DE19920301C2 - Streustrahlenraster, insbesondere für eine medizinische Röntgeneinrichtung, sowie Verfahren zu dessen Herstellung - Google Patents
Streustrahlenraster, insbesondere für eine medizinische Röntgeneinrichtung, sowie Verfahren zu dessen HerstellungInfo
- Publication number
- DE19920301C2 DE19920301C2 DE19920301A DE19920301A DE19920301C2 DE 19920301 C2 DE19920301 C2 DE 19920301C2 DE 19920301 A DE19920301 A DE 19920301A DE 19920301 A DE19920301 A DE 19920301A DE 19920301 C2 DE19920301 C2 DE 19920301C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- rows
- row
- radius
- origin
- angular
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title claims description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 6
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 9
- 241000446313 Lamella Species 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012876 carrier material Substances 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000012804 iterative process Methods 0.000 description 1
- 230000036651 mood Effects 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
- A61B6/00—Apparatus or devices for radiation diagnosis; Apparatus or devices for radiation diagnosis combined with radiation therapy equipment
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B42/00—Obtaining records using waves other than optical waves; Visualisation of such records by using optical means
- G03B42/02—Obtaining records using waves other than optical waves; Visualisation of such records by using optical means using X-rays
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
- A61B6/00—Apparatus or devices for radiation diagnosis; Apparatus or devices for radiation diagnosis combined with radiation therapy equipment
- A61B6/02—Arrangements for diagnosis sequentially in different planes; Stereoscopic radiation diagnosis
- A61B6/027—Arrangements for diagnosis sequentially in different planes; Stereoscopic radiation diagnosis characterised by the use of a particular data acquisition trajectory, e.g. helical or spiral
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
- G21K1/02—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators
- G21K1/025—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators using multiple collimators, e.g. Bucky screens; other devices for eliminating undesired or dispersed radiation
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
- A61B6/00—Apparatus or devices for radiation diagnosis; Apparatus or devices for radiation diagnosis combined with radiation therapy equipment
- A61B6/10—Safety means specially adapted therefor
- A61B6/107—Protection against radiation, e.g. shielding
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Medical Informatics (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- Pathology (AREA)
- Surgery (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Radiology & Medical Imaging (AREA)
- Biomedical Technology (AREA)
- Heart & Thoracic Surgery (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Biophysics (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Public Health (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft ein Streustrahlenraster, insbesondere
für eine medizinische Röntgeneinrichtung, bestehend aus einem
Träger mit Absorptionselementen, beispielsweise in Form von
Bleielementen, die in zueinander beabstandeten Reihen ange
ordnet sind, sowie ein Herstellungsverfahren für ein derarti
ges Streustrahlenraster.
In der Röntgentechnik, insbesondere der medizinischen Dia
gnostik, werden häufig Streustrahlenraster eingesetzt, um die
stets gegebene Streustrahlung gegenüber der Nutzstrahlung zu
schwächen. Die heute meist eingesetzten Raster bestehen aus
einer Abfolge von linienartigen Absorptionselementen in Form
von Bleilamellen, die im Wechsel mit Lamellen aus einem Trä
germaterial beschichtet sind. Röntgenstrahlung, die in der
Ebene der Lamellen einfällt, wird nur durch das Trägermateri
al geringfügig geschwächt. Schräg einfallende Strahlung wird
dagegen stark von den Bleilamellen absorbiert. Da derartige
Bleilamellen unvermeidliche Linien auf dem Röntgenbild erzeu
gen und darüber hinaus die Linienzahl pro Zentimeter aus fer
tigungstechnischen Gründen begrenzt ist, wurde bereits der
Vorschlag gemacht, anstelle der Bleilamellen in einem Träger
material aus Silizium angeordnete beabstandete Stifte aus
Blei oder einem anderen Absorptionsmaterial unter Bildung von
Reihen zu verwenden. Solche Streustrahlenraster sind bei
spielsweise aus der DE 197 26 846 C1 und der DE 197 29 596 A1
bekannt.
Hinsichtlich der Anordnung der Stifte und damit der Reihen
ist in der DE 197 26 846 C1 eine Konfiguration beschrieben,
bei der die Reihen sternförmig zum Zentrum des Rasters ver
laufen. Dabei beginnen sehr viele Reihen beim jeweils glei
chem Radius. Dies führt dazu, dass die Dichte der Absorptionselemente
gesehen in radialer Richtung stark variiert, fer
ner kommt es zu Grautonsprüngen, weiterhin sind die Reihenab
stände gesehen in tangentialer Richtung ebenfalls sehr un
gleichmäßig. Dies wirkt sich nachteilig auf das gesamte Ab
sorptionsverhalten des Rasters und damit auf die Bildqualität
aus.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein Streu
strahlenraster mit einem im Vergleich zu den bisher bekannten
Streustrahlenrastern verbesserten Absorptionsverhalten zu
schaffen und ein Verfahren zur Herstellung eines derartigen
Streustrahlenrasters anzugeben.
