DE2014632A1 - Glasmasse für Einkapselungszwecke, insbesondere für Kondensatoren, und Verfahren zu ihrer Herstellung - Google Patents

Glasmasse für Einkapselungszwecke, insbesondere für Kondensatoren, und Verfahren zu ihrer Herstellung

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DE2014632A1
DE2014632A1 DE19702014632 DE2014632A DE2014632A1 DE 2014632 A1 DE2014632 A1 DE 2014632A1 DE 19702014632 DE19702014632 DE 19702014632 DE 2014632 A DE2014632 A DE 2014632A DE 2014632 A1 DE2014632 A1 DE 2014632A1
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Roland Thomas Scotia; Rice George Allen Schenectady; N.Y. Girard (V.St.A.)
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    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
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Description

Patentanwalt
β Frankfurt-/ Main 1
Niddastr.'52
23. März 1970
1^37-RD- 2319
GENERAL ELECTRIC COMPANY
1, River Road, Schenectady, N.Y., USA
Glasmasse für Einkapselungszwecke, insbesondere für Kondensatoren, und Verfahren zu ihrer Herstellung
Die Erfindung betrifft eine Glasmasse für Einkapselungszwecke, insbesondere für Dickfilmkondensatoren, sowie ein Verfahren zur Herstellung der Glasmasse. Insbesondere betrifft die Erfindung eine Glasmasse für Einkapselungszwecke aus wenigstens 45 Gew.-$ schwer schmelzbaren Metalloxiden und einem
geringen Gewichtsprozentsatz hochsclimelzenden Oxiden. Die
Glasmasse ist besonders dafür geschaffen, dass sie im Siebdruckverfahren auf Diokfilmkondensatoren aufgebracht werden kann und Temperaturschwankungen zwischen 240 und -6O0C ohne Haarrissbildung aushält.
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ORIGINAL INSPECTED
Aue raumfahrttechnischen und elektrotechnischen Überlegungen ist die Herstellung von integrierten Schaltungen in einer flachen Ebene begünstigt. Zur Bildung solcher Schaltungen mit überlegenen Hochfrequenzeigenschaften können vorteilhaft im Siebdruckverfahren hergestellte Dickfilmkondensatoren eingesetzt werden. Die Siebdrucktechnik und die zur Kondensatorherstellung verwendeten Stoffe ergeben im allgemeinen jedoch ein stark poröses Dielektrikum, wodurch die elektrischen Eigenschaften des Kondensators gegenüber Schwankungen des Feuchtigkeitsgehalts der Umgebung äusserst empfindlich gemacht werden. Versiegelungen aus organischen Stoffen sind für Sinkapselungszwecke für im Siebdruckverfahren hergestellte Kondensatoren nicht geeignet, weil die Vereiegelungsmittel charakteristischerweise nicht völlig feuchtigkeitsundurchlässig sind und weil viele Versiegelungsstoffe mit einigen der darunterliegenden Schaltungskomponenten unverträglich sind. Obwohl handelsübliche Glasmassen für Einkapselungszwecke feuohtigkeitsundurchlässig sind, führen die unterschiedlichen Ausdehnungskoeffizienten der Kondensatorelemente, also die verschiedenen Ausdehnungskoeffizienten des Schichtträgers, des Dielektrikums und der Elektroden, zur Bildung von Haarrissen der Versiegelung aus handelsüblichen Glasmassen bei Temperaturschwankungen über einen Temperaturbereich von mehr als 20O0C.
Ziel der Erfindung ist die Schaffung einer neuen Glasmasse für Einkapselungszwecke für nach der Siebdrucktechnik hergestellte Dickfilmkondensatoren.
Ziel der Erfindung ist weiterhin die Scheffung einer Glasmasse für Einkapeelungsxweek·, die nach einem Siebdruckverfahren für
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Dickfilme aufgebracht werden kann.
Ein weiteres Ziel der Erfindung let die Schaffung einer Glasmasse für Einkapselungszweoke für Dickfilmkondensatoren, die Temperaturschwankungen Über einen weiten Temperaturbereich aushält.
Schliesslich ist Ziel der Erfindung die Schaffung eines Verfahrens zur Herstellung einer starken Glasmasse für die Einkapselung von Dickfilmkondensatoren im Siebdruckverfahren.
