DE19948240A1 - Mikrolithographie-Reduktionsobjektiveinrichtung sowie Projektionsbelichtungsanlage - Google Patents
Mikrolithographie-Reduktionsobjektiveinrichtung sowie ProjektionsbelichtungsanlageInfo
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Abstract
Die Erfindung betrifft eine Mikrolithographie-Projektionsobjektiveinrichtung für kurze Wellenlängen, vorzugsweise < 100 nm, mit einem ersten (S1), einem zweiten Spiegel (S2), einem dritten (S3), einem vierten Spiegel (S4), einem fünften (S5) und einem sechsten Spiegel (S6). DOLLAR A Die Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, daß die bildseitige numerische Apertur NA >= 0,15 ist und der dem zu belichtenden Objekt vorzugsweise dem Wafer am nächsten kommende Spiegel derart angeordnet ist, daß der bildseitige optische freie Arbeitsabstand mindestens dem genutzten Durchmesser D dieses wafernächsten Spiegels entspricht und/oder der bildseitige optische freie Arbeitsabstand mindestens die Summe aus einem Drittel des genutzten Durchmessers D dieses Spiegels und einer Länge, die zwischen 20 mm und 30 mm liegt, beträgt und/oder der bildseitige optische freie Arbeitsabstand mindestens 50 mm, vorzugsweise 60 mm, beträgt.
Description
Die Erfindung betrifft ein Mikrolithographieobjektiv gemäß dem Oberbegriff
von Anspruch 1, eine Projektionsbelichtungsanlage gemäß Anspruch 29 sowie
ein Chipherstellungsverfahren gemäß Anspruch 32.
Die Lithographie mit Wellenlängen < 193 nm, insbesondere die EUV-.
Lithographie mit λ = 11 nm bzw. λ = 13 nm werden als mögliche Techniken
zur Abbildungen von Strukturen < 130 nm, besonders bevorzugt < 100 nm
diskutiert. Die Auflösung eines lithographischen Systems wird durch
nachfolgende Gleichung beschrieben:
wobei k1 ein spezifischer Parameter des Lithographieprozesses, λ die
Wellenlänge des einfallenden Lichtes und NA die bildseitige, numerische
Apertur des Systems bezeichnet.
Für abbildende Systeme im EUV-Bereich stehen als optische Komponenten
im wesentlichen reflektive Systeme mit Multilayer-Schichten zur Verfügung. Als
Multilayer-Schichtsysteme finden bei λ = 11 nm bevorzugt Mo/Be-Systeme
und bei λ = 13 nm Mo/Si-Systeme Verwendung.
Legt man eine eine numerische Apertur von 0,2 zugrunde, so erfordert die
Abbildung von 50 nm-Strukturen mit 13 nm-Strahlung einen vergleichsweise
einfachen Prozeß mit k1 = 0,77. Mit k1 = 0,64 wird bei 11 nm-Strahlung die
Abbildung von 35 nm-Strukturen möglich.
Da die Reflektivität der eingesetzten Multilayer-Schichten nur im Bereich von
ungefähr 70% liegt, ist es bei den Projektionsobjektiven für die EUV-
Mikrolithographie von ganz entscheidender Bedeutung, zum Erreichen einer
ausreichenden Lichtstärke mit möglichst wenig optischen Komponenten im
EUV-Projektionsobjektiv auszukommen.
Als besonders bevorzugt haben sich mit Blick auf eine hohe Lichtintensität
und ausreichende Möglichkeiten zur Korrektur von Abbildungsfehlern bei
NA = 0,20 Systeme mit sechs Spiegeln herausgestellt.
6-Spiegel-Systeme für die Mikrolithographie sind aus den Druckschriften
US-A-5686728 und EP 0779528 bzw. US 5815310 bekannt geworden.
Das Projektions-Lithographiesystem gemäß der US-A-5686728 zeigt ein
Projektionsobjektiv mit sechs Spiegeln, wobei jede der reflektiven
Spiegelflächen asphärisch ausgebildet ist. Die Spiegel sind entlang einer
gemeinsamen optischen Achse so angeordnet, daß ein obskurationfreier
Lichtweg erreicht wird.
Da das aus der US-A-5686728 bekannte Projektionsobjektiv nur für UV-Licht
mit einer Wellenlänge von 100-300 nm eingesetzt wird, weisen die Spiegel
dieses Projektionsobjektives eine sehr hohe Asphärizität von ungefähr
± 50 µm sowie sehr große Einfallswinkel von ca. 38° auf. Auch nach
Abblenden auf NA = 0,2 verbleibt hier eine Asphärizität von 25 µm von Spitze
zu Spitze bei kaum vermindertem Einfallswinkel. Derartige Asphärizitäten und
Einfallwinkel sind im EUV-Bereich wegen der hohen Anforderungen an die
Oberflächenqualität, Reflektivität der Spiegel nach heutigem Stand der
Technik nicht praktikabel.
Ein weiterer Nachteil des aus der US-A-5686728 bekannt gewordenen
Objektives, der einen Einsatz im Bereich von λ < 100 nm, insbesondere bei
den Wellenlängen von 11 und 13 nm nicht mehr erlaubt, ist der sehr geringe
Abstand zwischen dem Wafer und dem dem Wafer am nächsten liegenden
Spiegel. Bei den aus der US-A-5686728 bekanntgewordenen Abständen von
Wafer und wäfernächstem Spiegel können die Spiegel nur sehr dünn
ausgebildet werden. Wegen der extremen Schicht-Spannungen in den
Multilayer-Systemen für die angesprochenen Wellenlängen von 11 und 13 nm
sind derartige Spiegel sehr instabil.
Aus der EP-A-0779528 ist ein Projektionsobjektiv mit sechs Spiegeln zum
Einsatz in der EUV-Lithographie, insbesondere auch bei Wellenlängen von 13
nm und 11 nm, bekanntgeworden.
Auch dieses Projektionsobjektiv hat den Nachteil, daß mindestens zwei der
insgesamt sechs Spiegel sehr hohe Asphärizitäten von 26 bzw. 18,5 µm
aufweisen. Insbesondere ist aber auch bei der aus der EP-A-0779528
bekannten Anordnung der optische freie Arbeitsabstand zwischen
wafernächstem Spiegel und Wafer derart gering, daß es entweder zu
Instabilitäten oder aber einem mechanisch freien Arbeitsabstand, der negativ
ist, kommt.
Aufgabe der Erfindung ist es somit, eine für die Lithographie mit kurzen
Wellenlängen, vorzugweise kleiner 100 nm, geeignete
Projektionsobjektiveinrichtung anzugeben, die die zuvor erwähnten Nachteile
des Standes der Technik nicht aufweist.