Nach der Erfindung wird diese Aufgabe mit den Merkmalen des
Anspruchs 1 bzw. durch ein Herstellungsverfahren für ein
Streustrahlenraster gemäß Anspruch 10 gelöst.
Beim erfindungsgemäßen Streustrahlenraster liegen die Ur
sprünge der Reihen, die alle in Richtung des Rasterzentrums
laufen, so, dass sich eine sternförmige Konfiguration ergibt,
bei jeweils unterschiedlichen Radien bezüglich des Zentrums,
wodurch sich ein wesentlich homogeneres radiales Streustrah
lenraster ergibt. Dabei kann, bezogen auf die gesamte Ras
terfläche, an jedem ausgewählten Radius nur eine einzige Rei
he ihren Ursprung haben. Alternativ dazu kann die Rasterkon
figuration auch sektorartig sein, d. h., die gesamte Raster
fläche setzt sich aus mehreren Winkelsektoren, beispielsweise
aus vier Sektoren à 90°, zusammen, wobei die Reihenkonfiguration
in jedem Sektor im wesentlichen identisch ist, d. h., sie
setzt sich periodisch fort. In diesem Fall würden also an je
dem ausgewählten Radius mehrere Reihen ihren Ursprung haben,
wobei jedoch in jedem Sektor nur eine einzige Reihe am jewei
ligen Radius ihren Ursprung besitzt. Die Lage des Ursprungs
bestimmt sich anhand eines Winkelabschnitts, welcher anhand
bestimmter am Ursprungsradius befindlicher Punkte ermittelt
wird. Dieser Winkelabschnitt, auf den nachfolgend noch näher
eingegangen wird, wird in einem vorbestimmten Verhältnis ge
teilt, wobei dieses Verhältnis p : q bevorzugterweise mit p ≠ q
gewählt ist.
Wie beschrieben kann ein erfindungsgemäßes Streustrahlenras
ter hinsichtlich der Reihenanordnung derart konfiguriert
sein, dass an jedem Kreis mit einem betrachteten Ursprungsra
dius, also an jedem Radius, an dem der Ursprung einer Reihe
liegen soll, nur eine einzige Reihe ihren Ursprung hat. In
diesem Fall geht man von einer einzigen im Zentrum beginnen
den ersten Reihe aus, die die Iterationsbasis darstellt. An
hand dieser Reihe wird dann der erste Winkelabschnitt, der im
Verhältnis p : q zu teilen ist, bestimmt. Die beiden Punkte
werden in diesem Fall von der ersten Reihe selbst definiert,
der Winkelabschnitt beträgt in diesem Fall volle 360°. Zur
Bestimmung der Lage des Ursprungs wird nun dieser Winkelab
schnitt gemäß dem vorbestimmten Verhältnis geteilt, so dass
die Winkellage des Ursprungs der zweiten Reihe am betrachte
ten Ursprungsradius festgelegt wird. Die Lage der dritten und
jeder weiteren Reihe wird dann anhand des jeweils größten
Winkelabschnitts, der zwischen zwei den nun betrachteten
Kreis oder Kreisbogen schneidenden Reihen gegeben ist, be
stimmt, wobei in diesem Fall der Ursprung stets in den größ
ten Winkelabschnitt, der auch hier entsprechend geteilt wird,
gelegt wird.
Alternativ hierzu kann bei einer sektorartigen Reihenkonfigu
ration vorgesehen sein, dass wenigstens zwei im Zentrum be
ginnende Reihen, mittels welcher das Raster in die Sektoren
unterteilt wird, vorgesehen sind, und dass der Ursprung jeder
weiteren Reihe zwischen zwei näher am Zentrum beginnende Rei
hen gelegt ist, wobei diese Reihen die Punkte und damit den
Winkelabschnitt definieren und den größtmöglichen Winkelab
stand aller Reihenpaare aufweisen. Der Ursprung einer Reihe
liegt also bei dieser Erfindungsalternative stets zwischen
demjenigen näher am Zentrum beginnenden Reihenpaar, welches
am weitesten voneinander beabstandet ist.
