DE19920301C2 - Streustrahlenraster, insbesondere für eine medizinische Röntgeneinrichtung, sowie Verfahren zu dessen Herstellung - Google Patents

Streustrahlenraster, insbesondere für eine medizinische Röntgeneinrichtung, sowie Verfahren zu dessen Herstellung

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Description

Die Erfindung betrifft ein Streustrahlenraster, insbesondere für eine medizinische Röntgeneinrichtung, bestehend aus einem Träger mit Absorptionselementen, beispielsweise in Form von Bleielementen, die in zueinander beabstandeten Reihen ange­ ordnet sind, sowie ein Herstellungsverfahren für ein derarti­ ges Streustrahlenraster.
In der Röntgentechnik, insbesondere der medizinischen Dia­ gnostik, werden häufig Streustrahlenraster eingesetzt, um die stets gegebene Streustrahlung gegenüber der Nutzstrahlung zu schwächen. Die heute meist eingesetzten Raster bestehen aus einer Abfolge von linienartigen Absorptionselementen in Form von Bleilamellen, die im Wechsel mit Lamellen aus einem Trä­ germaterial beschichtet sind. Röntgenstrahlung, die in der Ebene der Lamellen einfällt, wird nur durch das Trägermateri­ al geringfügig geschwächt. Schräg einfallende Strahlung wird dagegen stark von den Bleilamellen absorbiert. Da derartige Bleilamellen unvermeidliche Linien auf dem Röntgenbild erzeu­ gen und darüber hinaus die Linienzahl pro Zentimeter aus fer­ tigungstechnischen Gründen begrenzt ist, wurde bereits der Vorschlag gemacht, anstelle der Bleilamellen in einem Träger­ material aus Silizium angeordnete beabstandete Stifte aus Blei oder einem anderen Absorptionsmaterial unter Bildung von Reihen zu verwenden. Solche Streustrahlenraster sind bei­ spielsweise aus der DE 197 26 846 C1 und der DE 197 29 596 A1 bekannt.
Hinsichtlich der Anordnung der Stifte und damit der Reihen ist in der DE 197 26 846 C1 eine Konfiguration beschrieben, bei der die Reihen sternförmig zum Zentrum des Rasters ver­ laufen. Dabei beginnen sehr viele Reihen beim jeweils glei­ chem Radius. Dies führt dazu, dass die Dichte der Absorptionselemente gesehen in radialer Richtung stark variiert, fer­ ner kommt es zu Grautonsprüngen, weiterhin sind die Reihenab­ stände gesehen in tangentialer Richtung ebenfalls sehr un­ gleichmäßig. Dies wirkt sich nachteilig auf das gesamte Ab­ sorptionsverhalten des Rasters und damit auf die Bildqualität aus.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein Streu­ strahlenraster mit einem im Vergleich zu den bisher bekannten Streustrahlenrastern verbesserten Absorptionsverhalten zu schaffen und ein Verfahren zur Herstellung eines derartigen Streustrahlenrasters anzugeben.
Nach der Erfindung wird diese Aufgabe mit den Merkmalen des Anspruchs 1 bzw. durch ein Herstellungsverfahren für ein Streustrahlenraster gemäß Anspruch 10 gelöst.
Beim erfindungsgemäßen Streustrahlenraster liegen die Ur­ sprünge der Reihen, die alle in Richtung des Rasterzentrums laufen, so, dass sich eine sternförmige Konfiguration ergibt, bei jeweils unterschiedlichen Radien bezüglich des Zentrums, wodurch sich ein wesentlich homogeneres radiales Streustrah­ lenraster ergibt. Dabei kann, bezogen auf die gesamte Ras­ terfläche, an jedem ausgewählten Radius nur eine einzige Rei­ he ihren Ursprung haben. Alternativ dazu kann die Rasterkon­ figuration auch sektorartig sein, d. h., die gesamte Raster­ fläche setzt sich aus mehreren Winkelsektoren, beispielsweise aus vier Sektoren à 90°, zusammen, wobei die Reihenkonfiguration in jedem Sektor im wesentlichen identisch ist, d. h., sie setzt sich periodisch fort. In diesem Fall würden also an je­ dem ausgewählten Radius mehrere Reihen ihren Ursprung haben, wobei jedoch in jedem Sektor nur eine einzige Reihe am jewei­ ligen Radius ihren Ursprung besitzt. Die Lage des Ursprungs bestimmt sich anhand eines Winkelabschnitts, welcher anhand bestimmter am Ursprungsradius befindlicher Punkte ermittelt wird. Dieser Winkelabschnitt, auf den nachfolgend noch näher eingegangen wird, wird in einem vorbestimmten Verhältnis ge­ teilt, wobei dieses Verhältnis p : q bevorzugterweise mit p ≠ q gewählt ist.
