DE2062085C3 - Elektronenstrahl-Abtastlaser - Google Patents
Elektronenstrahl-AbtastlaserInfo
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Description
Die Erfindung betrifft eine Anordnung, wie sie dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1 zu entnehmen ist
Ein Elektronenstrahlabtastlaser stellt eine Lichtquelle
dar, deren örtliche Lage im Lasermedium durch die Ablenkung eines Elektronenstrahles bestimmt wird. Ein
derartiger Laser ist in dem Aufsatz »The Electron Beam Scanlaser: Theoretical and Operational Studies« von
R.A. Myers und R.V. Pole, IBM Journal of
Research and Development, Band 11, Nr. 5, September 1967, Seiten 502 bis 510, beschrieben. Hierbei sind zwei
dielektrische Spiegel und zwei Linsen in der Weise angeordnet, daß jeder Spiegel die Bildfläche des
anderen darstellt Die Spiegel sind parallel zueinander ausgerichtet und eben. Ein derart ausgebildeter
Resonator wird als konjugierter Parallelplatten-Resonator bezeichnet Eine große Anzahl von gleichartigen,
stimulierten Lichtstrahlen wird erzeugt Ihre Anzahl ist angenähert durch die Beziehung
gegeben, wobei 2a die Weite der Öffnung im aktivem Medium, 26 die Weite der Ausgangsöffnung in einem
der Spiegel, f die Brennweite der Linsen zu beiden Seiten des aktiven Mediums und λ die Wellenlänge des
Lichts bedeuten. Gewöhnlich wird der Gütefaktor oder Q-Wert für alle Strahlen bis auf einen verschlechtert
Der <?-Wert dieses einen Strahls bleibt damit über dem
für ein Oszillieren erforderlichen Schwellwert Dies erfolgt durch eine örtliche Änderung der Doppelbrechung
im Hohlraum des Resonators. Durch eine derartige Auswahl eines Strahls oder einer Strahlengruppe
kann die Lage des Ausgangspunktes des ausgesendeten Lichtes beliebig verändert werden.
Für die Auswahl des Strahles wird ein elektrooptischer Kristall verwendet Der hierfür zur Zeit am
geeignetsten erscheinende Stoff ist Kaliumdihydrogenphosphat (KH2PO4), im folgenden auch als KPD
bezeichnet. Bei dem bekannten Elektronenstrahlabtastlaser wird der eine Spiegel durch einen stark
reflektierenden Belag auf einer Seite des KPD-Kristalls gebildet. Die einzelnen Strahlen werden auf diesem
Belag fokussiert. Um eine gleichmäßige Reflektion zu erhalten, müssen Beschädigungen, z. B. Kratzer oder
andere Vertiefungen, auf der Oberfläche des KPD so gering wie möglich gehalten werden. Das KPD ist
jedoch ein relativ weicher Stoff und bei Feuchtigkeit anfällig für eine Korrosion, so daß Beschädigungen
seiner Oberfläche sich nicht vollständig vermeiden lassen. Da auch die Brennpunkte der verschiedenen
Lichtstrahlen direkt auf der Oberfläche des Kristalls liegen, kommt es hier zu punktförmigen starken
Aufheizungen,die weiten; Beschädigungendes Kristalls
und des reflektierenden Belags verursachen können.
Es ist die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, einen Elektronenstrahlabtastlaser zu schaffen, bei dem Beschädigungen
auf der Oberfläche des elektrooptischen Kristalls keinen oder nur einen geringfügigen Einfluß
auf den jeweils emittierten Lichtstrahl besitzen und bei dem die jeweils extrem starke punktförmige Aufheizung
der Oberflächen des Kristalls und des reflektierenden Belags vermieden wird.
Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe gelöst, wie es
dem Kennzeichen des Patentanspruchs 1 zu entnehmen ist
Jede einzelne Teillinse der Facettenlinse wirkt als ein Strahlenselektor und wählt dabei jeweils nur eine
Strahlenachse aus. Hierdurch erhält man ein stark ι ο kohärentes Licht sowie eine hohe Intensität des
emittierten Lichtes. Die Brennpunkte der zu reflektierenden Strahlen befinden sich nicht mehr auf der
Oberfläche des elektrooptischen Kristalls, so daß hier vorhandene Kratzer den Strahlengang kaum beeinflussen sowie Beschädigungen am Kristall oder am
reflektierenden Belag durch starke örtliche Erhitzungen vermieden werden. Weiterhin ist die Lage jedes
einzelnen ausgewählten Lichtstrahles sowohl durch die Geometrie der entsprechenden Teillinse als auch durch
die zugeordnete Ablenkung des Elektronenstrahls bestimmt Auf diese Weise läßt sich die Lage der
jeweiligen Emissionspunkte des optischen Verstärkers sehr genau einstellen, auch wenn die Ablenkung des
Elektronenstrahls innerhalb gewisser Grenzen schwankt
Vorteilhafte Weiterbildungen und Ausgestaltungen der Erfindung sind den Unteransprüchen zu entnehmen.
