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Die
Erfindung betrifft eine Anlage zum Entfernen von Ölen,
Fetten oder dergleichen hydrophoben Bestandteilen von Oberflächen
eines Substrates.
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Derartige
Anlagen und zugehörige Reinigungsverfahren sind in vielfältiger
Art und Weise bekannt und greifen in der Regel auf Lösungsmittel
sowie beispielsweise Tenside entsprechend der
DE 44 21 141 A1 zurück.
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Daneben
kennt man beispielsweise durch die
US 2005/037937 A1 ein
Verfahren zur Entfernung von öligen Verschmutzungen auf
Oberflächen. Zu diesem Zweck wird die zugehörige
Oberfläche mit einem porösen Trockenpulver bestreut,
wobei das betreffende Pulver nach der Adsorption der hydrophoben
Bestandteile von der Oberfläche entfernt wird. Einzelheiten
einer hierfür erforderlichen Vorrichtung bleiben jedoch
offen.
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Ungeachtet
dessen nutzt man Fettsäuren oder Fettsäuregemische
zum Lösen der hydrophoben Bestandteile. Im Anschluss daran
wird eine basische wässrige Lösung zur Umwandlung
der Fettsäure in ein Fettsäuresalz unter Bildung
einer Emulsion mit die gelösten hydrophoben Bestandteile
aufweisenden Tensiden in der Wasserphase zugegeben (vgl.
WO 99/11745 A1 ).
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Ferner
ist es beim Reinigen von Aluminium oder Aluminiumlegierungen bekannt,
auf eine alkalische wässrige Lösung zurückzugreifen,
wie sie beispielhaft in der
US-PS
5 614 027 beschrieben wird.
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Eine
Anlage zum Entfetten von metallischen Oberflächen mit Hilfe
von kolloidalem Silikasol bzw. Kieselgel wird in der
US-PS 3 037 886 beschrieben. Zum Entfernen
der Solbeschichtung wird die metallische Oberfläche mit
einer Waschflüssigkeit abgespült.
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Die
bekannten Vorgehensweisen sind mit dem grundsätzlichen
Problem behaftet, dass die von den Oberflächen des jeweiligen
Substrates gelösten hydrophoben Bestandteile, in der Regel Öl
und Fette, in Verbindung mit dem zugehörigen Lösungsmittel und/oder
einer Waschflüssigkeit als Sondermüll behandelt
werden müssen. Das zieht eine kostenträchtige
Abfallentsorgung nach sich. Hier will die Erfindung insgesamt Abhilfe
schaffen.
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Der
Erfindung liegt das technische Problem zugrunde, eine Anlage zum
Entfernen von Ölen, Fetten oder dergleichen hydrophoben
Bestandteilen von Oberflächen eines Substrates anzugeben,
welche verringerte Kosten bei der Aufbereitung nach sich zieht.
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Zur
Lösung dieser technischen Problemstellung ist Gegenstand
der Erfindung eine Anlage zum Entfernen von Ölen, Fetten
oder dergleichen hydrophoben Bestandteilen von Oberflächen
eines Substrates, mit einer Bedüsungseinrichtung zum Aufbringen
eines Trockenpulvers vorgegebener Porosität, und mit einer
Ablöseeinheit zum Entfernen des die in den Poren adsorbierten
hydrophoben Bestandteile aufweisenden Trockenpulvers.
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Die
beschriebene Anlage verfügt folglich über eine
Bedüsungseinrichtung, welche das Trockenpulver unterstützt
durch den Druck eines Mediums auf die zu reinigende Oberfläche
des Substrates aufbringt. Bei dem genannten Medium kann es sich um
Luft oder auch um ein anderes Gas handeln, welche(s) das Trockenpulver
fluidisiert, d. h. ”fließfähig” macht.
Dadurch wird bereits die erforderliche mechanische Energie aufgebracht,
um die Adsorption der hydrophoben Bestandteile im Trockenpulver
auf der Oberfläche des Substrates zu begünstigen.
