DE19749915A1 - Positiv arbeitende bildverarbeitende Zusammensetzung und Element sowie Verfahren zur Bildung eines positiven Bildes mittels eines Lasers - Google Patents

Positiv arbeitende bildverarbeitende Zusammensetzung und Element sowie Verfahren zur Bildung eines positiven Bildes mittels eines Lasers

Info

Publication number
DE19749915A1
DE19749915A1 DE19749915A DE19749915A DE19749915A1 DE 19749915 A1 DE19749915 A1 DE 19749915A1 DE 19749915 A DE19749915 A DE 19749915A DE 19749915 A DE19749915 A DE 19749915A DE 19749915 A1 DE19749915 A1 DE 19749915A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
infrared radiation
composition
acid
positive
sensitive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
DE19749915A
Other languages
English (en)
Inventor
Paul Richard West
Jeffery Allen Gurney
John E Walls
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kodak Graphics Holding Inc
Original Assignee
Eastman Kodak Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Eastman Kodak Co filed Critical Eastman Kodak Co
Publication of DE19749915A1 publication Critical patent/DE19749915A1/de
Ceased legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00Forme preparation
    • B41C1/10Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/02Positive working, i.e. the exposed (imaged) areas are removed
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/06Developable by an alkaline solution
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/22Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by organic non-macromolecular additives, e.g. dyes, UV-absorbers, plasticisers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/24Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. acrylics, vinyl polymers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/26Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions not involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • B41C2210/262Phenolic condensation polymers, e.g. novolacs, resols
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106Binder containing
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/127Spectral sensitizer containing
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/145Infrared

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Description

Diese Erfindung betrifft eine bilderzeugende Zusammensetzung und ein Element, das zur Herstellung eines positiven Bildes geeignet ist. Darüberhinaus betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Bereitstellung eines positiven Bildes mittels einer Laserbildverarbeitung des bilderzeugenden Elementes.
Der Stand der Technik bei der Lithographie basiert auf der Nichtmischbarkeit von Öl und Wasser, wobei das ölartige Material oder die Tinte vorzugsweise durch den Bildbereich zurück­ gehalten wird, und das Wasser oder das Feuchtwasser wird vorzugsweise durch den Nichtbild- Bereich zurückgehalten. Wenn eine in geeigneter Weise hergestellte Oberfläche mit Wasser be­ feuchtet wird und dann eine Tinte aufgebracht wird, halten die Hintergrund- oder Nichtbild-Berei­ che das Wasser zurück, und sie stoßen die Tinte ab, wohingegen die Bildbereiche die Tinte an­ nehmen und Wasser abstoßen. Die Tinte in den Bildbereichen wird dann auf die Oberfläche eines Materials übertragen, auf dem das Bild wiedergegeben werden soll, wie beispielsweise Papier, Gewebe und andere Materialien. Üblicherweise wird die Tinte auf ein Zwischenmaterial übertra­ gen, das als Drucktuch bezeichnet wird, welches dann wiederum die Tinte auf die Oberfläche ei­ nes Materials überträgt, auf dem das Bild wiedergegeben werden soll.
Eine im großen Umfang eingesetzte lithographische Druckplatte hat eine lichtempfindliche Beschichtung, die auf einen Aluminiumträger aufgebracht ist. Die Beschichtung kann in der Weise auf Licht reagieren, daß belichtete Bereiche löslich werden, die dann in einem Entwicklungsver­ fahren entfernt werden. Eine solche Druckplatte wird im Stand der Technik als positiv arbeitende Druckplatte bezeichnet. Im Gegensatz dazu bezeichnet man eine Platte als negativ arbeitende Druckplatte, wenn belichtete Bereiche der Beschichtung gehärtet werden. In beiden Fällen sind die verbleibenden bildmäßigen Bereiche Tinten-rezeptiv oder -oleophil und die Nichtbild-Bereiche oder der Hintergrund sind Wasser-rezeptiv oder -hydrophil. Die Differenzierung zwischen Bild- und Nichtbild-Bereichen wird im Belichtungsprozeß vorgenommen, bei dem ein Film auf eine Platte unter Vakuum aufgebracht wird, um einen guten Kontakt sicherzustellen. Die Platte wird dann mit einer Lichtquelle belichtet, wobei ein Anteil des Lichtes aus UV-Strahlung besteht.
Verschiedene brauchbare Druckplatten, die entweder negativ oder positiv arbeiten, wer­ den beispielsweise beschrieben in GB-B-2 082 339 und US-A-4 927 741. Beide Druckschriften beschreiben bildverarbeitende Schichten, die ein o-Diazonaphthochinon und ein Resolharz sowie gegebenenfalls ein Novolakharz enthalten. Eine andere Druckplatte wird in der US-A-4 708 925 beschrieben, wobei eine bildverarbeitende Schicht einen Phenolkunststoff und ein strahlungsemp­ findliches Oniumsalz aufweist. Diese bildverarbeitende Zusammensetzung kann auch zur Herstel­ lung einer direkt durch Laser adressierbaren Druckplatte eingesetzt werden. Bei diesem Verfahren der Bildverarbeitung wird kein photografischer Film eingesetzt.
