DE19813950C1 - Spektrometeranordnung - Google Patents
SpektrometeranordnungInfo
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- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 title claims description 6
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 title claims description 4
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 title claims description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 65
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims abstract description 55
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims abstract description 11
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 claims description 26
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 19
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 17
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 3
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 2
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 description 3
- 238000010183 spectrum analysis Methods 0.000 description 3
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 2
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 2
- 230000004304 visual acuity Effects 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 238000002798 spectrophotometry method Methods 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 230000009897 systematic effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/12—Generating the spectrum; Monochromators
- G01J3/18—Generating the spectrum; Monochromators using diffraction elements, e.g. grating
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/28—Investigating the spectrum
- G01J3/2803—Investigating the spectrum using photoelectric array detector
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/28—Investigating the spectrum
- G01J3/42—Absorption spectrometry; Double beam spectrometry; Flicker spectrometry; Reflection spectrometry
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectrometry And Color Measurement (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Abstract
Die Erfindung bezieht sich auf eine Spektrometeranordnung, vorzugsweise zur Emissions- und Absorptionsanalyse einer Probe durch UV-VIS-Spektrometrie, mit einer Beleuchtungs- und Abbildungseinrichtung (1), in die eine Küvette (4) mit der Probe eingeordnet ist, und bei der das von der Beleuchtungs- und Abbildungseinrichtung (1) kommende Licht durch einen Eintrittsspalt (6) auf ein dispergierendes Medium, vorzugsweise ein abbildendes optisches Gitter (9), und von dort auf die Sensorelemente eines Photoempfängers (10) gerichtet ist, dessen Sensorelementen ein gasgefüllter Zwischenraum vorgeordnet ist. DOLLAR A Bei einer solchen Spektrometeranordnung schließt die zwischen dem Eintrittsspalt (6) und dem dispergierenden Medium ausgebildete optische Achse (17) mit der optischen Achse (8) der Beleuchtungs- und Abbildungseinrichtung (1) einen Winkel alpha = 180 DEG +- beta mit beta NOTEQUAL 0 DEG ein, wobei der Winkel beta so bemessen ist, daß der Mittenstrahl eines vom dispergierenden Medium auf die Sensorelemente gerichteten, durch eine ausgewählte Wellenlänge lambda charakterisierten Strahlungsanteiles senkrecht auf die Sensorempfangsfläche trifft.
Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine Spektrometeranordnung, vorzugsweise zur Emissi
ons- und Absorptions-Analyse einer Probe durch UV-VIS-Spektrometrie, bei der das die
Probe durchdringende Licht auf ein dispergierendes Medium, etwa ein abbildendes op
tisches Gitter, gerichtet ist und von diesem dispergierend auf die in einem Array ange
ordneten Sensorelemente eines Photoempfängers gelenkt wird. Den Sensorelementen
ist ein für dieses Licht transparentes Schutzfenster und ein gasgefüllter, sich zwischen
Schutzfenster und Sensorempfangsfläche erstreckender Zwischenraum vorgeordnet.
Im Stand der Technik sind verschiedenartig ausgestaltete Geräte und Anordnungen
nach dieser Grundfunktion bekannt; ihr prinzipieller Aufbau ist in Fig. 1 dargestellt und
wird nachfolgend kurz erläutert.
Zwischen einer Beleuchtungseinrichtung und einer Abbildungseinrichtung ist eine Kü
vette mit der zu untersuchenden Probe angeordnet. Im Abbildungsstrahlengang befin
det sich eine optisch dispergierende Einrichtung, wobei die optischen Achsen der Be
leuchtungs-, der Abbildungs- und der dispergierenden Einrichtung miteinander fluch
tend auf einer gemeinsamen Geraden liegen.
In einem Lampenhaus, von dem Licht des gesamten Spektralbereiches ausgeht, mit
dem die Probe in der Küvette durchstrahlt werden soll, ist mindestens eine Lichtquelle
vorgesehen. Mit einer an sich bekannten, zeichnerisch nicht dargestellten Optik wird
ein Lichtbündel geformt, das in der Probe wellenlängenselektiv abgeschwächt wird.
Dieses Lichtbündel wird mit der Abbildungslinse auf den Eintrittsspalt der dispergie
renden Einrichtung fokussiert.
Das durch den Eintrittsspalt tretende Licht beleuchtet ein dispergierendes Medium, im
konkreten Fall ein abbildendes Gitter, auf einer Fläche, die von der Größe der Blende,
die der Abbildungslinse vorgeordnet ist, abhängt. Das Gitter bildet den Eintrittsspalt
auf einen Festkörper-Array-Photoempfänger ab, der aus einer zeilenweisen Anordnung
einzelner Sensorelemente, beispielsweise Photodioden, besteht.
Vorzugsweise ist die dispergierende Einrichtung so ausgelegt, daß der Mittenstrahl vom
Eintrittsspalt auf den Scheitelpunkt des Gitters trifft und von da aus ein Teilstrahl mit
der Wellenlänge, für die das System berechnet ist, auf die Mitte des Photoempfängers
gelenkt wird. Dieser Teilstrahl ist in Fig. 2 als Strahl B dargestellt; er trifft senkrecht auf
das Schutzfenster 12 des Photoempfängers 10 und auf die Sensorempfangsfläche 15.
