DE19953470A1 - Rohrtarget - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 13
- 239000000155 melt Substances 0.000 claims abstract description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 16
- 238000005266 casting Methods 0.000 claims description 15
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 14
- 238000009750 centrifugal casting Methods 0.000 claims description 12
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 10
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 8
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 7
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 claims description 5
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 claims description 3
- 239000003345 natural gas Substances 0.000 claims description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 claims 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000009987 spinning Methods 0.000 abstract 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 19
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 10
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 8
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009749 continuous casting Methods 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 3
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 3
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000001513 hot isostatic pressing Methods 0.000 description 2
- 238000000462 isostatic pressing Methods 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 1
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000005524 ceramic coating Methods 0.000 description 1
- 239000003610 charcoal Substances 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 239000003245 coal Substances 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 238000005242 forging Methods 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007750 plasma spraying Methods 0.000 description 1
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000002893 slag Substances 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- 239000010421 standard material Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3411—Constructional aspects of the reactor
- H01J37/3414—Targets
- H01J37/3423—Shape
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22D—CASTING OF METALS; CASTING OF OTHER SUBSTANCES BY THE SAME PROCESSES OR DEVICES
- B22D13/00—Centrifugal casting; Casting by using centrifugal force
- B22D13/02—Centrifugal casting; Casting by using centrifugal force of elongated solid or hollow bodies, e.g. pipes, in moulds rotating around their longitudinal axis
- B22D13/023—Centrifugal casting; Casting by using centrifugal force of elongated solid or hollow bodies, e.g. pipes, in moulds rotating around their longitudinal axis the longitudinal axis being horizontal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
- C23C14/3414—Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3488—Constructional details of particle beam apparatus not otherwise provided for, e.g. arrangement, mounting, housing, environment; special provisions for cleaning or maintenance of the apparatus
- H01J37/3491—Manufacturing of targets
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Spinning Methods And Devices For Manufacturing Artificial Fibers (AREA)
- Particle Accelerators (AREA)
- Lasers (AREA)
- Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)
Abstract
Die Erfindung betrifft ein Rohrtarget für Kathodenzerstäubungsanlagen, ein Verfahren zur Herstellung eines zylindrischen Hohlkörpers für ein solches Rohrtarget und seine Verwendung. Es stellt sich das Problem, ein einfaches und kostengünstiges Verfahren zur Herstellung eines zylindrischen Hohlkörpers für ein Rohrtarget sowie einen zylindrischen Hohlkörper mit gleichmäßigem, feinem Korngefüge bereitzustellen. Das Problem wird für das Verfahren dadurch gelöst, dass der zylindrische Hohlkörper durch Schleudergießen einer Schmelze hergestellt wird. Das Problem wird für das Rohrtarget dadurch gelöst, dass das Rohrtarget einen schleudergegossenen, zylindrischen Hohlkörper aufweist. Eine Verwendung von schleudergegossenen, zylindrischen Hohlkörpern für Rohrtargets ist von großem Vorteil. Insbesondere eine Verwendung von Rohrtargets mit schleudergegossenen, zylindrischen Hohlkörpern aus Silber für die Beschichtung von Flachglas hat sich bewährt.
Description
Die Erfindung betrifft ein Rohrtarget für Kathodenzerstäubungsanlagen, ein Verfahren zur Her
stellung eines zylindrischen Hohlkörpers für ein solches Rohrtarget und seine Verwendung.
Rotierende Rohrtargets für Kathodenzerstäubungsanlagen sind bekannt. Sie werden überwie
gend für die Herstellung großflächiger Beschichtungen, beispielsweise für die Beschichtung von
Flachglas, verwendet. Rohrtargets ermöglichen im Vergleich zu planaren Targets eine höhere
Ausbeute an Targetmaterial, was insbesondere bei hochwertigen Beschichtungsmaterialien wie
Edelmetallen von größter wirtschaftlicher Bedeutung ist.
Für die Herstellung eines Target-Rohres beziehungsweise eines zylindrischen Hohlkörpers aus
Beschichtungsmaterial sind unterschiedliche Verfahren bekannt. Um mit dem Rohrtarget hohe
Zerstäubungsleistungen und eine hohe Gleichmäßigkeit beziehungsweise eine einheitliche Dic
ke der erzeugten Beschichtung zu erzielen, wird eine gleichmäßige, feine Kornstruktur des Tar
getmaterials angestrebt.
