DE19923654A1 - In einem Rezipienten einer Vakuumbeschichtungsanlage anzuordnender Verdampfer und Verfahren zum Regeln der Verdampfungsrate einees solchen Verdampfers - Google Patents
In einem Rezipienten einer Vakuumbeschichtungsanlage anzuordnender Verdampfer und Verfahren zum Regeln der Verdampfungsrate einees solchen VerdampfersInfo
- Publication number
- DE19923654A1 DE19923654A1 DE1999123654 DE19923654A DE19923654A1 DE 19923654 A1 DE19923654 A1 DE 19923654A1 DE 1999123654 DE1999123654 DE 1999123654 DE 19923654 A DE19923654 A DE 19923654A DE 19923654 A1 DE19923654 A1 DE 19923654A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- wire
- evaporator
- inlet
- shaped material
- central heating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/246—Replenishment of source material
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
In einem Rezipienten (1) einer Vakuumbeschichtungsanlage ist ein Verdampfer (3) angeordnet, der einen zentralen Heizbereich (6) hat. In diesen Heizbereich (6) führt ein Zuführrohr (4), durch das hindurch ein drahtförmiges Material (5) in den Heizbereich (6) gefördert wird, wo es unmittelbar verdampft. Durch Regelung der Zuführgeschwindigkeit des drahtförmigen Materials (5) lässt sich die Verdampfungsrate des Verdampfers (3) sehr genau regeln.
Description
Die Erfindung betrifft einen in einem Rezipienten einer
Vakuumbeschichtungsanlage anzuordnenden Verdampfer, wel
cher einen Einlass für zu verdampfendes, drahtförmiges
Material aufweist. Weiterhin betrifft die Erfindung ein
Verfahren zum Regeln der Verdampfungsrate eines solchen
Verdampfers.
Die in Vakuumbeschichtungsanlagen verwendeten Verdampfer
haben üblicherweise einen Tiegel, in welchem das zu ver
dampfende Material in flüssiger Form vorliegt und aus dem
heraus es verdampft. Als Beispiel für den Stand der Tech
nik sei auf die DE 43 11 581 A1 verwiesen, welche in
Fig. 2 einen solchen Verdampfer zeigt. Bei ihm ist der
Tiegel in einem sogenannten Verdampferschiffchen vorgese
hen. Das zu verdampfende Material wird von einer inner
halb des Rezipienten angeordneten Vorratsrolle in Form
von Draht abgewickelt und gelangt zunächst in den Tiegel
des Verdampferschiffchen. Die Regelung der Verdampferrate
erfolgt bei solchen Verdampfern durch die Heizleistung
der Verdampferschiffchen, wobei darauf zu achten ist,
dass die Zuführgeschwindigkeit des zu verdampfenden Mate
rials ausreichend hoch ist, so dass sich stets genügend
Material in flüssiger Form innerhalb der einzelnen Tiegel
befindet.
Die bekannte Vakuumbeschichtungsanlage dient der Be
schichtung von Folien mit Metalldampf, die sich mit einem
konstanten Abstand zum Verdampfer bewegen. Für diesen An
wendungsfall ist mit dem bekannten Verdampfer eine aus
reichend gleichmäßige Verdampfungsrate zu erzielen. Oft
mals arbeiten Verdampfer mit einem Elektronenstrahl, wel
cher durch eine Ablenkeinheit kontinuierlich über das zu
verdampfende Metallbad bewegt wird. Durch die relativ un
definierte Führung des Elektronenstrahls kommt es zum
Teil zu starken Schwankungen der Verdampfungsrate. Ein
weiterer Nachteil der bekannten Verdampfer liegt darin,
dass entsprechend der unterschiedlichen Verdampfungsleis
tung die entstehende "Dampfkeule" instabil wird, so dass
nur ein relativ kleiner Bereich für die Beschichtung ge
nutzt werden kann.