Wie beschrieben kann ein erfindungsgemäßes Streustrahlenras­ ter hinsichtlich der Reihenanordnung derart konfiguriert sein, dass an jedem Kreis mit einem betrachteten Ursprungsra­ dius, also an jedem Radius, an dem der Ursprung einer Reihe liegen soll, nur eine einzige Reihe ihren Ursprung hat. In diesem Fall geht man von einer einzigen im Zentrum beginnen­ den ersten Reihe aus, die die Iterationsbasis darstellt. An­ hand dieser Reihe wird dann der erste Winkelabschnitt, der im Verhältnis p : q zu teilen ist, bestimmt. Die beiden Punkte werden in diesem Fall von der ersten Reihe selbst definiert, der Winkelabschnitt beträgt in diesem Fall volle 360°. Zur Bestimmung der Lage des Ursprungs wird nun dieser Winkelab­ schnitt gemäß dem vorbestimmten Verhältnis geteilt, so dass die Winkellage des Ursprungs der zweiten Reihe am betrachte­ ten Ursprungsradius festgelegt wird. Die Lage der dritten und jeder weiteren Reihe wird dann anhand des jeweils größten Winkelabschnitts, der zwischen zwei den nun betrachteten Kreis oder Kreisbogen schneidenden Reihen gegeben ist, be­ stimmt, wobei in diesem Fall der Ursprung stets in den größ­ ten Winkelabschnitt, der auch hier entsprechend geteilt wird, gelegt wird.
Alternativ hierzu kann bei einer sektorartigen Reihenkonfigu­ ration vorgesehen sein, dass wenigstens zwei im Zentrum be­ ginnende Reihen, mittels welcher das Raster in die Sektoren unterteilt wird, vorgesehen sind, und dass der Ursprung jeder weiteren Reihe zwischen zwei näher am Zentrum beginnende Rei­ hen gelegt ist, wobei diese Reihen die Punkte und damit den Winkelabschnitt definieren und den größtmöglichen Winkelab­ stand aller Reihenpaare aufweisen. Der Ursprung einer Reihe liegt also bei dieser Erfindungsalternative stets zwischen demjenigen näher am Zentrum beginnenden Reihenpaar, welches am weitesten voneinander beabstandet ist.
Um die sich bei dem Bestimmungskriterium des zu teilenden Winkelabschnitts anhand des unmittelbaren Winkelabstands der jeweiligen Reihenpaare ergebenden, wenngleich geringen spi­ ralförmigen Dichteschwankungen noch weiter vermeiden zu kön­ nen kann gemäß einer vorteilhaften Weiterbildung des Erfin­ dungsgedankens vorgesehen sein, dass wenigstens zwei im Zen­ trum beginnende Reihen vorgesehen sind, und dass der Ursprung zwischen dasjenige Reihenpaar gelegt ist, bei dem die den Winkelabschnitt zugeordnete Summe des Winkelabstands zwischen den Reihen und eines Zusatzwinkelwerts, der sich durch Wich­ tung der Winkelabstände der Reihen zu jeweils benachbarten Reihen mit einem vorbestimmten Faktor ergibt, maximal ist. Gemäß dieser Erfindungsausgestaltung bestimmt sich also der im Verhältnis p : q zu teilende Winkelabschnitt nicht nur an­ hand des konkreten Winkelabstands des jeweiligen Reihenpaa­ res, sondern anhand der Summe aus dem Winkelabstand des Rei­ henpaares und eines Zusatzwinkelwertes. Dieser wird durch Wichtung der Winkelabstände der beiden Reihen des betrachte­ ten Reihenpaares zu den jeweils daneben liegenden Reihen be­ stimmt. Beispielsweise kann hier die Summe dieser beiden Win­ kelabstände mit dem vorbestimmten Faktor, welcher erfindungs­ gemäß < 1 sein kann, multipliziert und dieser Wert dann mit dem Winkelabstand der beiden betrachteten Reihen addiert wer­ den. Dieser gewichtete Winkelabschnitt wird dann entsprechend dem vorbestimmten Verhältnis geteilt. Hierdurch ergibt sich eine noch homogenere Reihenverteilung.