So kann ein Target-Rohr aus Metall durch Gießen eines massiven Barrens, Schmieden des
Barrens zu einem zylindrischen Knüppel und anschließende Herstellung eines Rohres durch
spanende Bearbeitung hergestellt werden. Die Materialausbeute bei diesem Verfahren ist aller
dings gering und die Zerspanung aufwendig. Zudem sind hohe Umformgrade erforderlich, um
eine gleichmäßige, feine Kornstruktur zu erzielen.
Die Herstellung eines metallischen Target-Rohres kann aber auch durch Strangguss mit an
schließender spanender Bearbeitung der Innen- und Außendurchmesser erfolgen. Aufgrund der
langsamen Erstarrung des Rohres beim Strangguss entsteht allerdings ein grobkörniges und
damit weniger geeignetes Gefüge. Beim Horizontal-Strangguss bildet sich zudem über den
Rohrquerschnitt eine ungleichmäßige Kornstruktur, die zu unterschiedlichen Abscheideraten
führt.
Ein metallisches Target-Rohr kann auch durch Umformen eines dicken Bandes zu einer rohr
förmigen Geometrie und Schließen der Längsnaht durch Schweißen hergestellt werden. Die
Schweißnaht weist allerdings ein ungleichmäßiges Gefüge auf, das sich vom Material des um
geformten Bandes unterscheidet.
Eine Herstellung mittels Strangpressen eines hohlzylindrischen Bolzens ist sowohl für metalli
sche als auch für keramische Beschichtungsmaterialien möglich. Die Materialausbeute ist je
doch gering.
US 5,354, 446 beschreibt ein drehbares Rohrtarget nach dem Magnetron-Prinzip mit kerami
schem Beschichtungsmaterial zur Kathodenzerstäubung. Das Target weist einen Target-Träger
auf, der zwei metallische Schichten und als oberste Schicht eine keramische Schicht aufweist.
Die Wärmeausdehnungskoeffizienten der beiden metallischen Schichten sind so gewählt, dass
ein quasi fließender Übergang zwischen dem Wärmeausdehnungskoeffizienten des Target-
Trägers und dem der keramischen Schicht erzeugt wird. Die Herstellung der Schichten erfolgt
bevorzugt durch aufwendige Verfahren wie Plasmaspritzen oder Aufpressen von Schichtparti
keln mittels isostatischem Pressen oder heißisostatischem Pressen auf den Target-Träger.
FR 2 745 010 beschreibt ein Rohrtarget für die Kathodenzerstäubung, das aus mehreren lang
gestreckten Platten zusammengesetzt wird. Die äußere Rohrform ergibt dabei vorzugsweise ein
Polygon. Langgestreckte Platten aus Standard-Materialien können in Form von Blechen oder
Barren verwendet werden. Die Herstellung von langgestreckten Platten aus Sonder-Materialien
kann durch Pressen, insbesondere durch isostatisches oder heißisostatisches Pressen erfol
gen. Die Montage der Platten zu einem Rohr erfolgt durch Verschrauben, Löten oder Kleben.
Es stellt sich somit das Problem, ein einfaches und kostengünstiges Verfahren zur Herstellung
eines zylindrischen Hohlkörpers für ein Rohrtarget sowie einen zylindrischen Hohlkörper mit
gleichmäßigem, feinem Korngefüge bereitzustellen.
Das Problem wird für das Verfahren dadurch gelöst, dass der zylindrische Hohlkörper durch
Schleudergießen einer Schmelze hergestellt wird. Unter einem zylindrischen Hohlkörper wird
dabei ein rohrförmiger Rohling verstanden, der durch spanende Bearbeitung zu einem Target-
Rohr verarbeitet und schließlich mit weiteren Teilen zu einem Rohrtarget zusammengebaut
wird.