Erfindungsgemäß wird die Aufgabe in einer ersten Ausgestaltung dadurch
gelöst, daß bei einem Projektionsobjektiv mit sechs Spiegeln der
wafernächste Spiegel derart angeordnet ist, daß die bildseitige numerische
Apertur größer gleich 0,15 ist und der waferseitige optische freie
Arbeitsabstand mindestens dem genutzten Durchmesser des wafernächsten
Spiegels entspricht und/oder der waferseitige optische freie Arbeitsabstand
mindestens der Summe aus einem Drittel des genutzten Durchmessers dieses
Spiegels und einer Länge, die zwischen 20 und 30 mm liegt, beträgt und/oder
der waferseitige optische freie Arbeitsabstand mindestens 50 mm,
vorzugsweise 60 mm beträgt.
In einer zweiten Ausgestaltung der Erfindung ist die objektseitige numerische
Apertur NA größer als 0,15, die Ringfeldbreite W am Wafer liegt im Bereich
1,0 mm ≦ W
und die Spitze-Spitze-Abweichung A der Asphären ist gegenüber der im
Nutzbereich bestpassenden Sphäre auf allen Spiegeln durch
beschränkt.
Besonders bevorzugt ist die Spitze-Spitze-Abweichung A der Asphären auf
allen Spiegeln auf
beschränkt.
In einer dritten Ausführungsform der Erfindung sind bei einer numerischen
Apertur NA ≧ 0,15 und einer waferseitigen Breite des Ringfeldes
W ≧ 1 mm die Einfallswinkel AOI relativ zur Flächennormalen aller Strahlen
auf allen Spiegeln durch
AOI ≦ 23° - 35° (0,25 - NA) - 0,2°/mm(2 mm - W)
beschränkt.
Auch Kombinationen der zuvor aufgeführten Einzelmaßnahmen zur Lösung
der erfindungsgemäßen Aufgabe sind möglich; beispielsweise können in einer
besonders bevorzugten Ausgestaltung alle drei Bedingungen erfüllt sein, d. h.
der freie optische Arbeitsabstand mehr als 50 mm bei NA = 0,20 betragen,
die Spitze-Spitze-Abweichung der Asphären sowie die Einfallswinkel im zuvor
definierten Bereich liegen.
Die in dieser Schrift diskutierten Asphärizitäten beziehen sich auf die Spitze-
Spitze- bzw. peak to valley (PV)-Abweichung A der asphärischen Flächen
gegenüber der im Nutzbereich bestpassenden Sphäre.
Diese werden in den Beispielen durch eine Sphäre approximiert, deren
Mittelpunkt auf der Figurenachse des Spiegels liegt und die im
Meridionalschnitt die Ashpäre im oberen und unteren Endpunkt des
Nutzbereiches schneidet.
Die Angaben zu den Einfallswinkeln beziehen sich jeweils auf den Winkel
zwischen jeweiligen einfallendem Strahl und Flächennormale am Einfallsort.
Angegeben ist jeweils der größte Winkel irgendeines Strahles, im allgemeinen
eines bündelbegrenzenden Strahles, der an irgendeinem der Spiegel auftritt.
Unter genutztem Durchmesser sei hier und im weiteren der
Hüllkreisdurchmesser des im allgemeinen nicht kreisförmigen Nutzbereiches
verstanden.
Besonders bevorzugt beträgt der waferseitige optische freie Arbeitsabstand
60 mm.
Die zuvor beschriebenen Objektive können nicht nur im EUV eingesetzt
werden, sondern selbstverständlich auch bei anderen Wellenlängen, ohne daß
von der Erfindung abgewichen wird.
Um Degradationen der Abbildungsgüte, beispielsweise aufgrund von
Mittenabschattungen zu vermeiden, ist mit Vorteil vorgesehen, daß die
Spiegel des Projektionsobjektives derart angeordnet sind, daß die
Lichtführung obskurationsfrei ist.
Um eine leichte Montage und Justage des Systems zu gewährleisten, ist mit
Vorteil vorgesehen, daß in einer weitergebildeten Ausführungsform der
Erfindung die Spiegelflächen auf zu einer Hauptachse (HA),
rotationssymmetrischen Fläche ausgebildet sind.
Um ein kompaktes Design des Objektives bei zugänglicher Blende zu
erhalten, und einen obskurationsfreien Strahlengang zu realisieren, ist mit
Vorteil vorgesehen, daß die Projektionsobjektiveinrichtung als System mit
Zwischenbild ausgeführt ist. Besonders bevorzugt ist es, wenn das
Zwischenbild nach dem vierten Spiegel ausgebildet wird. Bei derartigen
Aufbauten ist es möglich, daß die Blende im vorderen, niederaperturigen
Objektivteil zu liegen kommt und eine dazu konjugierte Pupillenebene in den
Brennpunkt des letzten Spiegels abgebildet wird. Ein solcher Aufbau stellt
einen telezentrischen Strahlengang im Bildraum sicher.
In einer ersten Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, daß die frei
zugängliche Blende optisch und physikalisch zwischen zweitem und drittem
Spiegel angeordnet ist.
Eine gute Zugänglichkeit der Blende ist dann gegeben, wenn der Abstand
von erstem und drittem Spiegel zu erstem und zweitem Spiegel im Bereich
liegt. Um eine Abschattung des vom dritten zum vierten Spiegel laufenden
Bündels durch die zwischen zweitem und drittem Spiegel angeordnete Blende
zu verhindern, ist es von Vorteil, wenn das Verhältnis des Abstandes zwischen
zweitem Spiegel und Blende zum Abstand von drittem Spiegel und Blende im
Bereich
liegt. Durch einen gestreckten Aufbau, wie bei der ersten Ausführungsform
der Erfindung realisiert, lassen sich auch die Winkelbelastungen im vorderen
Teil des Projektionsobjektives senken.
Eine physikalisch zwischen S2 und S1 liegende Blende muß zumindest
partiell als schmaler Ring ausgebildet werden, um ein Beschneiden des von
S1 nach S2 laufenden Bündels zu vermeiden. Bei einer derartigen
Ausgestaltung besteht die Gefahr, daß unerwünschtes direktes oder an S1
und S2 reflektiertes Licht die Blende außerhalb dieses Ringes passiert und
den Wafer erreicht.