Die erfindungsgemäase Glasmasse für Einkapselungszwecke aus schwer schnaeüiaren Metalloxiden mit Schmelzpunkten, über 170O0C, hochschraelzenden Oxiden, die die schwer schmelzbaren Verbindungen bei niedriger Temperatur lösen, und Schmelzflussmodifiziermitteln zur Verminderung des thermischen Ausdehnungskoeffizienten der Glasmasse ist dadurch gekennzeichnet, dass die Glasmasse wenigstens 45 Gewichtsprozent der schwer schmelzbaren Metalloxide.. und 1 bis 4 Gewichtsprozent hochschmelzende Oxide von Elementen der Gruppe Natrium, Kalium und Blei oder deren Gemische enthält. Vorzugsweise sind die schwer schmelzbaren Metalloxide Genische von Aluminiumtrioxid, Zirkoniumdioxid und Siliciumdioxid, in einer Menge von 45 bis 70 Gewichtsprozent, bezogen auf die Glasmasse, und die hochschmelzenden Oxide ein Gemisch aus Natriumoxid und Kalimoxid in einer Gewichtsmenge von 1 bis 4 %, bezogen auf die Glasmasse.Zur Bildung der Glasmasse für Einkapselungszwecke werden die Bestandteile oberhalb 140O0G geschmolzen und auf eine Grosse vermählen, die zum Aufbringen auf einen Kondensator nach der Siebdrucktechnik in üblicher Weise geeignet ist.
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Im allgemeinen sind die bei der Glasmasse für Einkapselungszwecke verwendeten schwer schmelzbaren Metalloxide gekennzeichnet durch einen Schmelzpunkt über 170O0C und stellen gewöhnlich Oxide dar, wie Aluminiumoxid, Zirkoniumoxid und Siliciumdioxid. Diesen Oxiden sind die Eigenschaften eigentümlich, dass sie sehr unlöslich sind und der Glasmasse eine grosse chemische Stabilität und einen hohen Schmelzpunkt verleihen. Vorzugsweise ist die Menge der schwer schmelzbaren Metalloxide in derGlasmasse für Einkapselungszwecke sehr gross und liegt z.B. über 45 Gewichtsprozent, bezogen auf die Glasmasse, damit die Glasmasse die nötige Härte erhält. Vorzugsweise liegen die schwer schmelzbaren Metalloxide in einer Menge vor, dass der thermische Ausdehnungskoeffizient des Einkapselungsmittels unter dem thermischen Ausdehnungskoeffizienten des Schichtträgers liegt, auf dem der Kondensator gebildet wird. Da die Konzentrationen von Aluminiumtrioxid und Zirkoniumdioxid in der Einkapselungsmasse eine erhebliche Haarriesbildung bewirken,' sollten diese Stoffe vorzugsweise 15 bis 25 Gewichtsprozent der Glasmasse ausmachen, wobei Siliciumdioxid in erheblich grösserer Menge, z.B. von wenigstens 25, vorzugsweise etwa 39 Gewichtsprozent in der Glasmasse für Einkapselungezwecke vorliegt.
Die Widerstandsfähigkeit gegen Haarrissbildung erfordert, dass in der Glasmasse etwas Aluminiumtrioxid, Siliciumdioxid und Zirkoniumdioxj.d vorliegen. Die genaue Menge Jeder der schwer schmelzbaren Metalloxide kann jedoch schwanken. Beispielsweise kann ein Anstieg des Zirkoniuradioxidgehalts durch einen Abfall des Aluminiumtrioxidgehalts der Glasmasse kompensiert werden. Aluminiumtrioxid und Zirkoniumdioxid sollten zusammen jedoch mindestens 25, vorzugsweise 4C bis 60 Gewichtsprozent der schwer schmelzbaren Metalloxide der Glasmasse für
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Einkapselungszwecke betragen. . .