Bei dem Schleudergieß-Verfahren wird das Material für den zylindrischen Hohlkörper in eine
bereits "endformnahe" Geometrie gegossen, wodurch nachfolgend nur eine geringe spanende
Bearbeitung der Innen- und Außenkonturen des entstehenden zylindrischen Hohlkörpers erfor
derlich ist. Dies hat den Vorteil einer hohen Materialausbeute. Es hat sich gezeigt, dass durch
den Schleuderguss in der Wandung des zylindrischen Hohlkörpers eine sehr gleichmäßige
Kornstruktur mit im wesentlichen senkrecht zum Umfang des Hohlkörpers angeordneten, sten
geligen Kristalliten ausgebildet wird. Diese Ausbildung des Korngefüges bewirkt, dass die Kri
stallite in einer Kathodenzerstäubungsanlage während eines Zerstäubungsvorganges immer
senkrecht zu ihrem dünnen Querschnitt abgetragen werden. Somit ändert sich das Korngefüge
und damit die Abscheiderate während der gesamten Einsatzzeit des Rohrtargets nicht. Auf
grund der beim Schleudergießen auftretenden Fliehkräfte werden Verunreinigungen im Guss
material wie zum Beispiel Schlacke, Kohle oder Graphit beziehungsweise auch Gasblasen beim
Schleudern in Richtung des Innendurchmessers des entstehenden Hohlkörpers verdrängt und
können in einfacher Weise bei der nachfolgenden spanenden Bearbeitung der Rohr-
Innenkontur abgetragen werden. Dies führt zu einem sehr sauberen und homogenen Korngefü
ge des Target-Rohres und somit einer hohen Qualität des Rohrtargets. Zudem kann der Mate
rialabfall, der durch die spanende Bearbeitung entsteht, im nächsten Guss größtenteils als
Rücklauf wieder eingesetzt werden. Der Anteil an zugesetztem Rücklauf kann dabei generell
zwischen 0% und 100% betragen.
Als besonders vorteilhaft hat es sich erwiesen, wenn der zylindrische Hohlkörper durch Hori
zontal-Schleudergießen in einer rotierenden Gießkokille hergestellt wird. Die Gasatmosphäre
beim Schleuderguss sollte dem vergossenen Material so angepasst werden, dass dieses in
seinen Eigenschaften möglichst wenig beeinflusst wird. Eine Gasatmosphäre in der Gießkokille
mit einem niedrigen Sauerstoffpartialdruck ist dabei in den meisten Fällen von Vorteil. So kön
nen in einfacher Weise technische Gase wie Erdgas oder Argon oder Formiergas oder Stick
stoff verwendet werden.
Der zylindrische Hohlkörper kann aus einem Metall und/oder einem Edelmetall gebildet werden.
Dabei ist sowohl ein einschichtiger Aufbau des zylindrischen Hohlkörpers aus einem einzigen
Material als auch ein mehrschichtiger Aufbau aus unterschiedlichen Materialien möglich. Um
einen qualitativ hochwertigen, mehrschichtigen zylindrischen Hohlkörper durch Schleuderguss
herzustellen, wird beispielsweise ein zylindrischer Hohlkörper aus einem Edelmetall hergestellt
und abgekühlt. Bevor der Innendurchmesser dieses Hohlkörpers mit einer weiteren Schicht ver
sehen wird, sollte die Innenkontur mittels eines Bearbeitungsschrittes gesäubert und geglättet
werden. In den so bearbeiteten zylindrischen Hohlkörper kann nun eine andere Schmelze aus
Metall durch Schleudergießen eingebracht werden, die den Innendurchmesser des zylindri
schen Hohlkörpers belegt. Bei Materialien mit stark unterschiedlichen thermischen Ausdeh
nungskoeffizienten kann eine Spannungen ausgleichende Zwischenschicht vorgesehen wer
den.
Insbesondere die Herstellung eines zylindrischen Hohlkörpers aus Silber ist wirtschaftlich inte
ressant. Auch AgCuNi-Legierungen, die in der Handhabung aufgrund ihrer höheren Festigkeit im
Vergleich zu reinem Silber günstiger sind, sowie Ag-Werkstoffe mit geringen Dotierungen, wie
zum Beispiel ein Feinkornsilber mit 0,15 Gew.-% Nickel, können verwendet werden. Besonders
vorteilhaft ist, dass zylindrische Hohlkörper aus Legierungen hergestellt werden können, die
aufgrund ihrer ungünstigen Verformungseigenschaften mit anderen Verfahren nicht herstellbar
sind.