Setzt man die Blende optisch zwischen zweiten und dritten Spiegel und
physikalisch nahe beim ersten Spiegel, so ist durch eine derartige
mechanisch einfach zu realisierende Anordnung der Blende ein effizienteres
Ausblenden dieser unerwünschten Strahlen möglich. Die Blende kann sowohl
als Öffnung im ersten Spiegel oder hinter dem ersten Spiegel liegend
ausgeführt werden.
In einer dritten Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, die Blende auf
oder nahe beim zweiten Spiegel anzuordnen. Eine Anordnung der Blende auf
dem Spiegel hat den Vorteil, daß sie mechanisch einfach zu realisieren ist.
Hier ist es zur Sicherstellung eines obskurationsfreien Strahlenganges bei
gleichzeitig kleinen Einfallswinkeln von Vorteil, wenn
gilt.
Um die nötigen Korrekturen der Abbildungsfehler in den 6-Spiegelsystemen
vornehmen zu können, sind in einer bevorzugten Ausführungsform sämtliche
sechs Spiegel asphärisch ausgebildet.
Eine fertigungstechnische Vereinfachung wird erreicht, wenn in einer
alternativen Ausführungsform vorgesehen ist, höchstens fünf Spiegel
asphärisch auszubilden. Es ist dann möglich, einen Spiegel, vorzugsweise
den größten Spiegel, hier in Gestalt des Quartärspiegels, sphärisch
auszubilden.
Besonders bevorzugt ist eine Anordnung des zweiten bis sechsten Spiegels
in der Reihenfolge konkav - konvex - konkav - konvex - konkav.
Um eine Auflösung von mindestens 50 nm zu erreichen, ist mit Vorteil
vorgesehen, daß der Design-Anteil des rms-Wellenfrontanteils des Systems
höchstens 0,07 λ, bevorzugt 0,03 λ beträgt.
Vorteilhafterweise sind in den Beispielen der Erfindung die Objektive stets
bildseitig telezentrisch ausgebildet.
Bei Projektionssystemen, die mit einer Reflektionsmaske betrieben werden, ist
ein telezentrischer Strahlengang ohne Beleuchtung über einen stark
transmissionsmindernden Strahlteiler, wie beispielsweise aus der
JP-A-95 28 31 16 bekannt, objektseitig nicht möglich. Daher sind die
Hauptstrahlwinkel am Retikel so gewählt, daß eine abschattungsfreie
Beleuchtung gewährleistet ist.
Bei Systemen mit Transmissionsmaske kann vorgesehen sein, daß das
Projektionsobjektiv objektseitig telezentrisch ausgelegt ist. Bei derartigen
Ausführungsformen ist der erste Spiegel vorzugsweise konkav ausgebildet.
Im gesamten sollte der Telezentriefehler am Wafer 10 mrad nicht
überschreiten, vorzugsweise liegt er bei 5 mrad, besonders bevorzugt bei 2
mrad. Dies stellt sicher, daß sich die Änderung des Abbildungsmaßstabes
über den Tiefenschärfenbereich in tolerierbaren Grenzen hält.
In den Ausführungsformen der Erfindung ist vorgesehen, daß diese einen
Feldspiegel, ein verkleinerndes Drei-Spiegel-Subsystem und ein Zwei-Spiegel-
Subsystem umfaßt.
Neben der erfindungsgemäßen Projektionsobjektiveinrichtung stellt die
Erfindung auch eine Projektionsbelichtungsanlage, umfassend mindestens
eine derartige Einrichtung, zur Verfügung. In einer ersten Ausführungsform
weist die Projektionsbelichtungsanlage eine Reflektionsmaske auf, in einer
alternativen Ausführungsform eine Transmissionsmaske.
Besonders bevorzugt ist es, wenn die Projektionsbelichtungsanlage eine
Beleuchtungseinrichtung zur Beleuchtung eines außeraxialen Ringfeldes
umfaßt und das System als Ringfeldsscanner ausgebildet ist. Mit Vorteil ist
vorgesehen, daß die Sekantenlänge des Scan-Schlitzes mindestens 26 mm
beträgt und die Ringbreite größer als 0,5 mm ist, so daß eine homogene
Beleuchtung ermöglicht wird.
Die Erfindung soll nachfolgend anhand der Zeichnungen beispielhaft
beschrieben werden.
Es zeigen:
Fig. 1 Ein erstes erfindungsgemäßes System mit Zwischenbild und frei
zugänglicher Blende zwischen zweitem und drittem Spiegel und
numerischer Apertur von 0,2.
Fig. 2 Eine 6-Spiegelanordnung für Wellenlängen < 100 nm wie aus
dem Stand der Technik in Form der US-A-5686728 bekannt ist.
Fig. 3 Eine zweite erfindungsgemäße Ausführungsform mit Blende
zwischen zweitem und drittem Spiegel, die auf dem ersten
Spiegel zu liegen kommt.
Fig. 4 Eine dritte Ausführungsform der Erfindung mit Blende auf dem
zweiten Spiegel und Arbeitsabstand 59 mm.
Fig. 5 Eine vierte Ausführungsform der Erfindung eines Systems mit
Zwischenbild, einer numerischen Apertur NA von 0,28 sowie
einem bildseitigen optischen freien Arbeitsabstand, der
mindestens der Summe aus einem Drittel des genutzten
Durchmessers des wafernächsten Spiegels und einer Länge, die
zwischen 20 und 30 mm liegt, entspricht.
Fig. 6 Eine fünfte Ausführungsform der Erfindung eines Systems mit
Zwischenbild und einer numerischen Apertur NA von 0,30.
Fig. 7A-78 Definition des genutzten Durchmessers bei unterschiedlich
ausgeleuchteten Lichtfeldern.
In den nachfolgenden Fig. 1 sowie 3 bis 4 sind Anordnungen von
erfindungsgemäßen 6-Spiegel-Projektionsobjektiven gezeigt, die einen freien
optischen Arbeitsabstand, der mindestens dem genutzten Durchmesser des
wafernächsten Spiegels entspricht, aufweisen.
Fig. 2 zeigt demgegenüber ein System gemäß dem Stand der Technik für
Wellenlängen < 100 nm, wie beispielsweise aus der US-A-5686728 bekannt.