Zusätzlich zu dieser Bedüsungseinrichtung verfügt
die beschriebene Anlage noch über eine Ablöseeinheit, welche
zum Entfernen des mit in den Poren adsorbierten hydrophoben Bestandteile
belasteten Trockenpulvers von dem Substrat dient. Im einfachsten Fall
handelt es sich bei der Ablöseeinheit um eine Absaugeinrichtung,
wenngleich natürlich auch andere Vorrichtungen an dieser
Stelle denkbar sind.
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Um
die mechanische Einwirkung des Trockenpulvers auf die zu reinigende
Oberfläche ergänzend zu intensivieren, mag zusätzlich
zu der Bedüsungseinrichtung eine Bürstenkolonne
vorgesehen sein. Diese verfügt in der Regel über
schräggestellte Bürsten, damit das aufgedüste
Trockenpulver gleichmäßig über das Substrat
verteilt wird. Eine solche Vorgehensweise empfiehlt sich besonders
für den Fall, dass ein durchlaufendes Metallband oder dergleichen
entfettet bzw. entölt werden soll.
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Dabei
geht es insgesamt darum, hydrophobe Bestandteile von Oberflächen
eines beliebigen Substrates zu entfernen. Tatsächlich kommen
als Substrate sowohl Metall- als auch Nichtmetallgegenstände in
Frage. Ebenso Kunststoff-, Holz- und Keramikgegenstände
sowie andere Materialien, die mit mineralischen, synthetischen,
tierischen, pflanzlichen Ölen und/oder Fetten kontaminiert
sind. Solche Verunreinigungen treten in der Regel bei der Metallverarbeitung,
beispielsweise beim Stanzen, Bohren, Umformen, bei der spangebenden
Verformung, beim Ziehen, Tiefziehen etc. auf. Denn die vorgenannten
Bearbeitungsschritte erfordern regelmäßig den
zusätzlichen Einsatz von Bearbeitungsölen oder
-fetten.
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Außerdem
werden die betreffenden Substrate, beispielsweise Eisenmetalle und
auch Nichteisenmetalle, zum Schutz gegen Korrosion mit Korrosionsschutzölen
oder -fetten behandelt, die vor der jeweiligen Weiterverarbeitung
entfernt werden müssen. Denn ansonsten lassen sich solche
Substrate nicht lackieren bzw. mit einer gewünschten Beschichtung überziehen.
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Im
Gegensatz zu den bekannten Vorgehensweisen zum Entfetten von Oberflächen
mit beispielsweise wässrigen alkalischen Lösungen,
die bei der Entsorgung als Sondermüll behandelt werden
müssen, greift die Erfindung auf eine trockene Entfernung der
hydrophoben Bestandteile zurück. Das heißt, die hydrophoben
bzw. ”wasserscheuen” Substanzen bzw. Bestandteile
werden lösungsmittelfrei (und damit natürlich
auch wasserfrei) von dem Trockenpulver adsorbiert und dementsprechend
in pulvriger Form von dem Substrat entfernt. Tatsächlich
führt die Adsorption der hydrophoben Bestandteile dazu,
dass sich in dem entfernten Trockenpulver Körner mit einer
gegenüber dem unadsorbierten Zustand vergrößerten
Korngröße bilden, die problemlos in einem nachfolgenden
Schritt, beispielsweise beim Durchsieben, ausgesondert werden können.
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Das
heißt, nach bevorzugter Ausführungsform wird das
erfindungsgemäß eingesetzte Trockenpulver vorgegebener
Porosität im Kreislauf geführt, wobei die jeweils
mit den hydrophoben Bestandteilen gesättigten Pulverbestandteile
ausgeschleust und durch unbehandeltes neues Pulver ersetzt werden.
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Tatsächlich
liegt das eingesetzte Trockenpulver in der Regel mit einer Körnung
mit Korngrößen unterhalb von 500 Mikrometer vor.