Um die sich bei dem Bestimmungskriterium des zu teilenden
Winkelabschnitts anhand des unmittelbaren Winkelabstands der
jeweiligen Reihenpaare ergebenden, wenngleich geringen spi
ralförmigen Dichteschwankungen noch weiter vermeiden zu kön
nen kann gemäß einer vorteilhaften Weiterbildung des Erfin
dungsgedankens vorgesehen sein, dass wenigstens zwei im Zen
trum beginnende Reihen vorgesehen sind, und dass der Ursprung
zwischen dasjenige Reihenpaar gelegt ist, bei dem die den
Winkelabschnitt zugeordnete Summe des Winkelabstands zwischen
den Reihen und eines Zusatzwinkelwerts, der sich durch Wich
tung der Winkelabstände der Reihen zu jeweils benachbarten
Reihen mit einem vorbestimmten Faktor ergibt, maximal ist.
Gemäß dieser Erfindungsausgestaltung bestimmt sich also der
im Verhältnis p : q zu teilende Winkelabschnitt nicht nur an
hand des konkreten Winkelabstands des jeweiligen Reihenpaa
res, sondern anhand der Summe aus dem Winkelabstand des Rei
henpaares und eines Zusatzwinkelwertes. Dieser wird durch
Wichtung der Winkelabstände der beiden Reihen des betrachte
ten Reihenpaares zu den jeweils daneben liegenden Reihen be
stimmt. Beispielsweise kann hier die Summe dieser beiden Win
kelabstände mit dem vorbestimmten Faktor, welcher erfindungs
gemäß < 1 sein kann, multipliziert und dieser Wert dann mit
dem Winkelabstand der beiden betrachteten Reihen addiert wer
den. Dieser gewichtete Winkelabschnitt wird dann entsprechend
dem vorbestimmten Verhältnis geteilt. Hierdurch ergibt sich
eine noch homogenere Reihenverteilung.
Nach einer Ausführungsform der Erfindung sind die Absorpti
onselemente des Streustrahlenrasters als Bleielemente ausge
bildet.
Nach einer Variante der Erfindung ist die Verwendung des
Streustrahlenrasters in einem medizinischen Röntgengerät vor
gesehen.
Ausgehend von einem einzigen im Zentrum beginnenden Strahl
kann bei dem Herstellungsverfahren für das Streustrahlenras
ter der Winkelabschnitt iterativ bestimmt werden, wobei in
diesem Fall der Winkelabschnitt 360° beträgt und von der ers
ten Reihe als Start- und Endpunkt bestimmt ist. Nach Teilung
dieses Winkelabschnitts wird der Ursprung der zweiten Reihe
an den sich hieraus ergebenden Winkelpunkt gelegt. Zur Be
stimmung des Ursprungs der dritten Reihe wird nun zwischen
den bereits vorhandenen Reihen dasjenige Reihenpaar gesucht,
zwischen welchem der größte Winkelabschnitt - gleich wie die
ser auch ermittelt wird - gesucht und entsprechend geteilt.
Das iterative Verfahren wird solange fortgesetzt, bis ein ma
ximaler Radius erreicht ist.
Alternativ hierzu ist erfindungsgemäß vorgesehen, dass ausge
hend von wenigstens zwei im Zentrum beginnenden Reihen zur
Ermittlung des Winkelabschnitts der Winkelabstand zwischen
zwei benachbart zueinander liegenden Reihen, die den Kreis
oder Kreisbogen mit dem Ursprungsradius schneiden und die
Punkte bilden, bestimmt wird, wobei der Winkelabschnitt aller
Reihenpaare ausgewählt wird, der den größten Winkelabstand
aufweist. Bei dieser Alternative wird also der Winkelab
schnitt unmittelbar vom Winkelabstand bestimmt. Zur Verbesse
rung der Homogenität der Reihendichte kann erfindungsgemäß
vorgesehen sein, dass zur Ermittlung des Winkelabschnitts die
Summe des Winkelabstands zwischen zwei benachbart zueinander
liegenden Reihen, die den Ursprungsradius schneiden und die
Punkte bilden, und eines Zusatzwinkelwerts, der sich durch
Wichtung der Winkelabstände der Reihen zur jeweils benachbar
ten Reihe mit einem vorbestimmten Faktor ergibt, ermittelt
wird, wobei der Winkelabschnitt mit der größten Summe aller
Reihenpaare gewählt wird. Der vorbestimmte Faktor kann < 1
sein, das Verhältnis p : q, in welchem der jeweilige Winkelab
schnitt geteilt wird, ist vorzugsweise ≠ 1.
Wenngleich wie beschrieben die Reihenkonfiguration und die
Lage der Reihen iterativ ausgehend von einer einzigen im
Zentrum beginnenden Reihe für das gesamte Streustrahlenraster
bestimmt werden kann, hat es sich als zweckmäßig erwiesen,
wenn die Lage der einer Reihe jeweils nur in einem Rastersek
tor des aus mehreren gleich großen Rastersektoren bestehenden
Streustrahlenrasters ermittelt um die jeweilige Reihe in den
anderen Rastersektoren entsprechend abgebildet wird. Die Ras
tersektoren werden durch die durch das Zentrum laufenden Rei
hen definiert.