In sämtlichen Ausführungsformen werden nachfolgend für gleiche
Bauelemente gleiche Bezugsziffern verwendet, wobei nachfolgende
Nomenklatur verwendet wurde:
- - erster Spiegel (S1), zweiter Spiegel (S2)
- - dritter Spiegel (S3), vierter Spiegel (S4)
- - fünfter Spiegel (S5), sechster Spiegel (S6)
In Fig. 1 ist ein 6-Spiegel-Projektionsobjektiv gemäß der Erfindung mit
Strahlengang von der Retikelebene 2 bis zur Waferebene 4 dargestellt. Die
dargestellte spezielle Ausgestaltung des erfindungsgemäßen Systems kann
aufgefaßt werden als Hintereinanderschaltung
- - eines Feldspiegels S1, der mit Abbildungsmaßstab β < 0 ein virtuelles Bild eines Objektes erzeugt,
- - eines aus S2, S3 und S4 gebildeten 3-Spiegelsystems, welches eine reelle, verkleinerte Abbildung des von S1 erzeugten virtuellen Bildes des Objektes in das System-Zwischenbild Z bewirkt und
- - eines 2-Spiegelsstems S5, S6, welches das Zwischenbild Z unter Einhaltung der Telezentrieanforderungen in die Waferebene 4 abbildet.
Die Aberrationen der Subsysteme sind dabei so gegeneinander ausbalanciert,
daß das Gesamtsystem eine für die Anwendung hinreichende Güte besitzt.
Die physikalische Blende B ist zwischen zweitem Spiegel S2 und drittem
Spiegel S3 angeordnet. Wie deutlich aus Fig. 1 hervorgeht, liegt die Blende
zugänglich im Strahlengang zwischen zweitem Spiegel S2 und drittem
Spiegel S3.
Beim System gemäß Fig. 1 ist der optische Arbeitsabstand zwischen dem
wafernächsten Spiegel, das ist in vorliegendem Ausführungsbeispiel der fünfte
Spiegel S5, und der Waferebene 4 größer als der genutzte Durchmesser des
Spiegels S5, d. h. es ist nachfolgende Bedingung erfüllt:
optischer Abstand S5 zur Waferebene 4 < genutzter Durchmesser S5.
optischer Abstand S5 zur Waferebene 4 < genutzter Durchmesser S5.
Auch andere Abstandsbedingungen sind alternativ möglich, beispielsweise daß
der optische Arbeitsabstand größer als die Summe aus ein Drittel des
genutzten Durchmessers des wafernächsten Spiegels S5 plus 20 mm oder
mehr als 50 mm ist.
Im vorliegenden Ausführungsbeispiel beträgt der freie optische Arbeitsabstand
60 mm, ohne hierauf beschränkt zu sein.
Ein derartiger optischer Arbeitsabstand garantiert einen ausreichend freien
mechanischen Arbeitsabstand, der größer als 0 ist sowie die Verwendung von
optischen Komponenten mit ausreichenden Festigkeitseigenschaften für
Wellenlängen < 100 nm, vorzugsweise von 11 bzw. 13 nm.
Die optischen Komponenten umfassen für eine Wellenlänge λ = 13 nm und
λ = 11 nm beispielsweise Mo/Si- bzw. Mo/Be-Multilayer-Schichtsysteme,
wobei typische Multilayer-Schichtsysteme für λ = 13 nm 40 Mo/Si-
Schichtpaare und für λ = 11 nm taugliche Mo/Be-Systeme ungefähr 70
Schichtpaare aufweisen. Die erreichbaren Reflektivitäten der Systeme liegen
im Bereich von ungefähr 70%. In den Multilayer-Schichtsystemen können
Schichtspannungen von 350 MPa und mehr auftreten, die
Oberflächendeformation, insbesondere in den Randbereichen der Spiegel
induzieren.
Die erfindungsgemäßen Systeme, wie beispielsweise in Fig. 1 dargestellt,
besitzen gemäß
eine nominelle Auflösung von mindestens 50 nm bzw. 35 nm bei einer
minimalen numerischen Apertur von NA = 0,2 bei k1 = 0,77 und λ = 13 nm
bzw. k1 = 0,64 und λ = 11 nm, wobei k1 ein Lithographieprozeß-spezifischer
Parameter ist.
Des weiteren ist der Strahlengang des in Fig. 1 dargestellten Objektives
obskurationsfrei. Um beispielsweise Bildformate von 26 × 34 mm2 bzw. 26 ×
52 mm2 bereitzustellen, werden die erfindungsgemäßen Projektionsobjektive
vorzugsweise in Ringfeld-Scan-Projektionsbelichtungsanlagen verwendet,
wobei die Sekantenlänge des Scan-Schlitzes mindestens 26 mm beträgt.
Je nach verwandter Maske in der Projektionsbelichtungsanlage, hier sind
Transmissionsmasken z. B. Stencilmasken oder auch Reflektionsmasken
denkbar, kann das bildseitig telezentrische System objektseitig telezentrisch
oder nicht telezentrisch ausgebildet werden, wobei ein telezentrischer
Strahlengang objektseitig bei Verwendung einer Reflektionsmakse nur unter
Verwendung eines transmissionsmindernden Strahlenteilers möglich ist.
Unebenheiten der Maske führen bei nicht telezentrischem Strahlengang im
Objektraum zu Maßstabsfehlern in der Abbildung. Die Hauptstrahlwinkel am
Retikel liegen daher vorzugsweise unter 10°, damit die Anforderungen an die
Retikelebenheit im Bereich des technologisch realisierbaren liegen.
Das erfindungsgemäße System gemäß Fig. 1 weist einen bildseitigen
Telezentriefehler am Wafer von 1 mrad bei einer numerischen Apertur von 0,2
auf.
Aufgrund der hohen bildseitigen Telezentrie liegt die Eintrittspupille des letzten
Spiegel S6 in oder nahe seines Brennpunktes. Bei den erfindungsgemäßen
Systemen mit Zwischenbild kommt die Blende dann im vorderen,
niederaperturigen Objektivteil vorwiegend zwischen dem ersten und dritten
Spiegel S1, S3 zum Liegen und die dazu konjugierte Pupillenebene wird in
den Fokus des letzten Spiegels abgebildet.
In der dargestellten Ausführungsform sind sämtliche Spiegel S1-S6
asphärisch ausgeführt, wobei die maximale Asphärizität im Nutzbereich bei
7,3 µm liegt. Die niedrige Asphärizität der erfindungsgemäßen Anordnung ist
insbesondere aus fertigungstechnischer Sicht vorteilhaft, da die
technologischen Schwierigkeiten bei der Bearbeitung der Oberflächen der
Multilayer-Spiegel mit der asphärischen Abweichung und wachsendem
Gradienten der Asphäre überproportional stark ansteigen.
