DE4243757A1 - Target für eine Kathodenzerstäubungsanlage aus einer ferromagnetischen Legierung - Google Patents

Target für eine Kathodenzerstäubungsanlage aus einer ferromagnetischen Legierung

Info

Publication number
DE4243757A1
DE4243757A1 DE19924243757 DE4243757A DE4243757A1 DE 4243757 A1 DE4243757 A1 DE 4243757A1 DE 19924243757 DE19924243757 DE 19924243757 DE 4243757 A DE4243757 A DE 4243757A DE 4243757 A1 DE4243757 A1 DE 4243757A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
target
casting
aforementioned
target according
plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE19924243757
Other languages
English (en)
Inventor
Martin Dr Weigert
Uwe Konietzka
Josef Heindel
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
WC Heraus GmbH and Co KG
Original Assignee
Leybold Materials GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Leybold Materials GmbH filed Critical Leybold Materials GmbH
Priority to DE19924243757 priority Critical patent/DE4243757A1/de
Publication of DE4243757A1 publication Critical patent/DE4243757A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/3407Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
    • C23C14/3414Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft ein Target für eine Kathodenzer­ stäubungsanlage aus einer ferromagnetischen Legierung, deren Phasendiagramm bei Betriebstemperatur eine hexa­ gonale Phase aufweist und der Mengenanteil der hexago­ nalen Phase größer ist als der aller weiteren Phasen und dieser hexagonale Phasenanteil mit den hexagonalen Prismenachsen (0001) bevorzugt senkrecht zur Target­ ebene ausgerichtet ist.
Beim Kathodenzerstäuben werden zur Optimierung des Zerstäubungsprozesses Permanentmagnete hinter dem Tar­ get (Kathode) so angeordnet, daß sich vor dem Target im Entladungsraum ein Magnetfeld ausbildet, durch das das Entladungsplasma lokalisiert wird. Der Bereich der Targetoberfläche über dem das Plasma lokalisiert ist, wird bevorzugt zerstäubt, wodurch sich ein Erosionsgra­ ben bildet.
Bei ferromagnetischen Targets treten dabei hauptsäch­ lich zwei Probleme auf:
Erstens wird der magnetische Fluß der Permanentmagnete im Target gebündelt, so daß nur ein geringer Fluß in den Entladungsraum austreten kann. Dieses Problem er­ fordert daher die Verwendung sehr dünner ferromagne­ tischer Targets.
Zweitens bewirkt die lokale Querschnittsabnahme des Targets während der Kathodenzerstäubung (Erosionsgra­ ben) bei ferromagnetischen Targets einen zunehmenden Magnetfluß direkt über dem Erosionsgraben. Dadurch tritt lokal eine höhere Ionisierungswahrscheinlichkeit des Zerstäubergases und lokal eine höhere Zerstäubungs­ rate auf, mit der Folge, daß der Erosionsgraben sehr eng wird, verbunden mit einer nur geringen Materialaus­ beute des Targets.
Verbesserte Magnetfeldgeometrien und ein höherer Magnet­ felddurchgriff können durch aufwendige Targetkonstrukti­ onen erreicht werden. Durch Schlitze im Target, senk­ recht zur Richtung des Magnetfeldes, kann der magne­ tische Widerstand im Target erhöht werden und ein grö­ ßeres Feld im Entladungsraum erreicht werden (K. Naka­ mura et al IEEE Transactions on Magnetics, Band MAG-18, 1982, S. 1080-1082).
Kukla et al (IEEE Transactions on Magnetics, Band MAG-23, 1987, S. 137-139) beschreiben eine Kathode für ferromagnetische Materialien, die aus mehreren Einzel­ targets besteht, die in zwei Ebenen übereinander ange­ ordnet sind, um ein höheres Magnetron-Magnetfeld zu erreichen. Diese Konstruktionen sind jedoch teuer und erschweren die Magnetron-Kathodenzerstäubung.
In der DE 38 19 906 ist ein Target zum Einsatz in Magne­ tron-Kathodenzerstäubungsanlagen beschrieben, bei dem der magnetische Felddurchgriff durch das Einstellen einer hexagonalen (0001) - Fasertextur senkrecht zur Targetfläche erreicht werden kann und bei dem man mit einer größeren Ausgangsdicke einen besseren Ausnutzungs­ grad des Targets erzielt. Nach der DE 38 19 906 wird diese (0001) - Fasertextur durch eine Kaltumformung bei Temperaturen unter 400°C erreicht. Es zeigte sich, daß diese Kaltumformung für manche der üblicherweise in der magnetischen Datenspeicherung eingesetzten Legierungen nur schwer durchzuführen ist, da diese Legierungen zur Rißbildung bei der Kaltverformung neigen und da durch diese Kaltverformung starke Spannungen in das Material eingebracht werden, so daß die Herstellung planparal­ leler Platten erschwert wird. Insbesondere bei den neuerdings eingesetzten CoPtCr-Legierungen ist eine Einstellung der (0001) - Fasertextur durch Kaltverfor­ mung praktisch unmöglich.