Nach einer Ausführungsform der Erfindung sind die Absorpti­ onselemente des Streustrahlenrasters als Bleielemente ausge­ bildet.
Nach einer Variante der Erfindung ist die Verwendung des Streustrahlenrasters in einem medizinischen Röntgengerät vor­ gesehen.
Ausgehend von einem einzigen im Zentrum beginnenden Strahl kann bei dem Herstellungsverfahren für das Streustrahlenras­ ter der Winkelabschnitt iterativ bestimmt werden, wobei in diesem Fall der Winkelabschnitt 360° beträgt und von der ers­ ten Reihe als Start- und Endpunkt bestimmt ist. Nach Teilung dieses Winkelabschnitts wird der Ursprung der zweiten Reihe an den sich hieraus ergebenden Winkelpunkt gelegt. Zur Be­ stimmung des Ursprungs der dritten Reihe wird nun zwischen den bereits vorhandenen Reihen dasjenige Reihenpaar gesucht, zwischen welchem der größte Winkelabschnitt - gleich wie die­ ser auch ermittelt wird - gesucht und entsprechend geteilt. Das iterative Verfahren wird solange fortgesetzt, bis ein ma­ ximaler Radius erreicht ist.
Alternativ hierzu ist erfindungsgemäß vorgesehen, dass ausge­ hend von wenigstens zwei im Zentrum beginnenden Reihen zur Ermittlung des Winkelabschnitts der Winkelabstand zwischen zwei benachbart zueinander liegenden Reihen, die den Kreis oder Kreisbogen mit dem Ursprungsradius schneiden und die Punkte bilden, bestimmt wird, wobei der Winkelabschnitt aller Reihenpaare ausgewählt wird, der den größten Winkelabstand aufweist. Bei dieser Alternative wird also der Winkelab­ schnitt unmittelbar vom Winkelabstand bestimmt. Zur Verbesse­ rung der Homogenität der Reihendichte kann erfindungsgemäß vorgesehen sein, dass zur Ermittlung des Winkelabschnitts die Summe des Winkelabstands zwischen zwei benachbart zueinander liegenden Reihen, die den Ursprungsradius schneiden und die Punkte bilden, und eines Zusatzwinkelwerts, der sich durch Wichtung der Winkelabstände der Reihen zur jeweils benachbar­ ten Reihe mit einem vorbestimmten Faktor ergibt, ermittelt wird, wobei der Winkelabschnitt mit der größten Summe aller Reihenpaare gewählt wird. Der vorbestimmte Faktor kann < 1 sein, das Verhältnis p : q, in welchem der jeweilige Winkelab­ schnitt geteilt wird, ist vorzugsweise ≠ 1.
Wenngleich wie beschrieben die Reihenkonfiguration und die Lage der Reihen iterativ ausgehend von einer einzigen im Zentrum beginnenden Reihe für das gesamte Streustrahlenraster bestimmt werden kann, hat es sich als zweckmäßig erwiesen, wenn die Lage der einer Reihe jeweils nur in einem Rastersek­ tor des aus mehreren gleich großen Rastersektoren bestehenden Streustrahlenrasters ermittelt um die jeweilige Reihe in den anderen Rastersektoren entsprechend abgebildet wird. Die Ras­ tersektoren werden durch die durch das Zentrum laufenden Rei­ hen definiert.
Die Erfindung wird nun anhand der im Folgenden beschriebenen Ausführungsbeispiele sowie der Zeichnungen näher erläutert. Dabei zeigen:
Fig. 1 eine Prinzipansicht eines erfindungsgemäßen Streu­ strahlenrasters mit einer aus mehreren im Wesentli­ chen identisch aufgebauten Rastersektoren bestehen­ den Reihenanordnung,
Fig. 2 ein vergrößerter Ausschnitt des Rastersektors I aus Fig. 1 zur Darstellung der Ermittlung der Lage ei­ nes Reihenursprungs nach einem ersten Verfahren, und
Fig. 3 ein vergrößerter Ausschnitt des Rastersektors I aus Fig. 1 zur Darstellung der Ermittlung der Lage ei­ nes Reihenursprungs nach einem zweiten Verfahren.