Der größe Einfallswinkel in der Anordnung gemäß Fig. 1 tritt an S5 auf und
beträgt 18,4°. An Spiegel S5 tritt auch die maximale Einfallswinkelvariation von
ca. 14,7° über den Spiegel hinweg auf. Der Wellenfrontfehler der Anordnung
gemäß Fig. 1 bei λ = 13 nm ist besser als 0,032 λ, die
Schwerpunktverschiebung der Punktbilder ist < 3 nm, die statische,
maßstabskorrigierte Verzeichnung liegt bei 4 nm.
Die in der Ausführungsform gemäß Fig. 1 zwischen zweitem und dritten
Spiegel angeordnete Blende ist frei zugänglich. Eine freie Zugängigkeit der
Blende und eine Abschattung des von S3 nach S4 laufenden Bündels durch
die Blende wird bei gleichzeitig akzeptablen Einfallswinkeln auf den Spiegeln
verhindert, wenn in den dargestellten Anordnungen, nachfolgende
Bedingung
erfüllt sind.
Hierbei bezeichnet die Kurzschreibweise S1S3 den mechanischen Abstand
zwischen den einzelnen Komponenten, hier den Spiegeln S1 und S3.
Um die Einfallswinkel auf den Spiegeln zu vermindern ist in einer besonders
bevorzugten Ausführungsform der Erfindung gemäß Fig. 1 und Fig. 3-4 der
Abstand vom Retikel zu S1 kleiner als der Abstand von S2 zu S3, d. h. es gilt:
Retikel S1 < S2S3
Für die mechanische Realisierung ist es besonders vorteilhaft, wenn das
Retikel physikalisch hinreichend weit vor dem in Lichtrichtung ersten Spiegel -
hier S2 - zu liegen kommt.
Vorliegend beträgt der Abstand Retikel S2 80 mm, ohne hierauf beschränkt zu
sein.
Des weiteren ist bei der Ausführungsform der Erfindung gemäß den Fig. 1
sowie 3 bis 5 der Abstand zwischen den Spiegeln S3 und S6 so groß
gewählt, daß die Spiegel hinreichend dick ausgebildet werden können, um
bei den auftretenden hohen Schichtspannungen über die geforderten
Festigkeitseigenschaften zu verfügen.
Besonders bevorzugt ist es, wenn nachfolgende Beziehung vorliegt:
0,3 (genutzter Durchmesser S3 + genutzter Durchmesser S6) < S3S6
Aus der nachfolgenden Tabelle gehen in Code V-Nomenklatur die Parameter
der beispielhaft in Fig. 1 dargestellten Systeme hervor. Bei dem Objektiv
handelt es sich um 5×-System mit einem 26 × 2 mm2 Ringfeld und einer
numerischen Apertur von 0,2. Der mittlere bildseitige Radius des Systems
beträgt dabei ungefähr 26 mm.
In Fig. 2 ist eine Anordnung eines Projektionsobjektives für die
Mikrolithographie mit Wellenlänge λ < 100 nm gemäß der US-A-5686728
gezeigt. Gleiche Bauteile wie in Fig. 1 sind mit denselben Bezugsziffern
belegt.
Wie deutlich zu erkennen, ist der Abstand zwischen dem wafernächsten
Spiegel S5 und dem Wafer wesentlich geringer als der Durchmesser des
Spiegels und liegt vorliegend im Bereich von ungefähr 20 mm, was im EUV-
Bereich aufgrund der extremen Schichtspannungen zu Festigkeitsproblemen
führt.
Des weiteren weist das System gemäß dem Stand der Technik sehr hohe
Asphärizitäten von ± 50 µm und Einfallswinkel von 38° auf. Derartige
Asphärizitäten und Einfallswinkel sind im EUV-Bereich unter dem Blickwinkel
der Fertigungs- und Beschichtungstechnologie nicht realisierbar.
In Fig. 3 ist eine alternative Ausführungsform eines erfindungsgemäßen
6-Spiegelsystems dargestellt, bei dem die Blende auf dem ersten Spiegel
liegt. Gleiche Bauteile wie in Fig. 1 werden wiederum mit denselben
Bezugsziffern belegt.
Der optische freie Arbeitsabstand am Wafer beträgt auch bei dieser
Ausführungsform wie schon bei der Ausführungsform gemäß Fig. 1 60 mm
und ist somit größer als der Durchmesser des wafernächsten Spiegels S5.
Wie bei der Ausführungsform gemäß Fig. 1 ist auch bei dem Design gemäß
Fig. 3 der Abstand zwischen S2 und S3 gegenüber dem Stand der Technik
in Form der US-A-5686728 wesentlich erhöht worden, so daß große
lnzidenzwinkel im System vermindert werden.
Im Unterschied zu der Ausgestaltung gemäß Fig. 1 ist in Fig. 3 die Blende
B physikalisch auf den Primärspiegel gelegt. Durch diese Position wird eine
sehr effiziente Abschaltung von an S2 reflektiertem Licht möglich, das bei
einer physikalischen Blendenposition zwischen S1 und S2 leicht oberhalb der
als schmalen Ring auszubildenden Blende passieren könnte. Bei dem in Fig.
3 dargestellten Ausführungsbeispiel kann die Blende entweder als Öffnung im
S1-Mutterspiegel oder hinter S1 liegend realisiert werden.
Ein weiterer Vorteil der Lösung gemäß Fig. 3 ist die sphärische Ausbildung
des Spiegels S4, die insbesondere unter Fertigungsaspekten einen
besonderen Vorteil darstellt, da der Spiegel S4 der größte Spiegel des
Systems ist. Gegenüber der Ausführungsform gemäß Fig. 1 ist bei der
Ausgestaltung gemäß Fig. 3 die Asphärizität im Nutzbereich leicht erhöht
und liegt bei 10,5 µm. Der größte Einfallswinkel tritt wie bei der
Ausführungsform gemäß Fig. 1 an Spiegel S5 auf und beträgt ca. 18,6°. Der
Wellenfrontfehler der Anordnung gemäß Fig. 3 beträgt 0,032 λ, innerhalb
des 1,7 mm breiten Ringfeldes bei λ = 13 nm. Bildet man den Spiegel S4 bei
der Ausgestaltung gemäß Fig. 3 leicht asphärisch aus mit 0,4 µm, so kann
der Wellenfrontfehler auf 0,031 λ innerhalb eines 1,8 mm breiten Ringfeldes
bei λ = 13 nm gehalten werden. Eine effiziente Ausblendung unerwünschten
Lichtes erhält man nicht nur, wenn man die Blende direkt auf dem Spiegel S1
ausbildet, sondern auch dann, wenn man sie dem Spiegel S1 nachordnet.