Ausführungsbeispiele der Erfindung werden im folgenden im Vergleich zum Stand der Technik anhand
der Figuren näher erläutert
Es zeigt
Fig.i eine schematische Darstellung einer bekannten Einrichtung zur Auswahl eines Strahles eines
optischen Senders oder Verstärkers, r>
Fig.2 eine schematische Darstellung einer ersten Ausführungsform einer Einrichtung nach der Erfindung
und
Fig.3 eine schematische Darstellung einer zweiten
Ausführungsform einer Einrichtung nach der Erfindung. 4<
>
Die Einrichtung nach F i g. 1 enthält einen Resonatorteil 10 und einen Strahlenauswahlteil 12, die sich zum
Teil überlappen. Der Resonatorsμ! 10 besitzt ein aktives
Medium 22 mit Brewster-Stirnflächen 24 und 26 und zugeordnete optische Geräte, die zusammen einen <r>
konjugierten Parallelplatten-Resonator ergeben. Im Auswahlteil 12 sind ein ablenkbarer Elektronenstrahl 53,
eine KPD-Schicht 34 und eine Platte 28 gezeigt.
Zu den optischen Geräten des Resonatorteils 10 gehört ein Ausgangsspiegel 14, der in der Brennebene r>
<> einer Linse 16 liegt Ein Satz aus Lichtstrahlen 17,18 und
19 stellt ein ausgewähltes Strahlenbündel 20 dar. Ein Brennpunkt dieses Strahlenbündels befindet sich auf
dem Spiegel 14. Die Lichtstrahlen 17,18 und 19 werden parallel durch das aktive Medium 22 und die F latte 28 ">r>
übertragen und treffen auf eine Linse 30, in deren Brennebene die eine Oberfläche 32 der KPD-Schicht 34
liegt. Diese KPD-Schicht 34 ist Teil einer aus einzelnen Schichten aufgebauten Anordnung 36, die außerdem
eine Antireflexschicht 38 auf der der Linse 17 t>o
gegenüberliegenden Oberfläche 33 der KPD-Schicht 34, einen stark reflektierenden Belag 39, der an die
Oberfläche 32 der KPD-Schicht 34 angrenzt und eine Germaniumschicht 40 auf dem Belag 39 besitzt. Die
Germaniumschicht 40 ist elektrisch über eine Leitung 44 br>
mit Erdpotential 42 verbunden. Sie kann durch irgendeine andere teilweise isolierende Schicht ersetzt
werden, bei der der Ladungsabfluß durch die Dicke der
Schicht bestimmt ist Sie kann auch ganz weggelassen
werden, wenn die Oberflächenladung der KPD-Schicht 34 auf andere Weise, beispielsweise durch einen
Elektronenstrahl mit entsprechender Energie, entfernt wird.
Der Auswahlteil 12 der in Fig. 1 gezeigten Einrichtung weist eine Kathodenstrahlröhre 46 mit einer
evakuierten Kammer 48, einer Ablenkspule 50, einer Elektronenquelle 52 und einer Energiezuführungsleitung 54 auf.