Insbesondere empfiehlt die Erfindung eine Korngröße
von weniger als 200 Mikrometer, vorzugsweise unterhalb von 150 Mikrometer.
Ganz besonders bevorzugt ist ein Korngrößenbereich
von weniger als 100 Mikrometer, um eine insgesamt große
Oberfläche für die Adsorption bereitzustellen.
Unter Berücksichtigung dieser Prämissen kann dann
das jeweils mit den hydrophoben Bestandteilen gesättigte
Trockenpulver unschwer ausgeschleust werden, indem mit entsprechender Siebung
gearbeitet wird.
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Für
die Erfindung von besonderer Bedeutung ist der Umstand, dass das
eingesetzte Trockenpulver über eine vorgegebene Porosität
verfügt, mithin eine große innere (und gegebenenfalls äußere) Oberfläche
aufweist, die als Adsorptionsoberfläche für die
hieran anzulagernden hydrophoben Bestandteile fungiert. Tatsächlich
beträgt die innere Oberfläche des eingesetzten
Trockenpulvers in der Regel mehr als 10 m2/g,
wobei üblicherweise sogar mehr als 50 m2/g
für die spezifische Oberfläche beobachtet werden.
Solche Werte für die spezifische Oberfläche werden üblicherweise
von Tonen bzw. Tonmineralen problemlos erreicht und sind die eigentlichen
Träger der speziellen Toneigenschaften. Die vorgenannte spezifische
Oberfläche lässt sich wie allgemein bekannt durch
eine vollständige Belegung aller Oberflächen mit
polaren organischen Molekülen ermitteln und umfasst dabei
Komponenten mit innerkristaliner Quellfähigkeit und zwar
sowohl äußere wie innere Oberflächen.
Dabei liegt der Anteil der inneren Oberflächen an der gesamten
spezifischen Oberfläche größtenteils
zwischen 80% und 90%.
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Es
hat sich bewährt, als Trockenpulver ein solches einzusetzen,
welches auf ein Silikatpulver mit einem Anteil von bis zu 90 Gew.-%,
vorzugsweise bis zu 80 Gew.-% zurückgreift. Darüber
hinaus mögen diesem Silikatpulver noch weitere Adsorbentien hinzugefügt
werden, wie zum Beispiel Aktivkohle, Talkum usw. sowie andere Mineralien.
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Insgesamt
hat es sich als günstig erwiesen, das Silikatpulver als
Bestandteil des Trockenpulvers als Mischung aus einem Tektosilikat
und einem Schichtsilikat auszubilden. Bei dem Schichtsilikat handelt
es sich regelmäßig um ein quellfähiges
Tonmineral mit Schichtgitterstruktur der Smektitgruppe, welches
in Gestalt von Bentonit vorliegen mag. Natürlich können
auch vergleichbare Tonminerale wie zum Beispiel Kaolinit, Polygorskit,
Illit, Chlorit, Pyrophyllit, Imogolit etc. oder Montmorillonite
zum Einsatz kommen. Das betreffende Tonmineral bzw. Schichtsilikat
kann mit Calcium, Magnesium oder Natrium belegt sein.
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Darüber
hinaus greift das Silikatpulver auf ein Tektosilikat bzw. Gerüstsilikat
zurück. Solche Gerüstsilikate zeichnen sich durch
einen sehr lockeren und weitmaschigen Aufbau mit kanalartigen Hohlräumen
aus. Tatsächlich eröffnen die Hohlräume
die Möglichkeit der Einlagerung von Stoffen, und zwar ohne
wesentliche Veränderung des Gitteraufbaus. Das unterscheidet
sie von den Schichtsilikaten, die bei der Einlagerung der hydrophoben
Bestandteile in der Regel ihren Schichtabstand ändern,
folglich quellen.
