DE19845268C1 - Verfahren zum Bedampfen bandförmiger Substrate mit einer transparenten Barriereschicht aus Aluminiumoxid - Google Patents
Verfahren zum Bedampfen bandförmiger Substrate mit einer transparenten Barriereschicht aus AluminiumoxidInfo
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- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
Abstract
Bei der reaktiven Aluminiumverdampfung ist die Erzielung von gleichmäßig transparenten und leicht unterstöchiometrischen Schichten nur realisierbar, wenn Schwankungen der Verdampfungsrate in engen Grenzen gehalten werden. Das neue Verfahren soll bei deutlich größeren Schwankungen der Verdampfungsrate die Aufdampfung nahezu transparenter Barriereschichten aus Aluminiumoxid gestatten. DOLLAR A Durch Ausbildung eines Partialdruckgradienten entlang der Bedampfungszone in herkömmlichen Bandbedampfungsanlagen wird die Barriereschicht bezüglich ihrer Stöchiometrie als Gradientenschicht aufgedampft, die nur eine sehr dünne unterstöchiometrische Teilschicht aufweist. Nur diese zeigt bei Schwankungen der Verdampfungsrate eine schwankende optische Transmission, durch die geringe Dicke jedoch weniger stark. DOLLAR A Herstellung transparenter Verpackungsfolien.
Description
Diese Erfindung betrifft ein Verfahren zum Aufdampfen einer Barriereschicht aus
Aluminiumoxid auf bandförmige Substrate im Vakuum.
Die Beschichtung vorzugsweise bandförmiger Substrate mit einer Barriereschicht ist ein
wichtiger Prozessschritt bei der Herstellung von verschiedenen Verpackungsmaterialien.
Insbesondere Polymermaterialien werden nach Aufdampfen einer dünnen Metallschicht (z. B.
Aluminium) zu Verpackungsmaterialien weiterverarbeitet, die eine hohe Sperrwirkung
gegenüber Sauerstoff und Wasserdampf, evtl. auch gegenüber Aromastoffen, aufweisen.
Verpackungen, die eine dünne Metallschicht enthalten, sind undurchsichtig und haben eine
hohe Mikrowellenabsorption. Das ist für manche Anwendungen im Bereich der
Lebensmittelverpackungen von Nachteil. Deshalb werden zunehmend metallische
Barriereschichten durch verschiedene Barriereschichten auf Oxidbasis (Oxide von Si, Al, Mg)
ersetzt.
Die reaktive Verdampfung von Aluminium aus dem Schiffchenverdampfer stellt dabei eine
Möglichkeit dar, den Vorteil einer niedrigen Verdampfungstemperatur mit einer hohen
optischen Transparenz und guter Mikrowellendurchlässigkeit des Endproduktes zu
kombinieren. Daneben kommen jedoch auch Verfahren mit Elektronenstrahl- bzw.
Induktionsverdampfern in Frage.
Für Barrierebeschichtungen dieser Art gilt, dass die optische Transmission vom
Mischungsverhältnis zwischen Aluminium und seinem Oxid - im Folgenden auch als
Stöchiometrie bezeichnet - abhängt. Mit steigendem Oxidanteil nimmt die optische
Transmission zu, während sich damit jedoch die Barrierewirkung der Schicht verringert. Es
existiert ein Arbeitsbereich im leicht unterstöchiometrischen Bereich, dessen untere Grenze
durch die höchstzulässige Absorption und dessen obere Grenze durch die geforderten
Mindestwerte der Barriere bestimmt wird (Schiller, N.; Reschke, J.; Goedicke, K.; Neumann,
M.: Surf. Coat. Technol., 86/87 (1996) 776-782).
Es ist deshalb üblich, die Einhaltung dieses Arbeitsbereiches durch Bereitstellung der
Reaktionspartner Aluminium und Sauerstoff in einem bestimmten einstellbaren
Mengenverhältnis zu gewährleisten (JP 62-103 359 A).
