DE19923654A1 - In einem Rezipienten einer Vakuumbeschichtungsanlage anzuordnender Verdampfer und Verfahren zum Regeln der Verdampfungsrate einees solchen Verdampfers - Google Patents

In einem Rezipienten einer Vakuumbeschichtungsanlage anzuordnender Verdampfer und Verfahren zum Regeln der Verdampfungsrate einees solchen Verdampfers

Info

Publication number
DE19923654A1
DE19923654A1 DE1999123654 DE19923654A DE19923654A1 DE 19923654 A1 DE19923654 A1 DE 19923654A1 DE 1999123654 DE1999123654 DE 1999123654 DE 19923654 A DE19923654 A DE 19923654A DE 19923654 A1 DE19923654 A1 DE 19923654A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
wire
evaporator
inlet
shaped material
central heating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE1999123654
Other languages
English (en)
Inventor
Werner Klug
Jochen Schneider
Stefan Locher
Walter Zueltzke
Ralf Faber
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Buehler Alzenau GmbH
Original Assignee
Leybold Systems GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Leybold Systems GmbH filed Critical Leybold Systems GmbH
Priority to DE1999123654 priority Critical patent/DE19923654A1/de
Publication of DE19923654A1 publication Critical patent/DE19923654A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/246Replenishment of source material

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

In einem Rezipienten (1) einer Vakuumbeschichtungsanlage ist ein Verdampfer (3) angeordnet, der einen zentralen Heizbereich (6) hat. In diesen Heizbereich (6) führt ein Zuführrohr (4), durch das hindurch ein drahtförmiges Material (5) in den Heizbereich (6) gefördert wird, wo es unmittelbar verdampft. Durch Regelung der Zuführgeschwindigkeit des drahtförmigen Materials (5) lässt sich die Verdampfungsrate des Verdampfers (3) sehr genau regeln.