Eine besonders bevorzugte Baubedingung für eine derartige Blende ist:
S2S1 ≦ 0,9 × S2-Blende
In Tabelle 2 sind die Konstruktionsdaten des 5x-Objektives gemäß Fig. 3 in
Code V-Nomenklatur dargestellt, wobei der vierte Spiegel S4 sphärisch
ausgebildet ist. Der mittlere Radius des 26 × 1,7 mm2-Bildfeldes beträgt
wiederum 26 mm.
In Fig. 4 ist eine weitere Ausführungsform der Erfindung gezeigt, wobei
wiederum für gleiche Bauteile dieselben Bezugsziffern wie in den
vorausgegangenen Figuren verwendet wurden.
Bei der Ausführungsform gemäß Fig. 4 wurde die Blende B optisch und
physikalisch auf den Sekundärspiegel bzw. zweiten Spiegel S2 gelegt.
Die Anordnung der Blende direkt auf dem Spiegel hat den Vorteil, daß diese
Blende auf einem Spiegel sich mechanisch einfacher realisieren läßt.
Mit dem in Fig. 4 dargestellten 4x-Aufbau läßt sich innerhalb eines 2 mm
breiten Ringfeldes ein Wellenfrontfehler bei λ = 13 nm von 0,021 λ realisieren.
Die maximale Asphärizität im Nutzbereich liegt bei 11,2 µm, der größte an S5
auftretende Einfallswinkel beträgt 18,3°. Der mittlere Bildfeldradius beträgt
wiederum 26 mm.
Erfindungsgemäß ist der optische freie Arbeitsabstand zwischen Wafer und
wafernächstem Spiegel S5 erfindungsgemäß größer als der Durchmesser des
wafernächsten Spiegels S5 und liegt in vorliegender Ausführungsform bei ca.
59 mm.
In Tabelle 3 sind die optischen Parameter in Code V-Nomenklatur der in Fig.
4 dargestellten Ausführungsform der Erfindung aufgeführt.
Fig. 5 zeigt eine Ausführungsform der Erfindung, die einen Feldspiegel S1,
ein erstes Subsystem mit zweitem bis viertem Spiegel S2-S4 und ein zweites
Subsystem mit fünftem und sechstem Spiegel S5, S6 umfaßt. Der Feldspiegel
S1 mit β < 0 erzeugt ein virtuelles Bild des Objektes 2, welches durch das
aus zweitem, drittem und viertem Spiegel S2, S3, S4 gebildeten erste
Subsystem mit β < 0 reell in das Zwischenbild Z abgebildet wird, wobei das
aus fünftem und sechstem Spiegel S5, S6 gebildete zweite Subsystem das
Zwischenbild Z in das reelle Systembild der Waferebene 4 abbildet. Die
numerische Apertur des Systems beträgt NA = 0,28. Der Arbeitsabstand
zwischen letztem Spiegel S5 und der Waferebene entspricht mindestens der
Summe aus einem Drittel des genutzten Durchmessers des wafernächsten
Spiegels und einer Länge, die zwischen 20 und 30 mm liegt. Die Blende B
kommt auf dem zweiten Spiegel S2 zum Liegen.
In Tabelle 4 sind die optischen Parameter der Ausführungsform gemäß Fig.
5 in Code V-Nomenklatur aufgeführt.
In Fig. 6 ist eine zweite Ausführungsform eines 6-Spiegel-Objektives mit
Feldspiegel S1, erstem und zweitem Subsystem sowie Zwischenbild Z
gezeigt. Die numerische Apertur NA dieses Systems liegt bei NA = 0,30; die
Blende B wird wie bei der Ausführungsform gemäß Fig. 5 auf dem zweiten
Spiegel S2 ausgebildet.
Die optischen Parameter der Ausführungsform gemäß Fig. 6 sind in Tabelle
5 in Code V-Nomenklatur aufgeführt.
Die Fig. 7A und 7B verdeutlichen nochmals was in der vorliegenden
Anmeldung unter dem genutzten Durchmesser D zu verstehen ist.
Beispielhaft sei das ausgeleuchtete Feld 100 auf einem Spiegel in Fig. 7A
ein Rechteckfeld. Der genutzte Durchmesser D ist dann der Durchmesser
des Hüllkreises 102, der das Rechteck 100 umschließt, wobei die Ecken 104
des Rechteckes 100 auf den Hüllkreis 102 zu liegen kommen.
In Fig. 7B ist ein zweites Beispiel dargestellt. Das ausgeleuchtete Feld 100
weist eine Nierenform auf, wie für den Nutzbereich bei Verwendung der
erfindungsgemäßen Objektive in einer Mikrolithographie-
Projektionsbelichtungsanlage erwartet. Der Hüllkreis 102 umschließt die
Nierenform völlig und fällt an zwei Punkten 106, 108 mit dem Rand 110 der
Nierenform zusammen. Der genutzte Durchmesser D ergibt sich dann aus
dem Durchmesser des Hüllkreises 102.
Mit der Erfindung wird somit erstmals ein 6-Spiegel-Projektionsobjektiv mit
einem Abbildungsmaßstab von vorzugsweise 4×, 5× sowie 6× für den
bevorzugten Einsatz in einem EUV-Ringfeldprojektionssystem angegeben, das
sowohl die notwendige Auflösung bei gefordertem Bildfeld wie auch
Konstruktionsbedingungen aufweist, welche eine funktionsgerechte
Bauausführung ermöglichen, da die Asphären hinreichend mild, die Winkel
hinreichend klein für die Schichten und die Bauräume für die Spiegelträger
hinreichend groß sind.
Claims (32)
1. Mikrolithographie-Projektionsobjektiveinrichtung für kurze Wellenlängen,
vorzugsweise < 100 nm mit einem ersten (S1), einem zweiten Spiegel
(S2), einem dritten (S3), einem vierten Spiegel (S4), einem fünften (S5)
und einem sechsten Spiegel (S6);
dadurch gekennzeichnet, daß
die bildseitige numerische Apertur NA < 0,15 ist und der dem zu
belichtenden Objekt vorzugsweise dem Wafer am nächsten kommende
Spiegel derart angeordnet ist, daß
- - der bildseitige optische freie Arbeitsabstand mindestens dem genutzten Durchmesser D dieses wafernächsten Spiegels entspricht und/oder
- - der bildseitige optische freie Arbeitsabstand mindestens die Summe aus einem Drittel des genutzten Durchmessers D dieses Spiegels und einer Länge, die zwischen 20 mm und 30 mm liegt, beträgt und/oder
- - der bildseitige optische freie Arbeitsabstand mindestens 50 mm, vorzugsweise 60 mm beträgt.