Der Erfindung liegt das Problem zugrunde, einen Verdamp
fer der eingangs genannten Art so auszubilden, dass seine
Verdampfungsrate möglichst genau zu regeln und rasch ver
änderbar ist. Weiterhin soll ein Verfahren zum Regeln ei
nes solchen Verdampfers gefunden werden.
Das erstgenannte Problem wird erfindungsgemäß dadurch ge
löst, dass der Verdampfer einen zentralen Heizbereich hat
und der Einlass für das drahtförmige Material zum unmit
telbaren Verdampfen des zugeführten, drahtförmigen Mate
rials in dem zentralen Heizbereich angeordnet ist.
Durch diese Ausbildung erzeugt man abweichend von der
bisherigen Praxis mit dem zugeführte Material keine
Schmelze in einem Tiegel, vielmehr lässt man das zuge
führte Material unmittelbar verdampfen. Dadurch kann man
die Verdampfungsrate sehr genau durch Ändern der Zuführ
geschwindigkeit regeln und rasch verändern. Da der erfin
dungsgemäße Verdampfer keinen Tiegel benötigt und der
Heizbereich nur noch dort sein muss, wo das drahtförmige
Material zugeführt wird, kann der Verdampfer insgesamt
einfacher ausgebildet sein als die bekannten Verdampfer.
Auch die Verdampfung nicht metallischer Stoffe, bei denen
der Schmelzpunkt und Verdampfungspunkt eng zusammenlie
gen, ist mit dem erfindungsgemäßen Verdampfer ohne
Schwierigkeiten möglich. Deshalb kann man mit ihm auch
Quarz verdampfen, welches dem Verdampfer als Faser oder
Faserbündel zugeführt wird. Die bei herkömmlichen Ver
dampfern bei solchen Materialien auftretenden starken Ra
tenschwankungen werden auch in solchen Fällen bei dem er
findungsgemäßen Verdampfer vermieden. Ein weiterer Vor
teil des Verdampfers nach der Erfindung liegt darin, dass
große Materialmengen ohne Unterbrechung des Verdamp
fungsprozesses durch eine hohe Zuführgeschwindigkeit des
drahtförmigen Materials dem Verdampfer zugeführt werden
können.
Besonders vorteilhaft ist der Verdampfer ausgebildet,
wenn er äls Elektronenstrahl-Verdampfer ausgebildet ist
und der Elektronenstrahl unveränderbar auf den zentralen
Heizbereich gerichtet ist. Ein solcher Verdampfer kann
einfacher als vergleichbare Verdampfer ausgebildet sein,
weil er keine Ablenkeinheit benötigt, die den Elektronen
strahl über die Schmelze bewegt. Da der Heizbereich sehr
klein sein kann, weil nur das freie Ende des zugeführten
drahtförmigen Materials beheizt werden muss, können Elek
tronenstrahlkanonen und Stromversorgungen mit geringer
Leistung verwendet werden.
Statt einen Elektronenstrahl kann man bei dem erfin
dungsgemäßen Verdampfer auch vorsehen, dass er eine Heiz
spule hat und der Einlass für das drahtförmige Material
koaxial zu der Heizspule angeordnet ist.
Mittels des Elektronenstrahls oder bei einer induktiven
Heizung für den Fall, dass es sich bei dem zugeführten
Material um ein Metall handelt, kann man das zugeführte
Material unmittelbar erhitzen und verdampfen. Es ist je
doch auch eine indirekte Wärmezufuhr möglich, indem der
zentrale Heizbereich ein den Einlass umschließendes Heiz
teil aus Metall hat, welches durch den Elektronenstrahl
oder induktiv beheizt ist. Ein solches Heizteil ist bei
einer induktiven Heizung dann zwingend notwendig, wenn es
sich bei dem zugeführten Material um Nichtmetall handelt.
Bei Verwendung eines Elektronenstrahls hat eine solche
Ausführungsform den Vorteil, dass dieser nicht exakt auf
das zugeführte Material ausgerichtet sein muss.