Die direkte digitale Bildverarbeitung von Offset-Druckplatten stellt eine Technologie dar, die eine ganz besondere Bedeutung in der Druckindustrie wahrnimmt. Die ersten kommerziell erfolgreichen Realisierungen dieser Technologie setzten Laser ein, die sichtbares Licht emittieren, insbesondere Argonionen- und Frequenz verdoppelte Nd:YAG-Laser. Beim Einsatz von Platten­ satzgeräten sind Druckplatten mit hohen Photoempfindlichkeiten erforderlich, wenn man akzep­ table Durchsatzgrößen erreichen will. Verschlechterte Lagerstabilität, Verluste bei der Auflösung und Umständlichkeit bei der Handhabung der Materialien unter abgedunkelten Lichtbedingungen, sind Nachteile, wie man sie im allgemeinen bei bildverarbeitenden Systemen mit ausreichend ho­ hen Photoempfindlichkeiten beobachtet.
Fortschritte bei der Festkörper-Lasertechnologie führten zu hoch-energetischen Diodenla­ sern als attraktive Lichtquellen für Druckplattensatzgeräte. Zur Zeit sind mindestens zwei Druck­ platten-Technologien eingeführt, bei denen man mit Laserdioden, die im Infrarotbereich emittie­ ren, insbesondere bei 830 nm, zur Bildverarbeitung arbeitet. Eine derartige Technologie wird be­ schrieben in EP-A-0 573 091 sowie in US-A-5 353 705, US-A-5 351 617, US-A-5 379 698, US-A-5 385 092 und US-A-5 339 737. Diese Technologie verläßt sich auf die Ablation, um ein oder mehrere Schichten von der Druckplatte physikalisch zu entfernen. Eine Ablation erfordert hohe Laserleistungen, was zu einer langsameren Bildverarbeitung und Problemen mit Rückstän­ den bei der Bilderzeugung führt.
Eine sauberere Technologie mit hoher Empfindlichkeit wird in US-A-5 340 699, US-A- 5 372 907, US-A-5 466 557 und EP-A-0 672 954 beschrieben, die Nahinfrarot-Energie einsetzen, um Säuren in einer bildmäßigen Art zu erzeugen. Diese Säuren katalysieren die Quervernetzung der Beschichtung in einem sich an die Belichtung anschießenden Aufwärmungsschritt. Eine präzi­ se Temperatursteuerung ist in dem Aufwärmungsschritt erforderlich. Die bilderzeugenden Schichten in den Druckplatten umfassen üblicherweise ein Resolharz, ein Novolakharz, eine laten­ te Bronsted-Säure und eine infrarotes Licht absorbierende Verbindung. Andere Additive sowie beispielsweise verschiedene Photosensibilisatoren können ebenfalls eingeschlossen werden.
Die Verwendung von Auflösungs-Inhibitorverbindungen mit Säure-spaltbaren C-O-C- Gruppen in positiv arbeitenden Druckplatten ist ebenfalls bekannt. Beispielhaft für solche Verbin­ dungen sind o-Carbonsäureester, wie sie in US-A-4 101 323 beschrieben werden, und die Po­ lyacetale, wie beschrieben in US-A-4 247 611. Diese Verbindungen verhindern die Auflösung von üblicherweise Alkali-löslichen Phenolharzen in alkalischen Entwicklerlösungen.
Darüberhinaus werden die Auflösungsinhibitoren im allgemeinen mit photolytischen Säu­ re-erzeugenden Verbindungen in den photoempfindlichen Schichten der Druckplatten vermischt. Bei der bildmäßigen Belichtung der Schichten mit sichtbarem oder ultraviolettem Licht wird eine Säure von der photolytischen Säure-erzeugenden Verbindung freigesetzt die dann die Zersetzung der Auflösungsinhibitoren in den belichteten Bereichen katalysiert. Sobald dieses eintritt, können phenolische Harze in alkalischen Entwicklerzusammensetzungen aufgelöst werden, so daß ein positives Bild in den belichteten Bereichen erhalten wird.
Eine Vielzahl solcher bildverarbeitenden Systeme sind bekannt, beispielsweise aus US-A-4 101 323, US-A-4 247 611, US-A-4 421 844, US-A-4 506 006, US-A-4 678 737, US-A- 4 840 867, US-A-5 149613, US-A-5 286 602, US-A-5 314 786 und US-A-5 346 806. Alle diese Systeme erfordern jedoch eine Belichtung und eine Säureerzeugung mittels UV- oder sichtbarem Licht.
Die Laser-Bildverarbeitung mit Schichten, die durch Säure spaltbare Gruppen enthalten, wurde in US-A-5 314 786 offenbart. Hier werden Kryptonfluorid-Laser, die im tiefen UV-Bereich emittieren, eingesetzt, um positive Bilder zu erhalten. Die bildverarbeiteten Schichten, die in die­ sem Patent beschrieben werden, enthalten O,N-Polyacetale, Polyhydroxystyrenbinderharze, Po­ lyacetal-Auflösungsinhibitoren und Hydroxyethoxytriazinsäure erzeugende Verbindungen. Ein Argonionen-Laser wird in US-A-4 506 006 zum Einsatz bei ähnlichen photoempfindlichen Druckplatten beschrieben. Ein solcher Laser hat eine Emissionswellenlänge von entweder 351 oder 488 nm. Eine ähnliche Zusammensetzung wird in US-A-5 149 613 beschrieben, wobei nega­ tive Bilder dadurch erhalten werden, daß eine Gesamtbelichtung vorgenommen wird, an die sich eine Bildverarbeitung mit einem Krypton-Laser, der bei 647 oder 676 nm emittiert, anschließt.
Es besteht nach wie vor ein Bedürfnis nach Zusammensetzungen, die Auflösungsinhibito­ ren für phenolische Harze und auf thermochemische Weise Säure-erzeugende Verbindungen ent­ halten und die mit einem Laser, der mit moderater Energie im infraroten oder nahinfraroten Spektralbereich bildmäßig zur Erzeugung von positiven Abzügen eingesetzt werden kann.