Der optische Sender oder Verstärker emittiert Licht
in den Richtungen t7d, 18d und 19c/ von dem
ausgewählten Punkt 21 des Ausgangsspiegels 14 aus. Der Resonatorteil 10 ist in der Lage, eine große Anzahl
von Strahlen, wie den Strahl 20, aufrechtzuerhalten, wobei jedoch der Auswahlteil 12 bestimmt welcher
einzelne oder welche Gruppen von Strahlen aus dieser großen Anzahl zu einem bestimmten Zeitpunkt
stimuliert wird. Der Resonatorteil muß mehrere Erfordernisse erfüllen. Er muß eine große Anzahl von
Strahlen mit verschiedenen Schwingungsachsen mit möglichst gleichem Q-Wert aufrechterhalten. Diese
Strahlen müssen räumlich unterscheidbar sein, damit eine Auswahl nach räumlichen Gesichtspunkten möglich ist
Die Spiegeloberflächen 15 und 32 sind in den Brennebenen der Linsen 16 und 30 angeordnet so daß
die einzelnen Lichtstrahlen auf diesen Oberflächen gesammelt werden. Der Strahl 20 beispielsweise wird im
Punkt 21 auf der Oberfläche 15 und im Punkt 23 auf der Oberfläche 32 gesammelt Der jeweils zugeordnete
Hauptstrahl, hier der Strahl 18, trifft senkrecht auf die Spiegel 15 und 39 auf. Die Wirkungsweise des
Auswahlteiles 12 wird durch ein durch die Elektronenladungen verursachtes elektrisches Feld in der KPD-Schicht 34 bestimmt das an der durch den Elektronenstrahl 55 bestimmten Stelle durch den elektrooptischen
Effekt eine Doppelbrechung im KPD-Kristall hervorruft An dieser Stelle tritt auch der Strahl 20 durch die
KPD-Schicht Der Strahl 20 wird durch die um er dem Brewsterschen Winkel angeordneten Stirnflächen 24
und 26 des aktiven Mediums linear polarisiert Die Platte 28 weist eine gleichmäßige Doppelbrechung auf,
durch die die vom aktiven Medium 22 emittierten, linear polarisierten Strahlen eine elliptische Polarisierutig
erfahren. Die am Belag 39 reflektierten Strahlen gehen wieder durch die Stirnflächen 24 und 26 hindurch und
werden dabei infolge ihrer elliptischen Polarisierung gedämpft, wobei der zugehörige (?-Wert des Resonatorteils erniedrigt wird. Der Q-Wert wird somit für das
gesamte optische Feld herabgesetzt Wenn er eine bestimmte untere Grenze erreicht dann kann der
entsprechende Strahl im Resonatorteil nicht aufrechterhalten werden. Die durch die Elektronen verursachte
Ladung 56 auf der Germaniumschicht 40 bewirkt jedoch, daß eine Dämpfung und damit eine Erniedrigung des Q-Wertes für den betreffenden Strahl, hier der
Strahl 20, nicht eintritt. An der zugeordneten Stelle tritt in der KPD-Schicht 34 eine Doppelbrechung auf, die
den elliptischen Polarisierungseffekt der Platte 28, der ebenfalls durch eine Doppelbrechung hervorgerufen
wurde, kompensiert. Es wird also nur der über den Elektronenstrahl 55 ausgewählte Strahl im Resonatorteil 10 stimuliert und kann in diesem oszillieren.
Die identischen Linsen 16 und 30 besitzen eine möglichst kleine Brennweite, damit der Vprstärkungseffekt mit einem hohen Wirkungsgrad durchgeführt
werden kann.
Anstelle der Germaniumschicht, die zur Abführung der aufgestrahlten Elektronen dient, kann auch eine
leitende, transparente Schicht, z. B. aus Cadmiumoxyd, auf die Oberfläche Λ3 der KPD-Schicht 34 aufgebracht
werden. Die transparente Schicht wird mit Erdpotential verbunden. Die Elektronen gelangen durch die KPD-Schicht hindurch und werden dann abgeleitet. In den
F i g. 2 und 3 gezeigte Teile, die solchen in der F i g. 1 entsprechen, sind mit den gleichen Bezugszeichen
gekennzeichnet, wobei diejenigen in der Fig.2 zusätzlich mit einem Strich und diejenigen in der F i g. 3
mit zwei Strichen versehen sind.
Die Einrichtung in der F i g. 2 unterscheidet sich von der in F i g. 1 dadurch, daß die Antireflexschicht 38 vor.
der der Linse 30 gegenüberliegenden Oberfläche 33 der KPD-Schicht entfernt und dort statt dessen eine
Facettenlinse 100' mit einzelnen Linsen 104' aufgeleimt wurde. Die Antireflexschicht 38' befindet sich hierbei
auf den Linsen 104'. Die Leimschicht 102' zwischen der Facettenlinse 100' und der KPD-Schicht 34' besitzt
einen geeigneten Brechungsindex. Weiterhin liegt der Brennpunkt 23' des Strahles 20' in der Brennebene der
Facettenlinse 100'. Diese Brennebene befindet sich im Resonatorteil 10' außerhalb der Anordnung 36'. Die
Lichtstrahlen 17', 18' und 19' des Strahlenbündels 20' verlaufen nach dem Passieren der zugeordneten Linse
104' parallel und beleuchten eine Fläche 106' auf dem reflektierenden Belag 39'.