Teilstrahlen mit Wellenlängen, die außerhalb der senkrecht auf die Sensorempfangsflä
che 15 treffenden Mittenwellenlänge des Strahles B liegen, wie beispielsweise die
Strahlen A und C, treffen unter einem von der Senkrechten abweichendem Winkel auf
das Schutzfenster 12 bzw. auf die Sensorempfangsfläche 15.
Wie in Fig. 2 weiterhin dargestellt, werden die Stahlen A, B und C teilweise von der Sen
sorempfangsfläche 15 reflektiert und gelangen so durch die Gasfüllung im Zwischen
raum zwischen dem Schutzfenster 12 und der Sensorempfangsfläche 15 hindurch zur
Innenfläche des Schutzfensters 12, von wo aus wiederum ein Teil der Strahlung zur
Sensorempfangsfläche 15 zurückgeworfen wird.
Diese mehrfach reflektierten Anteile der Strahlung haben zwar die Wellenlängen der
Strahlen A und C, ihre Auftrefforte sind aber bis zu mehreren Zehntel Millimeter gegen
über der ersten Auftreffstelle auf der Sensorempfangsfläche 15 versetzt. Da zum Zweck
der analytischen Auswertung jedoch jedes der Sensorelemente 14 des Photoempfän
gers 10 einer bestimmten Wellenlänge zugeordnet ist, täuscht dieser Versatz eine
Strahlung mit real nicht vorhandener Wellenlänge vor. Diese vorgetäuschte Strahlung
wird im folgenden als Falschlicht bezeichnet.
Das Falschlicht wirkt sich so aus, daß der Fuß einer schmalen Spektrallinie im Linien
diagramm verbreitert wird, wie das in Fig. 3.1 anhand der Hg-Linie 253 nm dargestellt
ist, oder daß eine an sich scharfe Absorptionskante verschliffen wird. Letzteres bedeu
tet, daß schmale Absorptionsbanden mit einer zu geringen Extinktion gemessen wer
den. Das beschränkt den Dynamikbereich des Systems und kann bei schmalen Spek
trallinien in der Nähe breiterer Spektrallinien zu einer Linienüberdeckung und damit
zum Verschwinden von Schultern an Absorptionsbanden führen. Als Falschlicht wird bei
einer Wellenlänge von 200 nm mit 1,2%-iger Kaliumchloridlösung ein Wert von 4% ge
messen, die Forderung in Normen beträgt 1%.
Falschlicht entsteht außerdem auch deshalb, weil das Gitter den Eintrittsspalt aufgrund
systematischer optischer Abbildungsfehler nicht exakt auf die zugeordneten Senso
relemente des Photoempfängers abbildet. Diese Fehler sind physikalisch bedingt und
um so größer, je weiter der Ursprung der Strahlung vom Scheitel der beleuchteten Git
terfläche entfernt liegt, das heißt je größer der Anteil der außeraxialen Strahlung an der
Gesamtstrahlung ist.
Das Falschlicht entsteht auch in Spektrometeranordnungen, bei denen das Licht von
der Lichtquelle zur Probe und/oder von da zur dispergierenden Einrichtung über Licht
leiter übertragen wird.
Das spektrale Auflösungsvermögen bei der Spektralphotometrie hängt unter anderem
von der Breite des Eintrittsspaltes ab. Um das Profil einer Spektrallinie oder einer Ab
sorptionsbande unabhängig von dem zufälligen Auftreffen auf die Sensorelemente (die
sogenannten Pixel) eines Array-Empfängers bestimmen zu können, müssen mindestens
drei nebeneinander liegende Pixel belichtet werden. Üblicherweise wird die Breite des
Eintrittsspaltes mit 50 µm gewählt bei einer Pixelbreite von 25 µm. Aufgrund der opti
schen Abbildungseigenschaften der dispergierenden Einrichtung jedoch wird auf dem
Empfänger das Bild des Eintrittsspaltes auf 5 bis 6 Pixel verbreitert, was zur Folge hat,
daß 2 bis 3 Pixel mehr belichtet werden als bei einer exakten Abbildung.
Mit einem Eintrittsspalt von 50 µm Breite und einer Schnittweite des dispergierenden
Mediums von 116 mm wird eine spektrale Halbwertsbreite erreicht, die der spektralen
Bandbreite von 2,5 bis < 3 Pixeln entspricht und bei einem Spektrometer mit
ca. 0,8 nm/Pixel bei etwa 2 nm bis 3 nm liegt. Das spektrale Auflösungsvermögen, ge
messen mit Toluol in n-Hexan, beträgt dabei < 2 nm.
Der übliche Spektralbereich eines UV-VIS-Spektrometersystems reicht von 190 nm bis
1000 nm; die Strahlung, die die Sensorempfangsfläche senkrecht erreicht, hat hierbei
eine Wellenlänge von etwa 600 nm. Für viele analytische Aufgaben wird der Spektralbe
reich von 200 nm bis 600 nm genutzt. Die Bewertung von UV-VIS-Spektrometersystemen
bezüglich des Falschlichtes und der spektralen Auflösung erfolgt im Bereich von
200 nm bis 340 nm.