Description

Die Erfindung betrifft einen in einem Rezipienten einer Vakuumbeschichtungsanlage anzuordnenden Verdampfer, wel­ cher einen Einlass für zu verdampfendes, drahtförmiges Material aufweist. Weiterhin betrifft die Erfindung ein Verfahren zum Regeln der Verdampfungsrate eines solchen Verdampfers.
Die in Vakuumbeschichtungsanlagen verwendeten Verdampfer haben üblicherweise einen Tiegel, in welchem das zu ver­ dampfende Material in flüssiger Form vorliegt und aus dem heraus es verdampft. Als Beispiel für den Stand der Tech­ nik sei auf die DE 43 11 581 A1 verwiesen, welche in Fig. 2 einen solchen Verdampfer zeigt. Bei ihm ist der Tiegel in einem sogenannten Verdampferschiffchen vorgese­ hen. Das zu verdampfende Material wird von einer inner­ halb des Rezipienten angeordneten Vorratsrolle in Form von Draht abgewickelt und gelangt zunächst in den Tiegel des Verdampferschiffchen. Die Regelung der Verdampferrate erfolgt bei solchen Verdampfern durch die Heizleistung der Verdampferschiffchen, wobei darauf zu achten ist, dass die Zuführgeschwindigkeit des zu verdampfenden Mate­ rials ausreichend hoch ist, so dass sich stets genügend Material in flüssiger Form innerhalb der einzelnen Tiegel befindet.
Die bekannte Vakuumbeschichtungsanlage dient der Be­ schichtung von Folien mit Metalldampf, die sich mit einem konstanten Abstand zum Verdampfer bewegen. Für diesen An­ wendungsfall ist mit dem bekannten Verdampfer eine aus­ reichend gleichmäßige Verdampfungsrate zu erzielen. Oft­ mals arbeiten Verdampfer mit einem Elektronenstrahl, wel­ cher durch eine Ablenkeinheit kontinuierlich über das zu verdampfende Metallbad bewegt wird. Durch die relativ un­ definierte Führung des Elektronenstrahls kommt es zum Teil zu starken Schwankungen der Verdampfungsrate. Ein weiterer Nachteil der bekannten Verdampfer liegt darin, dass entsprechend der unterschiedlichen Verdampfungsleis­ tung die entstehende "Dampfkeule" instabil wird, so dass nur ein relativ kleiner Bereich für die Beschichtung ge­ nutzt werden kann.
Der Erfindung liegt das Problem zugrunde, einen Verdamp­ fer der eingangs genannten Art so auszubilden, dass seine Verdampfungsrate möglichst genau zu regeln und rasch ver­ änderbar ist. Weiterhin soll ein Verfahren zum Regeln ei­ nes solchen Verdampfers gefunden werden.
Das erstgenannte Problem wird erfindungsgemäß dadurch ge­ löst, dass der Verdampfer einen zentralen Heizbereich hat und der Einlass für das drahtförmige Material zum unmit­ telbaren Verdampfen des zugeführten, drahtförmigen Mate­ rials in dem zentralen Heizbereich angeordnet ist.
Durch diese Ausbildung erzeugt man abweichend von der bisherigen Praxis mit dem zugeführte Material keine Schmelze in einem Tiegel, vielmehr lässt man das zuge­ führte Material unmittelbar verdampfen. Dadurch kann man die Verdampfungsrate sehr genau durch Ändern der Zuführ­ geschwindigkeit regeln und rasch verändern. Da der erfin­ dungsgemäße Verdampfer keinen Tiegel benötigt und der Heizbereich nur noch dort sein muss, wo das drahtförmige Material zugeführt wird, kann der Verdampfer insgesamt einfacher ausgebildet sein als die bekannten Verdampfer. Auch die Verdampfung nicht metallischer Stoffe, bei denen der Schmelzpunkt und Verdampfungspunkt eng zusammenlie­ gen, ist mit dem erfindungsgemäßen Verdampfer ohne Schwierigkeiten möglich. Deshalb kann man mit ihm auch Quarz verdampfen, welches dem Verdampfer als Faser oder Faserbündel zugeführt wird. Die bei herkömmlichen Ver­ dampfern bei solchen Materialien auftretenden starken Ra­ tenschwankungen werden auch in solchen Fällen bei dem er­ findungsgemäßen Verdampfer vermieden. Ein weiterer Vor­ teil des Verdampfers nach der Erfindung liegt darin, dass große Materialmengen ohne Unterbrechung des Verdamp­ fungsprozesses durch eine hohe Zuführgeschwindigkeit des drahtförmigen Materials dem Verdampfer zugeführt werden können.