Es hat sich bewährt, wenn die Drehzahl der Gießkokille so eingestellt wird, dass eine auf die
einzubringende Schmelze wirkende Beschleunigung dem 160- bis 180fachen der Erdbe
schleunigung entspricht.
Das Problem wird für das Rohrtarget dadurch gelöst, dass das Rohrtarget einen schleuderge
gossenen, zylindrischen Hohlkörper aufweist. Mit einem solchen Rohrtarget sind über große
Flächen gleichmäßig dicke Schichten bei einer hohen Abscheiderate erzielbar.
Der zylindrische Hohlkörper kann aus einem Metall und/oder einem Edelmetall gebildet sein.
Vorzugsweise wird der zylindrische Hohlkörper jedoch aus Silber gebildet.
Eine Verwendung von schleudergegossenen, zylindrischen Hohlkörpern für Rohrtargets ist von
großem Vorteil. Insbesondere eine Verwendung von Rohrtargets mit schleudergegossenen,
zylindrischen Hohlkörpern aus Silber für die Beschichtung von Flachglas hat sich bewährt.
Nachfolgende drei Beispiele dienen zur beispielhaften Erläuterung der Erfindung.
Bsp. 1: Herstellung eines zylindrischen Hohlkörpers mit einer Länge von 1000 mm;
Bsp. 2: Herstellung eines zylindrischen Hohlkörpers mit einer Länge von 4000 mm;
Bsp. 3: Spanende Bearbeitung des zylindrischen Hohlkörpers;
Ein Material aus 70 Gew.-% Silber-Granalien und 30 Gew.-% Silber aus Rücklauf wird in einem
Tongraphit-Tiegel eingeschmolzen, wobei die Silber-Schmelze mit Holzkohle oder Graphit ab
gedeckt wird. Die Silber-Schmelze wird bei einer Temperatur von 1100°C in eine Gießpfanne
abgegossen, in der sich ein vorgewärmter Tongraphit-Tiegel befindet. Aus der Gießpfanne wird
die Silber-Schmelze ohne Unterbrechung in die auf 100°C vorgewärmte, rotierende Gießkokille
einer Horizontal-Schleudergussanlage gegossen, deren Drehzahl so eingestellt wird, dass die
auf die einzubringende Schmelze wirkende Beschleunigung dem 160- bis 180fachen der Erd
beschleunigung entspricht.
Der Außendurchmesser des zylindrischen Hohlkörpers wird durch den Innendurchmesser der
Gießkokille bestimmt, während die Dicke der Wandung des Hohlkörpers über die Menge an
eingebrachter Schmelze eingestellt wird. Um eine Sauerstoffaufnahme der Silber-Schmelze
weitgehend zu vermeiden, wird die Kokille während des Gusses mit Erdgas gespült. Die Silber-
Schmelze erstarrt rohrförmig an der Wandung der Gießkokille. Der entstandene zylindrische
Hohlkörper kann nach dem Abkühlen aus der Gießkokille entnommen und spanend bearbeitet
werden.
Die Herstellung des zylindrischen Hohlkörpers erfolgt im wesentlichen wie in Beispiel 1. Auf
grund der großen Länge von 4000 mm wird die Temperatur der Schmelze jedoch bei 1250°C
gewählt und die Gießkokille auf 200°C vorgeheizt.
Der Gießkokille entnommene zylindrische Hohlkörper wird mit einer konventionellen Bandsäge
abgelängt und der Innendurchmesser mit einer Tiefbohrmaschine bearbeitet. Mit Einsatz des
Tiefbohrverfahrens wird eine hohe Zerspanungsleistung, enge Bohrungstoleranzen, hohe
Fluchtgenauigkeit, exakte Geometrie und hohe Oberflächenqualität erzeugt. Die Bearbeitung
des Außendurchmessers erfolgt auf einer Langbettdrehmaschine. Zur Vermeidung von Durch
biegung bei den langen zylindrischen Hohlkörpern wird die jeweils bearbeitete Drehfläche durch
einen mitlaufenden Setzstock (Lünette) und/oder feststehende Setzstöcke abgestützt.