Die Erfindung wird nun anhand der im Folgenden beschriebenen
Ausführungsbeispiele sowie der Zeichnungen näher erläutert.
Dabei zeigen:
Fig. 1 eine Prinzipansicht eines erfindungsgemäßen Streu
strahlenrasters mit einer aus mehreren im Wesentli
chen identisch aufgebauten Rastersektoren bestehen
den Reihenanordnung,
Fig. 2 ein vergrößerter Ausschnitt des Rastersektors I aus
Fig. 1 zur Darstellung der Ermittlung der Lage ei
nes Reihenursprungs nach einem ersten Verfahren,
und
Fig. 3 ein vergrößerter Ausschnitt des Rastersektors I aus
Fig. 1 zur Darstellung der Ermittlung der Lage ei
nes Reihenursprungs nach einem zweiten Verfahren.
Fig. 1 zeigt in Form einer Prinzipskizze eine Aufsicht auf
ein erfindungsgemäßes Streustrahlenraster 1. Dieses besteht
aus einem Träger 2 aus Silizium sowie mehreren Reihen 3 aus
stiftförmigen Absorptionselementen 4 aus Blei, die in den
Träger 2 geätzte Löcher eingebracht sind. Die Absorptionsele
mente 4 sind nur teilweise dargestellt, jede Reihe 3 besteht
aus einer Vielzahl solcher Elemente. Der Ätzvorgang erfolgt
mittels einer Ätzmaske, die z. B. mittels eines Phototechnik-
Schnitts hergestellt werden kann, womit auf einfache Weise
die Konfiguration der Reihenanordnung festgelegt werden kann.
Ersichtlich kann das Streustrahlenraster 1 hinsichtlich der
Reihenkonfiguration in sechs einzelne Rastersektoren I-VI
unterteilt werden, wobei die Konfiguration in allen sechs
Rastersektoren die gleiche ist. Der Übersichtlichkeit halber
ist die Reihenanordnung lediglich im Sektor I angedeutet. Wie
Fig. 1 zu entnehmen ist beginnen die Reihen 3 abgesehen von
den jeweils durch das Zentrum Z laufenden und die Sektoren
begrenzenden Reihen 3a bei jeweils unterschiedlichen Radien
und sind zum Zentrum Z hin gerichtet.
Fig. 2 zeigt einen Ausschnitt aus Fig. 1. Anhand dieser Figur
ist ersichtlich, wie die Bestimmung der Lage des Ursprungs
einer jeden Reihe bestimmt werden kann. Jede Reihe zeigt ra
dial nach außen und hat ihren Ursprung im Abstand r0 + nΔr
vom Zentrum Z . Δr als radiales Inkrement bestimmt damit die
Dichte der Reihen, der Startradius r0 optimiert die Dichte
der Reihen im Zentrum. n ist jeweils eine ganze Zahl mit
n ∈ No. In Fig. 2 ist exemplarisch ein zu betrachtender Abstand
r0 + nΔr eingezeichnet. In diesem Abstand soll nun der Ort
ausgewählt werden, an den der Ursprung der Reihe 3 n zu legen
ist. Zu diesem Zweck wird der größte Winkelabstand zwischen
allen schon vorhandenen, einander benachbarten Reihen ge
sucht, die den Kreis oder Kreisbogen mit dem Ursprungsradius,
also dem eingezeichneten Abstand r0 + nΔr schneiden. Im ge
zeigten Beispiel sind die beiden Reihen 3b um den größten
Winkel a voneinander beabstandet. Dieser Winkelabstand be
stimmt nun den Winkelabschnitt, welcher in einem vorbestimm
ten Verhältnis p : q zu teilen ist, woraus sich die genaue Lage
des Ursprungs U der neuen Reihe 3 n zwischen den beiden Reihen
3b ergibt. p und q können für rationale oder irrationale Zah
len stehen. Die beste Verteilung ergibt sich für p ≠ q. Auf
die beschriebene Weise wird iterativ ausgehend von den beiden
im Zentrum beginnenden Reihen 3a die Lage einer jeden neuen
Reihe bestimmt.
