DE202009003315U1

DE202009003315U1 - Reflektor für eine Leuchte u.a.

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Publication number: DE202009003315U1
Application number: DE202009003315U
Authority: DE
Original assignee: Erco GmbH
Current assignee: Erco GmbH
Priority date: 2009-03-11
Filing date: 2009-03-11
Publication date: 2010-07-29
Anticipated expiration: 2019-03-12
Also published as: DE102009012210A1

Abstract

Schalenförmiger Reflektor (11) für eine Leuchte (10), in dessen Innenraum eine Lampe (13) anordenbar ist, mit einer Innenseite (20), die eine Vielzahl von zum Innenraum hin vorstehenden Facetten (18a, 18b, 18c, 18d, 18e, 18f, 18g, 18h, 18i, 18j, 18k) aufweist, wobei mehrere nebeneinander angeordnete Facetten (18a, 18b, 18c) einen Wellenzug (W) bilden, der Wellentäler (32) und Wellenberge (31) aufweist, die eine – bezogen auf die Grundform (22) des Reflektors – relative Amplitude (RA) des Wellenzuges definieren, dadurch gekennzeichnet, dass der Wellenzug von einer unregelmäßigen Struktur (23) überlagert ist, die eine Amplitude (RT) aufweist, die zwischen 1/100 und 2/10 der relativen Amplitude des Wellenzuges beträgt.

Description

Die Erfindung betrifft zunächst einen schalenförmigen Reflektor für eine Leuchte nach dem Oberbegriff des Anspruches 1.
Derartige Reflektoren werden von der Anmelderin seit einiger Zeit entwickelt und gefertigt. Entsprechende Reflektoren sind beispielsweise in den vorveröffentlichten deutschen Patentanmeldungen DE 10 2004 042 915 A1 , DE 10 2007 035 528 A1 , DE 10 2007 035 396 A1 , DE 10 2007 044 963 A1 und den nachveröffentlichten Patentanmeldungen DE 10 2008 056 103 A1 und DE 10 2008 063 369 A1 beschrieben. Sämtliche dieser Anmeldungen gehen auf die Anmelderin zurück. Der Inhalt sämtlicher der vorgenannten Patentanmeldungen wird hiermit zur Vermeidung von Wiederholungen und auch zum Zwecke der Bezugnahme, auch auf einzelne Merkmale, hiermit in den Inhalt der vorliegenden Patentanmeldung mit eingeschlossen.
Bei den vorbekannten Reflektoren sind auf der Innenseite zahlreiche Facetten vorgesehen, die unterschiedlich ausgestaltete Facettenoberflächen aufweisen können. Die Licht reflektierende Facettenoberfläche kann insbesondere auf besondere Weise gewölbt, beispielsweise sphärisch, asphärisch oder zylindrisch gewölbt, ausgestaltet sein. Alternativ und/oder zusätzlich können die Facettenoberflächen auch plan ausgebildet sein.
Durch aufwendige Computersimulationen kann das Lichtabstrahlverhalten der facettierten Reflektor-Innenfläche für ein bestimmtes Leuchtmittel vorherberechnet werden. So kann, wie dies die zahlreichen Schutzrechtsanmeldungen der Anmelderin offenbaren, eine beliebige Lichtverteilung der Leuchte allein durch Wahl der Form und Größe sowie Positionierung der einzelnen Facettenoberflächen erzielt werden.
Bei einigen Reflektoren hat sich herausgestellt, dass sich zwischen den durch Simulation berechneten theoretischen Lichtverteilungen und den realen Lichtverteilungen von entsprechend der Simulation gefertigten Reflektoren Diskrepanzen ergeben können. So kann mit einer realen Lampe und einem realen Facettenreflektor zwar grundsätzlich eine Lichtverteilung an einer realen Fläche erzielt werden, die der simulierten Lichtverteilung sehr stark angenähert ist. Bei der realen Lichtverteilung kommt es aber teilweise zu einer Bildung von regelmäßigen oder unregelmäßigen Mustern in der Lichtverteilung, die ungewünscht sind. Diese, auch als Schlieren bezeichenbare Störeffekte sollen nach Möglichkeit vermieden werden.
Ausgehend von einem aus der eingangs beschriebenen Patentanmeldung der Anmelderin her bekannten, schalenförmigen Reflektor gemäß dem Oberbegriff des Anspruches 1 besteht die Aufgabe der Erfindung darin, einen solchen Reflektor derart weiterzubilden, dass eine vergleichmäßigte Lichtverteilung erzielbar ist.
Die Erfindung löst diese Aufgabe mit den Merkmalen des Anspruches 1, insbesondere mit denen des Kennzeichenteils, und ist demgemäß dadurch gekennzeichnet, dass der Wellenzug von einer unregelmäßigen Struktur überlagert ist, die eine Amplitude aufweist, die zwischen 1/100 und 2/10 der relativen Amplitude des Wellenzuges beträgt.
Das Prinzip der Erfindung besteht darin, einen mit zahlreichen Facetten versehenen Reflektor mit einer bestimmten Rauigkeit zu versehen. Die Rautiefe wird dabei derart gewählt, dass ein gewünschtes, geringfügig diffusives Reflektionsverhalten erzielt wird. Durch Aufbringung dieser Oberflächenrauigkeit kann die beschriebene Muster- oder Schlierenbildung vermieden werden. Es kommt zu der gewünschten Vergleichmäßigung der Lichtverteilung.
Die Erfindung erkennt, dass die Ungleichmäßigkeiten in der Lichtverteilungskurve bei den Reflektoren des Standes der Technik unter anderem dadurch bedingt sind, dass die Facetten eine derartig exakte und präzise Kontur aufweisen, dass aufgrund von Abschattungseffekten, bedingt durch die geometrische Anordnung und Struktur der Facetten, resonanzartige Lichtmuster in der Lichtverteilungskurve entstehen können. Durch Aufbringung einer geeigneten Oberflächenrauigkeit auf die Facettenoberflächen kann ein leicht diffuses Abstrahlverhalten der einzelnen Facetten erzielt werden. Durch Überlagerung des leicht diffusen Abstrahlverhaltens zahlreicher Facetten wird die Lichtverteilung insgesamt vergleichmäßigt.
Der Grad der Diffusivität des Abstrahlverhaltens wird dabei aber präzise gewählt: So beträgt die Amplitude der unregelmäßigen Struktur, die dem präzisen Wellenzug überlagert ist, nur einen Bruchteil der relativen Amplitude des Wellenzuges.