Claims (12)
1. Verfahren zur Herstellung eines zylindrischen Hohlkörpers für ein Rohrtarget für Kathoden
zerstäubungsanlagen, dadurch gekennzeichnet, dass der zylindrische Hohlkörper durch
Schleudergießen einer Schmelze hergestellt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der zylindrische Hohlkörper
durch Horizontal-Schleudergießen in einer rotierenden Gießkokille hergestellt wird.
3. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 2, dadurch gekennzeichnet, dass
das Schleudergießen in einer Gasatmosphäre mit einem niedrigen Sauerstoffpartialdruck
erfolgt.
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Gasatmosphäre in der
Gießkokille aus Erdgas oder Argon oder Formiergas oder Stickstoff gebildet wird.
5. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass
der zylindrische Hohlkörper aus einem Metall und/oder einem Edelmetall gebildet wird.
6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass der zylindrische Hohlkörper aus
Silber gebildet wird.
7. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass
eine Drehzahl der Gießkokille so eingestellt wird, dass eine auf die einzubringende Schmel
ze wirkende Beschleunigung dem 160- bis 180fachen der Erdbeschleunigung entspricht.
8. Rohrtarget für Kathodenzerstäubungsanlagen, dadurch gekennzeichnet, dass das Rohrtar
get einen schleudergegossenen, zylindrischen Hohlkörper aufweist.
9. Rohrtarget nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass der zylindrische Hohlkörper
aus einem Metall und/oder einem Edelmetall gebildet ist.
10. Rohrtarget nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass der zylindrische Hohlkörper
aus Silber gebildet ist.
11. Verwendung von schleudergegossenen, zylindrischen Hohlkörpern zur Herstellung von
Rohrtargets für Kathodenzerstäubungsanlagen.
12. Verwendung von Rohrtargets mit schleudergegossenen, zylindrischen Hohlkörpern aus Sil
ber für die Beschichtung von Flachglas in Kathodenzerstäubungsanlagen.
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19953470A DE19953470A1 (de) | 1999-11-05 | 1999-11-05 | Rohrtarget |
| EP00120058A EP1097766B1 (de) | 1999-11-05 | 2000-09-15 | Rohrtarget |
| AT00120058T ATE270935T1 (de) | 1999-11-05 | 2000-09-15 | Rohrtarget |
| DE50007056T DE50007056D1 (de) | 1999-11-05 | 2000-09-15 | Rohrtarget |
| CNB001334344A CN1296513C (zh) | 1999-11-05 | 2000-11-06 | 管靶 |
| US09/707,058 US6793784B1 (en) | 1999-11-05 | 2000-11-06 | Tube target |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19953470A DE19953470A1 (de) | 1999-11-05 | 1999-11-05 | Rohrtarget |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE19953470A1 true DE19953470A1 (de) | 2001-05-23 |
Family
ID=7928150
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19953470A Ceased DE19953470A1 (de) | 1999-11-05 | 1999-11-05 | Rohrtarget |
| DE50007056T Expired - Lifetime DE50007056D1 (de) | 1999-11-05 | 2000-09-15 | Rohrtarget |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE50007056T Expired - Lifetime DE50007056D1 (de) | 1999-11-05 | 2000-09-15 | Rohrtarget |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6793784B1 (de) |
| EP (1) | EP1097766B1 (de) |
| CN (1) | CN1296513C (de) |
| AT (1) | ATE270935T1 (de) |
| DE (2) | DE19953470A1 (de) |
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| EP1097766A1 (de) | 2001-05-09 |
| ATE270935T1 (de) | 2004-07-15 |
| DE50007056D1 (de) | 2004-08-19 |
| US6793784B1 (en) | 2004-09-21 |
| CN1296513C (zh) | 2007-01-24 |
| CN1302915A (zh) | 2001-07-11 |
| EP1097766B1 (de) | 2004-07-14 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
| 8127 | New person/name/address of the applicant |
Owner name: W.C. HERAEUS GMBH, 63450 HANAU, DE |
|
| 8131 | Rejection |