Chemical Corp., Rockville, Conn., USA) behandelt. Anschließend wird die folgende Lösung aufgeschleudert und angetrocknet:
1,4 Gt. eines Mischpolymerisats aus Methylmethacrylat
und Methacrylsäure (mittl. Molgewicht 40.000, Säurezahl 90 - 100),
1,4 Ot. des in Beispiel 4 verwendeten Monomeren,
0,2 Qt. 1,6-Di-hydroxyäthoxy-hexan, 0,05 Gt. 2-Xthyl-anthrachinon,
13 Gt. Äthylenglykolmonoäthylather.
Die Schicht wird wie in Beispiel 4 mit einem dünnen Polyvinylalkohol-Film überzogen.
Nach 5 Minuten Belichtung mit der Lichtquelle von Beispiel 1
unter einem Negativ und Entwicklung wie in Beispiel 1 wird das Kupfer an den freigelegten Partien mit einer Eisen-III-chloridlösung von 40° Be. weggeätzt. Nach der Entschichtung,
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ζ. B. durch Abreiben mit Methylenchlorid, wird mit Phosphorsäure überwischt und mit fetter Farbe eingefärbt.
Es resultiert eine sehr hohe Auflagen leistende positive Druckform.
Man verfährt wie in Beispiel 5» als Träger wird jedoch eine Stahl-Kupfer-Chrom-Trimetallplatte verwendet, und
in der Beschichtungslösung wird das 2-Äthyl-anthrachinon
durch die gleiche Menge 9-Phenyl-acridin ersetzt.
Auf die lichtempfindliche Schicht wird der in Beispiel 3 beschriebene überzug aufgebracht. Die Bildbelichtung
(2 Minuten mit der Lichtquelle von Beispiel 1) wird unter einem Positiv vorgenommen. Nach Entwicklung mit
dem in Beispiel 1 genannten Entwickler wird die freigelegte Chromoberfläche durch Behandeln mit einer
Chromätze (17,4 % CaCl2, 35,3 % ZnCl2, 2,1 Jt HCl,
45,2 % H2O) behandelt, bis die darunter befindliche
Kupferschicht völlig freigelegt ist.
Nach Entschichtung mit dem Parbentferner Tureo-carb der
Firma Turco-Cheraie GmbH, Hamburg, wird mit Phosphorsäure überwischt und eingefärbt. Es resultiert eine sehr leistungsfähige positive Trimetal!druckform.
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Man verfährt wie in Beispiel 6, alo Träger findet jedoch
eine Messingfolie Verwendung, die mit einer dünnen Chromschicht Überzogen ist.
Man erhält auch in diesem Falle eine hochleistende Mehrmetalldruckform.
Ein für den Siebdruck geeignetes monofiles Perlongewebe, das pro cm 120 Fäden besitzt, wird mit nachstehender
Lösung beschichtet, und die Schicht wird angetrocknet:
1,4 Gt. Mischpolymerisat aus Methylmethacrylat und
Methacrylsäure (mittleres Molgewicht 40.000,
Säurezahl 90 - 100),
1,4 Gt. des in Beispiel 4 verwendeten Monomeren,
0,05 Qt. 9-Phenyl-acridin,
0,2 Gt. 1,6-Di-hydroxyäthoxy-hexan, 0,02 Gt. Supranolblau Gl,
8 Gt. Methyläthylketon.
0,2 Gt. 1,6-Di-hydroxyäthoxy-hexan, 0,02 Gt. Supranolblau Gl,
8 Gt. Methyläthylketon.
Das Material wird 3 Minuten mit der Lichtquelle von Bei·»
spiel 1 unter einer positiven Vorlage belichtet und
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mit dem in Beispiel l genannten Entwickler entwickelt.
Man erhält eine positive Siebdruckform.