Besonders vorteilhaft ist der Verdampfer ausgebildet, wenn er äls Elektronenstrahl-Verdampfer ausgebildet ist und der Elektronenstrahl unveränderbar auf den zentralen Heizbereich gerichtet ist. Ein solcher Verdampfer kann einfacher als vergleichbare Verdampfer ausgebildet sein, weil er keine Ablenkeinheit benötigt, die den Elektronen­ strahl über die Schmelze bewegt. Da der Heizbereich sehr klein sein kann, weil nur das freie Ende des zugeführten drahtförmigen Materials beheizt werden muss, können Elek­ tronenstrahlkanonen und Stromversorgungen mit geringer Leistung verwendet werden.
Statt einen Elektronenstrahl kann man bei dem erfin­ dungsgemäßen Verdampfer auch vorsehen, dass er eine Heiz­ spule hat und der Einlass für das drahtförmige Material koaxial zu der Heizspule angeordnet ist.
Mittels des Elektronenstrahls oder bei einer induktiven Heizung für den Fall, dass es sich bei dem zugeführten Material um ein Metall handelt, kann man das zugeführte Material unmittelbar erhitzen und verdampfen. Es ist je­ doch auch eine indirekte Wärmezufuhr möglich, indem der zentrale Heizbereich ein den Einlass umschließendes Heiz­ teil aus Metall hat, welches durch den Elektronenstrahl oder induktiv beheizt ist. Ein solches Heizteil ist bei einer induktiven Heizung dann zwingend notwendig, wenn es sich bei dem zugeführten Material um Nichtmetall handelt. Bei Verwendung eines Elektronenstrahls hat eine solche Ausführungsform den Vorteil, dass dieser nicht exakt auf das zugeführte Material ausgerichtet sein muss.
Das zu verdampfende Material kann während des Betriebs des Verdampfers von außen in den Rezipienten eingeführt werden und deshalb kontinuierlich ohne Arbeitsunterbre­ chung des Verdampfers erfolgen, wenn gemäß einer anderen Weiterbildung der Erfindung zur Zufuhr des drahtförmigen Materials in den Rezipienten ein in den Verdampfer füh­ rendes Zuführrohr vorgesehen ist, welches den Verdampfer mit einer Schleuse verbindet, durch die das zugeführte, drahtförmige Material verläuft, die an zwei gegenüberlie­ genden Seiten eine durch zwei Dichtungen begrenzte und mit einer Zwischenabsaugung versehene Schleusenkammer für das drahtförmige Material hat.
Konstruktiv besonders einfach ist die Zufuhr des draht­ förmigen Materials gestaltet, wenn der Schleuse eine Ab­ wickelvorrichtung zum Abwickeln des drahtförmigen Materi­ als von einer Vorratsrolle vorgeschaltet ist.
Das drahtförmige Material könnte zwischen zwei angetrie­ benen Rollen geführt und dadurch dem Verdampfer zugeführt werden. Schlupf bei der Zufuhr des drahtförmigen Materi­ als, der zwangsläufig zu Unregelmäßigkeiten bei der Zu­ führgeschwindigkeit führt, lässt sich zuverlässig vermei­ den, wenn die Abwickelvorrichtung durch eine angetriebene Rolle gebildet ist, um die das drahtförmige Material von der Vorratsrolle kommend einmal herumgewickelt ist.
Das zweitgenannte Problem, nämlich die Schaffung eines Verfahrens zum Regeln der Verdampfungsrate eines Verdamp­ fers, welcher ein Verdampferteil und einen Einlass für zu verdampfendes drahtförmiges Material aufweist, wird er­ findungsgemäß dadurch gelöst, dass die Verdampfungsrate durch die Nachführgeschwindigkeit des drahtförmigen Mate­ rials in das Verdampferteil geregelt wird.