Das zu verdampfende Material kann während des Betriebs
des Verdampfers von außen in den Rezipienten eingeführt
werden und deshalb kontinuierlich ohne Arbeitsunterbre
chung des Verdampfers erfolgen, wenn gemäß einer anderen
Weiterbildung der Erfindung zur Zufuhr des drahtförmigen
Materials in den Rezipienten ein in den Verdampfer füh
rendes Zuführrohr vorgesehen ist, welches den Verdampfer
mit einer Schleuse verbindet, durch die das zugeführte,
drahtförmige Material verläuft, die an zwei gegenüberlie
genden Seiten eine durch zwei Dichtungen begrenzte und
mit einer Zwischenabsaugung versehene Schleusenkammer für
das drahtförmige Material hat.
Konstruktiv besonders einfach ist die Zufuhr des draht
förmigen Materials gestaltet, wenn der Schleuse eine Ab
wickelvorrichtung zum Abwickeln des drahtförmigen Materi
als von einer Vorratsrolle vorgeschaltet ist.
Das drahtförmige Material könnte zwischen zwei angetrie
benen Rollen geführt und dadurch dem Verdampfer zugeführt
werden. Schlupf bei der Zufuhr des drahtförmigen Materi
als, der zwangsläufig zu Unregelmäßigkeiten bei der Zu
führgeschwindigkeit führt, lässt sich zuverlässig vermei
den, wenn die Abwickelvorrichtung durch eine angetriebene
Rolle gebildet ist, um die das drahtförmige Material von
der Vorratsrolle kommend einmal herumgewickelt ist.
Das zweitgenannte Problem, nämlich die Schaffung eines
Verfahrens zum Regeln der Verdampfungsrate eines Verdamp
fers, welcher ein Verdampferteil und einen Einlass für zu
verdampfendes drahtförmiges Material aufweist, wird er
findungsgemäß dadurch gelöst, dass die Verdampfungsrate
durch die Nachführgeschwindigkeit des drahtförmigen Mate
rials in das Verdampferteil geregelt wird.
Ein solches Verfahren ist sehr einfach ausführbar und er
laubt eine sehr genaue Regelung und rasche Veränderung
der Verdampfungsrate. Da das zugeführte Material unmit
telbar verdampft und nicht zunächst ein Schmelzbad bil
det, führt eine Veränderung der Zuführgeschwindigkeit
zwangsläufig unmittelbar zu einer Veränderung der Ver
dampfungsrate.
Besonders vorteilhaft ist das erfindungsgemäße Verfahren
anwendbar, wenn man als drahtförmiges Material Quarzfa
sern zuführt. Eine Beschichtung mit Quarz ist beispiels
weise bei Interferenzfiltern für die Telekommunikation
notwendig. In einem solchen Fall erlaubt das erfindungs
gemäße Verfahren sehr gleichmäßige Beschichtungen, weil
die Verdampfungsrate trotz des engen Zusammenliegens des
Schmelzpunktes und Verdampfungspunktes von Quarz dank der
erfindungsgemäßen Regelung der Zuführgeschwindigkeit sehr
gleichmäßig ist.
Die Erfindung lässt verschiedene Ausführungsformen zu.
Zur weiteren Verdeutlichung ihres Grundprinzips sind eine
davon sowie zwei abgewandelte Details in der Zeichnung
dargestellt und werden nachfolgend beschrieben. Die
Zeichnung zeigt in
Fig. 1 einen schematischen Schnitt durch eine Vakuum-
Beschichtungsanlage mit einem erfindungsgemäßen
Verdampfer,
Fig. 2 einen Schnitt durch eine abgewandelte Ausfüh
rungsform des Verdampfers,
Fig. 3 eine Materialzuführung des Verdampfers.
Die Fig. 1 zeigt einen Rezipienten 1 einer Vakuumbe
schichtungsanlage, in welchem ein zu beschichtendes
Substrat 2 oberhalb eines Verdampfers 3 angeordnet ist.