Da gerade auf dem Gebiet von Massenverpackungen die visuelle Beurteilung des fertigen
Produkts eine große Rolle spielt und geringe Schwankungen der Transmission sehr schnell
wahrgenommen werden können, wurden bereits zahlreiche Versuche unternommen, eine
gleichmäßige Transmission über große Beschichtungsflächen zu erzielen.
Es ist bekannt, dass durch die Messung der optischen Transmission der reaktiv
aufgedampften Schichten die Steuerung des Prozesses möglich ist, indem bei vorgegebenem
Gasstrom die Verdampfungsrate so nachgeführt wird, dass ein vorgegebener
Transmissionswert eingehalten wird. Das ist bei der reaktiven Elektronenstrahlverdampfung
realisiert (DE 44 27 581 A1). Mit einem Schiffchenverdampfer ist diese Form der Regelung
nicht durchführbar, da die Verdampferschiffchen für schnelle Änderungen des Heizstromes -
und damit der Verdampfungsrate - ungeeignet und für eine derartige Regelung zu träge
sind.
Es ist weiterhin bekannt, dass durch die Einstellung eines bestimmten Reaktivgasflusses, der
bei konstanter Verdampfungsrate zu schwach absorbierenden Schichten führt, das
Mischungsverhältnis zwischen dem verdampften Metall und seinem Oxid im Wesentlichen
gleichförmig gehalten werden kann (EP 0 437 946 B1). Es besteht aber der Nachteil, dass
das Verfahren technologisch aufwendig ist, da hohe Anforderungen an die Konstanthaltung
der Verdampfungsrate, insbesondere bei Einsatz mehrerer Verdampferschiffchen, gestellt
werden müssen.
Es ist weiterhin bekannt, Aluminiumoxidschichten deutlich unterstöchiometrisch
aufzudampfen. Die erzielte optische Transmission liegt zunächst unterhalb des oben
erwähnten Arbeitsbereiches. In einem Nachoxidationsschritt, der plasmaaktiviert direkt nach
der Bedampfung oder ohne Aktivierung bei einem zusätzlichen Umwickeln erfolgt, wird die
Schicht nachträglich aufgehellt (EP 0 555 518 B1, EP 0 695 815 B1). Dieser zusätzliche
Prozessschritt bedeutet jedoch einen technologischen Mehraufwand.
Weiterhin ist bekannt, dass bei der Aufdampfung sehr dünner unterstöchiometrischer
Oxidschichten und anschließender relativ langer Verweildauer in der Reaktivgasatmosphäre
die Nachoxidation - eventuell plasmaaktiviert - spontan zur ausreichenden Aufhellung der
Schicht führt. Durch die Nutzung eines Bandlaufwerkes, welches über zusätzliche
Umlenkrollen den Weg des bedampften Substrates im Rezipienten wesentlich verlängert und
es daneben gestattet, den Bedampfungszyklus mehrfach zu durchlaufen, können
hinreichend transparente Schichten üblicher Dicke aufgedampft werden, indem mehrere
sehr dünne und einzeln nachoxidierte Schichten übereinander aufgedampft werden
(US 5,462,602). Das Verfahren erfordert jedoch einen erheblichen mechanischen
Mehraufwand am Bandlaufwerk.
Es ist bekannt, dass Barriereschichten, welche als Einzelschichten die Mindestanforderungen
bezüglich ihrer Barrierewirkung nicht erfüllen, in Mehrschichtsystemen ausreichende
Barrierewirkungen zeigen. Die Kombination von aufgestäubten und aufgedampften
Schichten ist eine solche Lösung, die auch für Aluminiumoxid vorgeschlagen wurde
(DE 43 43 040 C1). Die Realisierung mehrerer aufeinanderfolgender Prozessschritte stellt
jedoch ebenfalls einen erheblichen technischen Mehraufwand dar.