In JP 3-272425 A ist eine Spektrometeranordnung der vorgenannten Art beschrieben,
bei der zum Zweck der Erhöhung des Auflösungsvermögens der Eingangsspalt
beweglich angeordnet ist. Hierzu ist eine Spaltbaugruppe auf einen um einen
Drehpunkt schwingenden Träger montiert, der mit einem Piezoantrieb gekoppelt ist.
Durch eine wellenlängenabhängige Ansteuerung des Piezoantriebens wird erreicht, daß
Licht bestimmter Wellenlängen auf jeweils zugeordnete Einzelelemente des
Photoempfängers gerichtet wird. Die Ausgangssignale dieser Photoempfänger werden
dann entsprechend ausgewertet. Die Entstehung von Falschlicht wird hierbei allerdings
nicht verhindert, wenn, wie weiter oben beschrieben, dem Photoempfänger ein
Schutzfenster vorgeordnet ist.
In der Spektrometeranordnung nach EP 0 690 295 B1 ist die Verwendung eines
Photoempfängers vom CCD-Typ vorgesehen, bei dem der Empfangsfläche ein
Schutzfenster vorgeordnet ist. Hier wird der Entstehung von Falschlicht durch eine
Beschichtung der Empfangsfläche mit einem Antireflexmaterial vorgebeugt, wobei die
Dicke der Beschichtung in Abhängigkeit von der Einfallsrichtung und der Wellenlänge
des Lichtes abhängig ist. Das Aufbringen dieser Schicht ist technologisch aufwendig,
außerdem ist nicht auszuschließen, daß die Beschichtung Intensitätsverluste bezüglich
des zu den Einzelsensoren gelangenden Lichtes zu Folgen hat.
Davon ausgehend liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, bei einer Spektrome
teranordnung der vorbeschriebenen Art das spektrale Auflösungsvermögen zu erhöhen
und die Genauigkeit der Spektralanalyse zu verbessern.
Erfindungsgemäß wird die Aufgabe dadurch gelöst, daß die zwischen dem Eintrittsspalt
und dem dispergierenden Medium ausgebildete optische Achse mit der optischen Ach
se der Abbildungseinrichtung einen Winkel α = 180° ± β mit β ≠ 0° einschließt. Der Schnitt
punkt der beiden optischen Achsen liegt dabei im Eintrittsspalt, und der Winkel β ist so
bemessen, daß der Mittenstrahl eines vom dispergierenden Medium auf die Sensorele
mente gerichteten, durch eine ausgewählte Wellenlänge λ charakterisierten Strahlen
bündels senkrecht auf die Sensorempfangsfläche trifft.
Durch diese Anordnung, bei der die optische Achse der dispergierenden Einrichtung
nicht wie beim Stand der Technik auf einer Geraden mit der optischen Achse der Abbil
dungseinrichtung liegt, trifft das die Probe durchsetzende Lichtbündel außerhalb des
Gitterscheitelpunktes auf das Gitter, und das von dieser außermittig beleuchteten Git
terfläche ausgehende Spektrallicht erreicht senkrecht die Sensorempfangsfläche an der
Stelle, die der kritischsten Empfangsposition bezogen auf den gewünschten Spektralbe
reich entspricht. Auf diese Weise wird das Falschlicht in dem bevorzugt zu analysieren
den Spektralbereich bedeutend reduziert und damit das spektrale Auflösungsvermögen
erhöht bzw. die Genauigkeit der Spektralanalyse verbessert.
Eine besondere Ausgestaltung der Erfindung sieht vor, daß die Beleuchtungs- und die
Abbildungseinrichtung einerseits und die dispergierende Einrichtung andererseits je
weils als kompakte Baueinheiten ausgeführt und mit einander zugewandten Bezugsflä
chen zur gegenseitigen Lagefixierung ausgestattet sind. Damit läßt sich die Einstellung
des Winkels β zwischen den optischen Achsen der beiden Baueinheiten leicht bewerk
stelligen, indem die Bezugsflächen in einer vorgegebenen Lage zueinander positioniert
und in dieser Lage fixiert werden.
In verschiedenen Ausgestaltungsvarianten der Erfindung kann vorgesehen sein, daß die
der Beleuchtungs- und Abbildungseinrichtung zugeordnete Bezugsfläche parallel zur
optischen Achse der Abbildungseinrichtung und die der dispergierenden Einrichtung
zugeordnete Bezugsfläche parallel zur optischen Achse der dispergierenden Einrich
tung ausgerichtet sind. Damit kann die Einstellung des Winkels β durch Vorgabe einer
dem Winkel β entsprechenden Schrägstellung beider Bezugflächen zueinander vorge
nommen werden; der Winkel zwischen den beiden Bezugsflächen ist damit die Maßver
körperung des Winkels zwischen den beiden optischen Achsen.
Zur definierten Einstellung des Winkels β können vorteilhaft Keile mit unterschiedlichen
Keilwinkeln dienen, wobei die vorzusehenden Keilwinkel den Wertebereich des Winkels
β wiedergeben. Die Keile werden dem einzustellenden Winkel β entsprechend ausge
wählt und zwischen die Bezugsflächen eingebracht. Durch Verspannen beider Bezugs
flächen gegen die Flächen des Keiles wird eine definierte Lagefixierung der Baugruppen
erzielt.