Es ist daher die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Target für Kathodenzerstäubungsanlagen zu ent­ wickeln, bei dem die hexagonale (0001) - Fasertextur ohne die oben beschrieben Kaltumformung erreicht werden kann und daß die bevorzugte Ausrichtung der hexagonalen Prismenachsen senkrecht zur Targetoberfläche auch bei jenen Legierungen erreicht wird, bei denen eine Kaltum­ formung aus technischen oder wirtschaftlichen Gründen nicht möglich ist.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß in dem Target eine gezielte säulenförmige Gußkornstruk­ tur eingestellt wird, wobei die Längsachsen der Gußkör­ ner senkrecht zur Ebene des Targets, d. h. in Sputter­ richtung ausgerichtet ist, und das durchschnittliche Säulenlänge- zu Säulenbreiteverhältnis mindestens 2 zu 1 beträgt. Für diese Targets verwendet man vorzugsweise Legierungen mit mehr als 60% Gewichtsanteil Kobalt.
Die Ausrichtung der Gußkörner senkrecht zur Ebene des Sputtertargets wird dadurch erreicht, daß eine metal­ lische Gießform benutzt wird, mit der aufrechtstehende Platten mit einem Höhe- zu Dickeverhältnis von min­ destens 5 zu 1 und einem Breite- zu Dickeverhältnis von ebenso mindestens 5 zu 1 gegossen werden können. Dabei ist für eine bevorzugte Wärmeabführung in Richtung der Plattenebene zu sorgen, so daß die Erstarrung der Schmel­ ze beginnend von den Oberflächen der Platte in Richtung Plattenmitte erfolgt. Anschließend werden die Targets so aus den Gußplatten herausgeschnitten, daß die Plat­ tenebene der Gußteile senkrecht zur Sputterrichtung liegt.
Überraschenderweise zeigte sich, daß Targets mit der oben beschriebenen Gußstruktur im Vergleich zu heißge­ walzten oder rekristallisierten Targets, bei denen keine bevorzugte Kornorientierung vorliegt, einen deut­ lich höheren Magnetfelddurchgriff beim Einsatz in der Magnetronkathodenzerstäubungsanlage aufweisen. Aller­ dings ist bei jenen Legierungen, bei denen eine Kalt­ umformung möglich ist, die höchste Verbesserung des Magnetfelddurchgriffs durch die Kaltumformung erreich­ bar.
Die folgenden Beispiele sowie die in Tabelle 1 und 2 gezeigten Daten sollen die erfindungsgemäßen Targets und deren Herstellung näher erläutern:
  • 1.a) Eine Legierung der Zusammensetzung Co83Cr17 [atom%] wurde im Vakuum-Induktionsofen erschmolzen und in eine Stahlgießform der Größe 400×200×24 mm abgegossen. Die Seitenwände der Gießform hatten eine Dicke von 40 mm, die stirnseitigen Wände eine Dicke von 20 mm. Die Gußplatte wurde so geschnit­ ten, daß 3 Platten der Größe 400×200 mm entstan­ den. Anschließend wurden die Platten spanabhebend bearbeitet, so daß 3 Probetargets mit den Dicken 3,2 , 5,2 und 9,8 mm entstanden.
  • Zur Charakterisierung der magnetischen Targeteigen­ schaften wurde die Magnetfeldkomponente parallel zur Targetfläche gemessen, die man an einer Katho­ de mit Permanentmagneten unmittelbar über der Targetoberfläche erhält (Feldstärke der Permanent­ magnete 240 kA/m).
  • Als Referenzproben wurden 2 Gruppen Co83Cr17 Proben gleicher Größe hergestellt, wobei folgende Herstellverfahren angewandt wurden:
  • b) VIM-Guß, Schmieden, Heißwalzen, Rekristallisieren.
  • c) VIM-Guß, Schmieden, Heißwalzen, Kaltwalzen (Target entsprechend DE 38 19 906).
  • Die Referenztargets wurden analog zu dem erfin­ dungsgemäßen Target magnetisch vermessen.
  • 2.a) Eine Legierung der Zusammensetzung Co75Cr13Pt12[atom%] wurde im Vakuum-Induktionsofen geschmolzen und in eine Stahlgießform der oben genannten Größe 400×200×24 mm abgegossen. Die Gießplatte wurde anschließend so zerschnitten, daß Platten der Größe 400×200 mm vorlagen. Aus die­ sen Platten wurden dann spanabhebend Probetargets mit den Dicken 4, bzw. 6 mm hergestellt.
  • Zur Charakterisierung der magnetischen Targeteigen­ schaften wurden diese Targets wie bereits oben beschrieben vermessen. Die Meßergebnisse sind in Tabelle 2 zusammengefaßt.
  • b) Als Referenzprobe wurden 2 Stück Co75Cr13Pt12 Proben gleicher Größe hergestellt, wobei folgendes Herstellverfahren angewandt wurde:
    VIM-Guß, Heißwalzen, Rekristallisieren. Die Refe­ renztargets wurden analog zu den erfindungsgemäßen Targets magnetisch vermessen. Die Meßergebnisse sind ebenso in Tabelle 2 zusammengefaßt.
  • c) Die Herstellung kaltgewalzter Targets gemäß DE 38 19 906 war für diese Legierung nicht mehr möglich.
Beim Vergleich der ermittelten Werte für den maximalen Magnetfelddurchgriff in Tabelle 1 fällt auf, daß bei der hier eingesetzten Legierung Co83Cr17 kein wesent­ licher Vorteil durch die Anwendung der erfindungsge­ mäßen säulenförmigen Gefügestruktur erzielbar ist. Die besten Werte für den maximalen Magnetfelddurchgriff erzielen die Proben der Gruppe c), die geringfügig über denen der erfindungsgemäßen Gruppe a) liegen. Beide Gruppen a) und c) liegen jedoch deutlich über den er­ mittelten Werten der Gruppe b) mit isotroper Kornver­ teilung.
Bei den Proben der in Tabelle 2 eingesetzten Legierung Co75Cr13Pt12 ist durch das extrem harte und spröde Targetmaterial eine Kaltverformung gemäß DE 38 19 906 nicht mehr möglich. Bei Werkstoffen dieser Zusammen­ setzung zeigt sich ganz deutlich der Vorteil einer säulenförmigen Gefügestruktur wie in der Gruppe a) dar­ gestellt. Die Werte für den maximalen Magnetfelddurch­ griff parallel zur Targetebene sind hier ganz erheblich verbessert gegenüber den Proben der Gruppe b) mit iso­ troper Kornverteilung.
Tabelle 1
Tabelle 2