Schließlich ist bekannt, dass durch eine Prozessführung, die es verhindert, dass die Dichte der
Barriereschicht unter einen bestimmten Grenzwert sinkt, gute Barriereeigenschaften erzielt
werden können. So wird für Aluminiumoxid 2,7 g/cm3 als unterer Grenzwert der Dichte
beansprucht (EP 0 812 779 A2). Da die Dichte einer Aufdampfschicht jedoch stark von den
Kondensationsbedingungen abhängt, stellt ein vorgegebener Mindestwert stets eine
deutliche Einschränkung bei der Prozessführung dar. Insbesondere bei der Umrüstung
bestehender Aluminiumbedampfungsanlagen für den Prozess der reaktiven Aufdampfung
von Aluminiumoxidschichten sind durch konstruktive Gegebenheiten oftmals
Kondensationsbedingungen vorgegeben, die nur mit sehr großem Aufwand zu verändern
sind und die Umrüstung insgesamt unwirtschaftlich werden lassen. Außerdem ist die Dichte
der Schicht kein Parameter, der während des Prozesses direkten Messungen zugänglich ist.
Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren zu schaffen, mit welchem auf bandförmigen
Substraten ohne großen technologischen Aufwand transparente Barriereschichten auf
Aluminiumoxidbasis durch reaktive Verdampfung hergestellt werden können. Im Falle kleiner
Schwankungen der Verdampfungsrate, die sich insbesondere bei Verwendung von
Verdampferschiffchen nicht vollkommen ausschließen lassen, soll ohne eine zusätzliche
Nachoxidation der durch die geforderten Transmissions- und Barrierewerte bestimmte
Arbeitsbereich eingehalten werden. Außerdem soll eine schnelle Anpassung an
unterschiedliche Kondensationsbedingungen, vor allem an Bedampfungswinkel,
Arbeitsdruck und Verdampfungsrate, möglich sein. Das Verfahren soll auch durch
Nachrüstung bestehender Aluminiumbedampfungsanlagen ausführbar sein.
Erfindungsgemäß wird die Aufgabe nach Patentanspruch 1 gelöst. Vorteilhafte
Ausgestaltungen des Verfahrens sind in den Patentansprüchen 2 bis 11 beschrieben.
Die Erfindung beruht auf der Erkenntnis, dass die Barriere gegenüber Sauerstoff nicht in
gleicher Weise von der Stöchiometrie abhängt, wie die Barriere gegenüber Wasserdampf.
Außerdem haben Versuche ergeben, dass der Umfang, in dem bestimmte Tiefenbereiche der
Schicht zur Barrierewirkung der Gesamtschicht beitragen, in unterschiedlichem Maße von
der Stöchiometrie abhängt.
Wird die optische Transmission der gesamten Schicht entsprechend der Anforderung
konstant gehalten, so kann die Absorption der unterschiedlichen Tiefenbereiche der Schicht
durchaus variieren. Eine Schicht mit über die gesamte Schichtdicke gleichmäßig verteilter
Stöchiometrie ist nicht von einer Stapelstruktur aus vollständig transparenten und stärker
unterstöchiometrischen Teilschichten zu unterscheiden. Gleiches gilt für Schichten, die
bezüglich der Stöchiometrie als Gradientenschichten ausgebildet sind. Unterschiedliche
Gradienten sind aus der Vermessung der optischen Transmission nicht zu ersehen, solange
sich die Absorption der Gesamtschicht nicht ändert.
Liegt nun ein überstöchiometrischer Bereich in der Nähe des Substrates, ergeben sich
schlechte Barrierewerte gegenüber Wasserdampf und mäßige Werte gegenüber Sauerstoff.
Enthält der untere Teil der Schicht dagegen einen unterstöchiometrischen Bereich, lassen
sich gute Wasserdampf- und Sauerstoffbarrierewerte erzielen.
Es sind also erfindungsgemäß unterstöchiometrische Bereiche im substratnahen unteren Teil
der Schicht anzustreben. Die anderen Bereiche der Schicht können durchaus
überstöchiometrisch sein. Diese Bereiche tragen immerhin noch zur Sauerstoffbarriere bei,
haben jedoch auf die Wasserdampfbarriere kaum einen Einfluss. Es lässt sich ableiten, dass
diese Bereiche auch von geringerer Dichte sein werden, weshalb der Dichte der
Gesamtschicht kaum eine Bedeutung zukommt.