Eine Facettenlinse enthält eine Vielzahl von in einem regelmäßigen Muster angeordneten Einzellinsen mit
einer besonderen optischen Eigenschaft, wobei in der Regel die Einzellinsen auf der Oberfläche des Materials
mit der gewünschten optischen Eigenschaft eingeprägt werden. Die Linse kann aus Glas, Plastik oder einem
anderen Material mit den erforderlichen Brechungseigenschaften bestehen. Die Linsen 104' der Facettenlinse
100' besitzen eine derartige optische Eigenschaft, daß diejenigen Lichtstrahlen, die im Brennpunkt einer Linse
104' zusammentreffen, durch diese Linse in parallele Strahlen 105' umgewandelt werden. Diese treffen
rechtwinklig auf den Belag 39' auf und werden von diesem unter dem gleichen Winkel wieder zurückgeworfen.
Wie in F i g. 1 kann auch der Resonatorteil 10' in
Fig.2 eine Vielzahl von verschiedenen Strahlen aufrechterhalten, die an verschiedenen Punkten der
Oberfläche 15' des Ausgangsspiegels 14' auftreffen. Wenn ein Strahl im Resonatorteil stimuliert wird, dann
ist er in bezug auf seine Natur und seine Lage stabilisiert und schwingt zwischen einem bestimmten Punkt, z. B.
21' auf der Oberfläche 15' und einer bestimmten Fläche, z. B. 106' auf dem reflektierenden Belag 39'. Wie jedoch
bereits anhand der F i g. 1 erläutert wurde, wird durch die Platte 28' der Q-Wert fur alle Strahlen, die nicht
durch den Elektronenstrahl 55' selektiert werden, so weit herabgesetzt, daß eine Stimulation dieser Strahlen
nicht mehr möglich ist
Um nun einen bestimmten Strahl, der im Brennpunkt
einer der Linsen 104' gesammelt wird, z. B. den Strahl
20', zu stimulieren und einen entsprechenden Ausgangslichtstrahl zu erhalten, wird der Elektronenstrahl 55' der
Kathodenstrahlröhre 46' auf einen Punkt auf der Halbleiterschicht 4C gelenkt, der gegenüber der Fläche
106' liegt auf die die parallelen Strahlen 105' des Strahls TSX auftreffen. Das durch die Ladung 56' der Elektronen
auf der Halbleiteroberfläche entstandene elektrische Feld in der KPD-Schicht 34' ruft eine örtlich begrenzte
Doppelbrechung hervor, die die elliptische Polarisierung der Platte 28' kompensiert. Der einer Doppelbre
chung in der KPD-Schicht 34' unterliegende Strahl wire daher im Resonatorteil stimuliert, während alle anderer
Strahlen gedämpft werden.
Jeder Strahl, der nicht im Brennpunkt 23' einer Linsf 104' gesammelt wird, kann ebenfalls nicht stimuliert
werden, da er vom reflektierenden Belag 39' unter einem anderen als dem Einfallswinkel wieder zurückgeworfen wird. Auf diese Weise erfolgt bereits durch die
w1 Facettenlinse 100' eine Digitalisierung des optischen
Ausgangsfeldes.
Da der Brennpunkt 23' der Linse 30' für den Strahl 20' sich nicht auf der Oberfläche 32' der KPD-Schicht 34'
befindet, sondern hier auf die Fläche 106' verteilte
parallele Strahlen 105' auftreffen, werden die Aufheizung und der Einfluß von Beschädigungen auf der
Oberfläche 32' stark herabgesetzt Die parallelen Strahlen 105' verteilen sich auf eine Fläche, die etwa der
der zugehörigen Linse 104' entspricht Gegenüber
dieser Fläche kleine Kratzer auf der Oberfläche 32' der
KPD-Schicht 34' sind daher nicht von Bedeutung.
Wie bei der Einrichtung nach F i g. 1 kann auch hier
die Halbleiterschicht 40' durch eine transparente, leitende Schicht ersetzt werden, die zwischen der
KPD-Schicht 34' und der Leimschicht 102' angeordnet ist.