Die relative Amplitude des Wellenzuges im Sinne der vorliegenden Patentanmeldung ist der mittlere Abstand zwischen einem Wellental und einem benachbarten Wellenberg. Die Amplitude der unregelmäßigen Struktur ist im Sinne der vorliegenden Patentanmeldung der mittlere Abstand zwischen einem Wellental und einem Wellenberg der Oberflächenrauigkeit. Das Verhältnis der Amplitude der unregelmäßigen Struktur zu der relativen Amplitude des Wellenzuges beträgt etwa zwischen 1:100 und 2:10.
Der erfindungsgemäße Reflektor ist schalenförmig ausgebildet. Er weist demnach eine schalenförmige Grundform auf. Vorzugweise ist der Reflektor im Wesentlichen rotationssymmetrisch hinsichtlich seiner Grundform ausgebildet. Die einzelnen Facetten, und insbesondere deren individuell berechnete Oberflächen, können allerdings in einer nicht rotationssymmetrischen Weise entlang der Innenfläche des Reflektors angeordnet sein. Insbesondere kann mit einem hinsichtlich seiner Grundform rotationssymmetrischen schalenförmigen Reflektor und einer im Wesentlichen punktförmigen Lichtquelle – falls gewünscht – auch eine nicht rotationssymmetrische Lichtverteilung generiert werden.
In dem Innenraum des Reflektors ist eine Lampe anordenbar. Hierfür kann beispielsweise im Bereich des Scheitels des Reflektors eine Durchtrittsöffnung für eine Lampe angeordnet sein. Diese Lampendurchtrittsöffnung kann allerdings auch in einem seitlichen Wandungsbereich des Reflektors angeordnet sein.
Die Innenfläche des Reflektorelementes ist vorteilhaft hoch reflektierend ausgebildet. Sie weist eine Vielzahl von Facetten auf. Die Facetten können entlang von konzentrischen Reihen und quer dazu verlaufenden Spalten angeordnet sein. Die Facetten springen mit ihrer Oberfläche zum Innenraum hin vor. Die Oberfläche der einzelnen Facetten kann beispielsweise gewölbt sein oder plane Abschnitte umfassen. Die Art und Ausbildung der Facettenoberfläche hängt von der gewünschten, zu erzielenden Lichtverteilung der Leuchte ab.
Mehrere, nebeneinander angeordnete Facetten bilden einen Wellenzug, der Wellentäler und Wellenberge aufweist. Ein solcher Wellenzug ergibt sich beispielsweise, wenn man mit einer sehr feinen Tastnadel die Innenseite des Reflektorelemente, z. B. in Umfangsrichtung des Reflektors oder quer dazu, abfahren würde. Der Begriff Wellental und Wellenberg bezeichnet im Sinne der Erfindung nicht nur gewölbte Erhebungen und Niederungen, sondern beispielsweise auch Wellenzüge, die einen sägezahnartigen oder rechtecksignal-artigen Verlauf haben. Ein Wellenzug im Sinne der vorliegenden Patentanmeldung repräsentiert mithin einen Verlauf der Kontur jeglicher Arten von Vorsprüngen und Zwischenräumen oder Rücksprüngen.
Die Wellentäler und Wellenberge definieren eine relative Amplitude des Wellenzuges. Der Begriff relative Amplitude des Wellenzuges bezieht sich auf eine Grundform des Reflektors.
Betrachtet man beispielsweise einen Wellenzug, der sich durch Abtastung der Innenfläche des Reflektorelementes, also durch Überfahren der Facetten, entlang der Umfangsrichtung des Reflektors ergibt, so stellt man fest, dass der Wellenzug, einer kreisbogenförmigen Grundform des Reflektors folgend, beispielsweise eine sinusförmige Wellenlinie zeigt. Die relative Amplitude des Wellenzuges bedeutet im Sinne der vorliegenden Patentanmeldung dann einen mittleren maximalen Abstand zwischen einem Wellental und einem darauf folgenden Wellenberg, wobei die mittleren Höhen des Wellenberges und des Wellentales jeweils gemessen werden relativ zu der Kreisbogenlinie, die die Grundform des Reflektorelementes vorgibt.
Der Wellenzug kann bereits bei Reflektoren des Standes der Technik mit einer sehr hohen Fertigungspräzision hergestellt werden.
Unter der Annahme, dass das erfindungsgemäße Reflektorelement aus einer Aluminiumronde gedrückt wird, indem die Aluminiumronde fortwährend gegen eine rotierende Patrize mit einer Formgebungsfläche gedrückt wird, ist folgendes zu beachten: Die Patrize weist Ausnehmungen auf, die mit sehr hoher Präzision von etwa 5 μm in die Patrize eingefräst worden sind. Diese hohe Fertigungspräzision findet sich als Fertigungstoleranz auch bei dem durch Drücken gegen eine solche Patrize entstandenen Aluminium-Reflektor.
Zum Beispiel durch Ätzen der Werkzeugform kann in die Werkzeugform die gewünschte Rauigkeit eingebracht werden. Diese kann eine mittlere Rautiefe von zwischen 5 und 150 μm, vorzugsweise zwischen 10 und 80 μm, besonders vorteilhaft zwischen 20 und 30 μm, aufweisen.
Als mittlere Rautiefe wird dabei eine sogenannte gemittelte Rautiefe bezeichnet, die durch Entlangfahren einer Messstrecke auf der Oberfläche des Werkstückes als jeweilige Differenz aus maximalem und minimalem Wert des Profils ermittelt wird. Wie in anderen Bereichen der Technik üblich wird, als gemittelte oder mittlere Rautiefe im Sinne der vorliegenden Patentanmeldung auf eine Standard-gemittelte Rautiefe zurückgegriffen, die eine Auswertung mehrerer, z. B. fünf einzelner Messstrecken, die gemittelt werden, berücksichtigt.
In der vorliegenden Patentanmeldung werden im Übrigen die Begriffe Rautiefe, mittlere Rautiefe und gemittelte Rautiefe synonym verwendet.
Bei dem erfindungsgemäßen Reflektor ist die unregelmäßige Struktur mit einer Amplitude ausgestattet, die zwischen 1/100 und 2/10 der relativen Amplitude des Wellenzuges beträgt. Die unregelmäßige Struktur überlagert insoweit den Wellenzug. Der Wellenzug ist – bei bildlicher Darstellung – noch sehr genau erkennbar. Die unregelmäßige Struktur führt bei Betrachtung einer bildlichen Darstellung zu einer rauschartigen Zitterkurve, die den präzisen Wellenzug überlagert.
Unter Rückgriff auf vergleichbare Phänomene in der Elektrotechnik kann das Verhältnis von Wellenzug zur unregelmäßigen Struktur auch als eine Art Signal-Rausch-Verhalten betrachtet werden. Während der Wellenzug das eigentliche Nutzsignal darstellt, wird dieses bei dem erfindungsgemäßen Reflektor mit Bedacht mit einem zusätzlichen Rauschen versehen. Erst durch die Aufbringung eines solchen zusätzlichen Rauschsignals verbessert sich die Lichtverteilung im Sinne einer Homogenisierung und Vergleichmäßigung.