Das Verfahren besteht in der reaktiven Verdampfung von Aluminium aus einem
Schiffchenverdampfer, wobei das Reaktivgas in einer Weise eingelassen wird, dass sich
entlang der Bedampfungszone in Bandlaufrichtung ein geeigneter Partialdruckgradient des
Reaktivgases einstellt.
Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren lassen sich so Aluminiumoxidschichten auf
bandförmige Substrate aufdampfen, die bezüglich ihrer Stöchiometrie bzw. des
Mischungsverhältnises zwischen dem verdampften Metall und seinem Oxid als
Gradientenschichten oder als Stapelschichten ausgebildet sind und deren
unterstöchiometrischster Bereich im substratnahen Teil der Schicht liegt.
Gradientenschichten haben in diesem Falle gegenüber Stapelstrukturen den Vorteil, dass sie
sich in einem Verfahrensschritt aufdampfen lassen.
Der im sichtbaren Bereich absorbierende Tiefenbereich der Schicht kann sehr dünn, d. h. bei
< 10 nm gehalten werden. Da an so dünnen Schichten Schwankungen im Grad der
Unterstöchiometrie erst bei deutlichen Abweichungen sichtbar werden, und Veränderungen
in überstöchiometrischen Bereichen - solange sie nur überstöchiometrisch oder zumindest
stöchiometrisch bleiben - keinen Einfluss auf die Absorption der Gesamtschicht haben, sind
die Anforderungen an die Einhaltung einer gerade noch tolerablen Absorption wesentlich
unkritischer, als das bei Schichten mit im Wesentlichen gleichmäßiger Stöchiometrie der Fall
ist.
Die reaktive Verdampfung kann in bekannter Weise plasmaaktiviert erfolgen, was die
Barriereeigenschaften des Endproduktes weiter verbessert.
Der wesentliche Vorteil des Verfahrens besteht in der extrem geringen Dicke der
unterstöchiometrischen Schicht, wodurch erst bei sehr niedrigem Oxidationsgrad ein
nennenswerter Transmissionsverlust eintritt. Dadurch wird in den meisten Fällen ein
zusätzlicher Nachoxidationsschritt überflüssig. Alle anderen Schichtbereiche sind ohnehin
transparent. Das Verfahren zielt also nicht auf die Erreichung einer möglichst schwachen,
aber sehr gleichmäßigen Unterstöchiometrie, sondern auf die Erzeugung einer
Gradientenschicht, die in ihrem unteren Bereich eine sehr dünne, aber durchaus stärker
unterstöchiometrische Zone aufweist. Die Gleichmäßigkeitsanforderung in Bezug auf die
optische Transmission ist dadurch wesentlich einfacher zu erfüllen.
Eine besonders vorteilhafte Ausgestaltung des Verfahrens besteht darin, zur Begrenzung des
Bedampfungsbereiches eine bewegliche Blende anzuordnen. Damit lassen sich für den Fall,
dass sich aus konstruktiven Gründen - z. B. im unteren Teil der Schicht - überstöchiometrische
Bereiche nicht vermeiden lassen, diese ausblenden.
Anhand eines Ausführungsbeispieles wird die Erfindung näher beschrieben. In den
zugehörigen Zeichnungen zeigen:
Fig. 1: eine Einrichtung zur Bedampfung von Bandmaterial
Fig. 2: die Abhängigkeit der Wasserdampfpermeation vom Anteil der Reaktivgasmenge,
welcher nahe der Bandeinlaufzone durch die Gaseinlassdüsen 6 eingelassen wird.