Ein solches Verfahren ist sehr einfach ausführbar und er­ laubt eine sehr genaue Regelung und rasche Veränderung der Verdampfungsrate. Da das zugeführte Material unmit­ telbar verdampft und nicht zunächst ein Schmelzbad bil­ det, führt eine Veränderung der Zuführgeschwindigkeit zwangsläufig unmittelbar zu einer Veränderung der Ver­ dampfungsrate.
Besonders vorteilhaft ist das erfindungsgemäße Verfahren anwendbar, wenn man als drahtförmiges Material Quarzfa­ sern zuführt. Eine Beschichtung mit Quarz ist beispiels­ weise bei Interferenzfiltern für die Telekommunikation notwendig. In einem solchen Fall erlaubt das erfindungs­ gemäße Verfahren sehr gleichmäßige Beschichtungen, weil die Verdampfungsrate trotz des engen Zusammenliegens des Schmelzpunktes und Verdampfungspunktes von Quarz dank der erfindungsgemäßen Regelung der Zuführgeschwindigkeit sehr gleichmäßig ist.
Die Erfindung lässt verschiedene Ausführungsformen zu. Zur weiteren Verdeutlichung ihres Grundprinzips sind eine davon sowie zwei abgewandelte Details in der Zeichnung dargestellt und werden nachfolgend beschrieben. Die Zeichnung zeigt in
Fig. 1 einen schematischen Schnitt durch eine Vakuum- Beschichtungsanlage mit einem erfindungsgemäßen Verdampfer,
Fig. 2 einen Schnitt durch eine abgewandelte Ausfüh­ rungsform des Verdampfers,
Fig. 3 eine Materialzuführung des Verdampfers.
Die Fig. 1 zeigt einen Rezipienten 1 einer Vakuumbe­ schichtungsanlage, in welchem ein zu beschichtendes Substrat 2 oberhalb eines Verdampfers 3 angeordnet ist. In diesen Verdampfer 3 führt von unten her ein Zuführrohr 4 hinein, über das als Faser vorliegendes Material 5 ei­ nem Heizbereich 6 des Verdampfers 3 zugeführt wird. Bei dem Verdampfer 3 handelt es sich um einen Elektroden­ strahl-Verdampfer, dessen Elektronenstrahl 7 unveränder­ lich auf einen Einlass 8 gerichtet ist, aus welchem das zugeführte Material 5 austritt.
Das Zuführrohr 4 führt zu einer Schleuse 9, welche zwi­ schen zwei äußeren Dichtungen 10, 11 eine Schleusenkammer 12 hat, durch die das drahtförmige Material 5 hindurch­ führt und die durch eine Zwischenabsaugung 13 unter Un­ terdruck gehalten wird. Das drahtförmige Material 5 ist auf einer Vorratsrolle 14 aufgewickelt und wird von einer Abwickelvorrichtung 15 abgewickelt und zu dem Verdampfer 3 transportiert. Die Abwickelvorrichtung 15 besteht aus zwei Rollen 16, 17, zwischen denen das drahtförmige Mate­ rial 5 eingeklemmt ist.
Bei Betrieb des Verdampfers 3 bleibt der Elektronenstrahl 7 mit konstanter Leistung auf den Einlass 8 gerichtet. Die Verdampfungsrate wird durch die Zuführgeschwindigkeit des drahtförmigen Materials 5 mittels der Abwickelvor­ richtung 15 gesteuert.
Bei der Ausführungsform nach Fig. 2 hat der Verdampfer 3 ein Heizteil 18 aus Metall, welches den Heizbereich 6 bildet und den Einlass 8 des Zuführrohres 4 koaxial um­ schließt. Dieses Heizteil 18 wird gemäß Fig. 2 von einer Heizspule 19 umschlossen, durch die es zur Erwärmung des Heizteiles 18 kommt. Dabei kann die Heizspule 19 induktiv wirken. Möglich ist es jedoch auch, dass es sich bei ihr um einen elektrischen Heizwiderstand handelt.
Bei der Ausführungsform nach Fig. 3 ist die Aufwickel­ vorrichtung 15 durch eine Rolle 20 gebildet, um die das drahtförmige Material 5 einmal herumgewickelt ist. Durch diese 360°-Umschlingung wird Schlupf zuverlässig vermie­ den.
Bezugszeichenliste
1
Rezipient
2
Substrat
3
Verdampf er
4
Zuführrohr
5
Material
6
Heizbereich
7
Elektronenstrahl
8
Einlass
9
Schleuse
10
Dichtung
11
Dichtung
12
Schleusenkammer
13
Zwischenabsaugung
14
Vorratsrolle
15
Abwickelvorrichtung
16
Rolle
17
Rolle
18
Heizteil
19
Heizspule
20
Rolle