Zur Erhöhung der löslichkeit der schwer schmelzbaren Metalloxide während des Schmelzens bei Temperaturen unter 140O0C werden der Glasmasse hochschmelzende Oxide von Metallen der . Gruppe Natrium, Kalium und Blei oder deren Gemische zugesetzt, vorzugsweise als Carbonate, die während des Schmelzens bei der Bildung der Glasmasse zu den Metalloxiden zersetzen. Da die durchBleioxid in der Glasmasse hervorgebrachten Eigenschaften nicht so wünschenswert wie diejenigen sind, die durch Natriumoxid und/oder Kaliumoxid hervorgebracht werden, wird Λ die Einkapselungsmasse vorzugsweise bleifrei gehalten. Zur Erhöhung der Löslichkeit der schwer schmelzbaren Metalloxide bei Temperaturen über 14000C wird daher vorzugsweise eine Kombination aus Natriumoxid und Kaliumoxid in einer Gesamtgewichtsmenge von unter 4 Gewichtsprozent der gesamten Glasmasse verwendet. Vorzugsweise liegen die hochschmelzenden Oxide in Konzentrationen von 1 bis 4 Gewichtsprozent der Einkapselungsmasse vor, weil schmelzflussfördernde Mittel auf der Basis von Alkalimetallen den thermischen Ausdehnungskoeffizienten der Einkapselungsmasse auf einen Wert' erhöhen können, der über dem Ausdehnungskoeffizienten des Schichtträgers liegt, wodurch bei starken Temperaturschwankungen eine Haarrissbildung im Material auftreten kann. Natriumoxid und Kaliumoxid sind ausserdem durch P schlechte elektrische Eigenschaften gekennzeichnet und bringen in der Glasmasse für Einkapselungszwecke eine Löslichkeit hervor, die zur Verringerung, der chemischen Stabilität der durch die schwer schmelzbaren Metalloxide hervorgebrachten Einkapselungsmasse Anlass geben kann.
Zur Unterstützung der Auflösung der schwer schmelzbaren Metalloxide wab.re.nd des Schmelzens bei der Herstellung der Glasmasse
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wird dieser ein oxidisches Schmelzfluseaodifiziermittel, wie Bortrioxid, Arsentrioxid, Arsenpentoxid, Wismutoxid, Magnesiumoxid oder ein Gemisch dieser Oxide zugesetzt. Weil diese oxidischen Verbindungen nicht die drastische Wirkung auf die elektrischen Eigenschaften der Glasmasse haben, die im allgemeinen mit hochsehmelzenden Mitteln verbunden sind, können diese oxidischen Verbindungen im allgemeinen in relativ hohen Prozenteätzen geduldet werden, beispielsweise in einer Menge von 2 bis 6 Gewichtsprozent, bezogen auf die Einkapselungsmasse. Vorzugsweise liegen die oxidischen Verbindungen in der Glasmasse in Konzentrationen vor, die das ein- bis dreifache der Gesaatkonzentration der hochschmelzenden Oxide beträgt. Lithiumoxid und Phosphorverbindungen, z.B. Phosphorpentoxid, können gegebenenfalls anstelle eines !Teils oder der Gesamtmenge von einem oder von mehreren der oxidischen SohmelzfluBsmodifiziermittel verwendet werden.
Zur weiteren Einstellung des thermischen Ausdehnungskoeffizienten der Glasmasse für Einkapselungszwecke, also zur Verminderung der thermischen Ausdehnung der Glasmasse auf einen Wert unter etwa 9 . 10 Grad C , werden in die Einkapselungsmasse eine Reihe weniger aktiver Fliessmittel oder Schmelzflussmodifiziermittel eingebracht, z.B. Calciumoxid, Bariumoxid, Zinkoxid» Calciumfluorid, Strontiumoxid und Gemische dieser Verbindungen, wobei die Verbindungen z.B. in der Form der Carbonate zugemischt werden, die beim Schmelzen in die Oxide zersetzt werden. Ba die Schmelzflussmodifieiermittel im allgemeinen, austauschbar sind, schwankt ihre Menge oder Art im Gemisch» Die SchmelzflussiBodifizieraittel bilden jedoch vorzugsweise etwa 20 bis 40 Gewichtsprozent der gesamten Glasmasse, wobei die aktiveren Verbindungen, wie Calcium-
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fluorid, in Mengen unter 8 Gewichtsprozent, bezogen auf die Glasmasse zum Einkapselnt vorhanden sind.
Infolge der Mengenverhältnisse der schwer schmelzbaren Metalloxide! der hochschmelzenden Mittel» der Oxidverbindungen und der Schmelzflussmodifiziermittel ist die Glasmasse für Einkapselungszwecke gemäss derErfindung im allgemeinen durch eine Schmelztemperatur von 750 bis 85O0C und einen thermischen
—5 —1 Ausdehnungskoeffizienten von weniger als etwa 9 - 10 Grad C gekennzeichnet.