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Als
Gerüstsilikate können natürliche Mineralgemenge
mit dem Bestandteil Clinoptilolith oder auch Zeolith sowie Chabasit
zum Einsatz kommen. Außerdem empfiehlt die Erfindung, das
jeweilige Silikatpulver hinsichtlich seiner inneren Oberfläche
und/oder der Porenverteilung an die zu entfernenden hydrophoben
Bestandteile anzupassen. Das heißt, je nach ”Länge” der
Kohlenwasserstoffketten der hydrophoben Bestandteile wird man die
Porenstruktur entsprechend einstellen und vorgeben, damit sich diese
Kettenbestandteile in den Hohlräumen einlagern können.
Diese Anpassung kann durch die Behandlung mit Säuren, wie
zum Beispiel Schwefelsäuren, Salzsäure oder auch
unter Rückgriff auf eine organische Säure vorgenommen
werden. Dadurch lässt sich nicht nur die Porenverteilung
und/oder deren Beschaffenheit vorgeben, sondern auch die Oberflächencharakteristik
der Hohlräume steuern. Denkbar ist es hier, für
einen organophilen (das heißt organische Bestandteile bevorzugenden)
und/oder hydrophilen (das heißt Wasser anziehenden) Charakter
zu sorgen.
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Insgesamt
hat es sich bewährt, wenn die beiden Mischungskomponenten
Tektosilikat und Schichtsilikat des Silikatpulvers in einem bestimmten Mischungsverhältnis
vorliegen, welches von 0 bis 100 Gew.-% sowohl für das
Tektosilikat als auch das Schichtsilikat reichen kann. Das heißt,
das Silikatpulver kann vollständig aus dem Tektosilikat
oder aber auch vollständig aus dem Schichtsilikat bestehen, wobei
selbstverständlich auch Zwischenstufen denkbar sind und
umfasst werden. So empfiehlt die Erfindung bevorzugt den Rückgriff
auf 30 Gew.-% bis 70 Gew.-% Tektosilikat, wobei besonders bevorzugt
ein Bereich von 40 Gew.-% bis 60 Gew.-% Tektosilikat ist. Demgegenüber
wird das Schichtsilikat in der Regel zu 20 Gew.-% bis 50 Gew.-%
eingesetzt, wobei ein besonders bevorzugter Bereich zwischen 30 Gew.-%
und 40 Gew.-% des Schichtsilikates liegt.
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Insgesamt
macht das Silikatpulver bzw. die vorgenannte Mischung – wie
bereits beschrieben – größtenteils bis
zu 90 Gew.-% des Trockenpulvers aus, wobei das Trockenpulver selbstverständlich auch
aus 100 Gew.-% Silikatpulver bestehen kann, wenn auf die bereits
angesprochenen Zusätze, wie zum Beispiel Aktivkohle, Glimmer,
Talkum etc. verzichtet wird.
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Im
Ergebnis wird eine Anlage beschrieben, welche die trockene Entfernung
hydrophober Bestandteile von den Oberflächen des Substrates
präferiert. Dadurch besteht die Möglichkeit, das
Trockenpulver im Kreislauf zu führen, wobei nur und ausschließlich
mit den hydrophoben Bestandteilen gesättigte Pulverkörner
ausgeschleust werden. Dadurch muss je nach Umlauf nur ein geringer
Teil des Trockenpulvers durch Neupulver ersetzt werden, so dass
die Kosten gering werden.
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Von
besonderer Bedeutung ist zusätzlich noch der Umstand, dass
das ausgeschleuste Trockenpulver problemlos entsorgt werden kann
und im Vergleich zu konventionellen Vorgehensweisen viel geringere
Abfallraten zu erwarten sind, weil lösungsmittelfrei gearbeitet
wird.
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Außerdem
lässt sich das Verfahren unter Rückgriff auf einfach
aufgebaute Anlagen realisieren, die zudem die Möglichkeit
eröffnen, eine dezentrale Reinigung vornehmen zu können.
Das heißt, jeder einzelne Metallbearbeitungsschritt kann
mit seiner eigenen Reinigungsanlage flankiert werden.
