DE2040140C3 - Bearbeitungslaser - Google Patents
BearbeitungslaserInfo
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- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
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- G02F1/29—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the position or the direction of light beams, i.e. deflection
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- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/064—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms
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- B23K26/0665—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by beam condensation on the workpiece, e.g. for focusing
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft einen Bearbeitungslaser, dessen fokussierter und auf die Bearbeitungss.'elle
am Werkstück gerichteter kohärenter
ίο Strahl bezüglich seinem am Werkstück wirksam werdenden
Strahlquerschnitts einstellbar ist.
Mit einem Laserstrahl läßt sich eine außerordentlich hohe Leistungsdichte erreichen. Für viele Anwendungszwecke
ist diese Leistungsdichte nicht erforder-
lieh. Man ordnet dann, beispielsweise beim Laserschweißen,
das Werkstück um ein definiertes Maß unterhalb des Brennpunktes der Fokussieroptik an (Defokussierung).
Auf diese Weise wird die Energie des Laserstrahles auf die Fläche des gewünschten Schweiß-
ao punktes verteilt. Eine Veränderung der Strahlenein
wirkzone durch Veränderung des Abstandes der Werkstückoberfläche vom Strahlenbrennpunkt oder über
das optische System ist z. B. in dem Artikel »Laserschweißen in der Mikroelektronik«, erschienen im
as »Elektroanzeiger«, Bd. 22, Nr. 12 vom 9.4.1969 auf
S. 4 !,beschrieben.
Im IBM Technical Disclosure Bulletin, Bd. 8, Nr. 6, Nov. !965, S. 882 wird ein Bearbeitungslaser beschrieben,
der zum Bohren von Löchern bestimmt ist. Dabei wird der Laserstrahl durch eine Ablenkeinheit auf die
verschiedenen Bearbeitungsplätze gelenkt, ohne daß der Querschnitt des Laserstrahles auf den verschiedenen
Bearbeitungsplätzen variiert wird.
Bei derartigen Bearbeitungslasern treten immer noch Unregelmäßigkeiten in der Strahlenverteilung
auf. Dadurch wird ein regelmäßiger und kontrollierbarer Ablauf des gesamten Behandlungsprozesses, z. B.
Schweißprozesses, in dem der Wärmetransport von der bestrahlten Oberfläche aus eine wesentliche Rolle
spielt, verhindert.
Der vorliegenden Erfindung liegt somit die Aufgabe zugrunde, die Intensitätsverteilung eines Bearbeitungslaserstrahles in vorgegebener Weise in Abhängigkeit
vom Behandlungsobjekt zu steuern.
Diese Aufgabe wird dadurch gelöst, daß im Strahlengang des Laserstrahles ein Modulator angeordnet ist,
der den wirksam werdenden Strahlquerschnitt im Sinne einer Strahlaufweitung oder -auffächerung optisch
steuert.
J0 Die Modulation kann erfolgen durch Beugung, Brechung
(auch Doppelbrechung), Streuung oder Reflexion oder durch eine Kombination dieser Verfahren,
wobei der Transmissionsgrad möglichst nahe bei 1 liegen sollte.
Ein geeigneter Modulator besteht insbesondere aus einem Phasengitter, z. B. einem Phasenstrichgitter.
Durch Wahl des Phasenhubes kann die Intensitätsverteilung der Beugungsordnungen in gewünschter Weise
beeinflußt werden. Durch Wahl der Gitterkonstanten
So läßt sich außerdem der Ort der Beugungsordnungen in
der Schweißebene definiert einstellen.
Durch Überlagerung mehrerer derartiger Phasengitter auf einem gemeinsamen transparenten Substrat
oder durch Reihenschaltung lassen sich polygonförmige Verteilungen erreichen, die den gewünschten zentralsymmetrischen
weitgehend nahekommen, wenn die Einzelgitter verschiedene Winkel zueinander einschließen.
2 040 UO
Andere, ζ. B. elliptische Verteilungen können durch
entsprechende Wahl der Gitterkonstanten der einzelnen Gitter erzeugt werden. Es ist insbesondere auch
möglich, durch kontinuierliche örtliche Änderung der Gitterkonstanten die Beugungsordnungen lückenlos ineinander
übergehen zu lassen. Derartige Phasengitter lassen sich beispielsweise durch Zweistrahlinterferenz
(Holografie) herstellen, wenn eine der beiden interferierenden Wellen als ebene Welle, die andere als Zylinderwelle
vorgegeben werden.