Erfindungsgemäß wird eine positiv arbeitende, gegenüber infraroter Strahlung empfindli­ che, bildverarbeitende Zusammensetzung bereitgestellt; diese umfaßt:
  • a) einen Alkali-löslichen reaktiven Kunststoff,
  • b) eine infrarote Strahlung absorbierende Verbindung und ist gekennzeichnet dadurch, daß sie
    eine auf thermochemischem Wege Säure-erzeugende Verbindung, die eine Bron­ sted-Säure bei Belichtung mit infraroter Strahlung frei setzt und
    einen Alkali-Auflösungsinhibitor mit einer Säure-spaltbaren C-O-C-Gruppe, der die Alkalilöslichkeit des reaktiven Kunststoffs inhibiert, umfaßt.
Diese Erfindung stellt darüberhinaus ein positiv arbeitendes, gegenüber infraroter Strah­ lung empfindliches Element bereit, das einen Träger umfaßt und darauf eine positiv arbeitende, gegenüber infraroter Strahlung empfindliche Schicht, die die zuvor beschriebene positiv arbeiten­ de, gegenüber infraroter Strahlung empfindliche Bildverarbeitungszusammensetzung aufweist.
Darüberhinaus wird erfindungsgemäß ein Verfahren zur Erzeugung eines positiven Bildes bereitgestellt, umfassend:
  • A) bildmäßige Belichtung des positiv arbeitenden, gegenüber infraroter Strahlung empfindlichen Elementes, wie zuvor beschrieben, mit einem infrarote Strahlung emittierenden Laser und
  • B) Inkontaktbringen des belichteten Elementes mit einer wäßrigen alkalischen Ent­ wicklerlösung zur Entfernung der belichteten Bereiche der gegenüber infraroter Strahlung emp­ findlichen Schicht, um ein positives Bild zu erhalten.
Die bildverarbeitende Zusammensetzung und das erfindungsgemäße Element sind brauch­ bar, um hoch qualitative Halbton- oder Rasterabzüge in einfacher Weise mit Lasern von modera­ ter Leistung zu erhalten, die im infraroten oder nahinfraroten Bereich Strahlung emittieren. Es ist keine Komplettbelichtung oder nachträgliche Aufheizstufe erforderlich. Das Element kann übli­ cherweise bildmäßig in einem Druckplattensetzgerät oder in Druckpressen bei Temperaturen mit einer geeigneten Bildverarbeitungsrate eingesetzt werden. Es war überraschend, daß in dieser Weise Laser mit einer moderaten Leistung eingesetzt werden konnten und daß eine Belichtung mit anderen Strahlungsquellen oder eine nach der Bildverarbeitung sich anschließende Erwärmung vermieden werden konnten.
Diese Vorteile erreicht man, in dem man eine gegenüber infraroter Strahlung empfindliche Bildverarbeitungszusammensetzung formuliert, in die man einen reaktiven Kunststoff (wie einen Phenolkunststoff) einschließt, der normalerweise in wäßrigen, alkalischen Entwicklerlösungen löslich ist. Die Auflösung des Kunststoffes wird jedoch mit einem konventionellen Auflösungsin­ hibitor verhindert oder zurückgedrängt, der Säure-spaltbare C-O-C-Gruppen aufweist. Wenn die­ se Gruppen durch Erzeugung einer Bronsted-Säure in den bildmäßigen oder belichteten Bereichen der bilderzeugenden Schicht gespalten werden, verliert der Inhibitor seine Wirksamkeit und der Kunststoff wird in der Entwicklerlösung aufgelöst. Die erfindungsgemäße bildverarbeitende Zu­ sammensetzung setzt jedoch in einer unerwarteten Weise eine auf thermochemischem Wege Bronsted-Säure freisetzende Verbindung ein, die sich von einer bloßen auf photolytischem Wege Bronsted-Säure generierenden Verbindung unterscheidet. So kann eine Laser-Bildverarbeitung erreicht werden, ohne daß man aktinische oder UV-Strahlung benötigt, um die Bronsted-Säure zu erzeugen. Darüberhinaus macht der Einsatz thermochemischer Mittel zur Erzeugung der Säure es bei einem erfindungsgemäßen Element möglich, es unter Raumlichtbedingungen zu handhaben.
Die erfindungsgemäß einzusetzenden Alkali-löslichen, reaktiven Kunststoffe sind was­ serunlöslich, aber in alkalischen Lösungen mit einem pH-Wert von mindestens 9 löslich. Die wei­ ter unten genauer definierten Phenolkunststoffe werden am meisten bevorzugt. Es sind aber ande­ re brauchbare reaktive Kunststoffe für einen Fachmann ohne weiteres ersichtlich. Übliche wäßrige alkalische Lösungen umfassen Entwicklerlösungen, wie unten angegeben, die für die Lithographie eingesetzt werden.
Die hier brauchbaren Phenolkunststoffe sind lichtstabile wasserunlösliche Alkali-lösliche und filmbildende Kunststoffe, die eine Vielzahl von Hydroxygruppen, entweder an dem Grundge­ rüst des Kunststoffes oder an seitenständigen Gruppen, aufweisen. Die Kunststoffe haben übli­ cherweise ein Molekulargewicht von mindestens etwa 350 und vorzugsweise von etwa 1000, wie bestimmt mittels Gelpermeationschromatographie. Eine obere Grenze für das Molekulargewicht ist für einen Fachmann ersichtlich, diese wird aber in der Praxis nicht oberhalb von 100000 liegen. Die Kunststoffe haben üblicherweise einen pKa-Wert von nicht mehr als 11 und so gering wie 7.