Eine miteiner 35 /U starken Kupferfolie kaschierte
Hartpapierplatte, wie sie zur Herstellung kopierter Schaltungen üblich ist, wird mit Bimsmehl gereinigt,
anschließend 30 Sekunden in 10 !(ige wäßrige Salzsäure getaucht, mit Wasser gespült, getrocknet und mit der
in Beispiel 4 angegebenen Sensibilisierungslösung beschichtet, und die Beschichtung wird angetrocknet.
Nach Aufbringen eines Deckstriches aus Polyvinylalkohol wird 1 1/2 Minuten unter einem Negativ belichtet (Licht-
quelle wie in Beispiel 1), welches ein System von Leiterbahnen darstellt. Nach der Entwicklung wie in Beispiel 1
wird in einer herkömmlichen Ktzmaschine mit Eisen-III-chloridlösung von 40° Be das Kupfer in den freigelegten
Bereichen weggeätzt. Man erhält eine Leiterplatte.
Auf ein 0,3 mm starkes eloxiertes Aluminiumblech, dessen Ränder im Winkel von 90° umgebogen sind, wird eine
Beschichtungslösung aus
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1,5 Gt. 2,2,6,6-Tetra-acryloxymethyl-cyclohexanol
(Typ III) (Verseifungszahl 480),
1,9 Gt. 2,2,5,5-Tetra-acryloxymethyl-cyclopentanon
(Typ I) (Verseifungszahl 51JO),
4,9 Gt. eines Mischpolymerisats aus Methylmethacrylat
und Methacrylsäure mit dem mittleren Molekulargewicht 40.000 und der Säurezahl 125,
0,3 Gt. 9-Phenyl-acridin,
10 Gt. Methyläthylketon
10 Gt. Methyläthylketon
aufgebracht und zu einer Trockendicke von 0,6 mm innerhalb von 5 Tagen im Umlufttrockenschrank bei 30° C eingetrocknet,
Die resultierende Platte wird anschließend unter einem photographischen Negativ 20 Minuten mit einer Drei-Phasen-Kohlenbogenlampe
von 60 A. ("Brillant" der Pa. Staub, Neu Isenburg) im Abstand von 110 cm 20 Minuten belichtet.
Nach 15 Minuten Entwicklung im Schaukelbad mit dem unter Beispiel 1 beschriebenen Entwickler erhält man ein fest
haftendes, gelbbraunes Reliefbild, das nach dem Entfernen der Ränder für den Hochdruck bzw. "Letterset-Druck11 eingesetzt
werden kann.
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Auf eine l80/u starke Polyäthylenterephthalatfolie
(Melinex Q) wird eine Nasse der folgenden Zusammensetzung aufgeschleudert, und die Beschichtung wird
angetrocknet:
1,4 Gt. des in Beispiel 3 verwendeten Styrol/
Maleinsäureanhydrid-Mischpolymerisats,
1,3 Gt. 2,2,5»5-Tetra-acryloxymethyl-cydopentanon
(Typ I) (Verseifungszahl 540),
0,2 Gt. Diäthylenglykolmonohexylather,
0,05 Gt. Benz-(a)-phenazin,
0,02 Gt. Zaponechtblau HPL (CI. 74 350),
17 Gt. Äthylenglykolmonoäthylather.
Die Beschichtung wird mit einer ca. 1«u starken Polyvinylalkohole chicht überzogen.
Die Belichtung erfolgt mit der in Beispiel 1 genannten Lichtquelle 3 Minuten unter einem Färbauszugsrasternegativ. Entwickelt wird mit dem in Beispiel 1 genannten
Entwickler. Man erhält eine blau gefärbte Kopie (Positiv)
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2Ü6597S
der Vorlage, die als Anhaltskopie Verwendung finden kann.