Alternativ zur vorgenannten Ausgestaltung kann vorgesehen sein, daß mindestens eine
der Bezugsflächen bereits um den einzustellenden Winkel β gegen die optische Achse
der ihr zugeordneten Baueinheit geneigt ist, wodurch bei gegeneinander vorgespann
ten Bezugsflächen der Winkel β zwischen den optischen Achsen beider Baueinheiten
vorgegeben ist.
Bei dieser Ausgestaltungsvariante kann auf die Verwendung von Keilen im Sinne von
Zwischenlagen verzichtet werden. Um den Winkel β auch bei dieser Ausgestaltung va
riieren zu können, ist es denkbar, mindestens eine der Bezugsflächen gegenüber der
zugeordneten optischen Achse schwenkbar und innerhalb des Wertebereiches ±β fest
stellbar anzuordnen.
In einer bevorzugten Ausgestaltungsvariante der Erfindung ist vorgesehen, daß die
Baueinheit "dispergierende Einrichtung" unter Beibehaltung des zwischen den opti
schen Achsen eingestellten Winkels β und unter Beibehaltung des Schnittpunktes der
beiden optischen Achsen in Richtung der optischen Achse der Baueinheit "Beleuch
tungs- und Abbildungseinrichtung" verschiebbar angeordnet ist. Mit dieser Verschie
bung wird erreicht, daß auf den Photoempfänger bei allen in Frage kommenden Wel
lenlängen ein zumindest etwa gleich starkes Signal trifft.
In einer besonders bevorzugten Ausgestaltung ist vorgesehen, daß die Baueinheit "dis
pergierende Einrichtung" oder die Baueinheit "Beleuchtungs- und Abbildungseinrich
tung" auf einem Führungsschlitten befestigt ist, der eine Drehung der betreffenden
Einrichtung um den Schnittpunkt der beiden optischen Achsen und auch eine Längs
verschiebung in Richtung auf die optischen Achsen der jeweils anderen Einrichtung
ermöglicht. Damit ist auf unkomplizierte Weise die Veränderung des Winkels β zwi
schen den optischen Achsen beider Baueinheiten möglich und zugleich ist auch die
Möglichkeit gegeben, das Empfangssignal für den Photoempfänger in Abhängigkeit von
der bevorzugten Wellenlänge λ wie oben dargelegt durch Längsverschiebung zu opti
mieren.
Die Erfindung kann weiterhin derart ausgestaltet sein, daß der Winkel β einen Wert zwi
schen +6° und -6° hat, ausgenommen β = 0°. Eine besonders bevorzugte Konfiguration
der Anordnung wird erzielt, wenn der Winkel β = +6° ist, der ausgewählte Strahlungsan
teil die Wellenlänge λ = 200 nm aufweist, als dispergierendes Medium ein optisches Git
ter mit 248 Linien/mm und einem Krümmungsradius von 116 mm vorgesehen ist und
der Photoempfänger aus 1024 Sensorelementen besteht, die auf einer Länge von 25,6
mm zeilenförmig angeordnet sind.
Weiterhin ist es vorteilhaft, wenn in der Abbildungseinrichtung eine Abbildungslinse
und eine der Abbildungslinse vorgeordnete Blende vorgesehen und die Abbildungslinse
und die Blende so aufeinander abgestimmt sind, daß ein meridionaler Ausleuchtungs
winkel auf das dispergierende Medium von 1,5° bis 4,5° und ein saggitaler Ausleuch
tungswinkel von 6,8° bis 13,6° erzielbar sind.
Eine weitere Erhöhung der Genauigkeit bei der Analyse bzw. des Auflösungsvermögens
der Anordnung wird erzielt, wenn der Eintrittsspalt unter Berücksichtigung des Abbil
dungsmaßstabes der Abbildungslinse eine Breite aufweist, die der 1,2- bis 1,5fachen
Breite eines Sensorelementes entspricht. Durch diese Breite sollte im Zusammenwirken
mit den Abbildungseigenschaften des dispergierenden Mediums eine Spektrallinie des
Lichtes mindestens drei, vorzugsweise vier nebeneinander liegende Sensorelemente
des Photoempfängers beleuchtet.
Im Rahmen der Erfindung liegt es auch, daß das Schutzfenster und die Sensoremp
fangsfläche gewölbt ausgebildet sind, so daß nicht nur der Strahlungsanteil mit der
Mittenwellenlänge (vgl. Strahl A in Fig. 2), sondern auch die außeraxialen bzw. alle dis
pergierend auf das Schutzfenster bzw. die Sensorempfangsfläche gerichteten Strah
lungsanteile senkrecht auf die Sensorempfangsfläche treffen. Schutzfenster und Senso
rempfangsfläche sind dabei entgegengesetzt zum dispergierenden Medium gekrümmt.