In der Ausführungsform nach F i g. 3 befindet sich die Facettenlinse 100" zwischen der KPD-Schicht 34" und
dem Elektronenstrahl 55". Die Facettenlinse 100" ist
durch eine Leimschicht 108" befestigt, deren Brechungsindex mit dem der KPD-Schicht 34" übereinstimmt. Der
Leim füllt alle Kratzer und sonstigen Beschädigungen an der Oberfläche 32" der KPD-Schicht 34" aus, so daß
diese Beschädigungen auf die optischen Eigenschaften
der Oberfläche 32" keinen Einfluß haben. Wie F i g. 3
zeigt, wird der Strahl 20" durch die Linse 30" im Brennpunkt 23" der Linse 104" innerhalb der KPD-Schicht 34" gesammelt Die Linse 104" wirft die
Strahlen 105" wieder zum Brennpunkt 23" zurück. Die
Strahlen 105" durchsetzen ein bestimmtes Gebiet der
Oberfläche 32" der KPD-Schicht 34". Die Facettenlinse 100" mit den einzelnen Linsen 104" und dem auf diese
aufgebrachten reflektierenden Belag 39" dienen als Spiegel auf der einen Seite des Resonatorteiles 10". Der
Belag 39" und die darüberliegende Halbleiterschicht 40" weisen eine Kontur auf, die der der Facettenlinse
100" entspricht
Jeder Strahl im Resonatorteil 10", der nicht in einem der Brennpunkte 23" der Linsen 104" gesammelt wird
so kann nicht oszillieren, da er durch den Belag 39" unter
einem anderen als seinem Einfallswinkel wieder
zurückgeworfen wird. Auch hier wird das optische
Oberfläche der KPD-Schicht 34" durch die Leimschicht 108" vermieden wird, kann der Brennpunkt 23" nahe an
oder sogar auf die Oberfläche 32" der KPD-Schicht 34" gelegt werden. Wenn hier jedoch die Aufheizung zu
stark sein sollte, kann der Brennpunkt 23" auch an eine
andere Stelle verlegt werden.
Ein typischer Wert für einen linsendurchmesser liegi
bei etwa 0,25 mm. Die Größe von Kratzern oder
anderen Vertiefungen liegt dagegen bei Werten, die kleiner als 0,02 mm sind, so daß sie in bezug auf die vom
Von der Einzellinsengröße bei einer Facettenlinse hängt die Feinheit der Rasterung des Ausgangsfeldes ab.
Bei einem Mittenabstand der Einzellinsen von 0,25 mm
erhält man mit einem KPD-Kristall von 5 cm ■ 5 cm Größe ein Ausgangsfeld mit 200 · 200 möglichen
Bildpunkten.
Weitere konstruktive Einzelheiten werden nun anhand der F i g. 1 erläutert, wobei diese sinngemäß
auch für die F i g. 2 bzw. 3 gelten. Die Anordnung 36 ist über einen Ring 58 an der Kammer 48 befestigt. Der
Ring 58 ist um ein Fenster 60 in der Kammer 48 herumgelegt. Da die Kammer 48 evakuiert ist, wird
durch den äußeren Luftdruck die Anordnung 36 fest gegen die Kammer 48 gedrückt. Diese Art der
Befestigung zeichnet sich durch ihre besondere Einfachheit aus.
Das aktive Medium 22 kann beispielsweise aus einer Quecksilber-Entladeröhre mit einer Hohlkathode bestehen.
Ein spezielles Ausführungsbeispiel enthält eine röhrenförmige Kathode von 25 mm Durchmesser und
75 bis 200 mm Länge, die sich in einer Glasrohre mit eingeschmolzenen Zuleitungen befindet. Eine Anode
aus Tantaldraht ist in Form von Ringen etwa 10 mm von
jedem Ende der Kathode angeordnet und mit Wolframzuleitungen versehen. Die Stirnflächen 24 und
26 sind an den Enden der Glasrohre mit einem Epoxydkleber befestigt. Falls erforderlich, können sie
auch durch einen anderen linearen Polarisierer, der mit geringen Verlusten arbeitet, ersetzt werden. Die
Energiequelle für das aktive Medium kann durch einen impulsartig arbeitenden Hochspannungsgenerator dargestellt
sein, der etwa 200 bis 5000 Impulse in der Sekunde erzeugt. Beispielhafte Werte sind eine
Impulsdauer von 0,8 με, eine Impulsspannung von 2,2 kV
und ein Impulsstrom von 30 A.
Typische Maße für die elektrooptische KPD-Schicht liegen bei etwa 25 mm · 25 mm ■ 3 mm.