Bei der Herstellung einer Glasmasse gemäss der Erfindung, die zum Einkapseln eines Kondensators bestimmt ist, der dadurch gebildet wird, dass nacheinander mit der Dickfilm-Siebdrucktechnik eine Platin-Gold-Elektrode, ein Kondensator-Dielektrikum mit hohem K (DuPoat EP 8229) und eine Gold-Platin-Silber-Elektrode auf einen Aluminiumoxidschichtträger gedruckt werden, wird der folgende Ansatz vermischt;
Verbindung Gew.-^, bezogen auf das Gemisch
Na2C03- 0,8-2,1
23 1,2 - 2,4
CaCO3 4,8 - 11,5
BaCO3 .".Λ 4,9 - 16,3
ZnO / 4.9 - 16,3
CaF -■■'-'·■■_ 1>t- 8,2
B2O3.3H2O , 3,3 - 13,1
AlgO3*3H2O 8,2-14,7
SiO2 16,3- 40,7
mit QaO stabilisiertes
ZrO2 3,3 - 13,1
Nach gründlichem SÜ3cnen der Bestandteile wird das Gemisch
-. ■■ " ·"■.'*■■■ '■■■'.'■■ " - -8-
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1 1/2 bis 3 Stunden bei einer Temperatur von 1495 bis 150O0C in einem Flatintiegel geschmolzen, der sich in einem gasgeheizten Ofen befindet. Während des Schmelzene werden Kohlendioxid und Wasser aus dem Verbindungsgemisch freigesetzt und es wird eine Einkapselungs-GlaBmasse der folgenden allgemeinen Zusammensetzung gebildet:
Verbindung Gew.- 1,6
Na2O 0,6 - 2,1
K2O 1,0- 7,9
CaO 3,3 - 15,5
BaO 4,7 - 20,5
ZnO 6,1 - 9,7
CaP 2,1 - 7,0
B2O3 1,5 - 11,0
Al2O3 5,1 - - 50,0
SiO2 20,0
nit CaO stabilisiertes - 16,1
ZrO0 4,05
Eine besondere bevorzugte Glasmasse ist durch die folgende Zusammensetzung gekennzeichnet:
Verbindung Gew.-5
mit CaO stabilisiertes ZrO2
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0,8 3
1,4
'5,7
7,6
15, 9
3,8 5
5,4
9,5
37,
12,
Das Glas in der erschmolzenen Form ist nicht vollständig homogen und enthält etwas ungelöste schwer schmelzbare Metalloxide wegen der extrem hohen Konzentration dieser Metalloxide bezüglich der Fliessmittel im Gemisch. Obwohl die schwer schmelzbaren Metalloxide durch Erhöhen der Temperatur der Schmelze oder durch Erhöhen des Gewichtsmengenanteils der Fliessmittel . gelöst werden können, ist im allgemeinen die vollständige Lösung der schwer schmelzbaren Metalloxide nicht bevorzugt, weil mit höheren Mengenanteilen der Fliessmittel nachteilige elektrische Eigenschaften auftreten und weil das Gemisch dazu neigt, sich beim längeren Schmelzen bei Temperaturen oberhalb 0C zu verflüchtigen. Nachdem das Gemisch, während der
erforderlichen Dauer geschmolzen worden ist, wird die Schmelze schnell unter wasserfreien Bedingungen abgeschreckt, z.B. durch Abschrecken auf einer Stahlplatte, damit die Kristallisation während der Glasbildung für das Einkapselungsmittel verhindert wird.
Das Glas wird anschliessend auf eine Teilehengrösse vermählen, die für das zum Drucken verwendete Sieb brauchbar ist, z.B. 2 bis 3 um bei den üblicherweise verwendeten Sieben der Maschenweite 0,074 bis 0,043 mm (325 bis 200 mesh). Die Mahldauer hängt im allgemeinen von der Grosse der Ausgangsteilchen des Glases ab und schwankt von etwa 3 1/2 bis 4 1/2 Stunden. Ein längeres Mahlen von z.B. mehr als 8 Stunden in einer Porzellan- " H mühle kann eine Verunreinigung der Glasmasse hervorbringen, die nachteilig für die Ausdehnungseigenschaften und die Festigkeit der Einkapselungs-Glasmasse, die daraus hergestellt ist, sein kann und soll daher vermieden werden.