Claims (9)

1. In einem Rezipienten einer Vakuumbeschichtungsanlage anzuordnender Verdampfer, welcher einen Einlass für zu verdampfendes, drahtförmiges Material aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass der Verdampfer (3) einen zentralen Heizbereich (6) hat und der Einlass für das drahtförmige Material (5) zum unmittelbaren Verdampfen des zugeführ­ ten, drahtförmigen Materials (5) in dem zentralen Heizbe­ reich (6) angeordnet ist.
2. Verdampfer nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass er als Elektronenstrahl-Verdampfer ausgebildet und der Elektronenstrahl (7) unveränderbar auf den zentralen Heizbereich (6) gerichtet ist.
3. Verdampfer nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass er eine Heizspule (19) hat und der Einlass (8) für das drahtförmige Material (5) koaxial zu der Heizspule (19) angeordnet ist.
4. Verdampfer nach zumindest einem der vorangehenden An­ sprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der zentrale Heiz­ bereich (6) ein den Einlass (8) umschließendes Heizteil (18) aus Metall hat, welches durch den Elektronenstrahl (7) oder induktiv beheizt ist.
5. Verdampfer nach zumindest einem der vorangehenden An­ sprüche, dadurch gekennzeichnet, dass zur Zufuhr des drahtförmigen Materials (5) in den Rezipienten (1) ein in den Verdampfer (3) führendes Zuführrohr (4) vorgesehen ist, welches den Verdampfer (3) mit einer Schleuse (9) verbindet, durch die das zugeführte drahtförmige Material (5) verläuft, die an zwei gegenüberliegenden Seiten eine durch zwei Dichtungen (10, 11) begrenzte und mit einer Zwischenabsaugung (13) versehene Schleusenkammer (12) für das drahtförmige Material (5) hat.
6. Verdampfer nach zumindest einem der vorangehenden An­ sprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Schleuse (9) eine Abwickelvorrichtung (15) zum Abwickeln des drahtför­ migen Materials (5) von einer Vorratsrolle (14) vorge­ schaltet ist.
7. Verdampfer nach zumindest einem der vorangehenden An­ sprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Abwickelvor­ richtung (15) durch eine angetriebene Rolle (20) gebildet ist, um die das drahtförmige Material (5) von der Vor­ ratsrolle (14) kommend einmal herumgewickelt ist.
8. Verfahren zum Regeln der Verdampfungsrate eines Ver­ dampfers, welcher einen Verdampferteil und einen Einlass für zu verdampfendes, drahtförmiges Material aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass die Verdampfungsrate durch die Nachführgeschwindigkeit des drahtförmigen Materials in das Verdampferteil geregelt wird.
9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass man als drahtförmiges Material Quarzfasern zuführt.
DE1999123654 1999-05-22 1999-05-22 In einem Rezipienten einer Vakuumbeschichtungsanlage anzuordnender Verdampfer und Verfahren zum Regeln der Verdampfungsrate einees solchen Verdampfers Withdrawn DE19923654A1 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE1999123654 DE19923654A1 (de) 1999-05-22 1999-05-22 In einem Rezipienten einer Vakuumbeschichtungsanlage anzuordnender Verdampfer und Verfahren zum Regeln der Verdampfungsrate einees solchen Verdampfers

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE1999123654 DE19923654A1 (de) 1999-05-22 1999-05-22 In einem Rezipienten einer Vakuumbeschichtungsanlage anzuordnender Verdampfer und Verfahren zum Regeln der Verdampfungsrate einees solchen Verdampfers

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE19923654A1 true DE19923654A1 (de) 2000-11-23

Family

ID=7908944

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE1999123654 Withdrawn DE19923654A1 (de) 1999-05-22 1999-05-22 In einem Rezipienten einer Vakuumbeschichtungsanlage anzuordnender Verdampfer und Verfahren zum Regeln der Verdampfungsrate einees solchen Verdampfers

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE19923654A1 (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2471733A3 (de) * 2010-12-30 2013-01-16 United Technologies Corporation Druckverriegelungssystem für Drahtzuführung

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE863735C (de) * 1936-12-02 1953-01-19 Bosch Gmbh Robert Verfahren und Einrichtung zur Metallisierung von Gegenstaenden durch thermische Verdampfung von Metall
DE878884C (de) * 1944-02-10 1953-06-08 Bosch Gmbh Robert Vorrichtung zum Einfuehren von Draehten in evakuierte Raeume
US3502499A (en) * 1967-05-22 1970-03-24 Texas Instruments Inc Cladding method and apparatus
AT279993B (de) * 1967-05-10 1970-03-25 Libbey Owens Ford Glass Co Vorrichtung zur Einbringung eines Stranges in bei Vakuumniederschlagssystemen verwendete Tiegel