In einer an sich bekannten Bandbedampfungsanlage, bestehend aus einem Rezipienten mit
angeschlossenem Vakuumpumpsystem und Bandwickeleinrichtung (nicht dargestellt), wird
das zu bedampfende Substrat 1 - in diesem Fall eine PET-Folie - über eine Kühlwalze 2
geführt. Darunter befindet sich im Verdampferschiffchen 3 das Verdampfungsgut, welches
dem Verdampferschiffchen 3 in bekannter Weise kontinuierlich zugeführt wird und auf das
Substrat 1 aufgedampft wird. Das Verdampferschiffchen 3 wird mit konstanter
Verdampfungsrate betrieben. Der wirksame Bedampfungsbereich 4 ist mittels einer
beweglichen Blende 5 einstellbar. Seitlich vom Bedampfungsbereich 4 zwischen der
Kühlwalze 2 und dem Verdampferschiffchen 3 sind Gaseinlassdüsen 6; 7 für die Zuführung
des Reaktivgases Sauerstoff angeordnet. Die Positionen der Gaseinlassdüsen 6; 7 sowie
deren Winkel sind in Pfeilrichtung einstellbar. Der Reaktivgasfluss durch die Gaseinlassdüsen
6 in der Nähe der Bandeinlaufzone ist manuell einstellbar. Der Reaktivgasfluss durch die
anderen Gaseinlassdüsen 7 erfolgt transmissionsgeregelt. Die dafür erforderliche Messung
der optischen Transmission erfolgt mittels bekannter Messeinrichtungen 8 außerhalb der
Bedampfungszone, jedoch vor Erreichen des Aufwickels.
Das erfindungsgemäße Verfahren wird wie folgt ausgeführt:
Die Inbetriebnahme der Aluminiumverdampfung erfolgt in bekannter Weise. Danach wird
der Reaktivgasfluss an den Gaseinlassdüsen 6 in der Nähe der Bandeinlaufzone auf 0 bis
40% der entsprechend der chemischen Reaktionsgleichung für eine vollständige Oxidation
der gesamten Schicht erforderlichen Menge Sauerstoff eingestellt. Im Anschluss daran
werden die geregelten Gaseinlassdüsen 7 auf der Bandauslaufseite unter Vorgabe des
gewünschten Sollwertes der optischen Transmission von 80 bis 95% geöffnet, worauf sich
der noch benötigte Reaktivgasfluss automatisch einstellt.
Bei Beginn des Verfahrens oder nach Veränderungen der Positionen der Gaseinlassdüsen 6;
7 oder Blenden 5 ist der einzustellende Reaktivgasfluss an den Gaseinlassdüsen 6 wie folgt
zu ermitteln:
Das Substrat 1 wird bei verschiedenen Einstellungen des Reaktivgasflusses an den
Gaseinlassdüsen 6 bedampft. Danach erfolgt die Vermessung der bedampften Substrate 1
bezüglich ihrer Permeationswerte für Wasserdampf und/oder Sauerstoff. Anschließend wird
an den Gaseinlassdüsen 6 der Reaktivgasfluss, bei welchem sich der niedrigste
Permeationswert für Wasserdampf und/oder Sauerstoff ergab, eingestellt.
Die Fig. 2 zeigt die Abhängigkeit der Wasserdampfpermeation von der durch die
Gaseinlassdüsen 6 in der Nähe der Bandeinlaufzone eingelassenen Reaktivgasmenge. Beträgt
diese mehr als 30% vom Gesamtfluss, zeigen die vermessenen Proben deutlich höhere
Permeationswerte. Die optimale Einstellung liegt bei ca. 10% der insgesamt benötigten
Reaktivgasmenge.
Claims (11)
1. Verfahren zum Bedampfen bandförmiger Substrate mit einer transparenten
Barriereschicht aus Aluminiumoxid durch reaktive Verdampfung von Aluminium und
Einlass von Reaktivgas in einer Bandbedampfungsanlage, dadurch gekennzeichnet,
dass der Einlass des Reaktivgases derart erfolgt, dass sich in Bandlaufrichtung ein Partialdruckgradient des Reaktivgases einstellt,
dass sich das Mischungsverhältnis zwischen Aluminium, Aluminiumoxid und Sauerstoff in der Barriereschicht als Gradient ausbildet,
dass dieses Mischungsverhältnis in der Barriereschicht ein Maximum des Anteils des metallischen Aluminiums aufweist und die Lage und Ausprägung dieses Maximums in einem bestimmten Tiefenbereich der Barriereschicht durch Variation des Partialdruckgradienten des Reaktivgases und der Lage der Bedampfungzone derart eingestellt wird, dass bei gleicher optischer Transmission der Barriereschicht die Sauerstoffpermeation und/oder die Wasserdampfpermeation ein Minimum erreicht.