Das vermahlene Glas wird danach in einen geeigneten Träger ein-
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- ίο -
gemischt, wobei eine für das Siebdruckverfahren geeignete Druckmasse gebildet wird, die auf den Kondensator aufgebracht wird. Zu den üblicherweise verwendeten Trägern gehört Äthylcellulose, die in Kieferaöl gelöst ist, wobei 8 g Äthylcellulose in 60 ecm Kiefernöl einen Träger geeigneter Viskosität für das Drucken mit Sieben der lichten Maschenweite von 0,074 bis 0,043 mm (325 bis 200 mesh) bildet. Der Träger wird mit der gemahlenen Glasmasse in geeigneten Mengenverhältnissen, z.B. etwa im Gewichtsverhältnis gemahlene Glasmasse zu Träger =2 : 1, so lange gemischt, bis ein glatter, kremiger, klumpenfreier Druckstoff erhalten wird, der für das Bedrucken geeignet ist. Der Druckstoff wird anschliessend über den Kondensator im Siebdruckverfahren aufgebracht, eine geeignete Zeitspanne von z.B. 10 Minuten, bei Raumtemperatur abbinden gelassen und getrocknet.Der beschichtete Kondensator wird 10 Minuten auf 85O0C erhitzt, um die Einkapselungs-Glasmasae auf dem Kondensator dicht aufschmelzen zu lassen. Der beschichtete Kondensator kann danach Temperaturschwankungen zwischen 240 und -600C abwechselnd unterworfen werden, ohne dass die elektrischen Eigenschaften des Kondensators geändert werden, wenn dieser unter Strom gesetzt wird, während er in Wasser eingetaucht ist.
Die Erfindung wird durch das folgende Beispiel näher erläutert: Beispiel
Es wurde ein Kondensator, der durch abwechselndes Aufdrucken einer Goldelektrode,- eines Kondensator-Dielektrikums mit hohem K (DuFont EF 8229) und einer Gegenelektrode aus Gold auf einen Aluminiumoxid-Schichtträger im Siebdruckverfahren hergestellt worden war, eingekapselt, wozu eine Glasmasse verwendet wurde, die aus folgenden Bestandteilen hergestellt worden warj
DÖG 346/ ] 554
Verbindung Gew.-j
1,2 1
1,7
8,7
8,4 4
13* 4
3,3 6
8,1
12,
3a,
10,
BaCO3 ZnO CaP
B2O3.3H2O 3.3H2O
; ;'■;>■■.." .. '■: ...-. .■■-■■■ -■
mit CeO stabilisiertes ZrOg
Die das Gemiech bildenden Verbindungen wurden gut miteinander vermischt und in einem Platintiegel 1 1/2 Stunden lang bei . einer Temperatur von etwa 150O0C geschmolzen. AaechlieBBend wurde die Sohmelae unter Verwendung einer Stsaiilplatte sur Vermeidung einer KriBtiJlLBaticn abgeaclireskt. Dae*bg«schreokte Glas wurde danach «u Teilchen von 2 bie 3 μ« öröeet venaahlen und mit einem Träger aue 8 g Athyleslluloae, gelöst in 60 ecm Kiefernöl, im GewictiteverhMi^ie iroirv 2β vg GlmBnaee* :tä;\5tf $ !Träger vermischt, Kach gründlichem üisohen dta ösaiechSB in einem Mörser wurde der erhaltene Druckstoff über den Dickfilmkondeneatör im Siebdruckverfahren aufgebracht und 10 Minuten bei Raumtemperatur getrocknet* Der beschichtete Kondensator wurde 10 Minuten bei 1ÖÖ°C gebaclcen und 10 Miauten «ufB5O0C erhitzt. Die elektrische Prüfung des Konäeneators «eigte keine , KapanitäteÄnderung der dielektrischan Schicht, die unter der aufgebrachten Einkapselungs-Glasmasse lag. Danach wurde der Kondensator Wärmeschwankungen zwischen 240 und -60° C mehrfach xmterworfen, ohne dass Haarrisse auftraten. Die für die Einkapselung verwendete Glasmasse blieb nach den grossen Temperaturschwankungen unbeschädigt, trotzdem das Dielektrikum des Konden-
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BAD ORiGINAL
ί- V/ I T \J %J L.
sators eine Zusammensetzung mit weniger als etwa 12 Gewichtsprozent Glasbindemittel hatte und einen Ausdehnungs-
—6 1 koeffizienten von etwa 10 . 10" Grad C" besass, während der Schichtträger aus Aluminiumoxid und die Metallelektroden durch Ausdehnungskoeffizienten von etwa 7,5 . 10" bzw. 13 . 10" Grad G~ gekennzeichnet waren.