Fig. 1 zeigt in Form einer Prinzipskizze eine Aufsicht auf ein erfindungsgemäßes Streustrahlenraster 1. Dieses besteht aus einem Träger 2 aus Silizium sowie mehreren Reihen 3 aus stiftförmigen Absorptionselementen 4 aus Blei, die in den Träger 2 geätzte Löcher eingebracht sind. Die Absorptionsele­ mente 4 sind nur teilweise dargestellt, jede Reihe 3 besteht aus einer Vielzahl solcher Elemente. Der Ätzvorgang erfolgt mittels einer Ätzmaske, die z. B. mittels eines Phototechnik- Schnitts hergestellt werden kann, womit auf einfache Weise die Konfiguration der Reihenanordnung festgelegt werden kann. Ersichtlich kann das Streustrahlenraster 1 hinsichtlich der Reihenkonfiguration in sechs einzelne Rastersektoren I-VI unterteilt werden, wobei die Konfiguration in allen sechs Rastersektoren die gleiche ist. Der Übersichtlichkeit halber ist die Reihenanordnung lediglich im Sektor I angedeutet. Wie Fig. 1 zu entnehmen ist beginnen die Reihen 3 abgesehen von den jeweils durch das Zentrum Z laufenden und die Sektoren begrenzenden Reihen 3a bei jeweils unterschiedlichen Radien und sind zum Zentrum Z hin gerichtet.
Fig. 2 zeigt einen Ausschnitt aus Fig. 1. Anhand dieser Figur ist ersichtlich, wie die Bestimmung der Lage des Ursprungs einer jeden Reihe bestimmt werden kann. Jede Reihe zeigt ra­ dial nach außen und hat ihren Ursprung im Abstand r0 + nΔr vom Zentrum Z . Δr als radiales Inkrement bestimmt damit die Dichte der Reihen, der Startradius r0 optimiert die Dichte der Reihen im Zentrum. n ist jeweils eine ganze Zahl mit n ∈ No. In Fig. 2 ist exemplarisch ein zu betrachtender Abstand r0 + nΔr eingezeichnet. In diesem Abstand soll nun der Ort ausgewählt werden, an den der Ursprung der Reihe 3 n zu legen ist. Zu diesem Zweck wird der größte Winkelabstand zwischen allen schon vorhandenen, einander benachbarten Reihen ge­ sucht, die den Kreis oder Kreisbogen mit dem Ursprungsradius, also dem eingezeichneten Abstand r0 + nΔr schneiden. Im ge­ zeigten Beispiel sind die beiden Reihen 3b um den größten Winkel a voneinander beabstandet. Dieser Winkelabstand be­ stimmt nun den Winkelabschnitt, welcher in einem vorbestimm­ ten Verhältnis p : q zu teilen ist, woraus sich die genaue Lage des Ursprungs U der neuen Reihe 3 n zwischen den beiden Reihen 3b ergibt. p und q können für rationale oder irrationale Zah­ len stehen. Die beste Verteilung ergibt sich für p ≠ q. Auf die beschriebene Weise wird iterativ ausgehend von den beiden im Zentrum beginnenden Reihen 3a die Lage einer jeden neuen Reihe bestimmt.
Die beschriebene Iterationsbedingung erzeugt ein sehr homoge­ nes radiales Reihenmuster. Dieses kann jedoch, wenngleich beinahe vernachlässigbare, spiralförmige Dichteschwankungen aufweisen. Um diese noch weitgehend vermeiden zu können ist ein anderes Iterationsverfahren vorgesehen, welches in Fig. 3 näher erläutert ist. Zur Lagebestimmung der neuen Reihe 3 n wird, wie bezüglich Fig. 2 beschrieben, auch hier zu jedem Reihenpaar, welches den Kreis oder Kreisbogen mit dem Ur­ sprungsradius r0 + nΔr schneidet, der unmittelbare Winkelab­ stand ermittelt. Anschließend werden die Winkelabstände der betrachteten beiden Reihen zu den jeweils benachbarten Reihen bestimmt. Im gezeigten Beispiel sind dies die Winkelabstände b und c zwischen den Reihen 3b und 3c. Anhand der Winkelab­ stände a, b, c wird nun die Summe S = a + F (b + c) gebildet, innerhalb welcher die Summe der beiden Winkelabstände b und c mit einem vorbestimmten Faktor F, welcher < 1 ist, gewichtet wird. Aus den zu jedem Reihenpaar am betrachteten Radius be­ stimmten Summenwerten wird nun die größte Summe S ausgewählt, wobei diese dem Winkelabschnitt zugeordnete Summe S im ange­ gebenen Verhältnis p : q geteilt wird.