In diesen Verdampfer 3 führt von unten her ein Zuführrohr
4 hinein, über das als Faser vorliegendes Material 5 ei
nem Heizbereich 6 des Verdampfers 3 zugeführt wird. Bei
dem Verdampfer 3 handelt es sich um einen Elektroden
strahl-Verdampfer, dessen Elektronenstrahl 7 unveränder
lich auf einen Einlass 8 gerichtet ist, aus welchem das
zugeführte Material 5 austritt.
Das Zuführrohr 4 führt zu einer Schleuse 9, welche zwi
schen zwei äußeren Dichtungen 10, 11 eine Schleusenkammer
12 hat, durch die das drahtförmige Material 5 hindurch
führt und die durch eine Zwischenabsaugung 13 unter Un
terdruck gehalten wird. Das drahtförmige Material 5 ist
auf einer Vorratsrolle 14 aufgewickelt und wird von einer
Abwickelvorrichtung 15 abgewickelt und zu dem Verdampfer
3 transportiert. Die Abwickelvorrichtung 15 besteht aus
zwei Rollen 16, 17, zwischen denen das drahtförmige Mate
rial 5 eingeklemmt ist.
Bei Betrieb des Verdampfers 3 bleibt der Elektronenstrahl
7 mit konstanter Leistung auf den Einlass 8 gerichtet.
Die Verdampfungsrate wird durch die Zuführgeschwindigkeit
des drahtförmigen Materials 5 mittels der Abwickelvor
richtung 15 gesteuert.
Bei der Ausführungsform nach Fig. 2 hat der Verdampfer 3
ein Heizteil 18 aus Metall, welches den Heizbereich 6
bildet und den Einlass 8 des Zuführrohres 4 koaxial um
schließt. Dieses Heizteil 18 wird gemäß Fig. 2 von einer
Heizspule 19 umschlossen, durch die es zur Erwärmung des
Heizteiles 18 kommt. Dabei kann die Heizspule 19 induktiv
wirken. Möglich ist es jedoch auch, dass es sich bei ihr
um einen elektrischen Heizwiderstand handelt.
Bei der Ausführungsform nach Fig. 3 ist die Aufwickel
vorrichtung 15 durch eine Rolle 20 gebildet, um die das
drahtförmige Material 5 einmal herumgewickelt ist. Durch
diese 360°-Umschlingung wird Schlupf zuverlässig vermie
den.
1
Rezipient
2
Substrat
3
Verdampf er
4
Zuführrohr
5
Material
6
Heizbereich
7
Elektronenstrahl
8
Einlass
9
Schleuse
10
Dichtung
11
Dichtung
12
Schleusenkammer
13
Zwischenabsaugung
14
Vorratsrolle
15
Abwickelvorrichtung
16
Rolle
17
Rolle
18
Heizteil
19
Heizspule
20
Rolle
Claims (9)
1. In einem Rezipienten einer Vakuumbeschichtungsanlage
anzuordnender Verdampfer, welcher einen Einlass für zu
verdampfendes, drahtförmiges Material aufweist, dadurch
gekennzeichnet, dass der Verdampfer (3) einen zentralen
Heizbereich (6) hat und der Einlass für das drahtförmige
Material (5) zum unmittelbaren Verdampfen des zugeführ
ten, drahtförmigen Materials (5) in dem zentralen Heizbe
reich (6) angeordnet ist.
2. Verdampfer nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
dass er als Elektronenstrahl-Verdampfer ausgebildet und
der Elektronenstrahl (7) unveränderbar auf den zentralen
Heizbereich (6) gerichtet ist.
3. Verdampfer nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
dass er eine Heizspule (19) hat und der Einlass (8) für
das drahtförmige Material (5) koaxial zu der Heizspule
(19) angeordnet ist.
4. Verdampfer nach zumindest einem der vorangehenden An
sprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der zentrale Heiz
bereich (6) ein den Einlass (8) umschließendes Heizteil
(18) aus Metall hat, welches durch den Elektronenstrahl
(7) oder induktiv beheizt ist.