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen
Claims (9)
1. Elektronenstrahl-Abtastlaser unter Anwendung von Eigenschwingungsselektion mittels Güteschaltung
in einer Fabry-Perot-Interferometeranordnung,
bei dem auf der einen Seite des aktiven Mediums eine erste Linse und ein teilweise
durchlässiger Resonatorspiegel, auf den Laserstrahlung fokussierbar ist, angeordnet sind, während auf
der anderen Seite des aktiven Mediums eine zweite, die vom aktiven Medium kommende Laserstrahlung
sammelnde linse, ein doppelbrechendes Medium, ein einen elektrooptischen Effekt aufweisender
Kristall, der mit einer entweder halbleitenden oder elektrisch leitenden Schicht bedeckt ist, die als
Bildschirm für einen ablenkbaren Kathodenstrahl diert, und ein zweiter Resonatorspiegel vorgesehen
sind, dadurch gekennzeichnet, daß auf dem elektrooptischen Kristall (34' bzw. 34") ein
Facettenlinsenkörper (100' bzw. 100") mit einer Vielzahl von einzelnen Linsen (104' bzw. 104")
aufgekittet ist, wobei jedem in Eigenschwingungsselektion wählbarem Laserstrahlenbündel (20' bzw.
20") eine solche einzelne Linse (104' bzw. 104") zugeordnet ist, und daß die Ebene, in der die zweite
Linse (30' bzw. 30") das vom aktiven Medium (22' bzw. 22") kommende Laserlicht sammelt, mit der
dem aktiven Medium zugewandten Brennpunktebene der Facettenlinse (100' bzw. 100") zusammenfällt, in
2. Elektronenstrahl-Abtastlaser nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der elektrooptische
Kristall (34') so zwischen dem Facettenlinsenkörper (100') und dem zweiten Resonatorspiegel (39')
angeordnet ist, daß die einzelnen Strahlen (105') )r>
eines Laserstrahlenbündels (20') parallel durch den elektrooptischen Kristall (34') gelangen.
3. Elektronenstrahl-Abtastlaser nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Facettenlinsenkörper
(100") zwischen dem elektrooptischen Kristall (34") und dem zweiten Resonatorspiegel (39")
angeordnet ist.
4. Elektronenstrahl-Abtastlaser nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Facettenlinsenkörper
(100") mit einem reflektierenden Belag (39") versehen ist
5. Elektronenstrahl-Abtastlaser nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Brennpunkte (23")
der einzelnen Linsen (104") des Facettenlinsenkörpers (100") innerhalb des elektrooptischen Kristalls «
(34") liegen.
6. Elektronenstrahl-Abtastlaser nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Brennpunkte
(23') der einzelnen Linsen (104') des Facettenlinsenkörpers
(100') außerhalb des elektrooptischen r> Kristalls (34') liegen.
7. Elektronenstrahl-Abtastlaser nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß der
Facettenlinsenkörper (»00' bzw. 100") mit einem Kitt (102' bzw. 108"), dessen Brechungsindex dem w
des elektrooptischen Kristalls (34' bzw. 34") entspricht, an diesem (34' bzw. 34") befestigt ist.
8. Elektronenstrahl-Abtastlaser nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß der
elektrooptische Kristall ein Kaliumdihydrogenphos- b'>
phat-Kristall (34' bzw. 34") ist.
9. Elektronenstrahl-Abtastlaser nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß die
Fabry-Perot-Interferometeranordnung (10' bzw. 10") durch einen konjugierten Parallelplatten-Resonator
dargestellt ist
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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US1278970A | 1970-02-19 | 1970-02-19 |
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Family
ID=21756705
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DE2062085A Expired DE2062085C3 (de) | 1970-02-19 | 1970-12-17 | Elektronenstrahl-Abtastlaser |
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Country | Link |
---|---|
US (1) | US3626317A (de) |
JP (1) | JPS5336318B1 (de) |
DE (1) | DE2062085C3 (de) |
FR (1) | FR2080606B1 (de) |
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1971
- 1971-01-21 FR FR7102581A patent/FR2080606B1/fr not_active Expired
- 1971-01-22 JP JP164471A patent/JPS5336318B1/ja active Pending
- 1971-04-19 GB GB20971/71A patent/GB1275024A/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US3626317A (en) | 1971-12-07 |
FR2080606B1 (de) | 1974-04-26 |
DE2062085A1 (de) | 1971-09-16 |
FR2080606A1 (de) | 1971-11-19 |
DE2062085B2 (de) | 1978-11-09 |
JPS5336318B1 (de) | 1978-10-02 |
GB1275024A (en) | 1972-05-24 |
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