Kondensatoren mit Palladium-Silber-Elektroden, die mit einem handelsüblichen Druckstoff (Squeegee Ink, Engelhard Industires) überzogen waren, aber sonst denen des Beispiele entsprachen, zeigten eine leichte Kapazitätssenkung von z.B. 10 ?6 nach dem Einkapseln im Gegensatz zu den Kondensatoren mit Goldelektroden gemäss dem Beispiel. Wahrscheinlich wird dieses ungewöhnliche Resultat durch die Diffusion von etwas Glas durch die Palladium-Silber-Elek-tode zur Grenzfläche Dielektrikum-Elektrode verursacht. Der Kapazitätsabfall von Kondensatoren mit Palladium-Silber-Elektroden beim Einkapseln beträgt im allgemeirmjedoch einen konstanten Wert, der die Kapazitätsänderung als Faktor in die Bildung des Dielektrikums des Kondensators aufzunehmen gestattet, wenn Kondensatoren hoher Toleranz mit Palladium-Silber-Elektroden hergestellt werden sollen.
Obwohl die Glasmasse für Einkapselungszwecke anhand der Bestandteile gemäss den vorstehenden Aufstellungen erläutert worden ist, können andere äquivalente Stoffe natürlich verwendet werden, um ähnliche Gewichtsmengenverhältnisse der gewünschten Elemente des Einkapselungsgemisches hervorzubringen. Beispielsweise kann Natriumcarbonat und Zinkoxid ganz oder teilweise durch Natriumzinkat NagZnO, ersetzt werden, wodurch sowohl Zinkoxid wie Natriumoxid bereitgestellt werden, die in der Glasmasse verwendet werden. Im allgemeinen sind jedoch die
.--13 -■ ■ -
Carbonate bevorzugt, well sie unter Kohlendioxidabgabe zersetzt werden können, was zum Umrühren der Schmelze beiträgt. In ähnlicher Weise kann anstelle von Zinkoxid und einem Teil des Siliciumdioxids der Glasmasse für Einkapselungszwecke Zinksilicat ZnSiCK verwendet werden.
- Patentansürüche -
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Claims (12)

Patentansprüche :
1. Glasmasse für EinkapeelungBzwecke aus schwer schmelzbaren Metalloxiden mit Schmelzpunkten über 170O0C, hochschmelzenden Oxiden, die die Metalloxide bei niedriger Temperatur lösen, und Schmelzflussmodifiziermitteln zur Verminderung des thermischen Ausdehnungskoeffizienten der Glasmasse, dadurch gekennzeichnet , dass die Glasmasse wenigstens 45 Gewichtsprozent der schwer schmelzbaren Metalloxide und 1 bis 4 Gewichtsprozent hochschmelzende Oxide von Elementen der Gruppe Natrium, Kalium und Blei oder deren Gemische enthält.
2. Glasmasse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die schwer schmelzenden Metalloxide aus einem Gemisch von Aluminiumtrioxid, Zirkoniumdioxid und Siliciumdioxid bestehen, wobei die Menge Aluminiumtrioxid und Zirkoniumdioxid zusammen wenigstens 25 Gewichtsprozent der schwer schmelzbaren Metalloxide beträgt,
3. Glasmasse nach Anspruch 1 bis 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Menge der schwer schmelzbaren
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Metalloxide 45 bis 70 Gewichtsprozent der Glasmasse beträgt und dass die hochschmelzenden Oxide Gemische von Natriumoxid und Kaliumoxid in einer Gesamtkonzentration von 2 bis 3 Gewichtsprozent, bezogen auf die Glasmasse, sind*
4. Glasmasse nach Anspruch 1 bis 3, dadurch g e k e nn sei c h η β t , dasssie ausserdem weniger als 6 Gewichts prozent Bortrioxid enthält.,