Die Erfindung soll nachfolgend anhand eines Ausführungsbeispieles näher erläutert
werden. In den zugehörigen Zeichnungen zeigen:
Fig. 1 den Aufbau eines Spektrometersystems nach dem Stand der Technik
Fig. 2 die Lichtreflexionen zwischen der Empfangsfläche des Photoempfängers
und der Innenfläche des Schutzfensters
Fig. 3.1 ein mit einem nach dem Stand der Technik ausgestalteten Spektrometer
aufgenommenes Spektrogramm
Fig. 3.2 ein mit der erfindungsgemäßen Spektrometeranordnung aufgenommenes
Spektrogramm
Fig. 3.3 ein Spektrogramm mit Winkel β < 6°
Fig. 4 eine Prinzipdarstellung der erfindungsgemäßen Anordnung
Fig. 5 eine Aufbauvariante der erfindungsgemäßen Anordnungen
In der Prinzipdarstellung der erfindungsgemäßen Anordnung nach Fig. 4 ist eine Be
leuchtungs- und Abbildungseinrichtung 1 dargestellt, bei der in einem von der Licht
quelle 2 ausgehenden Lichtbündel 3 eine Küvette 4 mit einer zu analysierenden Probe
angeordnet ist. Das Lichtbündel 3 ist mit Hilfe einer Abbildungslinse 5 auf den Ein
trittsspalt 6 einer beispielsweise als Kompaktspektrometer 7 ausgebildeten dispergie
renden Einrichtung fokussiert. Dabei haben Lichtquelle 2 und Abbildungslinse 5 eine
gemeinsame optische Achse 8.
Das Kompaktspektrometer 7 ist mit einem abbildenden optischen Gitter 9 ausgestattet,
durch welches das vom Eintrittsspalt 6 kommende Licht dispergierend auf einen Pho
toempfänger 10 gerichtet ist. Zwischen dem Eintrittsspalt 6 und dem Scheitelpunkt 11
des Gitters 9 ist die optische Achse 17 des Kompaktspektrometers 7 ausgebildet.
Gemäß Fig. 2 weist der Photoempfänger 10 ein Schutzfenster 12 mit einer Innenfläche
13 sowie mehrere in einer Zeile angeordnete Sensorelemente 14 auf. Die lichtempfind
lichen Flächen der einzelnen Sensorelemente 14 liegen gemeinsam in der ebenen Sen
sorempfangsfläche 15. Der Zwischenraum 16 zwischen der Innenfläche 13 und der
Sensorempfangsfläche 15 ist mit einem Gas gefüllt.
Erfindungsgemäß liegt, wie in Fig. 4 dargestellt, die optische Achse 17 des Kom
paktspektrometers 7 nicht wie bei den bekannten Spektrometeranordnungen in der
geradlinigen Verlängerung 18 der optischen Achse 8, sondern die beiden optischen
Achsen 8 und 17 schließen einen Winkel α ein, der um einen Betrag β von 180° ab
weicht. Das heißt, die optische Achse 17 des Kompaktspektrometers 7 ist gegen die
optische Achse 8 der Beleuchtungs- und Abbildungseinrichtung 1 um den Winkel β ge
neigt. Der Winkel β liegt beispielhaft im Bereich zwischen -6° und +6°. Der Schnittpunkt
der beiden Achsen 8 und 17 befindet sich im Eintrittsspalt 6.
Das Lichtbündel 3 leuchtet auf dem Gitter 9 eine Fläche aus, deren Mitte in einem Ab
stand neben dem Scheitelpunkt 11 liegt, der sich aus dem Winkel β und der eintritts
spaltseitigen Schnittweite des Gitters 9 ergibt. Die Mitte dieser ausgeleuchteten Fläche
liegt, unter der Voraussetzung eines Gitters 9 mit 116 mm Schnittweite und unter der
Annahme eines für maximale Falschlichtreduzierung bei Wellenlänge λ = 200 nm bevor
zugten Winkels β = 6°, etwa 12 mm neben dem Scheitelpunkt 11.
Das von der ausgeleuchteten Gitterfläche ausgehende Spektrallicht fällt auf den Pho
toempfänger 10, wobei die Wellenlänge, die senkrecht auf die Sensorempfangsfläche 15
trifft, eine andere ist als die Wellenlänge, die bei α = 180° bzw. bei β = 0° senkrecht auf die
Empfangsfläche 15 trifft. So fällt beispielsweise die Strahlung, die der Wellenlänge
λ ≈ 200 nm entspricht, an einem Ort 19 senkrecht auf den Photoempfänger 10, wenn der
Winkel β = 6° beträgt, ein Gitter 9 mit 248 Linien/mm und einem Radius von 116 mm
vorgesehen ist und der Photoempfänger 10 eine Länge von 25,6 mm hat und mit 1024
Sensorelementen (Pixeln) ausgestattet ist, deren Längenausdehnung jeweils 25 µm be
trägt.
Die Strahlung der Wellenlänge λ ≈ 200 nm trifft damit (wie der Strahl B in Fig. 2) senkrecht
auf das Schutzfenster 12 bzw. auf die Empfangsfläche 15. Die das Falschlicht verursa
chenden Reflexionen bei der Wellenlänge λ ≈ 200 nm treten deshalb nicht mehr auf.
Die Auswirkung der Schrägstellung der optischen Achse 17 des Kompaktspektrometers
7 zur optischen Achse 8 der Beleuchtungs- und Abbildungseinrichtung 1 um einen
Winkel β ≠ 0° zeigen Fig. 3.2 und Fig. 3.3 anhand des Spektrogramms der Umgebung der
Hg-Linie bei λ = 253 nm. Dasselbe Spektrum bei β = 0° ist in Fig. 3.1 dargestellt.
Aus dem Vergleich von Fig. 3.1 und Fig. 3.2 ist ersichtlich, daß in Fig. 3.2 bei Position a
die Hg-Linie schmaler ist und bei Position b der bis λ = 240 nm schräg abfallende Verlauf
der Kurve fehlt, der in Fig. 3.1 seine Ursache in dem Falschlicht hat, das von der Linie
253 nm herrührt.