Die Breite einer Reihe ist abhängig vom Durchmesser der stiftförmigen Absorptionselemente 4 und liegt im Bereich we­ niger µm, der Startradius r0 beträgt beispielsweise 30 µm, der einzelne Radiusschritt Δr beträgt beispielsweise 100 µm, ferner gilt n ∈ No. Die beschriebenen Iterationsalgorithmen er­ möglichen auf einfache Weise die Bestimmung der Lage der Rei­ hen, so dass sehr homogene Streustrahlenraster erzeugt werden können.

Claims (16)

1. Streustrahlenraster, das ggf. mehrere, im wesentlichen identisch strukturierte Rastersektoren (I, II, III, IV, V, VI) aufweist, bestehend aus einem Träger mit Absorptionsele­ menten, welche in zueinander beabstandeten Reihen (3) ange­ ordnet sind, die bezüglich eines Zentrums (Z) im wesentlichen radial verlaufen und bis auf mindestens eine, im Zentrum be­ ginnende Reihe ihren Ursprung auf Kreisen oder Kreisbögen mit unterschiedlichen Radien haben, wobei jeder Radius um einen konstanten Betrag Δr größer ist als der nächst kleinere Ra­ dius des Streustrahlenrasters oder des jeweiligen Rastersek­ tors, wobei jede nicht im Zentrum beginnende Reihe (3) in ei­ nem Winkelabschnitt liegt, welcher anhand zweier auf dem Ur­ sprungskreis oder -kreisbogen dieser Reihe liegender Punkte definiert ist, die anhand mindestens einer bei einem um den Betrag nΔr kleineren Radius beginnenden Reihe bestimmt wer­ den, und wobei die jeweilige Reihe den Winkelabschnitt in ei­ nem vorbestimmten Verhältnis teilt.
2. Streustrahlenraster nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass lediglich eine im Zent­ rum beginnende Reihe vorgesehen ist.
3. Streustrahlenraster nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass wenigstens zwei im Zentrum (Z) beginnende Reihen (3a) vorgesehen sind, und dass der Ursprung jeder weiteren Reihe (3 n) zwischen zwei näher am Zentrum (Z) beginnende Reihen (3b) gelegt ist, wobei diese Reihen (3b) die Punkte und damit den Winkelabschnitt definie­ ren und den größten Winkelabstand aller Reihenpaare aufwei­ sen.
4. Streustrahlenraster nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass wenigstens zwei im Zentrum (Z) beginnende Reihen (3a) vorgesehen sind, und dass der Ursprung zwischen das Reihenpaar gelegt ist, bei dem die den Winkelabschnitt definierende Summe (S) des Winkelabstands (a) zwischen den Reihen (3b) und eines Zusatzwinkelwerts, der sich durch Wichtung der Winkelabstände (b, c) der Reihen (3b) zu jeweils benachbarten Reihen (3c) mit einem vorbestimmten Faktor (F) ergibt, maximal ist.
5. Streustrahlenraster nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass der vorbestimmte Faktor (F) < 1 ist.
6. Streustrahlenraster nach einem der vorangehenden Ansprü­ che, dadurch gekennzeichnet dass der jeweilige Winkelabschnitt in einem Verhältnis p : q geteilt ist, wobei p ≠ q ist.
7. Streustrahlenraster nach einem der vorangehenden Ansprü­ che, dadurch gekennzeichnet, dass die sternförmige Anordnung der Absorptionselemente aus mehreren gleichgroßen und im wesentlichen identisch aufgebau­ ten Rastersektoren (I, II, III, IV, V, VI) besteht.
8. Streustrahlenraster nach einem der vorangehenden Ansprü­ che, dadurch gekennzeichnet, dass die Absorptionselemente als Bleielemente ausgebildet sind.