Die beschriebene Iterationsbedingung erzeugt ein sehr homoge
nes radiales Reihenmuster. Dieses kann jedoch, wenngleich
beinahe vernachlässigbare, spiralförmige Dichteschwankungen
aufweisen. Um diese noch weitgehend vermeiden zu können ist
ein anderes Iterationsverfahren vorgesehen, welches in Fig. 3
näher erläutert ist. Zur Lagebestimmung der neuen Reihe 3 n
wird, wie bezüglich Fig. 2 beschrieben, auch hier zu jedem
Reihenpaar, welches den Kreis oder Kreisbogen mit dem Ur
sprungsradius r0 + nΔr schneidet, der unmittelbare Winkelab
stand ermittelt. Anschließend werden die Winkelabstände der
betrachteten beiden Reihen zu den jeweils benachbarten Reihen
bestimmt. Im gezeigten Beispiel sind dies die Winkelabstände
b und c zwischen den Reihen 3b und 3c. Anhand der Winkelab
stände a, b, c wird nun die Summe S = a + F (b + c) gebildet,
innerhalb welcher die Summe der beiden Winkelabstände b und c
mit einem vorbestimmten Faktor F, welcher < 1 ist, gewichtet
wird. Aus den zu jedem Reihenpaar am betrachteten Radius be
stimmten Summenwerten wird nun die größte Summe S ausgewählt,
wobei diese dem Winkelabschnitt zugeordnete Summe S im ange
gebenen Verhältnis p : q geteilt wird.
Die Breite einer Reihe ist abhängig vom Durchmesser der
stiftförmigen Absorptionselemente 4 und liegt im Bereich we
niger µm, der Startradius r0 beträgt beispielsweise 30 µm,
der einzelne Radiusschritt Δr beträgt beispielsweise 100 µm,
ferner gilt n ∈ No. Die beschriebenen Iterationsalgorithmen er
möglichen auf einfache Weise die Bestimmung der Lage der Rei
hen, so dass sehr homogene Streustrahlenraster erzeugt werden
können.
Claims (16)
1. Streustrahlenraster, das ggf. mehrere, im wesentlichen
identisch strukturierte Rastersektoren (I, II, III, IV, V,
VI) aufweist, bestehend aus einem Träger mit Absorptionsele
menten, welche in zueinander beabstandeten Reihen (3) ange
ordnet sind, die bezüglich eines Zentrums (Z) im wesentlichen
radial verlaufen und bis auf mindestens eine, im Zentrum be
ginnende Reihe ihren Ursprung auf Kreisen oder Kreisbögen mit
unterschiedlichen Radien haben, wobei jeder Radius um einen
konstanten Betrag Δr größer ist als der nächst kleinere Ra
dius des Streustrahlenrasters oder des jeweiligen Rastersek
tors, wobei jede nicht im Zentrum beginnende Reihe (3) in ei
nem Winkelabschnitt liegt, welcher anhand zweier auf dem Ur
sprungskreis oder -kreisbogen dieser Reihe liegender Punkte
definiert ist, die anhand mindestens einer bei einem um den
Betrag nΔr kleineren Radius beginnenden Reihe bestimmt wer
den, und wobei die jeweilige Reihe den Winkelabschnitt in ei
nem vorbestimmten Verhältnis teilt.
2. Streustrahlenraster nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, dass lediglich eine im Zent
rum beginnende Reihe vorgesehen ist.
3. Streustrahlenraster nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, dass wenigstens zwei im
Zentrum (Z) beginnende Reihen (3a) vorgesehen sind, und dass
der Ursprung jeder weiteren Reihe (3 n) zwischen zwei näher am
Zentrum (Z) beginnende Reihen (3b) gelegt ist, wobei diese
Reihen (3b) die Punkte und damit den Winkelabschnitt definie
ren und den größten Winkelabstand aller Reihenpaare aufwei
sen.
4. Streustrahlenraster nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, dass wenigstens zwei im
Zentrum (Z) beginnende Reihen (3a) vorgesehen sind, und dass
der Ursprung zwischen das Reihenpaar gelegt ist, bei dem die
den Winkelabschnitt definierende Summe (S) des Winkelabstands
(a) zwischen den Reihen (3b) und eines Zusatzwinkelwerts, der
sich durch Wichtung der Winkelabstände (b, c) der Reihen (3b)
zu jeweils benachbarten Reihen (3c) mit einem vorbestimmten
Faktor (F) ergibt, maximal ist.
5. Streustrahlenraster nach Anspruch 4, dadurch
gekennzeichnet, dass der vorbestimmte Faktor
(F) < 1 ist.
6. Streustrahlenraster nach einem der vorangehenden Ansprü
che, dadurch gekennzeichnet
dass der jeweilige Winkelabschnitt in einem Verhältnis p : q
geteilt ist, wobei p ≠ q ist.