5. Verdampfer nach zumindest einem der vorangehenden An
sprüche, dadurch gekennzeichnet, dass zur Zufuhr des
drahtförmigen Materials (5) in den Rezipienten (1) ein in
den Verdampfer (3) führendes Zuführrohr (4) vorgesehen
ist, welches den Verdampfer (3) mit einer Schleuse (9)
verbindet, durch die das zugeführte drahtförmige Material
(5) verläuft, die an zwei gegenüberliegenden Seiten eine
durch zwei Dichtungen (10, 11) begrenzte und mit einer
Zwischenabsaugung (13) versehene Schleusenkammer (12) für
das drahtförmige Material (5) hat.
6. Verdampfer nach zumindest einem der vorangehenden An
sprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Schleuse (9)
eine Abwickelvorrichtung (15) zum Abwickeln des drahtför
migen Materials (5) von einer Vorratsrolle (14) vorge
schaltet ist.
7. Verdampfer nach zumindest einem der vorangehenden An
sprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Abwickelvor
richtung (15) durch eine angetriebene Rolle (20) gebildet
ist, um die das drahtförmige Material (5) von der Vor
ratsrolle (14) kommend einmal herumgewickelt ist.
8. Verfahren zum Regeln der Verdampfungsrate eines Ver
dampfers, welcher einen Verdampferteil und einen Einlass
für zu verdampfendes, drahtförmiges Material aufweist,
dadurch gekennzeichnet, dass die Verdampfungsrate durch
die Nachführgeschwindigkeit des drahtförmigen Materials
in das Verdampferteil geregelt wird.
9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet,
dass man als drahtförmiges Material Quarzfasern zuführt.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1999123654 DE19923654A1 (de) | 1999-05-22 | 1999-05-22 | In einem Rezipienten einer Vakuumbeschichtungsanlage anzuordnender Verdampfer und Verfahren zum Regeln der Verdampfungsrate einees solchen Verdampfers |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1999123654 DE19923654A1 (de) | 1999-05-22 | 1999-05-22 | In einem Rezipienten einer Vakuumbeschichtungsanlage anzuordnender Verdampfer und Verfahren zum Regeln der Verdampfungsrate einees solchen Verdampfers |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19923654A1 true DE19923654A1 (de) | 2000-11-23 |
Family
ID=7908944
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1999123654 Withdrawn DE19923654A1 (de) | 1999-05-22 | 1999-05-22 | In einem Rezipienten einer Vakuumbeschichtungsanlage anzuordnender Verdampfer und Verfahren zum Regeln der Verdampfungsrate einees solchen Verdampfers |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE19923654A1 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2471733A3 (de) * | 2010-12-30 | 2013-01-16 | United Technologies Corporation | Druckverriegelungssystem für Drahtzuführung |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE863735C (de) * | 1936-12-02 | 1953-01-19 | Bosch Gmbh Robert | Verfahren und Einrichtung zur Metallisierung von Gegenstaenden durch thermische Verdampfung von Metall |
DE878884C (de) * | 1944-02-10 | 1953-06-08 | Bosch Gmbh Robert | Vorrichtung zum Einfuehren von Draehten in evakuierte Raeume |
US3502499A (en) * | 1967-05-22 | 1970-03-24 | Texas Instruments Inc | Cladding method and apparatus |
AT279993B (de) * | 1967-05-10 | 1970-03-25 | Libbey Owens Ford Glass Co | Vorrichtung zur Einbringung eines Stranges in bei Vakuumniederschlagssystemen verwendete Tiegel |
-
1999
- 1999-05-22 DE DE1999123654 patent/DE19923654A1/de not_active Withdrawn
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE863735C (de) * | 1936-12-02 | 1953-01-19 | Bosch Gmbh Robert | Verfahren und Einrichtung zur Metallisierung von Gegenstaenden durch thermische Verdampfung von Metall |