Ähnlich wie bei einem Rauschen eines elektrischen Signals in der Elektrotechnik ist auch die – vorteilhaft auf der gesamten – Innenfläche des Reflektorelementes vorgesehene unregelmäßige Struktur eine Art Störgröße mit einem breiten, unspezifischen Frequenzspektrum. Im Unterschied zu der elektrotechnischen Signalbetrachtung ist bei dem vorliegenden Reflektorelement das Rauschen aber nicht per se vorhanden, sondern wird als gewünschte Rauigkeit auf die Oberfläche des Reflektorelementes aufgebracht.
Von der Erfindung sind auch solche Reflektoren umfasst, bei denen die relative Amplitude des Wellenzuges entlang unterschiedlicher Abschnitte der Innenfläche des Reflektorelementes variiert. Beispielsweise kann die relative Amplitude in einem ersten flächenhaften Abschnitt der Innenfläche des Reflektorelementes etwa 0,5 mm betragen und in einem anderen Abschnitt der Innenfläche des Reflektorelementes lediglich 0,2 mm betragen. Der erste Abschnitt des Reflektorelementes kann dann mit einer unregelmäßigen Struktur überlagert sein, die eine erste Amplitude aufweist und der zweite Abschnitt kann von einer unregelmäßigen Struktur überlagert sein, die eine zweite Amplitude aufweist. Die erste und die zweite Amplitude können gleich oder unterschiedlich ausgestaltet sein.
Gemäß einer vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung ist die Amplitude der unregelmäßigen Struktur größer als 1/50 der relativen Amplitude des Wellenzuges.
Weiter vorteilhaft ist die Amplitude der unregelmäßigen Struktur größer als 1/40 der relativen Amplitude des Wellenzuges.
Weiter vorteilhaft ist die Amplitude der unregelmäßigen Struktur größer als 1/30 der relativen Amplitude des Wellenzuges.
Weiter vorteilhaft ist die Amplitude der unregelmäßigen Struktur größer als 1/25 der relativen Amplitude des Wellenzuges.
Weiter vorteilhaft ist die Amplitude der unregelmäßigen Struktur größer als 1/20 der relativen Amplitude des Wellenzuges.
Weiter vorteilhaft ist die Amplitude der unregelmäßigen Struktur größer als 1/15 der relativen Amplitude des Wellenzuges.
Weiter vorteilhaft ist die Amplitude der unregelmäßigen Struktur größer als 1/12 der relativen Amplitude des Wellenzuges.
Weiter vorteilhaft ist die Amplitude der unregelmäßigen Struktur größer als 1/11 der relativen Amplitude des Wellenzuges.
Weiter vorteilhaft ist die Amplitude der unregelmäßigen Struktur kleiner als 2/10 der relativen Amplitude des Wellenzuges.
Weiter vorteilhaft ist die Amplitude der unregelmäßigen Struktur kleiner als 3/20 der relativen Amplitude des Wellenzuges.
Weiter vorteilhaft ist die Amplitude der unregelmäßigen Struktur kleiner als 5/40 der relativen Amplitude des Wellenzuges.
Das grundlegende Prinzip der Erfindung besteht darin, den präzisen Wellenzug mit einer unregelmäßigen Struktur zu überlagern, die eine Oberflächenrauigkeit einbringt, deren Rautiefe mindestens in der Größenordnung der Fertigungstoleranz des Reflektorelementes und damit der Präzision des Wellenzuges liegt.
Unter der Annahme, dass die Fertigungstoleranz des Reflektors und der Facetten etwa 1/100stel der relativen Amplitude des Wellenzuges entspricht, ist demzufolge erfindungsgemäß vorgesehen, dass die Rautiefe etwa dem ein- bis zwanzigfachen der Fertigungstoleranz entspricht.
Weiter vorteilhaft ist vorgesehen, dass die relative Amplitude des Wellenzuges im Mittel zwischen 0,4 und 1 mm beträgt, vorzugsweise zwischen 0,45 und 0,8 mm, weiter vorzugsweise etwa zwischen 0,5 und 0,6 mm.
Derartige relative Amplituden des Wellenzuges haben sich als technisch optimal beherrschbar und lichttechnisch optimal simulierbar herausgestellt. Außerdem hat sich im Praxistest herausgestellt, dass solche relativen Amplituden des Wellenzuges optimierte, reale lichttechnische Verhältnisse liefern.
Weiter vorteilhaft ist vorgesehen, dass der Reflektor hinsichtlich seiner Grundform rotationssymmetrisch ausgebildet ist. Dies ermöglicht den Rückgriff auf herkömmliche Herstellungsverfahren.
Weiter vorteilhaft ist vorgesehen, dass die Innenseite des Reflektors hoch reflektierend ausgebildet ist. Hierdurch kann die gewünschte Lichtverteilung erzielt werden.
Weiter vorteilhaft ist vorgesehen, dass der Reflektor einen parabelförmigen Querschnitt aufweist. Dies ermöglicht die Anordnung einer Lampe, also eines Leuchtmittels, im Brennpunkt oder nahe des Brennpunktes des Reflektors. Damit einhergehend wird eine vereinfachte Lichtsimulation ermöglicht.
Weiter vorteilhaft besteht der Reflektor aus Aluminium. Dies ermöglicht einen Rückgriff auf bekannte Herstellungsarten.
Weiter vorteilhaft ist der Reflektor in einem Druckverfahren durch Drücken gegen eine Patrize gefertigt. Dies ermöglicht einen Rückgriff auf herkömmliche Herstellungsverfahren.
Weiter vorteilhaft sind der Wellenzug und die überlagernde unregelmäßige Struktur in einem gemeinsamen Arbeitsgang, insbesondere einem Druckvorgang, in die Innenseite des Reflektors eingearbeitet worden. Dies ermöglicht eine besonders effiziente Herstellung des erfindungsgemäßen Reflektors.
Die Erfindung löst die gestellte Aufgabe auch durch die Merkmale des Anspruches 4. Demnach ist vorgesehen, dass der zahlreiche Facetten aufweisende Reflektor mit einer Rauigkeit behaftet ist, deren Rautiefe zwischen 20 und 30 μm liegt.
Die Erfindung betrifft des Weiteren eine Leuchte nach dem Oberbegriff des Anspruches 12.