7. Streustrahlenraster nach einem der vorangehenden Ansprü
che, dadurch gekennzeichnet,
dass die sternförmige Anordnung der Absorptionselemente aus
mehreren gleichgroßen und im wesentlichen identisch aufgebau
ten Rastersektoren (I, II, III, IV, V, VI) besteht.
8. Streustrahlenraster nach einem der vorangehenden Ansprü
che, dadurch gekennzeichnet,
dass die Absorptionselemente als Bleielemente ausgebildet
sind.
9. Verwendung eines Streustrahlenrasters nach einem der An
sprüche 1 bis 8 in einem medizinischen Röntgengerät.
10. Verfahren zur Herstellung eines Streustrahlenrasters,
bei dem Absorptionselemente in Form von radial bezüglich ei
nes gemeinsamen Zentrums verlaufenden, in einem Ursprung be
ginnenden Reihen in einen Träger eingebracht werden, wobei
bis auf eine oder mehrere im Zentrum beginnende Reihen der
Ursprung der einzelnen Reihen des Streustrahlenrasters (1)
oder der Rastersektoren des in mehrere im wesentlichen iden
tisch strukturierte Rastersektoren unterteilbaren Streustrahlenrasters
auf jeweils unterschiedliche Radien gelegt wird,
wobei jeder Radius vom nächstgrößeren Radius um ein konstan
tes Radiusinkrement Δr beabstandet ist, und wobei der Ur
sprung jeder Reihe in einen Winkelabschnitt eines Kreises o
der eines Kreisbogens um das Zentrum gelegt wird, dessen Ra
dius zu r0 + nΔr ermittelt wird und dem Radius entspricht,
auf dem der Ursprung der jeweiligen Reihe liegt, wobei jeder
Winkelabschnitt anhand zweier auf dem Kreis oder dem Kreisbo
gen liegender Punkte, die anhand wenigstens einer bei einem
kleineren Radius beginnenden Reihe, die den Kreis oder den
Kreisbogen schneidet, bestimmt werden, definiert und zur Be
stimmung der Lage des Ursprungs in einem vorbestimmten Ver
hältnis geteilt wird, wobei r0 ein vorgegebener Startradius,
n ∈ No und Δr das Radiusinkrement ist.
11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch ge
kennzeichnet, dass ausgehend von einer einzi
gen im Zentrum beginnenden Reihe der Winkel von 360° entspre
chend dem vorbestimmten Verhältnis geteilt und der Ursprung
der zweiten Reihe an den sich hieraus ergebenden Winkelpunkt
am Ursprungsradius gelegt wird, wonach zur Ermittlung jedes
weiteren Winkelabschnitts der Winkelabstand zwischen zwei be
nachbart zueinander liegenden Reihen, die den Kreis oder
Kreisbogen mit dem Ursprungsradius schneiden und die Punkte
bilden, bestimmt wird, wobei der Winkelabschnitt aller Rei
henpaare ausgewählt wird, der den größten Winkelabstand auf
weist.
12. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch ge
kennzeichnet, dass ausgehend von wenigstens
zwei im Zentrum beginnenden Reihen zur Ermittlung des Winkel
abschnitts der Winkelabstand zwischen zwei benachbart zuein
ander liegenden Reihen, die den Kreis oder Kreisbogen mit dem
Ursprungsradius schneiden und die Punkte bilden, bestimmt
wird, wobei der Winkelabschnitt aller Reihenpaare ausgewählt
wird, der den größten Winkelabstand aufweist.
13. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch ge
kennzeichnet, dass zur Ermittlung des Winkel
abschnitts die Summe des Winkelabstands zwischen zwei benach
bart zueinander liegenden Reihen, die den Kreis oder Kreisbo
gen mit dem Ursprungsradius schneiden und die Punkte bilden,
und eines Zusatzwinkelwerts, der sich durch Wichtung der Win
kelabstände der Reihen zu jeweils benachbarten Reihen mit ei
nem vorbestimmten Faktor ergibt, ermittelt wird, wobei der
Winkelabschnitt mit der größten Summe aller Reihenpaare ge
wählt wird.
14. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch ge
kennzeichnet, dass der vorbestimmte Faktor < 1
ist.
15. Verfahren nach einem der Ansprüche 10 bis 14, da
durch gekennzeichnet, dass der je
weilige Winkelabschnitt in einem Verhältnis p : q geteilt wird,
wobei p ≠ q ist.