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Außerdem
besteht die Option, das erfindungsgemäße Trockenpulver
in Verbindung mit einem Handreinigungsmittel einzusetzen. Hierbei
mag es sich um ein Tuch, eine Bürste, einen Pinsel etc. handeln,
welcher mit dem betreffenden Trockenpulver imprägniert
ist und für die Handreinigung der Substrate eingesetzt
wird.
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Durch
den Rückgriff des Silikatpulvers auf die Mischung aus dem
Tektosilikat und dem Schichtsilikat wird ein durch das Mischungsverhältnis
einstellbares Größenspektrum an Poren zur Adsorption der
hydrophoben Bestandteile zur Verfügung gestellt. Tatsächlich
sind die Schichtsilikate bzw. quellfähigen Dreischicht-Silikate
durch eine ausgeprägte Mikro-/Mesoporosität gekennzeichnet.
Durch ihre aufweitbaren Zwischenschichträume können
sie wässrige Bestandteile sowie polare Verbindungen fest
adsorbieren. Außerdem kann durch geeignete und eingangs
bereits beschriebene Behandlungsverfahren (Aktivierung mit beispielsweise
Säure) die Porosität, die chemische Charakteristik
sowie die Beschaffenheit der Oberflächen auf den jeweiligen
Einsatzzweck, sprich die zu adsorbierenden Kohlenwasserstoffketten,
abgestimmt werden. Infolge der Adsorption weiten sich die Zwischenschichträume
auf, so dass die einzelnen Körner quellen und durch Sieben ausgeschleust
werden können.
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Demgegenüber
besitzen die Tektosilikate ein engmaschiges, definiertes Porensystem
und verfügen hierdurch über die notwendigen Hohlräume
zur Adsorption. Wie im Falle der Dreischicht-Silikate überwiegen
in den Hohlräumen die negativen Ladungen, so dass besonders
polare hydrophobe Bestandteile elektrostatisch adsorbiert werden.
Im Gegensatz zu den Schichtsilikaten verbleiben die Gerüstsilikate bzw.
Tektosilikate bei der Adsorption größenstabil, neigen
also nicht zum Quellen. Wie die Schichtsilikate lassen sich auch
die Tektosilikate durch eine geeignete Oberflächenbehandlung
(mit beispielsweise Säuren) für den jeweiligen
Einsatzzweck optimieren.
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Durch
die erfindungsgemäße Trockenentfettung bzw. -entölung
kann die Oberflächenbehandlungszeit im Vergleich zu konventionellen
Vorgehensweisen deutlich reduziert werden, so dass beispielsweise
bei der Entfettung von Metallbändern die Takt- und Durchlaufzeiten
drastisch verringert sind. Darüber hinaus verfügt
die für die Entfettung eingesetzte Anlage über
einen im Vergleich zu bisherigen Vorrichtungen deutlich geringeren
Platzbedarf, wodurch die Investitionskosten niedriger sind und die bereits
beschriebene dezentrale Reinigung überhaupt erst ermöglicht
wird. Gleichzeitig lassen sich der Wasser- und Stromverbrauch und
damit die Energiekosten mindern und der Einsatz von gesundheitsgefährdenden
Lösemitteln und deren Sondermüllentsorgung entfällt.
Gleichzeitig wird nach der Behandlung eine Oberflächenenergie
zwischen 35 und 40 bis 50 mN/m beobachtet, welche das anschließend
problemlose Aufbringen von Farbe, Klebstoff, Kunststoff, Metall
oder anderen Beschichtungen auf dem Substrat erlaubt. Darin sind
die wesentlichen Vorteile zu sehen.
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Im
Folgenden wird die Erfindung anhand einer lediglich ein Ausführungsbeispiel
darstellenden Zeichnung näher erläutert; es zeigen:
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1 eine
erfindungsgemäße Anlage zum Entfernen von Ölen,
Fetten oder dergleichen;
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2 eine
abgewandelte Ausführungsform.