Die Erfindung geht aus von einer Leuchte, wie sie in der Eingangs beschriebenen, vorveröffentlichten Anmeldung der Anmelderin beschrieben ist.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die vorbekannte Leuchte derartig weiterzuentwickeln, dass eine vergleichmäßigte Lichtverteilung erzielbar ist.
Die Erfindung löst diese Aufgabe mit den Merkmalen des Anspruches 12.
Die erfindungsgemäße Leuchte umfasst ein Leuchtengehäuse, eine Lampe und einen Reflektor. Umfasst von der Erfindung sind selbstverständlich auch Leuchten mit mehreren Gehäusen, und/oder mehreren Lampen und/oder mehreren Reflektoren. Das Leuchtengehäuse umgibt zumindest den Reflektor. Die Lampe ragt in den Innenraum des Reflektors hinein oder ist vollständig innerhalb des Reflektorinnenraumes angeordnet.
Die Innenseite des Reflektorelementes weist zahlreiche Facetten auf. Diese sind mit einer hohen Genauigkeit gefertigt worden.
Die Besonderheit besteht darin, dass die Innenseite des Reflektorelementes zur Vergleichmäßigung der Lichtstärkeverteilung auf einer auszuleuchtenden Fläche mit einer Oberflächenrauheit ausgestattet ist. Die mittlere Rautiefe dieser Rauheit liegt zumindest in der Größenordnung der Fertigungsgenauigkeit der Facetten. Als Fertigungsgenauigkeit der Facetten wird die Toleranz bezeichnet, mit der die Facetten herstellbar sind. Die Fertigungstoleranz der Facetten entspricht der Fertigungstoleranz der geometrisch invertierten Ausnehmungen in der Patrize, gegen die eine Aluminiumronde bei der Herstellung des Reflektorelementes gedrückt wird. Die mittlere Rautiefe ist insoweit derartig gewählt, dass sie die Fertigungstoleranzen erreicht bzw. übersteigt. Die Oberfläche der Facetten, und damit die Innenseite des Reflektorelementes, wird insoweit mit einer Rauigkeit oder Rauheit versehen. Hierdurch kann ein leicht diffuseres Reflektionsverhalten der Facettenoberflächen erzielt werden.
Die Erfindung betrifft des Weiteren ein Werkzeug zur Herstellung eines Reflektors nach dem Oberbegriff des Anspruches 15.
Ein solches Werkzeug ist in der eingangs erwähnten, vorveröffentlichten Patentanmeldung der Anmelderin beschrieben.
Die Aufgabe der Erfindung besteht darin, ein vorbekanntes Werkzeug nach dem Oberbegriff des Anspruches 15 derartig weiterzuentwickeln, dass ein Reflektorelement herstellbar ist, mit dem eine gleichmäßigere Lichtverteilung erzielbar ist.
Die Erfindung löst diese Aufgabe mit den Merkmalen des Anspruches 15.
Zur Würdigung dieser Erfindung wird auf die obigen Ausführungen verwiesen, die in analoger Weise Geltung finden.
Die Ausnehmungen der Formgebungsfläche drücken sich beim Drücken der Aluminiumronde auf der Innenseite des Reflektors ab und bilden dort die nach Innen vorspringenden Facetten. Die Formgebungsfläche ist mit einer hohen Fertigungsgenauigkeit bearbeitet worden. Die Ausnehmungen, die sozusagen einen geometrisch invertierten Wellenzug bilden, weisen also ebenfalls nur geringe Fertigungstoleranzen von beispielsweise 5 μm auf.
Die Besonderheit besteht darin, dass die Formgebungsfläche in einem der Einarbeitung der Ausnehmungen nachfolgenden Bearbeitungsschritt mit einer Rauigkeit versehen wird. Diese Rauigkeit wird durch eine Rautiefe definiert, die zumindest in der Größenordnung der Fertigungstoleranz der Ausnehmung liegt, aber auch um ein Mehrfaches darüber liegen kann. Mithin wird nach dem Einfräsen der Ausnehmungen in das Werkstück, aus dem die Patrize gefertigt wird, dieses nachfolgend nochmalig bearbeitet, um die gewünschte Rauigkeit zu erzielen. Diese Rauigkeit kann beispielsweise durch einen Ätzprozess erreicht werden. Auch alternative Bearbeitungsschritte der Patrize, beispielsweise durch Sandstrahlen oder eine sonstige Oberflächenbearbeitung, kommen in Frage.
Grundsätzlich sei angemerkt, dass die Bereitstellung der Rauigkeit mit einer gewünschten Rautiefe in der Patrize unter Umständen auch bereits bei der Einarbeitung der Ausnehmungen in die Patrize mit eingearbeitet werden könnte, z. B. im Falle einer Laserstrahl-Gravur der Patrize. Für den Fall, dass eine Rauigkeit mit einer derartig großen Rautiefe bereitgestellt werden soll, dass diese die Fertigungstoleranz der Ausnehmungen um ein Mehrfaches übersteigt, könnte beispielsweise auch daran gedacht werden, die gewünschte Rautiefe direkt bei einem solchen Bearbeitungsschritt mit einzubringen.
Andererseits ermöglicht gerade ein Ätzen oder eine andere Oberflächenbearbeitung der Patrize nach dem Einfräsen der Ausnehmungen eine besonders gleichmäßige, also über die gesamte Innenfläche des Reflektorelementes gleich gehaltene Rauigkeit oder Rautiefe.
Weitere Vorteile der Erfindung ergeben sich anhand der nicht zitierten Unteransprüche sowie aus der nachfolgenden Beschreibung der in den Zeichnungen dargestellten Ausführungsbeispiele der Erfindung. In den Figuren zeigen:
1 in einer schematischen Prinzipskizze ein erstes Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Leuchte,
2 das Reflektorelement der Leuchte der 1 in Einzeldarstellung, etwa in einer Ansicht gemäß Ansichtspfeil II in 1, wobei eine Lampendurchtrittsöffnung in dem Reflektor der 2 nicht dargestellt ist,
3 in einer sehr schematischen, teilgeschnittenen Darstellung das Reflektorelement der 2, etwa entlang der Schnittlinie III-III in 2,
4 in einer vergrößerten Darstellung gemäß Teilkreis IV einen Bereich der Innenfläche des Reflektorelementes der 3 in einer teilgeschnittenen Ansicht,
4a in einer Darstellung ähnlich der 4 einen Bereich der Innenfläche des Reflektorelementes der 3 etwa entlang einer Schnittlinie gemäß IVa-IVa in 4,
5 den Bereich der Innenfläche des Reflektorelementes der 4 in einer Darstellung ähnlich der 4, wobei die Anordnung der drei einander benachbarten Segmente entlang einer Ebene abgewickelt ist,
5a ein weiteres Ausführungsbeispiel in einer Darstellung der 5,
6 ein weiteres Ausführungsbeispiel in einer Darstellung der 5,
7 ein weiteres Ausführungsbeispiel in einer Darstellung der 5,
8 das Ausführungsbeispiel der 5a in vergrößerter Darstellung, wobei eine unregelmäßige Struktur den Wellenzug als rauschartige Kurve überlagert,
9 in einer schematischen Darstellung eine Lichtverteilungskurve, die sich bei einem Ausführungsbeispiel einer Leuchte des Standes der Technik ergibt,
10 eine Lichtverteilungskurve, die sich mit der gleichen Leuchte und dem gleichen Reflektorelement wie bei der Leuchte, die der 9 zu Grunde liegt, ergibt, wobei zusätzlich eine unregelmäßige Struktur auf die Reflektorinnenseite aufgebracht ist,
11 ein Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Werkzeugform, der sogenannten Patrize, in schematischer Darstellung,
12 in einer vergrößerten Darstellung gemäß Teilkreis XII in 11 einen Abschnitt der Kontur der Patrize,
13 in einer vergrößerten Darstellung nach Art der 8 ein Segment 18a zur Veranschaulichung des Reflektionsverhaltens, und
14 in einer Darstellung gemäß 13 das Segment 18a, auf dessen Oberfläche eine unregelmäßige Struktur 23 aufgebracht worden ist zur Veranschaulichung des dadurch erzielbaren Abstrahlverhaltens.