Der hier verwendete Ausdruck "Phenolkunststoff" umfaßt, ohne daß hierin eine Beschrän­ kung liegt, auch solche Kunststoffe, die als Novolakkunststoffe, Resolkunststoffe und Polyvinyl­ verbindungen mit phenolischen Hyroxygruppen bezeichnet werden. Novolakkunststoffe werden bevorzugt.
Bei Novolakkunststoffen handelt es sich im allgemeinen um Polymere, die durch Konden­ sationsreaktionen von Phenolen und Aldehyden gewonnen werden, wie beispielsweise Formalde­ hyd oder einer Aldehyd-freisetzenden Verbindung, die eine Phenolaldehyd-Kondensation in Ge­ genwart eines Säurekatalysatoren eingehen kann. Typische Novolakkunststoffe sind, ohne daß hierin eine Begrenzung liegt, Phenolformaldehyd-Kunststoff, Kresolformaldehyd-Kunststoff, Phe­ nolkresolfbrmaldehyd-Kunststoff, p-t-Butylphenolformaldehyd-Kunststoff und Pyrogallolaceton- Kunststoffe. Solche Verbindungen sind gut bekannt und beispielsweise beschrieben in US-A- 4 308 368 , US-A-4 845 008, US-A-5 437 952, US-A-5 491 046, US-A-5 143 816 und GB-A- 1 546 633. Ein ganz besonders brauchbarer Novolakkunststoff wird durch die Umsetzung von m- Kresol oder Phenol mit Formaldehyd unter konventionellen Bedingungen hergestellt.
Ein weiterer brauchbarer Phenolkunststoff ist eine Polyvinylverbindung mit phenolischen Hydroxylgruppen. Solche Verbindungen sind, ohne daß hierin eine Beschränkung liegt, Poly­ hydroxystyrene und Copolymere, die wiederkehrende Einheiten eines Hydroxystyrens enthalten, und Polymere und Copolymere, die als wiederkehrende Einheiten halogenierte Hydroxystyrene enthalten. Solche Polymere werden beispielsweise in US-A-4 845 008 beschrieben. Andere Hydroxy-enthaltende Polyvinylverbindungen werden in US-A-4 306 010 und US-A-4 306 011 beschrieben. Diese Polyvinylverbindungen werden durch die Umsetzung eines mehrwertigen Al­ kohols mit einem Aldehyd oder Keton hergestellt. Die Patente beschreiben eine Vielzahl von ein­ zelnen Substanzen. Andere brauchbare Phenolkunststoffe werden in US-A-5 368 977 und EP-A- 0 708 368 beschrieben.
Es kann auch eine Mischung der oben beschriebenen reaktiven Kunststoffe Verwendung finden, aber vorzugsweise ist ein einzelner Novolakkunststoff in der photoempfindlichen Zusam­ mensetzung vorhanden. Die reaktiven Kunststoffe sind entweder käuflich erhältlich über eine Vielzahl von Quellen oder sie werden mittels bekannter Verfahren und Ausgangsmaterialien her­ gestellt.
Wenn man die bildverarbeitende Zusammensetzung zu einer Beschichtungszuammenset­ zung in geeigneten Beschichtungslösemitteln formuliert, ist der reaktive Kunststoff in einer Menge von mindestens 0,5 Gew.-% vorhanden. Vorzugsweise ist er in einer Menge von etwa 1 bis etwa 10 Gew.-% vorhanden.
In den getrockneten Bildschichten des erfindungsgemäßen Elementes ist der reaktive Kunststoff das überwiegende Material. Im allgemeinen macht er mindestens 25 Gew.-% der Schicht aus und bevorzugter von etwa 60 bis etwa 90 Gew.-% der getrockneten Schicht.
Ein zweiter wesentlicher Bestandteil der bildverarbeitenden Zusammensetzung ist eine infrarote Strahlung absorbierende Verbindung (oder IR-absorbierende Verbindung) oder eine Mi­ schung dieser Verbindungen. Solche Verbindungen haben typischerweise eine maximale Absorp­ tionswellenlänge (λmax) in dem Bereich von mindestens etwa 750nm, und dies ist der infrarote Bereich oder nahe infrarote Bereich des Spektrums, und insbesondere von etwa 800 bis etwa 1100 nm. Diese Verbindungen können Farbstoffe oder Pigmente sein, wobei viele dieser Verbin­ dungen im Stand der Technik bekannt sind (einschließlich US-A-4 912 083, US-A-4 942 141, US-A-4 948 776, US-A-4 948 777, US-A-4 948 778, US-A-4 950 639, US-A-4 950 640, US-A- 4 952 552, US-A-4 973 572, US-A-5 036 040 und US-A-5 166 024). Brauchbare Materialien sind, ohne daß hierin eine Beschränkung liegt, Farbstoffe oder Pigmente aus folgenden Verbin­ dungsklassen: Squarylium, Croconat, Cyanin (einschließlich Phthalocyanin), Merocyanin, Chalco­ genpyryloaryliden, Oxyindolizin, Chinoid, Indolizin, Pyrylium und Metalldithiolen. Andere brauchbare Klassen schließen Thiazin-, Azulen- und Xanthen-Farbstoffe ein. Ganz besonders brauchbare Infrarot absorbierende Farbstoffe sind Verbindungen aus der CyaninkIasse. Diese Materialien sind über eine Vielzahl kommerzieller Quellen erhältlich.