Derartige Phasengitter lassen sich in einfacher Weise optisch mittels Fotoemulsionen, Fotolacken, dichromatisierter
Gelatine sowie durch Ätz-, Ritz- und Prägetechnik oder auch mit Elektronenstrahlen in Thermoplasten
und ähnlichen herstellen, wobei vorausgesetzt werden muß, daß diese Substanzen eine vernachlässigtare
Absorption für die benutzte Laserwellenlänge besitzen.
Es ist jedoch auch möglich, die Phasengitter zunächst als binäre Amplitudenstruktur mittels eines Plotters zu ao
zeichnen und zur Erzeugung eines annähernd sinusförmigen Transmissionsverlaufs auf Fotomaterial mit
einer solchen Kennlinie umzukopieren, die die starke Rechteckstruktur nichtlinear verschmiert. Die hierbei
hergestellte Maske dient als Vorlage für die Überlage- as
rung von Gittern verschiedener Richtungen, die in geeignetem Maßstab verkleinert, wiederum durch Fotomaskierung
ein Phasenvielfach-Strichgitter erzeugen.
Zur Herstellung komplizierter Strahlenintensitätsverteilungen müssen die Fouriertransformierten dieser
Verteilungen zunächst mit Hilfe einer elektronischen Datenverarbeitungsanlage für den Plotter aufgearbeitet,
berechnet werden.
Weiterhin ist es möglich, den Laserstrahl an laufenden Ultraschallwellen zu beugen und dadurch zu modutieren.
Als Modulator wird hierbei zweckmäßigerweise ein wassergefülltes Gefäß verwendet, in dem zwei
senkrecht zueinander laufende Ultraschallwellen erzeugt werden. Für den senkrecht dazu einfallenden
Laserstrahl wirken diese laufenden Ultraschallwellen wie ein Phasengitter. In der Brennebene der dahinter
aufgestellten Fokussierlinse wird eine Anordnung von Beugungsmaxima erzeugt, die als Strahlverteilung für
die Laserstrahlbehandlung verwendet werden kann. Die Frequenz der Ultraschallwellen wird vorzugsweise
im Bereich von 2 bis 4 MHz gewählt. Macht man die Frequenz bzw. die Amplitude der Ultraschallwelle variabel,
so kann beispielsweise bei einer Schweißbehandlung durch eine Steigerung der Frequenz am Ende des
Schweißvorganges der Strahlenquerschnitt vergrößert und auf diese Weise eine langsame Abkühlung der
Schweißstelle erreicht werden.
Es ist ferner zweckmäßig, die dem Resonator des Bearbeitungslasers
zugewandte Glasscheibe des Wasserbehälters als Auskoppelspiegel auszubilden.
Im Vergleich zur Laserstrahlfrcquenz stellen die Ultraschallwellen
eine niedrige Modulationsfrequenz dar. Eine schnellere Änderung der Intensitätsverteilung
kann durchgeführt werden, wenn der Strahl zeitlich nacheinander in verschiedenen Richtungen abgelenkt
wird, so daß sich die erwünschte Intensitätsverteilung ais zeitlicher Mittelwert der tatsächlichen Strahlung ergibt.
Es ist hierbei erforderlich, daß die Ablenkung schneller erfolgt, als die thermische Integrationskonstan'e
des bestrahlenden Objekts. In den Figuren sind einzelne Ausführungsbeispiele dargestellt, die im folgenden
näher beschrieben werden.
F i g. 1 zeigt einen Bearbeitungslaser nach der vorliegenden Erfindung, in dessen Strahlengang ein Modulator
angeordnet ist,
F i g. 2 zeigt eine Anordnung, bei der mit Hilfe laufender Schallwellen eine Modulation des Laserstrahls
erfolgt.
F i g. 1 zeigt eine Anordnung, wobei zwischen Laser und Fokussierlinse 1 ein Modulator 4 angeordnet ist,
wodurch eine zeitabhängige Intensitätsverteilung auftritt, die derart durch entsprechende Bemessung des
Modulators 2 gesteuert werden kann, daß sich eine gewünschte, z. B. gleichförmige Verteilung als Mittelwert
über die Zeit gerechnet ergibt.