Es ist möglich, analog Beispiel 9 der Patentanmeldung P 20 27 467.3 in gleicher Weise gefärbte Kopien in rot,
gelb und schwarz bei entsprechender Einfärbung der Schichten und Bildbelichtung unter den entsprechenden
Farbauszugsnegativen zu gewinnen und durch passergerechtes übereinanderlegen zu einem Andruckersatz zu kommen. In
diesem Fall ist es günstig, möglichst dünne Polyesterfolie als Träger zu verwenden.
beschichtet, bestehend aus:
1,4 Gt. eines Mischpolymerisats aus Methylmethacrylat
und Methacrylsäure mit einem Molgewicht von etwa 40.000 und einer Säurezahl von 90 - 115,
1,4 Gt. 2,2,5,5-Tetra-acryloxymethyl-cyclopentanon
(Typ I) (Verseifungszahl 540),
0,05 Qt. 9-Phenyl-acridin,
0,02 Gt. Supranolblau 01,
13 Gt. Athylenglykolmonoäthylather.
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Nach dem Antrocknen wird eine 25,u starke Polyäthylenterephthalatfolie bei einer Temperatur von 70 - 90° C
auflaminiert. Die Dicke der Photopolymerschicht beträgt
7 - 8,u. Nach Abziehen der Polyäthylenfolie werden Photopolymerschicht und Polyesterfolie auf einem zur
Leiterplattenherstellung geeigneten Verbund aus Hartpapier und einer 35 ,u starken Kupferfolie nach üblicher
Reinigung der letzten unter Erwärmen aufkaschiert. Die Bildbelichtung wird analog Beispiel 9 durchgeführt. Dann
zieht man die Polyesterfolie ab und verarbeitet analog Beispiel 9 zur Leiterplatte.
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Formel A
R2OCH2'
CH2OR3
CHn CH,
Patentanmeldung P 20 65 976.1 - K 1970-1
HOECHST AG
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Claims (3)
- exPhotopolyraerisierbare Kopiermasse, die als wesentliche Bestandteile mindestens ein Bindemittel, mindestens eine polymerisierbar Verbindung und mindestens einen Photoinitiator enthält, dadurch gekennzeichnet, daß sie als polymerisierbare Verbindung mindestens eine Verbindung der allgemeinen Formel AR1OCH2erR2OCH2,CHCHCH2OR4enthält, worineine einfache Bindung, ein Sauerstoffatomoder eine CH2~Gruppe,eine der Gruppen -CO- und -CHOH- ist und gleich oder verschieden sind und Wasserstoffatome, Acryloyl- oder Methacryloylrestebedeuten, wobei Z eine Carbonylgruppe bedeutet, wenn X eine einfache Bindung ist, und im Mittel mindestens einer der Reste R1, R2, R3 und R1, ein Acryloylrest ist,709834/0927
- 2. Kopiermasse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet» daß in der allgemeinen Formel A Z eine Carbonylgruppe und X eine einfache Bindung bedeutet.
- 3. Kopiermasse nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß in der allgemeinen Formel A R^, Rp, R, und Rh Acryloyl- oder Methacryloylreste bedeuten.7 QM ^ '■ : ~ 9 2 7
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19702065976 DE2065976A1 (de) | 1970-09-07 | 1970-09-07 | Photopolymerisierbare kopiermasse |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19702065976 DE2065976A1 (de) | 1970-09-07 | 1970-09-07 | Photopolymerisierbare kopiermasse |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2065976A1 true DE2065976A1 (de) | 1977-08-25 |
Family
ID=5793223
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19702065976 Withdrawn DE2065976A1 (de) | 1970-09-07 | 1970-09-07 | Photopolymerisierbare kopiermasse |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE2065976A1 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010066599A1 (de) * | 2008-12-11 | 2010-06-17 | Basf Se | Strahlungshärtbare verbindungen |
-
1970
- 1970-09-07 DE DE19702065976 patent/DE2065976A1/de not_active Withdrawn
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2010066599A1 (de) * | 2008-12-11 | 2010-06-17 | Basf Se | Strahlungshärtbare verbindungen |
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