2. Mikrolithographie-Projektionsobjektiveinrichtung für kurze Wellenlängen,
vorzugsweise < 100 nm mit einem ersten (S1), einem zweiten Spiegel
(S2), einem dritten Spiegel (S3), einem vierten Spiegel (S4), einem fünften
Spiegel (S5) sowie einem sechsten Spiegel (S6) mit Ringfeld;
dadurch gekennzeichnet, daß
die bildseitige numerische Apertur (NA) im Bereich
0,15 ≦ NA
und die Ringfeldbreite W am Wafer im Bereich
1,0 mm ≦ W
liegt,
und daß die Spitze-Spitze-Abweichung (A) der Asphären gegenüber der im Nutzbereich bestpassenden Sphäre auf allen Spiegeln durch
beschränkt ist.
die bildseitige numerische Apertur (NA) im Bereich
0,15 ≦ NA
und die Ringfeldbreite W am Wafer im Bereich
1,0 mm ≦ W
liegt,
und daß die Spitze-Spitze-Abweichung (A) der Asphären gegenüber der im Nutzbereich bestpassenden Sphäre auf allen Spiegeln durch
beschränkt ist.
3. Mikrolithographie-Projektionsobjektiveinrichtung für kurze Wellenlängen,
vorzugsweise < 100 nm mit einem ersten (S1), einem zweiten Spiegel
(S2), einem dritten Spiegel (S3), einem vierten Spiegel (S4), einem fünften
(S5) und einem sechsten Spiegel (S6) mit Ringfeld;
dadurch gekennzeichnet, daß
die bildseitige numerische Apertur (NA) ≧ 0,15 ist,
die bildseitige Breite des Ringfeldes W ≧ 1,0 mm ist und
daß die Einfallswinkel (AOI) relativ zur Flächennormalen aller Strahlen auf allen Spiegeln durch
AOI ≦ 23° - 35° (0,25 - NA) - 0,2°/mm(2 mm - W)
beschränkt sind.
die bildseitige numerische Apertur (NA) ≧ 0,15 ist,
die bildseitige Breite des Ringfeldes W ≧ 1,0 mm ist und
daß die Einfallswinkel (AOI) relativ zur Flächennormalen aller Strahlen auf allen Spiegeln durch
AOI ≦ 23° - 35° (0,25 - NA) - 0,2°/mm(2 mm - W)
beschränkt sind.
4. Mikrolithographie-Projektionsobjektiveinrichtung mit
einem Feldspiegel S1, einem ersten Subsystem mit zweitem bis viertem
Spiegel (S2-S4) und einem zweiten Subsystem mit fünftem und
sechstem Spiegel (S5, S6),
dadurch gekennzeichnet, daß
der Feldspiegel mit β < 0 ein virtuelles Bild des Objektes (2) erzeugt,
welches durch das aus zweitem, drittem und viertem Spiegel (S2, S3, S4)
gebildete erste Subsystem mit β < 0 reell in das Zwischenbild (Z)
abgebildet wird, wobei das aus fünftem und sechstem Spiegel (S5, S6)
gebildete zweite Subsystem das Zwischenbild in das reelle Systembild in
der Waferebene (4) abbildet.
5. Mikrolithographie-Projektionsobjektiv gemäß einem der Ansprüche 2 bis 4,
dadurch gekennzeichnet, daß
der dem zu belichtenden Objekt vorzugsweise dem Wafer am nächsten
kommenden Spiegel derart angeordnet ist, daß
- 1. der bildseitige optische freie Arbeitsabstand mindestens dem genutzten Durchmesser D dieses wäfernächsten Spiegels entspricht und/oder
- 2. der bildseitige optische freie Arbeitsabstand mindestens der Summe aus einem Drittel des genutzten Durchmessers D dieses Spiegels und einer Länge, die zwischen 20 mm und 30 mm liegt, beträgt und/oder
- 3. der bildseitige optische freie Arbeitsabstand mindestens 50 mm, vorzugsweise 60 mm beträgt.
6. Mikrolithographie-Projektionsobjektiv gemäß einem der Ansprüche 3 bis 5,
dadurch gekennzeichnet, daß
die bildseitige numerische Apertur NA im Bereich
0,15 ≦ NA
und die Ringfeldbreite W am Wafer im Bereich
1,0 mm ≦ W
und daß die Spitze-Spitze-Abweichung (A) der Asphären gegenüber der im Nutzbereich bestpassenden Sphäre auf allen Spiegeln durch
beschränkt ist.
0,15 ≦ NA
und die Ringfeldbreite W am Wafer im Bereich
1,0 mm ≦ W
und daß die Spitze-Spitze-Abweichung (A) der Asphären gegenüber der im Nutzbereich bestpassenden Sphäre auf allen Spiegeln durch
beschränkt ist.
7. Mikrolithographie-Projektionsobjektiveinrichtung nach einem der
Ansprüche 1 bis 6,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Spiegel derart angeordnet sind, daß die Lichtführung obskurationsfrei
ist.
8. Mikrolithographie-Projektionsobjektiveinrichtung nach einem der
Ansprüche 1 bis 7,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Spiegelflächen auf zu einer Hauptachse (HA) rotationssymmetrischen
Flächen angeordnet sind.
9. Mikrolithographie-Projektionsobjektiveinrichtung nach einem der
Ansprüche 1 bis 8,
dadurch gekennzeichnet, daß
im Projektionsobjektiv nach dem vierten Spiegel (S4) ein Zwischenbild
ausgebildet wird.
10. Mikrolithographie-Projektionsobjektiveinrichtung nach Anspruch 9,
dadurch gekennzeichnet, daß
eine Blende (B) im Lichtweg bzw. Strahlengang zwischen zweitem (S2)
und drittem Spiegel (S3) angeordnet ist.
11. Mikrolithographie-Projektionsobjektiveinrichtung nach Anspruch 10,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Abstände zwischen erstem, zweitem und drittem Spiegel derart
gewählt werden, daß die Blende frei zugänglich ist.
12. Mikrolithographie-Projektionsobjektiveinrichtung nach Anspruch 11,
dadurch gekennzeichnet, daß
der Abstand von erstem und drittem Spiegel (S1S3) zum Abstand von
erstem und zweitem Spiegel (S1S2) im Bereich
liegt.
liegt.
13. Mikrolithographie-Projektionsobjektiveinrichtung nach einem der
Ansprüche 1 bis 12,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Blende (B) im Strahlengang zwischen zweitem (S2) und drittem
Spiegel (S3) am Körper des ersten Spiegels (S1) angeordnet ist.