Die schwache Linie Hg 237 nm bei Position c kann erst in Fig. 3.2 eindeutig als Linie
erkannt werden. Das bedeutet, daß die beschriebene erfindungsgemäße Anordnung das
Falschlicht reduziert und dadurch auch das Auflösungsvermögen selektiv verbessert.
Wird beispielsweise Winkel β = 10° gewählt, dann verlagert sich wie in Fig. 3.3 dargestellt
der schräge falschlichtbedingte Abfall der Kurve auf die andere Seite der Linie Hg
253 nm, das heißt zu den höheren Wellenlängen hin. Der Winkel β ist dann zu groß.
Die erfindungsgemäße Neigung der beiden optischen Achsen 8 und 17 gegeneinander
bzw. die Schrägstellung des Kompaktspektrometers 7 gegenüber der Beleuchtungs-
und Abbildungseinrichtung 1 ist nicht auf die Verwendung von Kompaktspektrometern
beschränkt. Sie ist prinzipiell auch vorteilhaft anwendbar bei anderen üblichen Spek
trometermontierungen, bei denen ein Photoempfänger 10 mit einem Schutzfenster 12
verwendet wird.
Der Abbildungslinse 5 ist eine Blende 20 vorgeordnet, mit der Form und Größe der
ausgeleuchteten Gitterfläche beeinflußbar ist. Die Größe der ausgeleuchteten Gitterflä
che ergibt sich als Produkt aus der Öffnung der Blende 20 und dem Abbildungsmaß
stab.
Von wesentlicher Bedeutung im Hinblick auf die Verbesserung der Genauigkeit der
Spektralanalyse ist die Verringerung der Abbildungsfehler durch Reduzierung der au
ßeraxialen Strahlen in der Meridionalebene, in der Eintrittsspalt 6, Gitterscheitel 11 und
Photoempfänger 10 liegen. Weniger stark dagegen wird das Falschlicht durch die au
ßeraxialen Strahlen in der Saggitalebene beeinflußt.
Insofern hat sich eine auf dem Gitter 9 beleuchtete Fläche von etwa 4 mm Breite und
20 mm Höhe als vorteilhaft erwiesen, die von einer Blende 20 mit einer Öffnung von
2 mm × 10 mm bei einer Spektrometerschnittweite von 116 mm und einem Abbildungs
maßstab 1 : 2 erzeugt wird. Damit ist eine ausreichende Strahlungsenergie für kurzzeiti
ge Messungen gewährleistet, und das Falschlicht wird in Verbindung mit der erfin
dungsgemäßen Neigung der beiden optischen Achsen 8 und 17 um β = 6° zueinander
auf einen Wert ≦ 1% bei λ = 200 nm, gemessen mit einer 1,2%-igen (w/v) Kaliumchloridlö
sung, reduziert. Bei Spektrometeranordnungen nach dem bisherigen Stand der Technik
dagegen liegt der Wert des Falschlichtes bei 4%.
Die Blende 20 kann in der Breite von 1,5 mm bis 3 mm und in der Höhe von 6 mm bis
12 mm variiert werden. Die sich dadurch ergebenden Aperturwinkel betragen in der
Meridionalebene 1,7° bis 3.4° und in der Saggitalebene 6,8 bis 13,6°.
Zur weiteren Verbesserung der spektralen Auflösung kann der Eintrittsspalt 6 des
Kompaktspektrometers 7 soweit reduziert werden, daß die Summe aus der Spaltbreite
und aus der den Abbildungseigenschaften des Spektrometers entsprechenden Verbrei
terung des Bildes des Eintrittsspaltes 6 auf dem Photoempfänger 10 mindestens der
Breite von drei Sensorelementen (Pixeln) entspricht. Beispielhaft kann bei einem Kom
paktspektrometer 7 mit einer eingangseitigen Schnittweite von 116 mm ein Eintritts
spalt 6 mit der 1,2fachen Breite eines Sensorelementes, das entspricht 30 µm, genutzt
werden.
Mit einer derartigen Ausgestaltung der Erfindung in Verbindung mit einem Winkel β = 6°
und der Einstellung der Apertur mit der Blende 20 von 2 mm × 10 mm ergab die Auswer
tung der Spektrallinien einer Hg-Niederdrucklampe Halbwertsbreiten von 1,3 nm bis
1,5 nm im Spektralbereich von 190 nm bis 1014 nm. Die spektrale Auflösung, gemessen
am Toluol in n-Hexan bei 266/269 nm, beträgt bei der gewählten Anordnung 1 nm im
Vergleich zu einer Auflösung von 2 nm, die mit einem herkömmlichen Aufbau erzielbar
ist.