16. Verfahren nach einem der Ansprüche 10 bis 15, da
durch gekennzeichnet, dass die Lage
einer Reihe jeweils nur in einem Rastersektor des aus mehre
ren gleich großen Rastersektoren bestehenden Streustrahlen
rasters ermittelt und die jeweilige Reihe in den anderen Ras
tersektoren entsprechend abgebildet wird.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19920301A DE19920301C2 (de) | 1999-05-03 | 1999-05-03 | Streustrahlenraster, insbesondere für eine medizinische Röntgeneinrichtung, sowie Verfahren zu dessen Herstellung |
JP2000127272A JP2000352599A (ja) | 1999-05-03 | 2000-04-27 | 散乱放射防止スクリーンおよび散乱放射防止スクリーンの吸収要素の位置決定方法 |
KR1020000023666A KR20010029682A (ko) | 1999-05-03 | 2000-05-03 | 특히 의학용 뢴트겐 장치를 위한 분산 광선 그리드 및분산 광선 그리드의 흡수 요소의 위치를 결정하기 위한 방법 |
US09/564,463 US6324259B1 (en) | 1999-05-03 | 2000-05-03 | Scattered-ray grid, particularly for a medical X-ray device, and a method of determining the position of the absorption elements of a scattered-ray grid |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19920301A DE19920301C2 (de) | 1999-05-03 | 1999-05-03 | Streustrahlenraster, insbesondere für eine medizinische Röntgeneinrichtung, sowie Verfahren zu dessen Herstellung |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19920301A1 DE19920301A1 (de) | 2000-11-30 |
DE19920301C2 true DE19920301C2 (de) | 2001-08-16 |
Family
ID=7906815
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19920301A Expired - Fee Related DE19920301C2 (de) | 1999-05-03 | 1999-05-03 | Streustrahlenraster, insbesondere für eine medizinische Röntgeneinrichtung, sowie Verfahren zu dessen Herstellung |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6324259B1 (de) |
JP (1) | JP2000352599A (de) |
KR (1) | KR20010029682A (de) |
DE (1) | DE19920301C2 (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7415098B2 (en) | 2003-11-21 | 2008-08-19 | Siemens Aktiengesellschaft | Collimator for stray radiation, in particular for medical x-ray devices and method for producing said collimator |
DE102017109478A1 (de) * | 2017-05-03 | 2018-11-08 | Yxlon International Gmbh | Streustrahlfilter für eine Röntgenprüfanlage, Röntgenprüfanlage und Betrieb einer Röntgenprüfanlage |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002098624A1 (en) * | 2001-06-05 | 2002-12-12 | Mikro Systems Inc. | Methods for manufacturing three-dimensional devices and devices created thereby |
DE10322531B4 (de) * | 2003-05-19 | 2010-09-16 | Siemens Ag | Streustrahlenraster oder Kollimator |
US20050096886A1 (en) * | 2003-10-31 | 2005-05-05 | Smiley Karen J. | Method for generating and using a transformer model |
US7107186B2 (en) * | 2003-10-31 | 2006-09-12 | Abb Research Ltd. | Transformer testing |
US20050096772A1 (en) * | 2003-10-31 | 2005-05-05 | Cox David N. | Transformer performance prediction |
US20050096774A1 (en) * | 2003-10-31 | 2005-05-05 | Bayoumi Deia S. | System and method for integrating transactional and real-time manufacturing data |
US20050096769A1 (en) * | 2003-10-31 | 2005-05-05 | Bayoumi Deia S. | Industrial information technology (IT) workflow optimizer for discrete manufacturing |
US20050096957A1 (en) * | 2003-10-31 | 2005-05-05 | Bayoumi Deia S. | System and method for manufacturing job rescheduling |
US7376664B2 (en) * | 2003-10-31 | 2008-05-20 | Abb Research Ltd. | Method for evaluating a transformer design |
US20050097119A1 (en) * | 2003-10-31 | 2005-05-05 | Bayoumi Deia S. | Industrial information technology (IT) paperless operator workstation |
DE10354808A1 (de) * | 2003-11-21 | 2005-06-30 | Siemens Ag | Verfahren zur Abschattung von Streustrahlung vor einem Detektorarray |
EP2362822A2 (de) | 2008-09-26 | 2011-09-07 | Mikro Systems Inc. | Systeme, vorrichtungen und/oder verfahren zur herstellung von gussteilen |
US8813824B2 (en) | 2011-12-06 | 2014-08-26 | Mikro Systems, Inc. | Systems, devices, and/or methods for producing holes |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19726846C1 (de) * | 1997-06-24 | 1999-01-07 | Siemens Ag | Streustrahlenraster |
DE19729596A1 (de) * | 1997-07-10 | 1999-01-14 | Siemens Ag | Streustrahlenraster |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US1381521A (en) * | 1921-06-14 | Cell-diaphragsi fob x-ray apparatus | ||