Die in ihrer Gesamtheit in den Figuren mit 10 bezeichnete Leuchte und das in seiner Gesamtheit in den Figuren mit 11 bezeichnete Reflektorelement sollen nachfolgend detailliert erläutert werden. Der nachfolgenden Beschreibung sei vorausgeschickt, dass der Übersichtlichkeit halber gleiche oder miteinander vergleichbare Teile oder Elemente, teilweise auch bei unterschiedlichen Ausführungsbeispielen, der Übersichtlichkeit halber mit gleichen Bezugszeichen versehen worden sind, teilweise unter Hinzufügung kleiner Buchstaben.
Das Ausführungsbeispiel der 1 zeigt in einer sehr schematischen Darstellung ein erstes Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Leuchte 10. Die Leuchte umfasst ein Leuchtengehäuse 12, welches alle wesentlichen Bestandteile der Leuchte 10 umhüllt und beispielsweise auch Befestigungsflächen für ein Reflektorelement 11 bereitstellt. Die elektrischen Zuleitungen zum Betrieb des Leuchtmittels 13 sind aus Gründen der Übersichtlichkeit nicht dargestellt. Das Leuchtmittel 13 kann beispielsweise eine im Scheitelbereich S des Reflektorelementes 11 angeordnete Lampendurchtrittsöffnung durchstecken, insbesondere derart, dass das leuchtende Volumen 17 des vorzugsweise als Punktlichtquelle ausgebildeten Leuchtmittels 13 im Bereich des Brennpunktes B des im Wesentlichen parabolförmigen Reflektors 11 angeordnet ist. Ein Lampensockel 14 kann sich beispielsweise auch außerhalb des Reflektorelementes 11 befinden und am Gehäuse 12 gelagert sein.
Die Lichtaustrittsöffnung 15 der Leuchte 10 kann durch ein gestrichelt angedeutetes Abschlussglas 16 verschlossen sein, welches vorzugsweise transparent oder transluzent ausgebildet ist. Unter Umständen kann dieses auch zumindest teilweise diffusiv ausgebildet sein.
Bei einem weiteren Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Leuchte kann ein Abschlussglas 16 aber auch gänzlich entfallen.
Die 2 zeigt ein erfindungsgemäßes Reflektorelement 11 in schematischer Ansicht, wie es in einer erfindungsgemäßen Leuchte 10 zum Einsatz kommt. Das Reflektorelement 11 weist auf seiner Innenseite 20 eine Vielzahl von Facetten oder Segmenten 18a, 18b, 18c, 18d, 18e, 18f, 18g, 18h, 18i, 18j und 18k auf. Der in 2 dargestellte freie Rand 19 des Reflektorelementes 11 kann eine vorteilhafte Befestigung des Reflektorelementes 11 an dem Gehäuse 12 ermöglichen. Ein solcher Rand 19 muss aber nicht zwingend an dem Reflektor 11 vorgesehen sein, wie sich dies auch aus der Darstellung der 1 ergibt.
Die Facetten 18 sind bei dem Ausführungsbeispiel der 2 in konzentrisch verlaufenden Ringen 29a, 29b, 29c und quer dazu verlaufenden Spalten 30a, 30b, 30c angeordnet. Die Lampendurchtrittsöffnung 34 im Bereich des Scheitels S des Reflektors 11 ist bei dem Reflektorelement 11 der 2 der Übersichtlichkeit halber nicht dargestellt.
3 zeigt in einer sehr vereinfachten, schematischen Darstellung das Reflektorelement 11 gemäß den 1 und 2 in einer Darstellung gemäß 1. Es wird deutlich, dass das Reflektorelement 11 einen im Wesentlichen parabelförmigen Querschnitt aufweist, der eine Grundbauform des Reflektorelementes 11 vergibt. Das Reflektorelement ist bezüglich seiner Längsmittelachse M hinsichtlich seiner Grundbauform im Wesentlichen rotationssymmetrisch ausgebildet. Es ergibt sich ein schalenförmiger oder parabolförmiger Aufbau.
Lediglich beispielhaft sollen drei Facetten 18a, 18b, 18c in der vergrößerten Darstellung der 4 hervorgehoben werden. Die drei Facetten 18a, 18b, 18c sind bei dem Ausführungsbeispiel der 4 im Wesentlichen sphärisch gewölbt und weisen jeweils eine reflektierende Oberfläche 21a, 21b, 21c auf. Für den Fall, dass ein feinfühliger mechanischer Tastfinger entlang der Innenseite 20 des Reflektorelementes 11, ausgehend von einem Punkt P₁ der Facette 18c bis zu einem Punkt P₂ des Segmentes 18a entlang einer Spalte, also vom freien Randbereich des Reflektors hin zu einem Scheitelbereich S des Reflektors 11, fährt, ergibt sich der in 4 dargestellte Wellenzug W. Der Wellenzug W verkörpert insoweit die Kontur der Facetten 18a, 18b, 18c.
Wie 4 erkennen lässt, ist der Wellenzug W entlang der parabelförmigen Grundkontur 22 angeordnet, die sich aus dem parabelförmigen Querschnitt des Reflektorelementes 11 ergibt.