Die Menge an infraroter Strahlung absorbierender Verbindung in der getrockneten Bild­ schicht ist im allgemeinen ausreichend, um eine optische Dichte von mindestens 0,5 in der Schicht zu erreichen, und vorzugsweise eine optische Dichte von etwa 1 bis etwa 3. Dieser Bereich er­ laubt den Einsatz einer großen Vielzahl von Verbindungen mit sehr stark variierenden Extink­ tionskoeffizienten. Im allgemeinen ist die Menge etwa 1 Gew.-%, und vorzugsweise von 5 bis 25 Gew.-%.
Die bildverarbeitende erfindungsgemäße Zusammensetzung schließt auch einen oder mehrere Auflösungsinhibitoren mit Säure-spaltbaren C-O-C-Gruppen ein. Viele Verbindungs­ klassen sind im Stand der Technik bekannt, einschließlich beispielsweise US-A-4 101 323 , US-A- 4 247 611 , US-A-4 421 844 , US-A-4 506 006 , US-A-4 678 737 , US-A-4 840 867, US-A- 5 149 613 , US-A-5 286 602 , US-A-5 314 786 und US-A-5 346 806. Die Verfahren zur Herstel­ lung dieser Verbindungen sind ebenfalls bekannt und manche sind käuflich erhältlich.
Ganz besonders brauchbare Auflösungsinhibitoren lassen sich als monomere oder polyme­ re Acetale mit wiederkehrenden Acetal- oder Ketalgruppen, monomeren oder polymeren o-Car­ bonsäureestern mit mindestens einer o-Carbonsäureester- oder Amidgruppe, Enolether, N-Acyl­ iminocarbonate, cyclische Acetale oder Ketale, β-Ketoester oder β-Ketoamide und andere, die für einen Fachmann ohne weiteres bekannt oder vorstellbar sind, definieren. Die bevorzugten Auflö­ sungsinhibitoren schließen die Mono- oder Bis-o-carbonsäurearyl- oder -alkylester ein, die in US-A-4 101 323 beschrieben werden. Andere brauchbare o-Carbonsäureester werden als Diphenylmethylether aliphatischer oder aromatischer Hydroxyverbindungen, als N-Diphenoxy­ methylderivate des Lactams und Bis-1,3-dioxan-2-yl-ether aliphatischer Diole in US-A-4 421 844 beschrieben.
Die Menge an Auflösungsinhibitor in den erfindungsgemäßen bildverarbeitenden Zusam­ mensetzungen ist mindestens etwa 10% und vorzugsweise etwa 10 bis etwa 40%, bezogen auf das Gesamttrockengewicht der Zusammensetzung.
Ein anderer wesentlicher Bestandteil der erfindungsgemaßen bildverarbeitenden Zusam­ mensetzung ist eine oder sind mehrere starke, auf thermochemischem Wege Säure-erzeugende Verbindung/en. Solche Verbindungen setzten eine Bronsted-Säure frei, wenn sie Wärme ausge­ setzt werden, die durch infrarote oder nahe infrarote Bestrahlung mittels eines IR-Lasers erzeugt wird. Brauchbare thermochemische Säure-erzeugende Verbindungen kann man als halogenierte organische Verbindungen beschreiben, die im Stande sind, Halogenwasserstoffsäure zu bilden, als Benzaldoxime, Oxalsäureester, Diazonium-, Phosphonium-, Sulfonium- und Iodonium-Salze, o- Nitrobenzylester, N-Hydroxyimidsulfonate, Sulfonsäureester oder Phenole und Iminosulfonate.
Beispielhafte Verbindungen für diese verschiedenen thermochemischen Bronsted- Säure erzeugenden Verbindungen werden unter anderem beschrieben in US-A-4 101 323, US-A- 4421 844, US-A-5 149 613, US-A-5 314 786, US-A-5 227 277 und EP-A-0 708 368.
Ganz besonders brauchbare Verbindungen sind halogenierte Verbindungen, wie haloge­ nierte Triazine (oder s-Triazinderivate), halogenierte 2-Pyrone, halogenierte Oxazole, halogenier­ te Oxadiazole und halogenierte Thiazole. Im allgemeinen haben solche Verbindungen Polyhalome­ thylgruppen, wie beispielsweise Trihalomethylgruppen, die die gewünschte Halogenwasserstoff­ säure beim Aufwärmen durch infrarote Bestrahlung erzeugen.
Ganz besonders brauchbare thermochemische Säure-erzeugende Verbindungen sind die halogenierten Triazine, die mit mindestens einer Trihalomethylgruppe substituiert sind. Beispiel­ hafte Verbindungen sind, ohne daß hierin eine Einschränkung liegt, 2-Phenyl-4,6-bis(trichlor­ methyl)-s-triazin, 2-(p-Chlorphenyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, 2-(p-Tolyl)-4,6-bis(trichlor­ methyl)-s-triazin, 2-(p-Methoxyphenyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, 2-(2',4'-Dichlorphenyl)- 4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, 2,4,6-Tris(trichlormethyl)-s-triazin, 2-Methyl-4,6-bis(trichlor­ methyl)-s-triazin, 2-n-Nonyl-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin und 2-(α,α,β-Trichlorethyl-4,6- bis(trichlormethyl)-s-triazin. Zusätzlich sollte man Verbindungen erwähnen, wie sie in GB-A- 1 388 492 und J. Org. Chem., Bd. 29, Seite 1527 (1964) beschrieben werden.
Das am meisten bevorzugte halogenierte Triazin ist 2,4-Bis(trichlormethyl)-6-(1-naph­ thyl)-s-triazin oder dessen 4-Methoxyderivat.
Die Menge der thermochemischen Bronsted-Säure erzeugenden Verbindung in der erfin­ dungsgemäßen bildverarbeitenden Zusammensetzung ist mindestens 0,5% und vorzugsweise von etwa 1 bis etwa 10%, bezogen auf das Gesamttrockengewicht der Zusammensetzung.