Spektrometeranordnungen, die über einen großen Spektralbereich vom UV bis zum IR
arbeiten, benötigen im allgemeinen zwei Strahlungsquellen, die in verschiedenen Spek
tralbereichen emittieren. Wird als Abbildungslinse 5 kein chromatisch korrigiertes Ab
bildungssystem, sondern eine einzelne Linse aus Quarz oder einem anderen Material
benutzt, dann werden die verschiedenen Wellenlängen in unterschiedlichen Abständen
von dieser Linse fokussiert. Die Wellenlänge, die an der Stelle des Eintrittsspaltes 6
fokussiert wird, erzeugt ein stärkeres Signal am Photoempfänger 10 als andere Wellen
längen. Um jedoch für alle in Frage kommenden Wellenlängen ein annähernd gleiches
Signal zu erreichen, wird bei feststehender Abbildungslinse 5 das Kompaktspektrome
ter 7 in der Richtung der optischen Achse 8 der Lichtquelle 2 verschoben.
Das wird bei den Spektrometeranordnungen nach Stand der Technik durch eine Ver
schiebung entlang der gemeinsamen optischen Achse von Lampenhaus und Spektro
meter vorgenommen. Sollen die beiden optischen Achsen 8 und 17 aber erfindungsge
mäß einen Winkel α = 180° ± β mit β ≠ 0 einschließen, kann das, wie in Fig. 5 dargestellt,
durch einen zwischen zwei Bezugsflächen 21 und 22 beigelegten Keil 23, der den ge
wünschten Winkel β als Keilwinkel hat, erreicht werden. Im dargestellten Fall ist die
Bezugsfläche 21 dem Kompaktspektrometer 7 bzw. der optischen Achse 17 und die
Bezugsfläche 22 der optischen Achse 8 zugeordnet. Weiterhin kann eine der beiden
Bezugsflächen 21 oder 22, vorzugsweise die Bezugsfläche 22, als Verschiebefläche die
nen, so daß auf einfache Weise eine Justierung der optischen Achsen 8,17 zueinander
möglich ist.
Denkbar ist dagegen auch, daß die der optischen Achse 8 zugeordnete Bezugsfläche 22
gegen die optischen Achse 8 bereits um den Winkel β geneigt ist. In diesem Fall stehen
sich die beiden Bezugsflächen 21, 22 bereits parallel gegenüber, so daß das Beilegen
eines Keiles mit dem Keilwinkel der Größe β nicht erforderlich ist.
Weitere Ausgestaltungen können vorsehen, nur einen Keil, jedoch mit über den gesam
ten Wertebereich des Winkels β von +6° bis -6° verstellbarem Keilwinkel beizulegen oder
mindestens eine der Bezugsflächen 21, 22 in der Relation zu der jeweils zugeordneten
optischen Achse 8 bzw. 17 um den genannten Winkelbereich verstellbar anzuordnen.
Bei Verwendung eines Keiles mit verstellbarem Keilwinkel oder mit einer um den Winkel
β verstellbaren Bezugsfläche 21 oder 22 kann die Wellenlänge λ, die bevorzugt senk
recht auf die Empfangsfläche 15 treffen soll, variiert werden. Allerdings muß dabei ge
währleistet sein, daß der Schnittpunkt beider optischer Achsen 8, 17 stets im Eintritts
spalt 6 verbleibt.
Eine erfindungsgemäße Ausgestaltung ist auch insofern denkbar, als beispielsweise das
Kompaktspektrometer 7 auf einem Führungsschlitten angeordnet ist, der sowohl um
den Wertebereich ±β schwenkbar als auch in Richtung zur optischen Achse 8 ver
schiebbar ist.
1
Beleuchtungs- und Abbildungseinrichtung
2
Lichtquelle
3
Lichtbündel
4
Küvette
5
Abbildungslinse
6
Eintrittsspalt
7
Kompaktspektrometer
8
optische Achse
9
optisches Gitter
10
Photoempfänger
11
Scheitelpunkt
12
Schutzfenster
13
Innenfläche
14
Sensorelemente
15
Empfangsfläche
16
Zwischenraum
17
optische Achse
18
Verlängerung
19
Ort
20
Blende
21
,
22
Bezugsfläche
23
Keile
Claims (11)
1. Spektrometeranordnung, vorzugsweise zur Emissions- und Absorptions-Analyse
einer Probe durch UV-VIS-Spektrometrie, mit einer Beleuchtungs- und einer Abbil
dungseinrichtung, zwischen denen die Probe (4) angeordnet ist, und mit einer op
tisch dispergierenden Einrichtung, in welche das von der Abbildungseinrichtung
kommende Licht durch einen Eintrittsspalt (6) eintritt und auf ein dispergierendes
Medium, vorzugsweise ein abbildendes optisches Gitter (9), gerichtet ist, von dem
es auf die in einem Array angeordneten Sensorelemente (14) eines Photoempfän
gers (10) gelenkt wird, wobei den Sensorelementen (14) ein transparentes Schutz
fenster (12) und ein gasgefüllter, sich zwischen Schutzfenster (12) und Senso
rempfangsfläche (15) erstreckender Zwischenraum (16) vorgeordnet ist, dadurch
gekennzeichnet,
- 1. daß die zwischen dem Eintrittsspalt (6) und dem dispergierenden Medium ausge bildete optische Achse (17) mit der optischen Achse (8) der Abbildungseinrich tung einen Winkel a = 180° ± β mit β ≠ 0 einschließt,
- 2. wobei der Schnittpunkt der beiden optischen Achsen (8,17) im Eintrittsspalt (6) liegt und der Winkel β so bemessen ist,
- 3. daß der Mittenstrahl eines durch eine ausgewählte Wellenlänge λ charakterisier ten Strahlenbündels senkrecht auf die Sensorempfangsfläche (15) trifft.
2. Spektrometeranordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Be
leuchtungseinrichtung und die Abbildungseinrichtung einerseits und die disper
gierende Einrichtung andererseits jeweils als kompakte Baueinheiten ausgeführt
und mit einander zugewandten Bezugsflächen (21, 22) zur gegenseitigen Lagefi
xierung verbunden sind.
3. Spektrometeranordnung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die der
Beleuchtungs- bzw. der Abbildungseinrichtung zugeordnete Bezugsfläche (22) par
allel zur optischen Achse (8) der Abbildungseinrichtung und die der dispergieren
den Einrichtung zugeordnete Bezugsfläche (21) parallel zur optischen Achse (17)
der dispergierenden Einrichtung ausgerichtet sind und zur Einstellung des Winkels
β wahlweise Keile (23) mit unterschiedlichen Keilwinkeln, die dem Wertebereich des
Winkels β entsprechen, zwischen die Bezugsflächen (21, 22) einbringbar sind.
4. Spektrometeranordnung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß minde
stens eine der Bezugsflächen (21, 22) zur Lagepositionierung beider Baueinheiten
gegen die optische Achse (8, 17) der zugeordneten Baueinheit um den Winkel β ge
neigt ist, wodurch bei gegeneinander vorgespannten Bezugsflächen (21, 22) der
Winkel β zwischen den optischen Achsen (8, 17) eingestellt ist.
5. Spektrometeranordnung nach einem der vorgenannten Ansprüche, dadurch ge
kennzeichnet, daß die dispergierende Einrichtung unter Beibehaltung des zwischen
den optischen Achsen (8, 17) eingestellten Winkels β und des Schnittpunktes beider
optischer Achsen (8, 17) in Richtung der optischen Achse (8) der Abbildungseinrich
tung verschiebbar angeordnet ist.
6. Spektrometeranordnung nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekenn
zeichnet, daß die dispergierende Einrichtung und/oder die Beleuchtungs- und Ab
bildungseinrichtung auf einem Führungsschlitten befestigt sind, der eine Drehung
um den Schnittpunkt der beiden optischen Achsen (8, 17) sowie eine Längsver
schiebung jeweils in Richtung auf die optische Achse (8 oder 17) der anderen Ein
richtung ermöglicht.
7. Spektrometeranordnung nach einem der vorgenannten Ansprüche, dadurch ge
kennzeichnet, daß der Winkel β einen Wert zwischen +6° und -6° hat, ausgenommen
β = 0°.
8. Spektrometeranordnung nach einem der vorgenannten Ansprüche, dadurch ge
kennzeichnet, daß der Winkel den Wert β = 6° hat, der ausgewählte Strahlungsanteil
die Wellenlänge λ = 200 nm aufweist, als dispergierendes Medium ein optisches Git
ter (9) mit 248 Linien/mm und einem Krümmungsradius von 116 mm vorgesehen
ist und der Photoempfänger (10) aus 1024 Sensorelementen (14) besteht, die auf
einer Länge von 25,6 mm zeilenförmig angeordnet sind.
9. Spektrometeranordnung nach einem der vorgenannten Ansprüche, dadurch ge
kennzeichnet, daß in der Abbildungseinrichtung eine Abbildungslinse (5) und eine
der Abbildungslinse (5) vorgeordnete Blende (20) vorgesehen und Abbildungslinse
(5) und Blende (20) so aufeinander abgestimmt sind, daß ein meridionaler Aus
leuchtungswinkel auf das dispergierende Medium von 1,5° bis 4, 5° und ein saggi
taler Ausleuchtungswinkel von 6,8° bis 13,6° erzielbar ist.
10. Spektrometeranordnung nach einem der vorgenannten Ansprüche, dadurch ge
kennzeichnet, daß der Eintrittsspalt (6) unter Berücksichtigung des Abbildungs
maßstabes der Abbildungslinse (5) eine Breite aufweist, die der 1,2- bis 1,5fachen
Breite eines Sensorelementes (14) entspricht und durch die im Zusammenwirken
mit den Abbildungseigenschaften des dispergierenden Mediums eine Spektrallinie
des Lichtes mindestens drei, vorzugsweise vier nebeneinander liegende Sensorele
mente (14) beleuchtet.
11. Spektrometeranordnung nach einem der vorgenannten Ansprüche, dadurch ge
kennzeichnet, daß das Schutzfenster (12) und die Sensorempfangsfläche (15) ge
wölbt ausgebildet sind, wodurch alle vom dispergierenden Medium auf den Pho
toempfänger (10) gerichteten Strahlungsanteile senkrecht auf die Sensorempfangs
fläche (15) treffen.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1998113950 DE19813950C1 (de) | 1998-03-28 | 1998-03-28 | Spektrometeranordnung |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1998113950 DE19813950C1 (de) | 1998-03-28 | 1998-03-28 | Spektrometeranordnung |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19813950C1 true DE19813950C1 (de) | 1999-11-04 |
Family
ID=7862806
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1998113950 Expired - Fee Related DE19813950C1 (de) | 1998-03-28 | 1998-03-28 | Spektrometeranordnung |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE19813950C1 (de) |
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1998
- 1998-03-28 DE DE1998113950 patent/DE19813950C1/de not_active Expired - Fee Related
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