DE878884C (de) * | 1944-02-10 | 1953-06-08 | Bosch Gmbh Robert | Vorrichtung zum Einfuehren von Draehten in evakuierte Raeume |
AT279993B (de) * | 1967-05-10 | 1970-03-25 | Libbey Owens Ford Glass Co | Vorrichtung zur Einbringung eines Stranges in bei Vakuumniederschlagssystemen verwendete Tiegel |
US3502499A (en) * | 1967-05-22 | 1970-03-24 | Texas Instruments Inc | Cladding method and apparatus |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2471733A3 (de) * | 2010-12-30 | 2013-01-16 | United Technologies Corporation | Druckverriegelungssystem für Drahtzuführung |
US8920566B2 (en) | 2010-12-30 | 2014-12-30 | United Technologies Corporation | Wire feed pressure lock system |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3205384C2 (de) | ||
DE69206028T2 (de) | Vorrichtung und Verfahren zur Beschichtung eines Substrates unter Verwendung der Vakuum-Bogen-Verdampfung. | |
DE60318170T2 (de) | Vakuumverdampfer | |
DE68909988T2 (de) | Vorrichtung zur kontinuierlichen Vacuumbeschichtung. | |
DE19755159C2 (de) | Dünnfilmbeschichtungseinrichtung unter Verwendung einer Kathoden-Bogenentladung | |
DE3330092A1 (de) | Verfahren zum einstellen der oertlichen verdampfungsleistung an verdampfern in vakuumaufdampfprozessen | |
EP0285745A1 (de) | Verfahren und Vorrichtungen zum Vakuumbeschichten mittels einer elektrischen Bogenentladung | |
DE3873568T2 (de) | Anlage zur kontinuierlichen vakuumverdampfung eines metalls. | |
WO2012175334A2 (de) | Verfahren und vorrichtung zum abscheiden von oleds insbesondere verdampfungsvorrichtung dazu | |
DE10255822A1 (de) | Verfahren zum Bedampfen bandförmiger Substrate mit einer transparenten Barriereschicht aus Aluminiumoxid | |
DE1521363A1 (de) | UEberwachungsvorrichtung | |
DE19923654A1 (de) | In einem Rezipienten einer Vakuumbeschichtungsanlage anzuordnender Verdampfer und Verfahren zum Regeln der Verdampfungsrate einees solchen Verdampfers | |
DE19848177A1 (de) | Bedampfungsvorrichtung | |
DE69104000T2 (de) | Vorrichtung zum Vakuum-Aufdampfen. | |
DE3414669C2 (de) | Verdampferzelle | |
DE19845268C1 (de) | Verfahren zum Bedampfen bandförmiger Substrate mit einer transparenten Barriereschicht aus Aluminiumoxid | |
WO2006037516A1 (de) | Vorrichtung für die beschichtung eines bandörmigen substrates | |
DE4404550C2 (de) | Anordnung zur Regelung der Verdampferrate von Tiegeln | |
WO2018154054A1 (de) | Elektronenstrahlverdampfer, beschichtungsvorrichtung und beschichtungsverfahren | |
DE102013113110A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Bedampfung von Substraten von mehr als einer Dampfquelle | |
DE3340535C2 (de) | Magnetischer Aufzeichnungsträger sowie Verfahren zu seiner Herstellung | |
EP0282540A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum metallisieren von folienoberflächen. | |
DE10129507C2 (de) | Einrichtung zur plasmaaktivierten Bedampfung großer Flächen | |
DE102007031457A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Aufbringung einer Schicht eines Trennmittels auf ein Substrat | |
DE3200848C2 (de) | Vorrichtung zum Beschicken von Verdampfern in Aufdampfanlagen |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OM8 | Search report available as to paragraph 43 lit. 1 sentence 1 patent law | ||
8127 | New person/name/address of the applicant |
Owner name: LEYBOLD OPTICS GMBH, 63755 ALZENAU, DE |
|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
8141 | Disposal/no request for examination |