US1891332A (en) * | 1926-04-30 | 1932-12-20 | Mannl Rudolf | Rontgen diaphragm |
NL8800679A (nl) * | 1988-03-18 | 1989-10-16 | Philips Nv | Roentgenonderzoekapparaat met een strooistralenrooster met antivignetterende werking. |
US6018566A (en) * | 1997-10-24 | 2000-01-25 | Trw Inc. | Grid formed with silicon substrate |
-
1999
- 1999-05-03 DE DE19920301A patent/DE19920301C2/de not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-04-27 JP JP2000127272A patent/JP2000352599A/ja not_active Withdrawn
- 2000-05-03 KR KR1020000023666A patent/KR20010029682A/ko not_active Application Discontinuation
- 2000-05-03 US US09/564,463 patent/US6324259B1/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19726846C1 (de) * | 1997-06-24 | 1999-01-07 | Siemens Ag | Streustrahlenraster |
DE19729596A1 (de) * | 1997-07-10 | 1999-01-14 | Siemens Ag | Streustrahlenraster |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7415098B2 (en) | 2003-11-21 | 2008-08-19 | Siemens Aktiengesellschaft | Collimator for stray radiation, in particular for medical x-ray devices and method for producing said collimator |
DE102017109478A1 (de) * | 2017-05-03 | 2018-11-08 | Yxlon International Gmbh | Streustrahlfilter für eine Röntgenprüfanlage, Röntgenprüfanlage und Betrieb einer Röntgenprüfanlage |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6324259B1 (en) | 2001-11-27 |
DE19920301A1 (de) | 2000-11-30 |
KR20010029682A (ko) | 2001-04-06 |
JP2000352599A (ja) | 2000-12-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE19920301C2 (de) | Streustrahlenraster, insbesondere für eine medizinische Röntgeneinrichtung, sowie Verfahren zu dessen Herstellung | |
DE60212749T2 (de) | Verfahren zur Gestaltung von zyklischen Profilmustern in einer Reifenlauffläche | |
DE60128425T2 (de) | Schneidrad zum Einkerben von spröden Materialien | |
EP1107260B1 (de) | Gitter zur Absorption von Röntgenstrahlen | |
DE19942919A1 (de) | Computertomographie-Abtastsystem sowie Verfahren zur Computertomographie-Abtastung | |
DE212005000042U1 (de) | Medizinisches Implantat, beispielsweise Stent | |
DE112007003696B4 (de) | Gewindefräser | |
EP0287836A1 (de) | Papiermaschinensieb aus einem doppellagigen Gewebe | |
DE102008023350A1 (de) | Teilchenbestrahlungsvorrichtung, Teilchenbestrahlungsverfahren und Teilchenstrahlbehandlungssystem | |
WO2010072280A1 (de) | Wälzfräser | |
DE2727161C2 (de) | Anordnung zur Aufstreuung von Elektronen für Elektronenbeschleuniger mit veränderbarer Beschleunigungsenergie | |
EP4014256B1 (de) | Siebdruckform zur verwendung in einem siebdruckverfahren, siebdruckvorrichtung und siebdruckverfahren | |
DE102013226970A1 (de) | Optisches Element für mehrere LEDs, sowie Anordnung zur Lichtabgabe | |
EP0648343B1 (de) | Lithografisch hergestellte stufenlinse fresnelscher oberflächenstruktur und verfahren zu ihrer herstellung | |
DE2211163C3 (de) | Fahrzeugluftreifen mit einer durchlaufenden Karkasse aus zwei Lagen oder Lagengruppen, deren Fäden unterschiedliche Winkel zur Reifenumfangsrichtung bilden, und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE112013004113T5 (de) | Einrichtung und Verfahren für das Erhöhen von Infrarotabsorption in Mems-Bolometern | |
DE3839945C2 (de) | Phasengesteuerte Gruppenantenne | |
DE19964395B4 (de) | Rechnergestütztes Tomographieverfahren | |
EP2911540B1 (de) | Schutzschirm und damit hergestelltes visier für einen schutzhelm, insbesondere einen forstarbeiterhelm | |
DE102005003685B4 (de) | Antenne mit Reflektor | |
EP1011178B1 (de) | Leistungsverstärker zum Verstärken einer Laserstrahlung, Verfahren zur Herstellung und Verwendung des Leistungsverstärkers | |
EP4234139A1 (de) | Bearbeitungswerkzeug | |
EP1206704B1 (de) | Prüfnadel für einen rasteranpassungsadapter einer vorrichtung zum testen von leiterplatten | |
DE10354811B4 (de) | Streustrahlenraster, insbesondere für medizinische Röngteneinrichtungen, sowie Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE19807759B4 (de) | Verfahren zum Herstellen elektronischer Bauelemente mit gleichmässigen Widerstandswerten |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |