DE19901970A1 - Spektral selektiv reflektierende Bildwand - Google Patents
Spektral selektiv reflektierende BildwandInfo
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Abstract
Die vorliegende Erfindung betrifft eine spektral selektiv reflektierende Bildwand, die mindestens eine cholesterische Polymerschicht aufweist.
Description
Die Erfindung betrifft eine spektral selektiv reflektierende Bildwand für die Dar
stellung statischer oder bewegter Bilder mittels Aufprojektion durch eine
schmalbandige Lichtquelle, zum Beispiel einer oder mehrerer monochro
matischer Lichtquellen.
Für die Darstellung von Bildern auf Bildwänden werden beispielsweise Diapro
jektoren oder Filmprojektoren verwendet. Um projizierte Bilder möglichst unbe
einflußt von Störlicht, wie Tageslicht oder künstlicher Raumbeleuchtung, be
trachten zu können, sollte das Reflexionsvermögen der Bildwand für den ge
samten Wellenlängenbereich des sichtbaren Lichts gering sein, ausgenommen
der Wellenlängen, die der Strahlung der Lichtquelle bzw. der Lichtquellen ent
sprechen.
Der Erfindung liegt die Erkenntnis zugrunde, daß bei einer flächigen Aufprojek
tion von farbigen Bilder mit schmalbandigem, insbesondere monochro
matischem Licht, wie es beispielsweise von Lasern erzeugt werden kann (La
serfernsehen, Folienprojektion mit Laserlichtquellen), Projektions- oder Bild
wände wünschenswert sind, welche ein stark wellenlängenselektives
Reflexionsverhalten zeigen, wobei Aufprojektion im Sinne der Erfindung be
deutet, daß sich der Betrachter auf der gleichen Seite der Leinwand oder Bild
wand befindet wie der Projektor.
Die Reflexion sollte also im Bereich der Wellenlängen, welche der Strahlung der
Lichtquellen entsprechen, beispielsweise der verwendeten Laserlichtquellen,
welche beispielsweise eine rote, grüne und blaue monochromatische Strahlung
(RGB-Strahlung) aussenden, im allgemeinen möglichst hoch sein. Für blaues
Licht liegen die Wellenlängen zwischen etwa 430 nm bis 470 nm mit einer Zen
tralwellenlänge bei ca. 450 nm, für grünes Licht zwischen etwa 510 nm bis 550
nm mit einer Zentralwellenlänge bei etwa 530 nm und für rotes Licht zwischen
etwa 610 nm bis 650 nm mit einer Zentralwellenlänge bei etwa 630 nm.
Darüber hinaus sollte die Reflexion der Bildwand bei diesen Wellenlängen eine
wählbare räumliche Winkelcharakteristik aufweisen, damit kein oder nur wenig
Licht in solche Raumwinkelbereiche remittiert wird, in denen sich kein Betrachter
aufhält, zum Beispiel an die Decke oder an den Boden oder in einen Winkelbe
reich von mehr als +/- 40°, gemessen von der Normalen auf die Bildwand hori
zontal nach links bzw. nach rechts.
In der DE 197 47 597 A1 wird eine Bildwand beschrieben, die spektral selektiv
reflektierend ist, wobei die Bildwand zum Erzeugen der spektralen Selektivität
Pigmente oder eine direkte, selektiv reflektionserhöhende Beschichtung mit zu
mindest zwei Schichten aufweist, wobei die direkte, selektiv reflektionser
höhende Beschichtung ein dielektrisches Schichtsystem ist. Zur Einstellung der
räumlichen Winkelcharakteristik wird allgemein vorgeschlagen, die Oberfläche
der Bildwand mit einer definierten Rauhigkeit oder Oberflächentopographie zu
versehen.
Unabhängig davon besteht jedoch Bedarf nach weiteren, verbesserten Möglich
keiten, spektral selektiv und auch räumlich selektiv reflektierende Bildwände auf
einfache Weise herzustellen, mit denen statische oder bewegte Bilder, auch
farbige Bilder, deutlich und ungestört vom Tages- oder sonstigem Umgebungs
licht bzw. Störlicht mit hohem Kontrast wiedergegeben werden können.
Erfindungsgemäß wird daher eine spektral selektiv reflektierende Bildwand zur
Verfügung gestellt, die mindestens eine cholesterische Polymerschicht aufweist.
Die Erfindung macht sich dabei die Eigenschaft von cholesterischen Polymeren
zunutze, zirkular polarisiertes Licht in einem Wellenlängenband der Breite Δλ
selektiv stark zu reflektieren und vorzugsweise die Reflektivität, im Idealfall auf
bis zu 100%, erhöhen zu können. In dem restlichen Spektralbereich sind die
cholesterischen Polymere dagegen transparent.
Bei cholesterischen Polymeren handelt es sich um eine cholesterische Phase
von Flüssigkristallen, die zum Beispiel durch einen Polymerisationsprozeß,
üblicherweise photoinitiiert, fixiert werden kann.
Die Breite des Wellenlängenbandes Δλ hängt dabei von der Doppelbrechung Δn
des eingesetzten Polymermaterials gemäß folgender Gleichung ab:
Δλ = λ0/n
mit λ0 = Zentralwellenlänge,
n = mittlerer Brechungsindex (Mittelwert aus ordentlichem und außerordent
lichem Brechungsindex der lokal unaxialen Struktur).
Für ein optimales Reflexionsvermögen ist Δλ in einer Größenordnung zu be
messen, bei der einerseits die Gesamtreflexion der Bildwand über das sichtbare
Spektrum klein bleibt, sich andererseits bei Änderung des Betrachterwinkels die
Reflexion für die ausgewählte Wellenlänge praktisch nicht ändert.
Hierbei läßt sich die Größe der Doppelbrechung Δn beziehungsweise des Ver
hältnisses Δn/n durch Verwendung von cholesterischen Polymeren mit den ent
sprechenden Eigenschaften auf einfache Weise frei wählen.
Die mindestens eine cholesterische Polymerschicht wird üblicherweise auf ei
nem geeigneten Substrat als Trägermaterial aufgetragen bzw. abgeschieden.
Das Substrat kann transparent für alle Wellenlängen des sichtbaren Lichtes
oder absorbierend sein. Im Fall eines absorbierenden Substrats kann das Sub
strat dunkel, idealerweise schwarz, eingefärbt sein, oder mit einer lichtabsorbie
renden Beschichtung versehen sein. Vorzugsweise ist das Substrat mit einer
definierten Rauhigkeit oder Oberflächentopographie versehen. Dadurch wird
eine für den Betrachter spiegelnde Reflexion vorteilhaft vermieden und eine
räumlich selektive Reflexion in einem definierten Abstrahlwinkelbereich erreicht.
Zur näheren Erläuterung der Erfindung werden im folgenden Ausführungsbei
spiele anhand der Zeichnungen beschrieben.
Diese zeigen in:
Fig. 1 die räumliche Anordnung der Vorzugsorientierung von Molekülen in
einer cholesterischen flüssigkristallinen Phase, wobei die Anordnung
und Vorzugsrichtung der Ebenen willkürlich ist;
Fig. 2 schematisch den spektralen Verlauf der Reflexion einer erfindungs
gemäßen selektiven Bildwand mit drei zirkular reflektierenden Poly
merschichten;
Fig. 3 schematisch den spektralen Verlauf der Reflexion einer erfindungs
gemäßen selektiven Bildwand mit je drei rechtszirkular und je drei
linkszirkular reflektierenden Polymerschichten;
Fig. 4 schematisch ein Verfahren zum mechanischen Strukturieren einer
Substratoberfläche;
Fig. 5 ein Schema zum Ausheilen kurzwelliger Strukturen auf der Oberfläche
eines Substrats zur Vermeidung unkontrollierbarer Lichtstreuung; und
Fig. 6 Beispiele für Anordnungen für eine auf cholesterischen Polymeren
beruhende spektral und räumlich selektiv reflektierende Bildwand.
Wie vorstehend bereits erwähnt, wird erfindungsgemäß das Problem der spek
tralen Selektivität auf der Basis der Eigenschaften von cholesterischen Polyme
ren gelöst, die als einzelne Schicht die Fähigkeit besitzen, zirkular polarisiertes
Licht einer bestimmten Händigkeit (d. h. entweder rechts- oder linkszirkular) (je
weils 50% des unpolarisierten Licht) in einem bestimmten Wellenlängenband
Δλ zu reflektieren.
Zur Erzielung einer optimalen selektiven Reflexion sollten die cholesterischen
Polymere dabei eine möglichst weitgehende planare Textur aufweisen. Planare
Textur bedeutet, daß unmittelbar an das Substrat angrenzende Polymerseiten
ketten ihre Längsachse weitgehend parallel zur Substratoberfläche ausrichten.
In Fig. 1 ist schematisch die räumliche Anordnung von cholesterischen Mole
külen wiedergegeben, wobei die dem Substrat benachbarte Ebene die Ebene
xy mit z = 0 ist. Die einzelnen Ebenen der cholesterischen Struktur sind schrau
benförmig zu einer Helix angeordnet, wobei der Abstand zwischen zwei iden
tisch ausgerichteten Schichten als Ganghöhe P bezeichnet wird.
Cholesterische Enantiomere haben dieselbe Ganghöhe, aber im entgegenge
setzten Schraubungssinn ausgebildete Helices und reflektieren entgegenge
setzt polarisiertes Licht.
Eine perfekt orientierte cholesterische Helix verhält sich ähnlich wie ein
klassischer Bragg-Reflektor, dessen reflektierte Wellenlänge λ0 als Funktion des
mittleren Brechungsindex n und des Einfallswinkels Θ (gegen die Normale ge
messen) gegeben ist durch
λ0 = nPcos Θ.
Um unpolarisiertes Licht einer Wellenlänge λ0 weitgehend vollständig zu reflek
tieren, sollten daher vorzugsweise zwei enantiomere cholesterische Polymer
schichten kombiniert werden. Dabei kann der Drehsinn der cholesterischen
Moleküle in bekannter Weise durch die Chiralität zugesetzter Additive bestimmt
und verändert werden.
Eine planare Textur, daß heißt eine Ausrichtung der Moleküllängsachsen paral
lel zur Substratoberfläche, kann beispielsweise durch eine entsprechende
Oberflächenbearbeitung des Substrats erzielt werden, zum Beispiel durch ge
richtetes Anschleifen der Substratoberfläche.
Eine cholesterische Flüssigkristallphase, bei der der Richtungsvektor (Direktor)
R = (rx, ry, rz) der Moleküle durch die Gleichungen
rx = cos (Φ)
ry = sin (Φ)
rz = 0,
Φ = q0 z + constant; (Helixachse entlang z)
ry = sin (Φ)
rz = 0,
Φ = q0 z + constant; (Helixachse entlang z)
beschrieben wird, kann beispielsweise aus Cholesterylestern in Form von dün
nen Schichten von rund 100 µm Dicke hergestellt werden. Voraussetzung ist,
daß auf beiden Oberflächen der Schicht tangentiale Randbedingungen (Direktor
in der xy-Ebene) gegeben sind. Diese Konfiguration wird als "planare Textur"
oder "Grandjean-Textur" bezeichnet und läßt sich experimentell beispielsweise
auf zwei Weisen erhalten:
- - Zwischen einer Glas- und einer freien Oberfläche im Abstand d, wenn an der Glasoberfläche (z = 0) der Winkel Φ (0) durch die Richtung der Politur festgelegt wird. An der freien Oberfläche ist Φ (d) frei.
- - Zwischen zwei polierten Glasplatten: Hier sind Φ (0) und Φ (d) festgelegt.
Eine ausführliche Erläuterung der Theorie cholesterischer Flüssigkristalle und
deren Eigenschaften findet sich in P. G. de Gennes und J. Prost "The Physics of
Liquid Crystals" 2. Auflage, Clarendon Press, Oxford (1993), Seiten 1 bis 39 und
263 ff.
Durch photoinitiierte Polymerisation lassen sich alle Typen flüssigkristalliner
Phasen auch als polymere Ketten oder Netzwerke erhalten (S. V. Belayev et al.,
Jap. J. Appl. Phys. 29 (1990) L634 bis L637). Eine Übersicht gibt die Mono
graphie "Liquid Crystal Polymers" von N. A. Platé, Plenum Press, New York und
London, 1993.
Thermisch stabile cholesterische Netzwerke lassen sich beispielsweise ausge
hend von chiralen nematischen Diacrylaten erhalten (J. Lub et al., Liquid
Crystals 18 (1995) Seiten 319 bis 326). Dabei kann die Ganghöhe (engl.: pitch)
des resultierenden Polymers und damit die zentrale Wellenlänge der selektiven
Reflektion für zirkular polarisiertes Licht durch die Menge zugemischter nichtchi
raler Monomere und durch die Polymerisationstemperatur gesteuert werden.
Für die vorliegende erfindungsgemäße Bildwand werden je nach gewünschter
spektraler Selektivität entsprechende cholesterische Moleküle als Polymer
schichten auf ein Substrat aufgebracht. Im einfachsten Fall kann die Bildwand
eine einzige cholesterische Polymerschicht für eine monochromatische Licht
quelle aufweisen. Zur Erzielung einer optimalen Reflektivität sollte jedoch die
Bildwand für jede ausgewählte Wellenlänge die entsprechenden Enatiomeren
mit Selektivität für diese Wellenlänge aufweisen.
In den Fig. 2 und 3 sind bevorzugte Ausführungsformen der erfindungsge
mäßen Bildwand gezeigt. So ist in Fig. 2 schematisch der spektrale Verlauf der
Reflexion einer selektiven Bildwand dargestellt, die aus drei einzelnen, rechts-
oder linkszirkular reflektierenden Schichten aus cholesterischen Polymeren be
steht, die jeweils ein spektral begrenztes Wellenlängenintervall beispielsweise
rot, grün und blau zu etwa 50% reflektieren, mit 1: blau reflektierende Polymer
schicht, 3: grün reflektierende Polymerschicht, 5: rot reflektierende Polymer
schicht und 7: Substrat. Alle anderen Wellenlängen werden transmittiert.
In Fig. 3 ist schematisch der spektrale Verlauf der Reflexion einer erfindungs
gemäßen selektiven Bildwand dargestellt, die aus sechs Einzelschichten aus
cholesterischen Polymeren besteht. Dabei reflektieren die Schichten 1 und 2
das blaue Licht, sind jedoch enantiomer, so daß das blaue Licht zu fast 100%
reflektiert wird. Entsprechend reflektieren die Schichten 3 und 4 das grüne, die
Schichten 5 und 6 das rote Licht, so daß insgesamt eine Reflexion von annäh
rend 100% für alle RGB-Wellenlängen erzielt werden kann. Dadurch wird der
Kontrast gegenüber der Schicht gemäß Fig. 2 nochmals erhöht.
Die Anzahl der Schichten kann zum Beispiel in Abhängigkeit von der Art der
verwendeten Lichtquelle wie deren Wellenlängenbereich ausgewählt werden.
Dabei ist es zur Erzielung eines hohen Kontrastes und einer Reflektivität von
beispielsweise 80% und mehr von Vorteil, für jede Wellenlänge die ent
sprechenden Enantiomeren zu kombinieren.
Wie in Fig. 2 und 3 gezeigt, können die cholesterischen Polymerschichten
auf einem dunklen oder auf einem transparenten Substrat 7 aufgebracht sein,
das die spektral integrierte Reflexion der Bildwand deutlich reduziert.
Das Aufbringen der entsprechenden cholesterischen Polymerschichten auf das
Substrat kann durch Aufpolymensation von cholesterischen Polymerschichten
mit der gewünschten Wellenlängenselektivität und Chiralität erfolgen.
Die Dicke einzelner Polymerschichten beträgt vorzugsweise 3 µm bis 20 µm und
die Dicke des Substrats vorzugsweise 0,5 mm bis 5 mm.
Für die erfindungsgemäße Bildwand kann ein beliebiges, für diese Zwecke be
kanntes Substrat verwendet werden.
Das Substrat kann aus einem geeigneten Kunststoff-, Textil- oder Glasmaterial
oder alternativ aus einer Kombination davon bestehen.
Beispielsweise kann das Substrat eine mit Kunststoff imprägnierte Textilbahn
sein.
Das Substrat kann auch mehrschichtig aufgebaut sein, wobei Schichten ver
schiedener oder gleicher Materialien aufeinander laminiert werden können.
Vorzugsweise wird die Oberfläche des Substrats vor dem Aufbringen der min
destens einen cholesterischen Polymerschicht mit einer definierten Rauhigkeit
oder Oberflächentopographie versehen, um auch räumliche Selektivität, daß
heißt, Reflexion in einem definierten Abstrahlwinkelbereich zu erzielen. Defi
nierte Oberflächentopographie bedeutet, daß auf der Substratoberfläche
Flächenelemente vorgesehen werden, die einen bestimmten Neigungswinkel
gegenüber der globalen Bildwandebene besitzen, so daß das von diesen
Flächenelementen reflektierte Licht den Raumwinkelbereich abdeckt, in dem
sich die Betrachter aufhalten.
Das kann zum Beispiel durch Verwendung eines geeigneten Textils, durch ei
nen Prägeprozeß der Substratoberfläche selbst oder einer auf das Substrat
auflaminierten strukturierten Kunststoffschicht, durch Verwendung eines geeig
net, mit Feststoffpartikeln gefüllten Lackes oder einer Kombination dieser Ver
fahren geschehen.
Alternativ ist auch eine mechanische Strukturierung der Substratoberfläche, zum
Beispiel mit Hilfe von Strahlverfahren, Schleifen, Prägen oder durch Bürsten
möglich. So ist zum Beispiel in Fig. 4 die mechanische Strukturierung einer als
Substrat verwendeten Kunststoffolie 12 mittels einer Bürstenwalze 10 schema
tisch dargestellt.
Eine mechanische Behandlung allein ergibt jedoch im allgemeinen nur ungenü
gende optische Eigenschaften, da sehr feine kurzwellige Strukturen entstehen
können, die zu unkontrollierbarer Lichtstreuung führen.
Zur Beseitigung dieser kurzwelligen Strukturen sollte das Substrat daher vor
zugsweise einer geeigneten Behandlung zur Ausheilung dieser Strukturen un
terzogen werden, um das gewünschte Reflexionsverhalten zu erzielen.
Für wärmeverformbare Materialien, wie thermoplastische Kunststoffe, kann
Ausheilung mittels einer Wärmebehandlung erfolgen, zum Beispiel durch Infra
rotbestrahlung oder durch Anblasen heißer Luft, um ein Ausheilen der kurzwelli
gen Strukturen durch viskoses Fliesen der Oberfläche zu erreichen.
Nach der in S. E. Orchard, "Appl. sci. Res." Abschnitt A, Band 11 (1962), Seiten
451 ff, dargestellten Theorie, ist die Abklingzeit T einer Oberflächenstruktur auf
einer viskosen Flüssigkeit dem Verhältnis von Oberflächenspannung und Visko
sität proportional, wobei T mit der Periodenlänge Lp der Rauhigkeit beziehungs
weise Welligkeit ansteigt.
Für sehr geringe Periodenlängen Lp (Schichtdicke h»Lp) ist T ~ Lp, für große
Wellenlängen (h«Lp) ist sogar T ~ Lp 4. Unter Ausnutzung dieser Gesetzmä
ßigkeiten läßt sich eine Vergröberung der Struktur und eine Steuerung der Ver
teilung von Oberflächenneigungen erreichen, wie es in Fig. 5 schematisch
dargestellt ist. Fig. 5 zeigt das Ausheilen kurzwelliger Komponenten auf der
Oberfläche eines viskosen Mediums, wobei die Amplitude der kurzwelligen
Komponente der Oberflächenwelligkeit stärker abnimmt, so daß im Verlauf des
Ausheilprozesses geringere Flächenneigungen erhalten werden.
Alternativ kann die gewünschte Strukturierung auch durch einen Prägeprozeß,
zum Beispiel mittels Walzen, des Substrats selbst oder einer darauf auflami
nierten Kunststoffschicht erfolgen. Die Strukturierung der formgebenden Walzen
kann dabei mittels üblicher photolithographischer Prozesse erfolgen.
Eine geeignete photolithographische Prozeßsequenz kann zum Beispiel fol
gende Schritte umfassen:
Belackung der Walze mit positivem oder negativem Photolack,
Belichtung mit statistisch gesteuertem Laserstrahl,
Entwicklung des Photolacks und
anodisches Ätzen der Strukturen.
Belackung der Walze mit positivem oder negativem Photolack,
Belichtung mit statistisch gesteuertem Laserstrahl,
Entwicklung des Photolacks und
anodisches Ätzen der Strukturen.
Ein entsprechendes Verfahren ist zum Beispiel in dem europäischen Patent
97 045 10 beschrieben.
Die erfindungsgemäße Bildwand kann auch mit einer asymmetrischen räum
lichen Remissionscharakteristik versehen werden, indem die Oberfläche der
Bildwand mit einer entsprechend asymmetrisch reflektierenden Strukturierung
versehen wird. Dies kann geschehen, indem zum Beispiel bei dem vorstehend
beschriebenen photolithographischen Prozeß in die Oberfläche der Walze Ellip
soidsegmente anstelle von Kugelsegmenten geprägt werden.
Die erfindungsgemäß bevorzugte Kombination von räumlicher und spektraler
Selektivität wird erreicht durch das Aufbringen von cholesterischen Polymer
schichten auf ein entsprechend strukturiertes Substrat.
Grundsätzlich kann dabei die mindestens eine cholesterischen Polymerschicht 9
einerseits auf die strukturierte Substratoberfläche 7 selbst aufgetragen werden,
so daß sich die Struktur auf diese Polymerschicht überträgt, wie zum Beispiel in
Fig. 6a und 6b gezeigt. Andererseits kann die Beschichtung bei transpa
rentem Substrat auch auf der glatten Substratrückseite erfolgen, so daß dann
die strukturierte Seite der Lichtquelle zugewandt ist, wie zum Beispiel in Fig.
6c und 6d gezeigt.
Die erfindungsgemäße Bildwand selbst kann transparent sein (Fig. 6b und
6d), wodurch auch Projektion auf durchsichtigem Glas oder Kunststofflächen
erfolgen kann, insbesondere auf Fensterscheiben oder ähnlichem. Die Bildwand
kann aber auch absorbierend sein, indem das Substrat mit einer dunkel einge
färbten, idealerweise schwarzen, Fläche versehen wird, zum Beispiel einer ent
sprechenden Unterlage 8, wie in Fig. 6a und 6c gezeigt.
Mit der vorliegenden Erfindung werden Bild- oder Projektionswände zum Bei
spiel für Laserprojektion, LCD-Projektion (Liquid Crystal Display) oder CRT-
Projektion (Cathode Ray Tube (Kathodenstrahlröhre)) zur Verfügung gestellt,
die einfach erhältlich sind, flexibel an die ausgewählten Lichtquellen angepaßt
werden können und ein hohes spektrales und räumlich selektives Reflexions
vermögen bei hohem Kontrast aufweisen.
1
rechtszirkular blau reflektierende Polymerschicht
2
linkszirkular blau reflektierende Polymerschicht
3
rechtszirkular grün reflektierende Polymerschicht
4
linkszirkular grün reflektierende Polymerschicht
5
rechtszirkular rot reflektierende Polymerschicht
6
linkszirkular rot reflektierende Polymerschicht
7
Substrat
8
absorbierende Unterlage
9
cholesterische Polymerschicht
10
Bürstenwalze, beispielhaft mit nur einer Borste
11
Führungswalze
12
Kunststoffolienbahn
13
reflektierter Lichtstrahl
Claims (15)
1. Spektral selektiv reflektierende Bildwand,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Bildwand mindestens eine cholesterische Polymerschicht aufweist.
2. Spektral selektiv reflektierende Bildwand nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Bildwand mindestens zwei cholesterische Polymerschichten
aufweist, die enantiomer sind.
3. Spektral selektiv reflektierende Bildwand nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Bildwand ein absorbierendes oder transparentes Substrat aufweist.
4. Spektral selektiv reflektierende Bildwand nach Anspruch 3,
dadurch gekennzeichnet,
daß das Substrat ein transparentes Substrat ist mit einer dunkel
eingefärbten Unterlage 8.
5. Spektral selektiv reflektierende Bildwand nach einem der Ansprüche
3 oder 4,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Substratoberfläche mit einer definierten Rauhigkeit oder
Oberflächentopographie versehen ist.
6. Spektral selektiv reflektierende Bildwand nach einem der Ansprüche 3 bis 5,
dadurch gekennzeichnet,
daß das Substrat ausgewählt ist unter einem Kunststoff-, Textil- oder
Glasmaterial oder einer Kombination davon.
7. Spektral selektiv reflektierende Bildwand nach einem der Ansprüche 3 bis 6,
dadurch gekennzeichnet,
daß das Substrat eine mit Kunststoff imprägnierte Textilbahn ist.
8. Spektral selektiv reflektierende Bildwand nach einem der Ansprüche 3 bis 7,
dadurch gekennzeichnet,
daß auf das Substrat ein mit Feststoffpartikeln gefüllter Lack aufgebracht ist.
9. Bildwand nach einem der Ansprüche 3 bis 8,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Bildwand auf einer Seite des Substrats ein selektiv reflektierendes
Schichtsystem mit drei zirkular polarisiertes Licht reflektierenden
cholesterischen Polymerschichten für blaues Licht 1, grünes Licht 3 und
rotes Licht 5 aufweist.
10. Spektral selektiv reflektierende Bildwand nach einem der Ansprüche 3 bis 8,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Bildwand auf einer Seite des Substrats ein selektiv reflektierendes
Schichtsystem mit je drei rechtszirkular polarisiertes Licht reflektierenden
Polymerschichten und je drei linkszirkular polarisiertes Licht reflektierenden
Polymerschichten für blaues Licht 1, 2, grünes Licht 3, 4 und rotes Licht 5, 6
aufweist.
11. Verfahren zur Herstellung einer spektral selektiv reflektierenden Bildwand
durch Aufpolymerisation mindestens einer cholesterischen Polymerschicht
auf ein Substrat.
12. Verfahren zur Herstellung einer spektral selektiv reflektierenden Bildwand
nach Anspruch 11,
dadurch gekennzeichnet,
daß die mindestens eine cholesterische Polymerschicht auf einer Seite
eines Substrates aufpolymerisiert wird, das mit einer definierten Rauhigkeit
oder Oberflächentopographie versehen ist.
13. Verfahren zur Herstellung einer spektral selektiv reflektierenden Bildwand
nach Anspruch 12,
dadurch gekennzeichnet,
daß die definierte Oberflächentopographie durch Vorsehen eines
Kunststoffmaterials mit einer durch mechanische Bearbeitung
vorbestimmten strukturierten Oberfläche erzeugt wird.
14. Verfahren zur Herstellung einer spektral selektiv reflektierenden Bildwand
nach Anspruch 12,
dadurch gekennzeichnet,
daß die definierte Oberflächentopographie durch Vorsehen eines
Textilmaterials mit definierter Strukturierung erzeugt wird.
15. Verwendung einer spektral selektiv reflektierenden Bildwand nach einem der
Ansprüche 1 bis 10 für die Laserprojektion, LCD-Projektion oder CRT-
Projektion.
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DE19901970A DE19901970C2 (de) | 1999-01-20 | 1999-01-20 | Spektral selektiv reflektierende Bildwand |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DE19901970A DE19901970C2 (de) | 1999-01-20 | 1999-01-20 | Spektral selektiv reflektierende Bildwand |
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DE19901970A1 true DE19901970A1 (de) | 2000-08-17 |
DE19901970C2 DE19901970C2 (de) | 2001-08-02 |
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