9. Verwendung eines Streustrahlenrasters nach einem der An­ sprüche 1 bis 8 in einem medizinischen Röntgengerät.
10. Verfahren zur Herstellung eines Streustrahlenrasters, bei dem Absorptionselemente in Form von radial bezüglich ei­ nes gemeinsamen Zentrums verlaufenden, in einem Ursprung be­ ginnenden Reihen in einen Träger eingebracht werden, wobei bis auf eine oder mehrere im Zentrum beginnende Reihen der Ursprung der einzelnen Reihen des Streustrahlenrasters (1) oder der Rastersektoren des in mehrere im wesentlichen iden­ tisch strukturierte Rastersektoren unterteilbaren Streustrahlenrasters auf jeweils unterschiedliche Radien gelegt wird, wobei jeder Radius vom nächstgrößeren Radius um ein konstan­ tes Radiusinkrement Δr beabstandet ist, und wobei der Ur­ sprung jeder Reihe in einen Winkelabschnitt eines Kreises o­ der eines Kreisbogens um das Zentrum gelegt wird, dessen Ra­ dius zu r0 + nΔr ermittelt wird und dem Radius entspricht, auf dem der Ursprung der jeweiligen Reihe liegt, wobei jeder Winkelabschnitt anhand zweier auf dem Kreis oder dem Kreisbo­ gen liegender Punkte, die anhand wenigstens einer bei einem kleineren Radius beginnenden Reihe, die den Kreis oder den Kreisbogen schneidet, bestimmt werden, definiert und zur Be­ stimmung der Lage des Ursprungs in einem vorbestimmten Ver­ hältnis geteilt wird, wobei r0 ein vorgegebener Startradius, n ∈ No und Δr das Radiusinkrement ist.
11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch ge­ kennzeichnet, dass ausgehend von einer einzi­ gen im Zentrum beginnenden Reihe der Winkel von 360° entspre­ chend dem vorbestimmten Verhältnis geteilt und der Ursprung der zweiten Reihe an den sich hieraus ergebenden Winkelpunkt am Ursprungsradius gelegt wird, wonach zur Ermittlung jedes weiteren Winkelabschnitts der Winkelabstand zwischen zwei be­ nachbart zueinander liegenden Reihen, die den Kreis oder Kreisbogen mit dem Ursprungsradius schneiden und die Punkte bilden, bestimmt wird, wobei der Winkelabschnitt aller Rei­ henpaare ausgewählt wird, der den größten Winkelabstand auf­ weist.
12. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch ge­ kennzeichnet, dass ausgehend von wenigstens zwei im Zentrum beginnenden Reihen zur Ermittlung des Winkel­ abschnitts der Winkelabstand zwischen zwei benachbart zuein­ ander liegenden Reihen, die den Kreis oder Kreisbogen mit dem Ursprungsradius schneiden und die Punkte bilden, bestimmt wird, wobei der Winkelabschnitt aller Reihenpaare ausgewählt wird, der den größten Winkelabstand aufweist.
13. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch ge­ kennzeichnet, dass zur Ermittlung des Winkel­ abschnitts die Summe des Winkelabstands zwischen zwei benach­ bart zueinander liegenden Reihen, die den Kreis oder Kreisbo­ gen mit dem Ursprungsradius schneiden und die Punkte bilden, und eines Zusatzwinkelwerts, der sich durch Wichtung der Win­ kelabstände der Reihen zu jeweils benachbarten Reihen mit ei­ nem vorbestimmten Faktor ergibt, ermittelt wird, wobei der Winkelabschnitt mit der größten Summe aller Reihenpaare ge­ wählt wird.
14. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch ge­ kennzeichnet, dass der vorbestimmte Faktor < 1 ist.
15. Verfahren nach einem der Ansprüche 10 bis 14, da­ durch gekennzeichnet, dass der je­ weilige Winkelabschnitt in einem Verhältnis p : q geteilt wird, wobei p ≠ q ist.
16. Verfahren nach einem der Ansprüche 10 bis 15, da­ durch gekennzeichnet, dass die Lage einer Reihe jeweils nur in einem Rastersektor des aus mehre­ ren gleich großen Rastersektoren bestehenden Streustrahlen­ rasters ermittelt und die jeweilige Reihe in den anderen Ras­ tersektoren entsprechend abgebildet wird.