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE863735C (de) * 1936-12-02 1953-01-19 Bosch Gmbh Robert Verfahren und Einrichtung zur Metallisierung von Gegenstaenden durch thermische Verdampfung von Metall
DE878884C (de) * 1944-02-10 1953-06-08 Bosch Gmbh Robert Vorrichtung zum Einfuehren von Draehten in evakuierte Raeume
AT279993B (de) * 1967-05-10 1970-03-25 Libbey Owens Ford Glass Co Vorrichtung zur Einbringung eines Stranges in bei Vakuumniederschlagssystemen verwendete Tiegel
US3502499A (en) * 1967-05-22 1970-03-24 Texas Instruments Inc Cladding method and apparatus

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2471733A3 (de) * 2010-12-30 2013-01-16 United Technologies Corporation Druckverriegelungssystem für Drahtzuführung
US8920566B2 (en) 2010-12-30 2014-12-30 United Technologies Corporation Wire feed pressure lock system

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3205384C2 (de)
DE69206028T2 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Beschichtung eines Substrates unter Verwendung der Vakuum-Bogen-Verdampfung.
DE60318170T2 (de) Vakuumverdampfer
DE68909988T2 (de) Vorrichtung zur kontinuierlichen Vacuumbeschichtung.
DE19755159C2 (de) Dünnfilmbeschichtungseinrichtung unter Verwendung einer Kathoden-Bogenentladung
DE3330092A1 (de) Verfahren zum einstellen der oertlichen verdampfungsleistung an verdampfern in vakuumaufdampfprozessen
EP0285745A1 (de) Verfahren und Vorrichtungen zum Vakuumbeschichten mittels einer elektrischen Bogenentladung
DE3873568T2 (de) Anlage zur kontinuierlichen vakuumverdampfung eines metalls.
WO2012175334A2 (de) Verfahren und vorrichtung zum abscheiden von oleds insbesondere verdampfungsvorrichtung dazu
DE10255822A1 (de) Verfahren zum Bedampfen bandförmiger Substrate mit einer transparenten Barriereschicht aus Aluminiumoxid
DE1521363A1 (de) UEberwachungsvorrichtung
DE19923654A1 (de) In einem Rezipienten einer Vakuumbeschichtungsanlage anzuordnender Verdampfer und Verfahren zum Regeln der Verdampfungsrate einees solchen Verdampfers
DE19848177A1 (de) Bedampfungsvorrichtung
DE69104000T2 (de) Vorrichtung zum Vakuum-Aufdampfen.
DE3414669C2 (de) Verdampferzelle
DE19845268C1 (de) Verfahren zum Bedampfen bandförmiger Substrate mit einer transparenten Barriereschicht aus Aluminiumoxid
WO2006037516A1 (de) Vorrichtung für die beschichtung eines bandörmigen substrates
DE4404550C2 (de) Anordnung zur Regelung der Verdampferrate von Tiegeln
WO2018154054A1 (de) Elektronenstrahlverdampfer, beschichtungsvorrichtung und beschichtungsverfahren
DE102013113110A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Bedampfung von Substraten von mehr als einer Dampfquelle
DE3340535C2 (de) Magnetischer Aufzeichnungsträger sowie Verfahren zu seiner Herstellung
EP0282540A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum metallisieren von folienoberflächen.
DE10129507C2 (de) Einrichtung zur plasmaaktivierten Bedampfung großer Flächen
DE102007031457A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Aufbringung einer Schicht eines Trennmittels auf ein Substrat
DE3200848C2 (de) Vorrichtung zum Beschicken von Verdampfern in Aufdampfanlagen

Legal Events

Date Code Title Description
OM8 Search report available as to paragraph 43 lit. 1 sentence 1 patent law
8127 New person/name/address of the applicant

Owner name: LEYBOLD OPTICS GMBH, 63755 ALZENAU, DE

8110 Request for examination paragraph 44
8141 Disposal/no request for examination