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In
den Figuren ist eine Anlage zum Entfernen von Ölen, Fetten
oder dergleichen hydrophoben Bestandteilen von Oberflächen
eines Substrates 1 dargestellt. Bei dem Substrat 1 handelt
es sich im Rahmen der 1 um ein durchlaufendes Metallband 1, während
die 2 ein zu entfettendes Maschinenelement 1 in
Gestalt eines Zahnrades 1 zeigt. Es sollte betont werden,
dass insofern nur Beispiele dargestellt sind, die keineswegs einschränkend
wirken. So könnte es sich bei den Substraten nach 2 auch um
Messer oder Gabeln in der Besteckindustrie handeln.
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In
beiden Fällen verfügt die gezeigte Anlage über
eine Bedüsungseinrichtung 2, die in eine Bürstenkolonne 3 nach 1 integriert
ist. Dagegen greift die 2 ausschließlich auf
die Bedüsungseinrichtung 2 zurück ohne
zusätzlich noch mit einer Bürstenkolonne 3 ausgerüstet
zu sein. Im Rahmen der Darstellung nach 1 ist die
Bedüsungseinrichtung 2 in hohlgebohrten Achsen 4 der
Bürstenkolonne 3 realisiert, wobei die hohlgebohrten
Achsen 4 über Austrittsöffnungen verfügen,
durch welche das eingangs bereits beschriebene Trockenpulver in
Verbindung mit der das Trockenpulver fördernden Luft die
Bedüsungseinrichtung 2 verlässt. Alternativ
hierzu kann auch mit neben den einzelnen Bürsten 5 platzierten Bedüsungseinrichtungen 2 gearbeitet
werden, wie dies der vergrößerte Ausschnitt in
der 1 deutlich macht.
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Von
der Bedüsungseinrichtung 2 gelangt das durch Luft
in den fluiden Zustand überführte Trockenpulver
direkt auf das Substrat 1. Durch diesen Vorgang verteilt
sich das Trockenpulver gleichmäßig auf dem Substrat 1 und
kommt es zu einem innigen Kontakt zwischen dem aufgebrachten Trockenpulver
und einer Öl- oder Fettschicht auf dem Substrat 1.
Darüber hinaus eröffnet dieser fluide Zustand
des Trockenpulvers die Möglichkeit, dieses elektrostatisch aufzuladen.
Außerdem kann das fluidisierte Trockenpulver mit Hilfe
bekannter Maschinen und Anlagen verarbeitet werden, wie sie beispielsweise
aus der elektrostatischen Pulverbeschichtung bekannt sind. Das Gleiche
gilt für dort bereits eingesetzte Rückgewinnungsanlagen,
die vorteilhaft zum Rückgewinnen des erfindungsgemäßen
Trockenpulvers im dargestellten Zusammenhang eingesetzt werden können.
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Darüber
hinaus eröffnet die elektrostatische Aufladung des fluidisierten
Trockenpulvers die Möglichkeit, dieses nicht unbedingt
flächendeckend auf das zu reinigende Substrat 1 aufbringen
zu müssen. Tatsächlich reicht es aus, wenn beispielsweise
das Substrat 1 positiv aufgeladen wird und demgegenüber
auf eine negativ aufgeladene Wolke des fluidisierten Trockenpulvers
trifft. Selbstverständlich kann auch mit umgekehrten Polaritäten
gearbeitet werden. Jedenfalls sorgt die umgekehrte Polung von einerseits
Substrat 1 und andererseits Trockenpulver dafür,
dass sich dieses flächendeckend und gleichmäßig
auf dem Substrat 1 niederschlägt, wodurch der gewünschte
Reinigungsvorgang bei minimalem Einsatz an Trockenpulver begünstigt
wird.