Claims (8)

1. Target für eine Kathodenzerstäubungsanlage aus einer ferromagnetischen Legierung, deren Phasen­ diagramm bei Betriebstemperatur des Targets eine hexagonale Phase aufweist mit einem Mengenanteil , der größer ist als die Summe aller weiteren Phasen und dieser hexagonale Phasenanteil mit den hexa­ gonalen Prismenachsen (0001) bevorzugt senkrecht zur Targetebene ausgerichtet ist, dadurch gekenn­ zeichnet, daß das Gefüge des Targets eine im we­ sentlichen säulenförmige Gußkornstruktur aufweist mit einem Säulenlänge- zu Säulenbreiteverhältnis von mindestens 2 zu 1 und die Längsachsen der säulenförmigen Gußkörner senkrecht zur Targetebene ausgerichtet sind.
2. Target nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Target aus einem Gußstück hergestellt ist.
3. Target nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekenn­ zeichnet, daß zur Herstellung des Gußstücks eine metallische Gießform verwendet wird, die eine im wesentlichen parallelepipede Form hat.
4. Target nach Anspruch 1, 2 oder 3, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die Gießform ein Höhe- zu Dicke­ verhältnis von mindestens 5 zu 1 und eine Breite­ zu Dickeverhältnis von mindestens 5 zu 1 aufweist.
5. Target nach einem oder mehreren der vorgenannten Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Dicke der metallischen Gießform eine kontrollierte Wärme­ abführung der erstarrenden Schmelze ermöglicht, beginnend von den Oberflächen der plattenförmigen Gußstücke zur Mitte der Gußstücke hin.
6. Target nach einem oder mehreren der vorgenannten Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Target im wesentlichen eben und plattenförmig ausgebildet ist.
7. Target nach einem oder mehreren der vorgenannten Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Target aus den plattenförmigen Gußstücken so herausge­ trennt ist, daß die Hauptebenen von Target und Gußstück parallel verlaufen.
8. Target nach einem oder mehreren der vorgenannten Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Target aus einer Kobalt-Legierung mit mindestens 60 Ge­ wichtsprozenten Kobalt besteht.
DE19924243757 1992-12-23 1992-12-23 Target für eine Kathodenzerstäubungsanlage aus einer ferromagnetischen Legierung Withdrawn DE4243757A1 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19924243757 DE4243757A1 (de) 1992-12-23 1992-12-23 Target für eine Kathodenzerstäubungsanlage aus einer ferromagnetischen Legierung

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19924243757 DE4243757A1 (de) 1992-12-23 1992-12-23 Target für eine Kathodenzerstäubungsanlage aus einer ferromagnetischen Legierung