14. Mikrolithographie-Projektionsobjektiveinrichtung nach einem der
Ansprüche 1 bis 13,
dadurch gekennzeichnet, daß
die bildseitige numerische Apertur NA ≧ 0,15 und die Ringfeldbreite am Wafer W ≧ 1 mm ist und
daß die Spitze-Spitze-Abweichung (A) der Asphären gegenüber der im Nutzbereich bestpassenden Sphären auf allen Spiegeln durch
beschränkt ist.
die bildseitige numerische Apertur NA ≧ 0,15 und die Ringfeldbreite am Wafer W ≧ 1 mm ist und
daß die Spitze-Spitze-Abweichung (A) der Asphären gegenüber der im Nutzbereich bestpassenden Sphären auf allen Spiegeln durch
beschränkt ist.
15. Mikrolithographie-Projektionsobjektiveinrichtung nach einem der
Ansprüche 1 bis 8,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Blende (B) auf oder nahe beim zweiten Spiegel (S2) angeordnet ist.
16. Mikrolithographie-Projektionsobjektiveinrichtung nach Anspruch 15,
dadurch gekennzeichnet, daß
der Abstand vom ersten und dritten Spiegel (S1S3) zum Abstand von erstem und zweitem Spiegel (S1S2) im Bereich
und der Abstand von zweitem und drittem Spiegel (S2S3) zum Abstand vom dritten und vierten Spiegel (S3S4) im Bereich
liegt.
der Abstand vom ersten und dritten Spiegel (S1S3) zum Abstand von erstem und zweitem Spiegel (S1S2) im Bereich
und der Abstand von zweitem und drittem Spiegel (S2S3) zum Abstand vom dritten und vierten Spiegel (S3S4) im Bereich
liegt.
17. Mikrolithographie-Projektionsobjektiveinrichtung nach einem der
Ansprüche 1 bis 16,
dadurch gekennzeichnet, daß
sämtliche Spiegel asphärisch ausgebildet sind.
18. Mikrolithographie-Projektionsobjektiveinrichtung nach einem der
Ansprüche 1 bis 16,
dadurch gekennzeichnet, daß
höchstens fünf Spiegel asphärisch sind.
19. Mikrolithographie-Projektionsobjektiveinrichtung nach einem der
Ansprüche 1 bis 18,
dadurch gekennzeichnet, daß
der zweite bis sechste Spiegel (S2-S6) in der Reihenfolge konkav
konvex-konkavkonvex-konkav ausgebildet ist.
20. Mikrolithographie-Projektionsobjektiveinrichtung nach einem der
Ansprüche 1 bis 19,
dadurch gekennzeichnet, daß
der Abbildungsmaßstab des ersten Spiegels (S1) positiv ist, vorzugsweise
0,5 < β < 1,5.
21. Mikrolithographie-Projektionsobjektiveinrichtung gemäß einem der
Ansprüche 1 bis 19,
dadurch gekennzeichnet, daß
der Abbildungsmaßstab des aus zweitem (S2), drittem (S3) und viertem
Spiegel (S4) gebildeten Subsystems negativ und verkleinernd ist,
vorzugsweise -0,5 < β < -1,0.
22. Mikrolithographie-Projektionsobjektiveinrichtung nach einem der
Ansprüche 1 bis 21,
dadurch gekennzeichnet, daß
der rms-Wellenfrontfehler des Systems höchstens 0,07 λ, bevorzugt 0,03
λ, über das gesamte Bildfeld beträgt.
23. Mikrolithographie-Projektionseinrichtung gemäß Anspruch 22,
dadurch gekennzeichnet, daß
das Bildfeld mindestens 1,0 mm breit ist.
24. Mikrolithographie-Projektionsobjektiveinrichtung nach einem der
Ansprüche 1 bis 23,
dadurch gekennzeichnet, daß
sie bildseitig telezentrisch ist.
25. Mikrolithographie-Projektionsobjektiveinrichtung nach Anspruch 24,
dadurch gekennzeichnet, daß
sie objektseitig telezentrisch ist.
26. Mikrolithographie-Projektionsobjektiveinrichtung nach einem der
Ansprüche 1 bis 24,
dadurch gekennzeichnet, daß
der Hauptstrahl am Objekt zur optischen Achse hinläuft.
27. Mikrolithographie-Projektionsobjektiveinrichtung nach einem der
Ansprüche 9 bis 26,
dadurch gekennzeichnet, daß
der Spiegel mit der betragsmäßig kleinsten Brennweite nach dem
Zwischenbild liegt.
28. Mikrolithographie-Projektionsobjektiveinrichtung nach einem der
Ansprüche 1 bis 27,
dadurch gekennzeichnet, daß
der Abstand von drittem und sechstem Spiegel (S3S6) nachfolgender
Beziehung genügt:
0,3 (genutzter Durchmesser S3 + genutzter Durchmesser S6) < S3S6
0,3 (genutzter Durchmesser S3 + genutzter Durchmesser S6) < S3S6
29. Projektionsbelichtungsanlage mit einer Mikrolithographie-
Projektionsobjektiveinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 28,
dadurch gekennzeichnet, daß
eine Reflektionsmaske vorgesehen ist.
30. Projektionsbelichtungsanlage mit einer Mikrolithographie-
Projektionsobjektiveinrichtung gemäß einem der Ansprüche 1 bis 28,
dadurch gekennzeichnet, daß
eine Transmissionsmaske vorgesehen ist.
31. Projektionsbelichtungsanlage nach einem der Ansprüche 29 bis 30,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Projektionsbelichtungsanlage eine Beleuchtungseinrichtung zur
Beleuchtung eines Ringfeldes umfaßt.
32. Verfahren zur Chipherstellung mit einer Projektionsbelichtungsanlage
gemäß einem der Ansprüche 29 bis 31.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19906001 | 1999-02-15 | ||
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DE19948240A1 true DE19948240A1 (de) | 2000-08-24 |
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ID=7897378
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- 1999-10-07 DE DE19948240A patent/DE19948240A1/de not_active Withdrawn
- 1999-12-23 DE DE59914901T patent/DE59914901D1/de not_active Expired - Fee Related
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2000
- 2000-02-14 KR KR1020000006836A patent/KR100738594B1/ko not_active IP Right Cessation
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US7154666B2 (en) | 2001-01-26 | 2006-12-26 | Carl Zeiss Smt Ag | Narrow-band spectral filter and the use thereof |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR100738594B1 (ko) | 2007-07-11 |
DE59914901D1 (de) | 2008-12-18 |
KR20000076656A (ko) | 2000-12-26 |
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