5 greift die Darstellung der 4 auf, wobei der Wellenzug W nun nicht mehr entlang einer gekrümmten Grundkonturlinie 22, sondern entlang einer abgewickelten, als Gerade ausgebildeten Grundkonturlinie 22' dargestellt ist. Dies soll die nachfolgende Beschreibung erleichtern, die zur Erläuterung der 5 bis 8 gewählt wurde. Die Darstellung der 5 beschreibt also die Situation, die sich ergibt, wenn die Segmentreihe der Segmente 18a, 18b, 18c der 4 derartig aufgebogen und in einen flach liegenden Zustand überführt wird, dass die parabelförmige Linie 22 der 4 in eine Gerade 22' der 5 überführt wird.
An dieser Stelle sei angemerkt, dass die Darstellung der 5 bis 8 lediglich dem Zwecke der Vereinfachung dient. Tatsächlich ist die Grundkonturlinie 22 bzw. 22' der Grundform des Reflektorelementes 11 entsprechend angepasst, so dass sich bei Betrachtung der Wellenkontur in einer Querschnittsdarstellung gemäß den 3 und 4 eine parabelförmige Grundkonturlinie 22 ergibt.
Ein dem Wellenzug W der 5 bis 8 entsprechender Wellenzug ergibt sich im Übrigen auch bei einer Betrachtung des Wellenzuges W gemäß 4a: Hier liegt der Wellenzug W an einer Grundkonturlinie 22'' an, die einen Kreisbogen beschreibt, nämlich einen um die Längsmittelachse M des Reflektors 11 konzentrischen Ring.
Die Darstellungen der Wellenzüge W der 5 bis 8 ergeben sich daher sowohl bei Betrachtung der 4, also bei einer Blickrichtung des Betrachters entsprechend 1, als auch bei Betrachtung einer Darstellung gemäß 4a, also entsprechend einer Blickrichtung des Betrachters der 4a.
Die 5 bis 7 sollen verdeutlichen, dass die Art der Ausbildung der einzelnen Facetten völlig beliebig ist. Die 5 zeigt sphärische Facetten und 5a zeigt abgeflachte sphärische Facetten. 6 macht deutlich, dass einige oder sämtliche Facettenoberflächen auch von planen Flächen gebildet sein können, oder plane Flächen umfassen können, so dass sich als Wellenzug z. B. eine Sägezahnstruktur ergibt. 7 macht schließlich deutlich, dass auch gewölbte und ebene Flächen in Kombination auf der Innenseite 20 des Reflektors 11 angeordnet sein können.
Entscheidend ist, dass jede Facettenoberfläche auf eine bestimmte Weise ausgebildet ist, d. h. hinsichtlich ihrer Geometrie, Form, Größe und Positionierung derartig bestimmt ist, dass eine für den jeweiligen Anwendungszweck optimale Lichtstärkeverteilung erreicht wird.
Das eigentliche erfinderische Prinzip soll nun unter Vergleich der 5a und 8 geschildert werden:
5a macht deutlich, dass bei Betrachtung der Topografie der Innenfläche des Reflektorelementes 11 einander benachbarte Facetten 18a, 18b, 18c mit ihrer Oberfläche 21a, 21b, 21c einen Wellenzug W bilden. Dieser Wellenzug W ist in 8 gestrichelt vergrößert dargestellt. Der Wellenzug W weist eine relative Amplitude RA auf. Die relative Amplitude RA ist die Differenz zwischen einem Wellenberg 31 und einem benachbarten Wellental 32.
Zur Bestimmung der relativen Amplitude wird dabei davon ausgegangen, dass sich die Differenzen zwischen einander benachbarten Wellenbergen 31 und Wellentälern 32 etwa auf einem gleichen oder ähnlichen Niveau befinden.
Genau genommen wird als relative Amplitude im Sinne der vorliegenden Patentanmeldung eine über viele Abfolgen von Wellentälern und Wellenbergen gemittelte Differenz bezeichnet.
Diese gemittelte Differenz beträgt bei den erfindungsgemäßen Reflektoren etwa zwischen 0,4 und 1,1 mm, vorzugsweise etwa zwischen 0,5 und 0,6 mm. Dieser Wert hat sich in der Praxis als besonders optimal in lichttechnischer und fertigungstechnischer Hinsicht herausgestellt.
Wie sich aus 8 ergibt, entspricht die relative Amplitude RA bei dem Ausführungsbeispiel dem Abstand des Scheitelbereiches eines Wellenberges 31 zur Grundkonturlinie 22', wobei diese Grundkonturlinie 22' an die Wellentäler 32 angelegt ist.
Die gleiche relative Amplitude RA ergibt sich aber auch, wenn man den Abstand eines Wellenberges der unregelmäßigen Struktur 23 zu der Grundkonturlinie 22' im Bereich eines Wellenberges 31 des Wellenzuges W, den man als R_max bezeichnet, und den Abstand eines Wellenberges der Struktur 23 im Bereich eines Wellentales 32 des Wellenzuges W, den man als R_min bezeichnet, voneinander substrahiert.
Demzufolge gilt unter Bezugnahme auf 8: RA = R_max – R_min.
An dieser Stelle sei angemerkt, dass die 1 bis 8 das jeweilige Reflektorelement 11 lediglich schematisiert zeigen. Tatsächlich weist das Reflektorelement an jeder Stelle eine gewisse Dicke bzw. Wandstärke auf. Beispielsweise die 8 zeigt insoweit keinen exakten Querschnitt durch den Reflektor 11, sondern lediglich den Konturverlauf der Innenfläche 20 des Reflektors 11.
Die Grundkonturlinien 22, 22' und 22'' sollen lediglich den Verlauf der jeweiligen Außenseite 33 des Reflektorelementes 11 andeuten. Diese Grundkonturlinien 22, 22' und 22'' folgen insoweit dem Verlauf der in den 4 bis 8 nicht dargestellten Außenkontur 33 des Reflektors 11.
Die Wellenlinie W kann bei den erfindungsgemäßen Reflektoren mit einer sehr hohen Fertigungspräzision erarbeitet werden. Eine Abweichung der tatsächlich erreichten Wellenlinie hinsichtlich ihrer Form von einer beabsichtigten beträgt lediglich 5 μm.
Erfindungsgemäß wird diese sehr präzise reproduzierbare Wellenlinie (Wellenzug W) mit einer unregelmäßigen Struktur 23 überlagert. Diese ist in 8 als rauschartige, zittrige Kurve und dichte Abfolge aufeinanderfolgender Minima und Maxima dargestellt. Die unregelmäßige Struktur ist der Kontur des Wellenzuges W als eine Art Rauschen überlagert. Die in 8 in durchgezogenen Linien dargestellte rauschartige Kurve ergibt sich, wenn man mit einer besonders feinfühligen Abtastnadel die Oberflächen der Facetten 18a, 18b und 18c infolge einer Bewegung vom Punkt P₁ zum Punkt P₂ oder in umgekehrter Richtung abfahren würde.