dass der Einlass des Reaktivgases derart erfolgt, dass sich in Bandlaufrichtung ein Partialdruckgradient des Reaktivgases einstellt,
dass sich das Mischungsverhältnis zwischen Aluminium, Aluminiumoxid und Sauerstoff in der Barriereschicht als Gradient ausbildet,
dass dieses Mischungsverhältnis in der Barriereschicht ein Maximum des Anteils des metallischen Aluminiums aufweist und die Lage und Ausprägung dieses Maximums in einem bestimmten Tiefenbereich der Barriereschicht durch Variation des Partialdruckgradienten des Reaktivgases und der Lage der Bedampfungzone derart eingestellt wird, dass bei gleicher optischer Transmission der Barriereschicht die Sauerstoffpermeation und/oder die Wasserdampfpermeation ein Minimum erreicht.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Lage und
Ausprägung des Maximums an metallischem Aluminium in einem bestimmten
Tiefenbereich der Barriereschicht durch Verstellen von Blenden im
Verdampfungsbereich und/oder Veränderung der Position des Verdampferschiffchens
und/oder Veränderung der Position der Gaseinlassdüse und/oder des Winkels der
Gaseinlassdüsen für das Reaktivgas und/oder die Veränderung der Reaktivgasflüsse
eingestellt wird.
3. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass das
Aluminium aus einem Schiffchenverdampfer mit mindestens einem
Verdampferschiffchen mit kontinuierlicher Drahtzufuhr verdampft wird.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass das
Aluminium aus einem Induktionsverdampfer verdampft wird.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass das
Aluminium aus einem Elektronenstrahlverdampfer verdampft wird.
6. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass der Partialdruckgradient
des Reaktivgases durch Variation des Verhältnisses der Reaktivgasflüsse der im Bereich
der Bandeinlaufzone und Bandauslaufzone angeordneten, separat einstellbaren
Gaseinlassdüsen eingestellt wird.
7. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet,
dass Prozessparameter geregelt werden.
8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Prozessparameter für
einzelne Sektoren des Bedampfungsbereiches separat geregelt werden.
9. Verfahren nach Anspruch 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet, dass die zu regelnden
Prozessparameter die pro Zeiteinheit verdampfte Aluminiummenge und/oder der
Reaktivgasfluss sind.
10. Verfahren nach Anspruch 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Regelung
eine transmissionsgesteuerte Regelung der Sauerstoffzufuhr ist, bei der die
Sauerstoffzufuhr so eingestellt wird, dass die optische Transmission, welche während
des Prozesses kontinuierlich oder periodisch gemessen wird, auf einem Sollwert
gehalten wird.
11. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch
gekennzeichnet, dass plasmaaktiviert bedampft wird.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DE1998145268 DE19845268C1 (de) | 1998-10-01 | 1998-10-01 | Verfahren zum Bedampfen bandförmiger Substrate mit einer transparenten Barriereschicht aus Aluminiumoxid |
Applications Claiming Priority (1)
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DE1998145268 DE19845268C1 (de) | 1998-10-01 | 1998-10-01 | Verfahren zum Bedampfen bandförmiger Substrate mit einer transparenten Barriereschicht aus Aluminiumoxid |
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ID=7883086
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---|---|---|---|
DE1998145268 Expired - Lifetime DE19845268C1 (de) | 1998-10-01 | 1998-10-01 | Verfahren zum Bedampfen bandförmiger Substrate mit einer transparenten Barriereschicht aus Aluminiumoxid |
Country Status (1)
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