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JP2000127272A JP2000352599A (ja) 1999-05-03 2000-04-27 散乱放射防止スクリーンおよび散乱放射防止スクリーンの吸収要素の位置決定方法
KR1020000023666A KR20010029682A (ko) 1999-05-03 2000-05-03 특히 의학용 뢴트겐 장치를 위한 분산 광선 그리드 및분산 광선 그리드의 흡수 요소의 위치를 결정하기 위한 방법
US09/564,463 US6324259B1 (en) 1999-05-03 2000-05-03 Scattered-ray grid, particularly for a medical X-ray device, and a method of determining the position of the absorption elements of a scattered-ray grid

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DE (1) DE19920301C2 (de)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7415098B2 (en) 2003-11-21 2008-08-19 Siemens Aktiengesellschaft Collimator for stray radiation, in particular for medical x-ray devices and method for producing said collimator
DE102017109478A1 (de) * 2017-05-03 2018-11-08 Yxlon International Gmbh Streustrahlfilter für eine Röntgenprüfanlage, Röntgenprüfanlage und Betrieb einer Röntgenprüfanlage

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002098624A1 (en) * 2001-06-05 2002-12-12 Mikro Systems Inc. Methods for manufacturing three-dimensional devices and devices created thereby
DE10322531B4 (de) * 2003-05-19 2010-09-16 Siemens Ag Streustrahlenraster oder Kollimator
US20050096886A1 (en) * 2003-10-31 2005-05-05 Smiley Karen J. Method for generating and using a transformer model
US7107186B2 (en) * 2003-10-31 2006-09-12 Abb Research Ltd. Transformer testing
US20050096772A1 (en) * 2003-10-31 2005-05-05 Cox David N. Transformer performance prediction
US20050096774A1 (en) * 2003-10-31 2005-05-05 Bayoumi Deia S. System and method for integrating transactional and real-time manufacturing data
US20050096769A1 (en) * 2003-10-31 2005-05-05 Bayoumi Deia S. Industrial information technology (IT) workflow optimizer for discrete manufacturing
US20050096957A1 (en) * 2003-10-31 2005-05-05 Bayoumi Deia S. System and method for manufacturing job rescheduling
US7376664B2 (en) * 2003-10-31 2008-05-20 Abb Research Ltd. Method for evaluating a transformer design
US20050097119A1 (en) * 2003-10-31 2005-05-05 Bayoumi Deia S. Industrial information technology (IT) paperless operator workstation
DE10354808A1 (de) * 2003-11-21 2005-06-30 Siemens Ag Verfahren zur Abschattung von Streustrahlung vor einem Detektorarray
EP2362822A2 (de) 2008-09-26 2011-09-07 Mikro Systems Inc. Systeme, vorrichtungen und/oder verfahren zur herstellung von gussteilen
US8813824B2 (en) 2011-12-06 2014-08-26 Mikro Systems, Inc. Systems, devices, and/or methods for producing holes

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19726846C1 (de) * 1997-06-24 1999-01-07 Siemens Ag Streustrahlenraster
DE19729596A1 (de) * 1997-07-10 1999-01-14 Siemens Ag Streustrahlenraster

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1381521A (en) * 1921-06-14 Cell-diaphragsi fob x-ray apparatus
US1891332A (en) * 1926-04-30 1932-12-20 Mannl Rudolf Rontgen diaphragm
NL8800679A (nl) * 1988-03-18 1989-10-16 Philips Nv Roentgenonderzoekapparaat met een strooistralenrooster met antivignetterende werking.
US6018566A (en) * 1997-10-24 2000-01-25 Trw Inc. Grid formed with silicon substrate

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19726846C1 (de) * 1997-06-24 1999-01-07 Siemens Ag Streustrahlenraster
DE19729596A1 (de) * 1997-07-10 1999-01-14 Siemens Ag Streustrahlenraster

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7415098B2 (en) 2003-11-21 2008-08-19 Siemens Aktiengesellschaft Collimator for stray radiation, in particular for medical x-ray devices and method for producing said collimator
DE102017109478A1 (de) * 2017-05-03 2018-11-08 Yxlon International Gmbh Streustrahlfilter für eine Röntgenprüfanlage, Röntgenprüfanlage und Betrieb einer Röntgenprüfanlage

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Publication number Publication date
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