Optionale und nicht wesentliche Bestandteile der bildverarbeitenden Zusammensetzung schließen Farbstoffe, Sensibilisatoren, Stabilisatoren, Belichtungsindikatoren und Tenside in übli­ chen Mengen ein. Bei bevorzugten Ausführungsformen kann ein Tensid (beispielsweise ein Sili­ conmaterial) vorhanden sein.
Selbstverständlich beschichtet man die bildverarbeitende Zusammensetzung aus einem oder mehreren geeigneten organischen Lösemitteln, die keine Wirkung auf die Empfindlichkeit der Zusammensetzung haben. Verschiede Lösemittel für diesen Zweck sind gut bekannt, Aceton und 1-Methoxy-2-propanol werden aber bevorzugt. Die Bestandteile der Zusammensetzung wer­ den in den Lösemitteln in geeigneten Anteilen aufgelöst.
Geeignete Bedingungen für das Trocknen der bildverarbeitenden Zusammensetzung schließend das Aufwärmen über einen Zeitraum von etwa 0,5 bis etwa 5 min bei einer Temperatur im Bereich von etwa 20 bis etwa 150°C ein.
Um ein erfindungsgemäßes Element zu bilden, wird die bildverarbeitende Zusammenset­ zung auf einen geeigneten Träger (üblicherweise mittels Beschichtungsverfahren) aufgebracht. Der Träger ist beispielsweise aus Metall, eine polymere Folie (beispielsweise Polyester-, Polya­ mid-, Polycarbonat- oder Celluloseacetatfilm), Keramik oder mit Polymeren beschichtetes Papier. Hierbei werden übliche und bekannte Verfahren sowie Ausrüstungen verwendet. Geeignete Me­ tallträger sind aus Aluminium, Zink oder Stahl, aber vorzugsweise ist das Metall Aluminium. Der am meisten bevorzugte Träger ist ein Aluminiumblech, das elektrochemisch gekörnt und mit Schwefelsäure anodisiert wurde, und das darüberhinaus mit einem Vinylphosphonsäurecopolymer entsprechend der Lehre der US-A-5 368 974 behandelt wurde. Solche Elemente sind im allgemei­ nen als lithographische Druckplatten bekannt, aber andere brauchbare erfindungsgemäße Elemen­ te schließen Platten für die gedruckten Schaltungen und Photoresists ein.
Die Dicke der erhaltenen bildverarbeitenden Schicht nach dem Trocknen kann auf dem Träger beträchtlich variieren. Sie liegt aber üblicherweise in einem Bereich von etwa 0,5 bis etwa 2 µm und vorzugsweise in einem Bereich von etwa 1 bis etwa 1,5 µm.
Es werden keine anderen wesentlichen Schichten auf dem Element vorgesehen. Insbeson­ dere gibt es keine Schutzschicht oder Schicht einer anderen Art oberhalb der bildverarbeitenden Schicht. Gegebenenfalls, aber nicht bevorzugt, können Grundierungsschichten und Lichthof­ schutzschichten unterhalb der bildverarbeitenden Schicht oder auf der Rückseite des Trägers an­ geordnet sein (beispielsweise wenn der Träger ein transparenter Polymerfilm ist).
Die hier beschriebenen Elemente eignen sich in besonderer Weise für sogenannte "direct­ to-plate"-Verfahren. Bei solchen Verfahren werden digitalisierte Bildinformationen eingesetzt, wie beispielsweise auf einer Computerdiskette, einer Kompaktdiskette, einem Computerband oder einem anderen digitalen Speichermedium gespeichert, oder Informationen, die direkt über einen Scanner (Abtaster) bereitgestellt werden. Die Informationsbits bei einer digitalisierten Aufzeich­ nung entsprechen den Bildelementen oder Bildpixels, die gedruckt werden sollen. Diese Pixelauf­ zeichnung wird eingesetzt, um die Belichtungsvorrichtung zu steuern, bei der es sich um einen modulierten Laserstrahl handelt. Die Position des Laserstrahls kann gesteuert werden durch be­ liebige bekannte Mittel, und dieser kann an- und ausgestellt werden, entsprechend den zu druc­ kenden Pixeln. Der belichtende Strahl wird auf das nicht belichtete erfindungsgemäße Element fokusiert. Folglich werden für die Bildverarbeitung mit den erfindungsgemäßen Elementen keine belichteten und verarbeiteten Filme benötigt, wie das bei den gebräuchlichen lithographischen bildverarbeitenden Verfahren der Fall ist.
Die Belichtung mit dem Laser kann unter Einsatz einer beliebigen Laserdioden-Schreib­ vorrichtung mit moderater oder hoher Intensität, die eine Belichtung im infraroten oder nahinfra­ roten Bereichen des Spektrums ermöglicht, erfolgen. Insbesondere kann man einen Laserdrucker einsetzen, der einen Abtastmechanismus für den Schreibstrahl über das Element einschließt, wobei ein Bild ohne Ablation (Abtragung) erzeugt wird. Die Intensität des Schreibstrahls, die durch die Laserdiodenquelle auf dem Element erzeugt wird, ist mindestens etwa 10 mW/cm2 (vorzugsweise 10 bis 1000 mW/cm2). Während des Betriebs wird das zu belichtende Element durch einen Zu­ rückhaltemechanismus auf der Schreibvorrichtung gehalten und der Schreibstrahl scannt (tastet) über das Element, wobei das Bild erzeugt wird.
Die Laser-Bildverarbeitung führt dazu, daß die Säure-erzeugende Verbindung eine Bron­ sted-Säure frei setzt, die dann wieder die Säure-spaltbaren C-O-C-Gruppen in den belichteten Be­ reichen der belichteten Schicht angreift. Soweit der Auflösungsinhibitor in dem belichteten Be­ reich unwirksam wird, kann der reaktive Kunststoff in alkalischen Lösungen aufgelöst werden.
Im Anschluß an die Laser-Bildverarbeitung wird das Element dann in einer alkalischen Entwicklerlösung so lange entwickelt, bis die Bildbereiche (oder die belichteten Bereiche) entfernt sind und das gewünschte positive Bild erhalten wird. Die Entwicklung kann unter üblichen Bedin­ gungen von etwa 30 bis etwa 120 s durchgeführt werden. Eine brauchbare waßrige alkalische Entwicklerlösung ist eine Silicatlösung, die ein Alkalimetall-Silicat oder -Metasilicat enthält. Eine solche Entwicklerlösung kann man von Eastman Kodak Company als KODAK PRODUCTION SERIES MX 1589 Machine Developer erhalten.
Es sind keine anderen Verarbeitungsschritte wesentlich bei der Durchführung und Umset­ zung der Erfindung, aber eine optionale Stufe ist die Behandlung des Elementes mit einem soge­ nannten Finisher, der Gummiarabikum oder eine hydrolysierte Stärke enthalten kann.
Die folgenden Beispiele dienen der Erläuterung der Erfindung und beschränken diese in keiner Weise. Soweit nicht anders angegeben, beziehen sich die Prozentsätze auf das Gewicht.
Beispiel 1
Eine bildverarbeitende Beschichtungsformulierung wurde wie folgt hergestellt:
Diese Formulierung wurde aufgetragen zu einem trockenen Beschichtungsgewicht von etwa 1,3 g/m2 auf eine Aluminiumplatte, die elektrochemisch gekörnt und mit Schwefelsäure anodisiert wurde und die darüberhinaus mit einem Acrylamidvinylphosphonsäure-Copolymer be­ handelt wurde (gemaß US-A-5 368 974); dies war die unbelichtete lithographische Druckplatte.
Die erhaltene Druckplatte wurde bildmäßig auf einem Ektron-Plattensatzgerät mit einer Intensität von 200 mW bei 150 UpM bildmäßig verarbeitet. Dieses Gerät war mit Diodenlasern ausgestattet, die einen modulierten Puls um 830 nm emittierten. Man ließ dann die Druckplatte bei Raumtemperatur über 15 min stehen und arbeitete dann weiter mit dem KODAK PRODUCTION SERIES MX 1589 Machine Developer (Entwickler), wobei ein positives Bild mit einer hohen Auflösung erhalten wurde.
Die entwickelte Druckplatte wurde auf einer üblichen Miehle-Druckpresse befestigt und über mehr als 5000 Druckvorgänge eingesetzt, ohne daß es zu einer Verschlechterung der Bild­ qualität kam, obgleich man Bedingungen eingesetzt hatte, die ein frühes Versagen der Druckplatte befürchten ließen.
Beispiel 2
Das Beispiel 1 wurde wiederholt, wobei aber anstelle des Naphthyltriazins 3-Methoxy-4- diazodiphenylaminhexafluorphosphat als thermochemische, Säure-erzeugende Verbindung einge­ setzt wurde. Die erhaltene belichtete und entwickelte Platte zeigte ein geeignetes positives Bild.
Die Erfindung wurde im Detail mit besonderer Bezugnahme auf bevorzugte Ausgestaltun­ gen hier beschrieben. Es ist aber selbstverständlich, daß Abwandlungen und Variationen ausge­ führt werden können, ohne daß man die erfindungsgemaße Idee verläßt.

Claims (10)

1. Positiv arbeitende, gegenüber infraroter Strahlung empfindliche Zusammensetzung für die Bildverarbeitung, umfassend:
  • a) einen Alkali-löslichen reaktiven Kunststoffe
  • b) eine infrarote Strahlung absorbierende Verbindung, dadurch gekennzeichnet, daß die
    Zusammensetzung eine auf thermochemischem Wege Säure-erzeugende Verbin­ dung, die eine Bronsted-Säure bei Belichtung mit infraroter Strahlung freisetzt, und
    einen Alkali-Auflösungsinhibitor mit einer Säure-spaltbaren C-O-C-Gruppe, der die Alkalilöslichkeit des reaktiven Kunststoffs inhibiert, umfaßt.
2. Zusammensetzung nach Anspruch 1, worin der reaktive Kunststoff ein Novolakkunststoff ist.
3. Zusammensetzung nach Anspruch 1 oder 2, worin die Infrarotstrahlung absorbierende Verbindung ein Farbstoff oder ein Pigment aus der Gruppe Squarylium, Croconat, Cyanin, Merocyanin, Indolizin, Pyrylium oder Metalldithiolen ist und Strahlung mit einer Wellenlänge von etwa 800 bis etwa 1100 nm absorbiert, und in einer Menge vorhanden ist, die ausreicht, eine opti­ sche Dichte von mindestens 0,5 zu erzeugen.
4. Zusammensetzung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, worin die thermochemische, Säure­ erzeugende Verbindung eine halogenierte Verbindung ist, die im Stande ist, eine Halogenwasser­ stoffsäure bei Infrarotbestrahlung bereitzustellen.
5. Zusammensetzung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, worin der Auflösungsinhibitor ein monomerer oder polymerer o-Carbonsäureester, ein monomeres oder polymeres Acetal, ein Eno­ lether, ein N-Acryliminocarbonat, ein cyclisches Acetal oder Ketal, ein β-Ketoester oder ein β- Ketoamid ist.