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In
jedem Fall sorgt die durch die Luftbestäubung und/oder
elektrostatische Aufladung des fluidisierten Trockenpulvers realisierte
Einwirkung mechanischer Energie dafür, dass die Öl-
bzw. Fettoberfläche auf dem Substrat 1 teilweise
aufgebrochen wird. In die gleiche Richtung zielen die Bürsten 5. – Selbstverständlich
können auch andere Einrichtungen flankierend oder alternativ
eingesetzt werden, um die notwendige Einwirkung mechanischer Energie
darzustellen. Denkbar ist hier beispielsweise der Einsatz von Ultraschall.
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Zusätzlich
zu der Bedüsungseinrichtung 2 ist noch eine Ablöseeinheit 6 vorgesehen,
bei welcher es sich im Rahmen der Darstellung um eine Absaugeinheit 6 handelt.
Diese saugt das gesamte auf das Substrat 1 aufgebrachte
Trockenpulver ab und führt dieses einer Rückgewinnungsstation 7 über
Leitungen 8 zu. In der Rückgewinnungsstation 7 wird
das Trockenpulver im Wesentlichen gesiebt, wobei größtenteils
mit dem Öl oder Fett gesättigte Körner
ausgeschleust werden. Je nach dem, wie groß der Anteil des
ausgeschleusten Trockenpulvers bemessen ist, sorgt eine Steuereinrichtung 9 mit
nachgeschalteter Zugabevorrichtung dafür, dass dieser Anteil
durch Neupulver wieder ausgeglichen wird und die Pulvermenge erhalten
bleibt.
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Das
solchermaßen aufbereitete bzw. rückgewonnene Trockenpulver
wird anschließend über eine Rückführleitung 10 und
einen Vorratsbehälter 11 der erneuten Behandlung
des Substrates 1 wieder zugeführt.
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Man
erkennt, dass die Anlage nach 1 in zwei
Stationen unterteilt ist, und zwar eine Station 12 zur
Reinigung mit dem Trockenpulver und eine Station 13 zur
Endreinigung, die lediglich mit Absaugeinheiten 6 ausgerüstet
ist, ohne zusätzlich Trockenpulver aufzubringen. Im Gegensatz
zu den Bürsten 5, die aus Kunststoff, Rosshaar
(zum Verhindern einer statischen Aufladung des Substrates 1)
oder einem sonst geeigneten Material gefertigt sind, handelt es sich
bei den in der Station 13 eingesetzten Bürsten 14 um
solche aus beispielsweise Straußenfedern, was jedoch nicht
zwingend ist.
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Beide
Stationen 12, 13 sind durch eine Trennwand 15 voneinander
separiert. Nach außen hin sorgen durch Bürsten
verschlossene Schlitze 16 dafür, dass das Substrat 1 bzw.
Metallband nicht unnötigerweise Schmutz in die beiden Stationen 12, 13 hereinträgt
bzw. Schmutzpartikel in die Anlage hineingeraten.
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Bei
der Anlage nach 2 werden die einzelnen Substrate 1 bzw.
Maschinenelemente 1 in einer Revolveraufnahme aufgenommen,
die sich während des Bedüsungsvorganges mit der
Bedüsungseinrichtung 2 um eine Achse wie angedeutet
drehen mag. Gleichzeitig oder nach dem Bedüsen kann der revolverartige
Behälter zu Rüttelbewegungen veranlasst werden,
was durch zusätzliche Pfeile angedeutet ist. Durch diese
Rüttelbewegungen wirkt mechanische Energie ein und sorgt
für die Einarbeitung des in den einzelnen Schächten
des Revolvers vorhandenen Pulvers in die Oberfläche des
Substrates 1. Nach der Adsorption der hydrophoben Bestandteile in
dem Trockenpulver wird das Trockenpulver mit Hilfe einer angedeuteten
Ablöseeinheit bzw. Absaugeinheit 6 entfernt und
wie zuvor beschrieben aufbereitet und im Kreislauf wieder zugeführt.
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ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur
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- - DE 4421141
A1 [0002]
- - US 2005/037937 A1 [0003]
- - WO 99/11745 A1 [0004]
- - US 5614027 [0005]
- - US 3037886 [0006]