F i g. 2 zeigt eine Anordnung, wobei ein Laserstrahl 5 durch ein mit Wasser gefülltes Gefäß hindurchgeleitet
wird und senkrecht zu der Richtung des Laserstrahls 5 eine Schallwelle, z. B. eine Ultraschallwelle 7, in dem
Wasser läuft. Eine solche laufende Ultraschallwelle wirkt wie ein Phasengitter, wobei sich für einen Frequenzbereich
der Ultraschallwelle von 2 bis 4 MHz eine Gitterkonstante von 0,3 bis 0,8 mm ergibt. Hierdurch
wird der Laserstrahl in verschiedene Ordnungen gebeugt. Der Pfeil 8 zeigt die nullte Ordnung, die Pfeile
9 zeigen die erste Ordnung und die Pfeile 10 schematisch die zweite Ordnung an.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (17)
1. Bearbeitungslaser, dessen fokussierter und auf die Bearbeitungsstelle am Werkstück gerichteter
kohärenter Strahl bezüglich seines am Werkstück wirksam werdenden Strahlquerschnitts einstellbar
ist. dadurch gekennzeichnet, daß im Strahlengang des Laserstrahles ein Modulator angeordnet
ist, der den wirksam werdenden Strahlquerschnitt im Sinne einer Strahlaufweitung oder
-auffächerung optisch steuert.
2. Bearbeitungslaser nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Modulation durch Beugung
des Laserstrahles erfolgt.
3. Bearbeitungslaser nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Modulation durch Brerhung
des Laserstrahles erfolgt.
4. Bearbeitungslaser nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Modulation durch Streuung
des Laserstrahles erfolgt.
5. Bearbeitungslaser nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß die Modulation durch Reflexion
des Laserstrahles erfolgt.
6. Bearbeitungslaser nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Modulator aus einem Phasengitter
besteht.
7. Bearbeitungslaser nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß der Modulator aus einem Phasenstrichgitter
besteht.
8. Bearbeitungslaser nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Modulator aus mehreren
auf ein transparentes Substrat übertragenen Phasengittern besteht.
9. Bearbeitungslaser nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Modulator aus mehreren
hintereinander geschalteten Phasengittern besteht.
10. Bearbeitungslaser nach Anspruch 8 oder 9, dadurch
gekennzeichnet, daß die Einzelgitter verschiedene Winkel miteinander einschließen.
11. Bearbeitungslaser nach einem oder mehreren
der Ansprüche 8 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Gitterkonstanten der einzelnen Gitter so
gewählt sind, daß eine elliptische Verteilung erzeugt wird.
12. Bearbeitungslaser nach Anspruch 11, dadurch
gekennzeichnet, daß die Gitterkonstanten sich örtlich kontinuierlich ändern, derart, daß die erzeugten
Beugungsordnungen lückenlos ineinander übergehen.
13. Bearbeitungslaser nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zur Modulation des Laserstrahles
laufende Ultraschallwellen verwendet sind.
14. Bearbeitungslaser nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß als Modulator ein wassergefülltes
Gefäß verwendet wird, in dem zwei senkrecht zueinander 'aufende Ultraschallwellen erzeugt
werden.
15. Bearbeitungslaser nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß eine Ultraschallfrequenz im
Bereich von 2 bis 4 MHz verwendet wird.
16. Bearbeitungslaser nach einem oder mehreren der Ansprüche 13 bis 15, dadurch gekennzeichnet,
daß die Frequenz bzw. die Amplitude der Ultraschallwelle variabel ist.
17. Bearbeitungslaser nach Anspruch 16, dadurch
gekennzeichnet, daß die dem Resonator zugewand
te Glasscheibe des Wasserbehälters als Auskoppelspiegel ausgebildet ist.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2040140A DE2040140C3 (de) | 1970-08-12 | 1970-08-12 | Bearbeitungslaser |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2040140A DE2040140C3 (de) | 1970-08-12 | 1970-08-12 | Bearbeitungslaser |
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DE2040140B2 DE2040140B2 (de) | 1974-09-12 |
DE2040140C3 true DE2040140C3 (de) | 1975-05-15 |
Family
ID=5779570
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2040140A Expired DE2040140C3 (de) | 1970-08-12 | 1970-08-12 | Bearbeitungslaser |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
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Families Citing this family (5)
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DE3166961D1 (en) * | 1980-08-05 | 1984-12-06 | Belge Etat | Process for the manufacture of polycrystalline films of semiconductors formed by compounds or elements, and films thus obtained |
DE3742770A1 (de) * | 1987-12-17 | 1989-06-29 | Akzo Gmbh | Mikro-/ultrafiltrationsmembranen mit definierter porengroesse durch bestrahlung mit gepulsten lasern und verfahren zur herstellung |
US5308180A (en) * | 1991-12-09 | 1994-05-03 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Liquid applicator with metering insert |
ES2102857T3 (es) * | 1993-06-11 | 1997-08-01 | Minnesota Mining & Mfg | Utensilio de reproduccion maquinado por laser. |
-
1970
- 1970-08-12 DE DE2040140A patent/DE2040140C3/de not_active Expired
Also Published As
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Legal Events
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C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
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