8 macht deutlich, dass der Abstand zwischen zwei unmittelbar aufeinanderfolgenden Minima und Maxima der unregelmäßigen Struktur 23 als Rautiefe RT bezeichnet wird. Diese Rautiefe bezeichnet eine mittlere Rautiefe. Dies bedeutet, dass über eine Vielzahl von aufeinanderfolgenden Minima und Maxima dieser Störstruktur 23 die Differenzen gemessen werden. Die mittlere Rautiefe beträgt bei dem Ausführungsbeispiel der Erfindung etwa 28 μm. Dies bedeutet, dass die Amplitude RT der unregelmäßigen Struktur 23 gemäß 8 etwa 5/100 der relativen Amplitude RA des Wellenzuges W gemäß 8 entspricht. Dieser Aussage liegt die Annahme zugrunde, dass die relative Amplitude RA bei diesem Ausführungsbeispiel etwa 560 μm beträgt.
Bei dieser Betrachtung ist aber zu berücksichtigen, dass 8 lediglich schematisch zu verstehen ist, und insbesondere die Verhältnisse von Rautiefe RT und relativer Amplitude RA nicht maßstäblich wiedergibt.
Bei weiteren, nicht dargestellten Ausführungsbeispielen beträgt die Amplitude RT der unregelmäßigen Struktur 23 lediglich etwa 5 μm und liegt damit in der Größenordnung der Fertigungspräzision des Wellenzuges W.
9 zeigt in einer schematischen Liniendarstellung eine Lichtverteilungskurve, die eine Leuchte mit einem Reflektor ohne unregelmäßige Strukturen auf eine ebene Raumfläche wirft, die senkrecht zu der Längsmittelachse MA der Leuchte 10 der 1 steht. 9 zeigt also die Lichtstärkeverteilung, die sich beim Stand der Technik ergibt, wenn ein Reflektor 11 verwendet wird, der ohne eine unregelmäßige Struktur 23 gefertigt ist. Die Lichtstärkeverteilung der 9 zeigt sieben unterschiedliche Liniendarstellungen. Jede Linie ist eine ISO-Lux-Linie. Die unterschiedlichen Linien repräsentieren die Helligkeit in logarithmischen Abständen, wobei die ISO-Lux-Linie 17 eine Kurve höchster Helligkeit und die Liniendarstellung L1 eine Kurve niedrigster Helligkeit darstellt.
Die Lichtverteilungskurve der 9 zeigt deutlich eine Musterbildung, insbesondere eine Mehrzahl von Inseln, im Bereich der Lichtstärke der Linie 17. Diese Strukturen sind für das menschliche Auge erkennbar und werden als nachteilig empfunden.
10 zeigt eine Lichtverteilungskurve, die sich ergibt, wenn der gleiche Reflektor 11, dem die Lichtverteilungskurve der 9 zu Grunde liegt, mit einer unregelmäßigen Struktur 23 gemäß 8 versehen ist. Es ergibt sich eine deutlich vergleichmäßigtere Lichtverteilung, die einen höheren Sehkomfort ermöglicht.
11 zeigt ein erfindungsgemäßes Werkzeug 24, welches im Wesentlichen von einer Patrize 25 bereitgestellt wird. Diese kann, wie im Übrigen in der deutschen Patentanmeldung DE 10 2007 035 528 A1 ausführlich beschrieben und aus Gründen der Übersicht hier nicht weiter aufgeführt, rotieren. Die Patrize 25 stellt mit seiner Außenumfangsfläche eine Formgebungskontur 26 bereit. Das Werkstück aus dem der Reflektor 11 gebildet wird, die sogenannte Aluminiumronde, wird fortwährend gegen die Formgebungskontur 26 gedrückt, so dass sich die Formgebungskontur 26 auf der Innenseite 20 des zu fertigenden Reflektorelementes 11 abdrückt.
Die Formgebungskontur 26 der Patrize 25 weist entsprechende Ausnehmungen 27a, 27b, 27c auf, die den an der Innenseite 20 des Reflektors 11 zu bildenden, nach Innen vorstehenden Facetten 18 hinsichtlich ihrer Form entsprechen.
Um auf der Reflektorinnenseite 20 die gewünschte unregelmäßige Struktur 23 zu erzielen, ist die Patrize 25 wie folgt gefertigt worden:
Zunächst werden die Ausnehmungen 27a, 27b, 27c in der gewünschten Größe und Geometrie mit hoher Präzision in das Werkstück 25 eingearbeitet, insbesondere eingefräst.
Anschließend wird die Formgebungskontur 26 einem Ätzprozess unterzogen. Beispielsweise wird die Patrize 25 für eine bestimmte Zeitdauer in ein Säurebad eingebracht. Die Säure kann – je nach Wahl der Dauer der Einwirkung – die Oberfläche der Patrize gleichmäßig abtragen. Dabei bildet sich allerdings eine unregelmäßige Struktur 28, die in 12 dargestellt ist. Die unregelmäßige Struktur 28 weist eine Rautiefe RT auf, die der in 8 schematisch dargestellten Rautiefe RT der Struktur 23 am Reflektor 11 entspricht.
Die Oberflächenstruktur 28 der Patrize 25 drückt sich in die Innenseite 20 des Reflektors beim Drückvorgang ein. Dabei wird gleichzeitig sowohl die sich durch eine Abfolge der Segmente 27a, 27b, 27c ergebende Wellenkontur W als auch die Struktur 28 in die Reflektorinnenfläche 20 mit eingearbeitet.
Ergänzend sei angemerkt, dass die 11 und 12 eine Grundkontur 22 zeigen, entlang derer die Ausnehmungen 27a, 27b, 27c angeordnet sind, die der Grundkontur 22 des zu formenden Reflektorelementes 11 entspricht. Die Grundkontur 22 in 12 verläuft insoweit gleichermaßen entlang der Form einer Parabel.
Schließlich sei anhand der 13 und 14 noch das Verhalten der Lichtstrahlen beim Eintreffen auf eine Oberfläche einer Facette 18a eines erfindungsgemäßen Reflektors 11 beschrieben:
13 zeigt anhand eines vier Lichtstrahlen umfassenden, auf die Oberfläche der Facette 18a treffenden parallelen Lichtstrahlenbündel das Reflektionsverhalten. Man erkennt eine gleichmäßige Auffächerung der parallelen einfahrenden Lichtstrahlen.