5. Glasmasse nach Anspruch 1 bis 3» ge lc β η η ζ e i c fane t durchi folgende Zusammensetzung!
Verbindung
0*6-1,6
γ '■"-"■-"", . ■. '. .:■■ ■ TsÖ;-„E,t: CaO -:.■:■ ■; ', . ν ■ "'■''■■■ - Y .;..../.■'■ 3,3* 7,9
-. 2 .--■-■■-■ ■'■■'.'■ - Y - '..-,. . ■:"■·: ':'.'" ' Y ." mit CaO stabilisiertes 2rÖg ■'■':■';-:.. :.γ 4,05 - 16,1 .Y ■■■'
6. Glasmasse men Anöprueh 5, " g.e'k en ti.g.e i c h η e t 4| durch
" ■'■ ■'■■.;"'. - "-■ - Λ -. . 5,7"
EnO -■■■ .: - 15,3
StO2 .-, UCmHCl^SH 31,9
mit CaO e::YYYiW.ej*t?>i -
BAD ORIGINAL
ρ 20 m 632.1
- 16 -
7. Verwendung der Glasmasse nach Anspruch 1 bis 6 zur Einkapselung von Kondensatoren.
8. Verwendung der Glasmasse nach den Ansprüchen 1 bis 6 zum überziehen eines Kondensators, dessen dielektrische Schicht einen Aus»
aufweist.
—6 — 1 einen Ausdehnungskoeffizienten von 9 bis 11 · 10 Grad C
9. Verwendung der Glasmasse nach den Ansprüchen 1 bis 6 zum überziehen eines Kondensators, dessen dielektrische Schicht weniger als 12 % Glasbindemittel enthält.
10. Verwendung der Glasmasse nach den Ansprüchen 1 bis 6 zum überziehen eines Kondensators, dessen dielektrische Schicht
f\ — Λ
einen Ausdehnungskoeffizienten von 9 bis 11 · 10 Grad C und/oder weniger als 12 % Glasbindemittel aufweist und der weiterhin an den beiden gegenüberliegenden Seiten der dielektrischen Schicht Metallelektroden mit Ausdehnungskoeffizienten von 12 bis 14 · 10 Grad c" aufweist und wobei wenigstens eine der Metallelektroden auf einem Schichtträger aus Aluminiumoxid aufgebracht ist.
11. Verfahren zur Herstellung einer Glasmasse für Einkapselungszwecke für das Aufbringen auf einen elektrischen Kondensator im Siebdruckverfahren nach Anspruch 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet , dass man ein Glasgemisch aus schwer schmelzbaren Metalloxiden mit Schmelzpunkten über 17000C, hochschmelzenden Mitteln für die Lösung der schwer schmelzbaren Verbindungen und Schmelzflussmodifiziermitteln zur Verminderung der thermischen Ausdehnungskoeffizienten des Glases, wobei die schwer schmelzbaren Metalloxide wenigstens 45 Gewichtsprozent des Gemisches und die hochschmelzenden Mittel 1 bis H Gewichtsprozent des Gemisches darstellen» herstellt, das Gemisch bei einer Temperatur über IiIOO0C BChmilsßt, bis die hochachmel-
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ORIGINAL INSPECTED
ζenden Mittel unter Zersetzung Metalloxide von Elementen der Gruppe Natrium, Kalium und Blei oder,Gemische davon bilden,-das Gemisch unter wasserfreien Bedingungen zur Verfestigung des Gemisches abkühlt und auf eine für das-;'v Siebdruckverfahren geeignete Teilchengrösse vermahlt.
12. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch g e k en η ζ eich η e t , dass man ein geschmolzenes Gemisch folgender Zusammensetzung verwendet:
Verbindung Na2CO,
BaCO3 ZnO
CaP
B2O3.3H2O Al2O3.3H2O SiO2 mit CaO stabilisiertes ZrO2
Gew.-^
0,8 -2,1
1.2 - 2,4
7.8 - 11,5
4.9 - 16,3 4,9 - 16,3 1,7 - 8,0
3.3 - 13,1
8.2 - 14,7. 16,3 - 40,7
3.3 - 13,1
00 9 8.A 67-1.5 5 A
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10135319B4 (de) * 2000-07-21 2007-10-31 Murata Mfg. Co., Ltd., Nagaokakyo Elektrisches Bauelement und Verfahren zu dessen Herstellung

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