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE4243757A1 true DE4243757A1 (de) 1994-06-30

Family

ID=6476321

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19924243757 Withdrawn DE4243757A1 (de) 1992-12-23 1992-12-23 Target für eine Kathodenzerstäubungsanlage aus einer ferromagnetischen Legierung

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE4243757A1 (de)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1447458A2 (de) * 2002-11-14 2004-08-18 W.C. Heraeus GmbH & Co. KG Verfahren zum Herstellen eines Sputtertargets aus einer Si-Basislegierung, Sputtertarget sowie dessen Verwendung
US6793784B1 (en) 1999-11-05 2004-09-21 W. C. Heraeus Gmbh & Co. Kg Tube target
US8349249B2 (en) 2003-02-10 2013-01-08 Heraeus Precious Metals Gmbh & Co. Kg Metal alloy for medical devices and implants

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
2-200775 A., C-772, Oct. 23, 1990, Vol.14,No.485 *
JP Patents Abstracts of Japan: 63-238268 A., C-563, Jan. 27, 1989, Vol.13,No. 39 *

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6793784B1 (en) 1999-11-05 2004-09-21 W. C. Heraeus Gmbh & Co. Kg Tube target
CN1296513C (zh) * 1999-11-05 2007-01-24 W.C.贺利氏股份有限及两合公司 管靶
EP1447458A2 (de) * 2002-11-14 2004-08-18 W.C. Heraeus GmbH & Co. KG Verfahren zum Herstellen eines Sputtertargets aus einer Si-Basislegierung, Sputtertarget sowie dessen Verwendung
EP1447458A3 (de) * 2002-11-14 2004-08-25 W.C. Heraeus GmbH & Co. KG Verfahren zum Herstellen eines Sputtertargets aus einer Si-Basislegierung, Sputtertarget sowie dessen Verwendung
US8349249B2 (en) 2003-02-10 2013-01-08 Heraeus Precious Metals Gmbh & Co. Kg Metal alloy for medical devices and implants
US8403980B2 (en) 2003-02-10 2013-03-26 Heraeus Materials Technology Gmbh & Co. Kg Metal alloy for medical devices and implants

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE19802349B4 (de) Weichmagnetische amorphe Legierung, amorphe Legierung hoher Härte und ihre Verwendung
DE3537191C2 (de)
DE3049906C2 (de)
DE3011152C2 (de)
DE69316047T2 (de) Vorlegierung zur Herstellung von Magneten und deren Produktion sowie Magnet-Herstellung
DE3442009C2 (de)
DE3242607C2 (de)
DE3854609T3 (de) Zerstäubungstarget.
DE3935698C2 (de) Legierungstarget für die Herstellung eines magneto-optischen Aufzeichnungsmediums
DE112012004288T5 (de) R-T-B-basiertes Legierungsband, R-T-B-basierter gesinterter Magnet und Verfahren zu deren Herstellung
DE3839545C2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines anisotropen Magneten
DE2856795A1 (de) Verfahren zur herstellung eines duennen bands aus magnetischem material und nach diesem verfahren hergestelltes band
DE3853223T2 (de) Targetmaterial aus einem Metall der seltenen Erden und einem Metall der Eisengruppe, Legierungspulver und Verfahren zur Herstellung dieses Materials.
DE112018008143B4 (de) Verbundbeschichtungsschicht, Beschichtungsvorrichtung und Beschichtungsverfahren
DE1920968A1 (de) Verfahren zur Waermebehandlung von Magnetblechen fuer hohe magnetische Induktionen
DE102018112491A1 (de) Hochpermeable weichmagnetische Legierung und Verfahren zum Herstellen einer hochpermeablen weichmagnetischen Legierung
DE19508947A1 (de) Verschleißfeste, anlaßbeständige und warmfeste Legierung
WO2002055747A1 (de) Pulvermetallurgisches verfahren zur herstellung hochdichter formteile
DE69323971T2 (de) Target für magnetooptische Aufzeichnungsmedien und Verfahren zu seiner Herstellung
DE69814813T2 (de) Dünnes magnetlegierungsband und harzgebundener magnet
EP0236823B1 (de) Metallenes Halbzeug, Verfahren zur Herstellung und Verwendung des Halbzeugs
DE4243757A1 (de) Target für eine Kathodenzerstäubungsanlage aus einer ferromagnetischen Legierung
DE60132047T2 (de) Bandähnliches Magnetmaterial und daraus hergestelltes Magnetpulver
DE69413327T2 (de) Mosaik-Zerstäubungs-Target
EP0659901B1 (de) Target für Magnetron-Kathodenzerstäubungsanlage aus einer Kobalt-Basislegierung

Legal Events

Date Code Title Description
OM8 Search report available as to paragraph 43 lit. 1 sentence 1 patent law
8141 Disposal/no request for examination