14 veranschaulicht das Lichtabstrahlverhalten der Facette 18a, wenn deren Oberfläche mit einer unregelmäßigen Struktur 23 versehen ist. Hier wird aufgrund der Unregelmäßigkeit der Oberfläche das parallele Lichtstrahlenbündel diffusiv gestreut. Die Lichtabstrahlung wird dadurch insgesamt gleichmäßiger.
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
Zitierte Patentliteratur

- DE 102004042915 A1 [0002]
- DE 102007035528 A1 [0002, 0115]
- DE 102007035396 A1 [0002]
- DE 102007044963 A1 [0002]
- DE 102008056103 A1 [0002]
- DE 102008063369 A1 [0002]

Claims

Schalenförmiger Reflektor (11) für eine Leuchte (10), in dessen Innenraum eine Lampe (13) anordenbar ist, mit einer Innenseite (20), die eine Vielzahl von zum Innenraum hin vorstehenden Facetten (18a, 18b, 18c, 18d, 18e, 18f, 18g, 18h, 18i, 18j, 18k) aufweist, wobei mehrere nebeneinander angeordnete Facetten (18a, 18b, 18c) einen Wellenzug (W) bilden, der Wellentäler (32) und Wellenberge (31) aufweist, die eine – bezogen auf die Grundform (22) des Reflektors – relative Amplitude (RA) des Wellenzuges definieren, dadurch gekennzeichnet, dass der Wellenzug von einer unregelmäßigen Struktur (23) überlagert ist, die eine Amplitude (RT) aufweist, die zwischen 1/100 und 2/10 der relativen Amplitude des Wellenzuges beträgt.
Reflektor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Amplitude (RT) der unregelmäßigen Struktur größer ist als 1/50 der relativen Amplitude (RA) des Wellenzuges (W), vorzugsweise größer als 1/40, weiter vorzugsweise größer als 1/30, weiter vorzugsweise größer als 1/25, weiter vorzugsweise größer als 1/20, weiter vorzugsweise größer als 1/15, weiter vorzugsweise größer als 1/12, weiter vorzugsweise größer als 1/11.
Reflektor nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Amplitude (RT) der unregelmäßigen Struktur kleiner ist als 2/10 der relativen Amplitude (RA) des Wellenzuges (W), vorzugsweise kleiner als 3/20, weiter vorzugsweise kleiner als 5/40.
Schalenförmiger Reflektor (11) für eine Leuchte (10), in dessen Innenraum eine Lampe (13) anordenbar ist, mit einer Innenseite (20), die eine Vielzahl von zum Innenraum hin vorstehenden Facetten (18a, 18b, 18c, 18d, 18e, 18f, 18g, 18h, 18i, 18j, 18k) aufweist, wobei mehrere nebeneinander angeordnete Facetten (18a, 18b, 18c) einen Wellenzug (W) bilden, der Wellentäler (32) und Wellenberge (31) aufweist, die eine – bezogen auf die Grundform (22) des Reflektors – relative Amplitude (RA) des Wellenzuges definieren, dadurch gekennzeichnet, dass der Wellenzug von einer unregelmäßigen Struktur (23) überlagert ist, die eine Amplitude (RT) aufweist, die zwischen 20 und 30 μm, vorzugsweise zwischen 25 und 27 μm liegt.
Reflektor nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass die relative Amplitude (RA) des Wellenzuges (W) im Mittel zwischen 0,4 und 1 mm beträgt, vorzugsweise zwischen 0,45 und 0,8 mm, weiter vorzugsweise etwa zwischen 0,5 und 0,6 mm.
Reflektor nach einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Reflektor (11) hinsichtlich seiner Grundform rotationssymmetrisch ausgebildet ist.
Reflektor nach einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Innenseite (20) des Reflektors (11) hoch reflektierend ausgebildet ist.
Reflektor nach einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Reflektor (11) einen parabelförmigen Querschnitt aufweist.
Reflektor nach einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Reflektor (11) aus Aluminium besteht.
Reflektor nach einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Reflektor (11) in einem Drückverfahren durch Drücken gegen eine Patrize (25) gefertigt ist.
Reflektor nach einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Wellenzug (W) und die überlagernde, unregelmäßige Struktur (23) in einem gemeinsamen Arbeitsgang, insbesondere einem Drückvorgang, in die Innenseite des Reflektors eingearbeitet worden sind.
Leuchte (10), umfassend ein Leuchtengehäuse (12), eine Lampe (13) und einen Reflektor (11), insbesondere einen Reflektor nach einem der vorangegangenen Ansprüche, wobei der Reflektor im wesentlichen schalenförmig ausgebildet ist und auf seiner Innenseite (20) mit einer Vielzahl von zum Innenraum des Reflektorelementes hin vorspringenden Facetten (18a, 18b, 18c, 18d, 18e, 18f, 18g, 18h, 18i, 18j, 18k) ausgestattet ist, die mit einer hohen Genauigkeit gefertigt sind, dadurch gekennzeichnet, dass die Innenseite (20) des Reflektorelementes (11) zur Vergleichmäßigung der Lichtstärkeverteilung auf einer auszuleuchtenden Fläche mit einer Oberflächen-Rauheit ausgestattet ist, deren mittlere Rautiefe (RT) zumindest in der Größenordnung der Fertigungsgenauigkeit der Facetten liegt.
Leuchte nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass die Fertigungsgenauigkeit der Facetten etwa 5 μm beträgt und/oder die Rautiefe wenigstens 5 μm beträgt.
Leuchte nach Anspruch 12 oder 13, dadurch gekennzeichnet, dass die Rautiefe höchstens 150 μm, vorzugsweise zwischen 20 und 30 μm, weiter vorzugsweise etwa 28 μm, beträgt.
Werkzeug (24) zur Herstellung eines im wesentlichen schalenförmig gewölbten und auf seiner Innenseite (20) mit zahlreichen Facetten (18a, 18b, 18c, 18d, 18e, 18f, 18g, 18h, 18i, 18j, 18k) versehenen Reflektors, insbesondere eines Reflektors nach einem der vorangegangenen Ansprüche, durch ein Metall-Umformverfahren, umfassend eine während des Umformvorganges als Patrize (25) fungierende und mit Ausnehmungen versehene Formgebungsfläche (26), dadurch gekennzeichnet, dass die Ausnehmungen (27a, 27b, 27c) mit hoher Fertigungsgenauigkeit in die Formgebungsfläche (26) eingearbeitet sind, und dass die Formgebungsfläche in einem nachfolgenden Bearbeitungsschritt mit einer Rauigkeit ausgestattet ist, deren Rautiefe (RT) zumindest in der Größenordnung der Fertigungsgenauigkeit der Ausnehmungen liegt.
Werkzeug nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, dass der nachfolgende Bearbeitungsschritt ein Ätzen der Formgebungsfläche beinhaltet.