6. Zusammensetzung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, worin der Auflösungsinhibitor ein Mono- oder Bis-ortho-carbonsäure-aryl- oder -alkylester ist.
7. Zusammensetzung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, worin die thermochemische, Säure­ erzeugende Verbindung in einer Menge von mindestens etwa 0,5% vorhanden ist, und der Auflö­ sungsinhibitor ist in einer Menge von mindestens etwa 10% vorhanden, bezogen auf das Ge­ samttrockengewicht der Zusammensetzung.
8. Zusammensetzung nach einem der Ansprüche 1 bis 7, worin die thermochemische, Säure­ erzeugende Verbindung in einer Menge von etwa 1 bis 10% vorhanden ist, und der Auflösungs­ inhibitor ist in einer Menge von 20 bis 40% vorhanden, bezogen auf das Gesamttrockengewicht der Zusammensetzung.
9. Positiv arbeitendes, gegenüber Infrarotstrahlung empfindliches Element mit einem Träger und einem darauf befindlichen positiv arbeitenden, gegenüber Infrarotstrahlung empfindlichen Schicht mit einer positiv arbeitenden, gegenüber Infrarotstrahlung empfindlichen Zusammenset­ zung nach einem der Ansprüche 1 bis 8.
10. Verfahren zur Erzeugung eines positiven Abzuges, umfassend:
  • A) bildmäßige Belichtung des positiv arbeitenden, gegenüber infraroter Strahlung empfindlichen Elementes nach Anspruch 9 mit einem Infrarot- oder Nahinfrarotstrahlung emittie­ renden Laser und
  • B) Inkontaktbringen des belichteten Elementes mit einer wäßrigen, alkalischen Ent­ wicklerlösung, um die belichteten Bereiche der positiv arbeitenden, gegenüber infraroter Strah­ lung empfindlichen Schicht zu entfernen und so einen positiven Abzug zu erhalten.
DE19749915A 1996-11-19 1997-11-11 Positiv arbeitende bildverarbeitende Zusammensetzung und Element sowie Verfahren zur Bildung eines positiven Bildes mittels eines Lasers Ceased DE19749915A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US08/752,698 US6060222A (en) 1996-11-19 1996-11-19 1Postitve-working imaging composition and element and method of forming positive image with a laser

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE19749915A1 true DE19749915A1 (de) 1998-05-28

Family

ID=25027408

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19749915A Ceased DE19749915A1 (de) 1996-11-19 1997-11-11 Positiv arbeitende bildverarbeitende Zusammensetzung und Element sowie Verfahren zur Bildung eines positiven Bildes mittels eines Lasers

Country Status (3)

Country Link
US (2) US6060222A (de)
BE (1) BE1011389A5 (de)
DE (1) DE19749915A1 (de)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1072404A1 (de) * 1999-07-30 2001-01-31 Lastra S.P.A. Infrarotstrahlungs- und wärme-empfindliche Zusammensetzung, und lithographische Druckplatte, die mit dieser Zusammensetzung beschichtet ist
US6500600B1 (en) 1999-07-30 2002-12-31 Lastra S.P.A. Composition sensitive to IR radiation and to heat and lithographic plate coated with this composition

Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ATE183136T1 (de) * 1996-04-23 1999-08-15 Kodak Polychrome Graphics Co Vorläufer einer lithographischen druckform und ihre verwendung bei der bebilderung durch wärme
JP3814961B2 (ja) * 1996-08-06 2006-08-30 三菱化学株式会社 ポジ型感光性印刷版
EP0901902A3 (de) * 1997-09-12 1999-03-24 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung für Infrarot Bebilderung
EP1437232B1 (de) * 1997-10-17 2007-01-03 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positiv arbeitendes photoempfindliches Aufzeichnungsmaterial für Infrarotlaser und positiv arbeitende Zusammensetzung für Infrarotlaser
GB9722862D0 (en) * 1997-10-29 1997-12-24 Horsell Graphic Ind Ltd Pattern formation
US6248503B1 (en) * 1997-11-07 2001-06-19 Agfa-Gevaert Method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive imaging element
US6569594B2 (en) * 1998-04-15 2003-05-27 Agfa-Gevaert Heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates
US6534238B1 (en) 1998-06-23 2003-03-18 Kodak Polychrome Graphics, Llc Thermal digital lithographic printing plate
US6358669B1 (en) * 1998-06-23 2002-03-19 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal digital lithographic printing plate
JP3635203B2 (ja) * 1998-10-06 2005-04-06 富士写真フイルム株式会社 平版印刷版用原版
EP1307341B1 (de) 2000-08-04 2007-04-04 Kodak Polychrome Graphics Company Ltd. Lithographische druckform, herstellungsverfahren und verwendung davon
US6884568B2 (en) * 2000-10-17 2005-04-26 Kodak Polychrome Graphics, Llc Stabilized infrared-sensitive polymerizable systems
US20040259027A1 (en) * 2001-04-11 2004-12-23 Munnelly Heidi M. Infrared-sensitive composition for printing plate precursors
US6436601B1 (en) 2001-06-25 2002-08-20 Citiplate, Inc. Thermally sensitive coating compositions containing mixed diazo novolaks useful for lithographic elements
US7056639B2 (en) * 2001-08-21 2006-06-06 Eastman Kodak Company Imageable composition containing an infrared absorber with counter anion derived from a non-volatile acid
US6599676B2 (en) * 2002-01-03 2003-07-29 Kodak Polychrome Graphics Llc Process for making thermal negative printing plate
US6849372B2 (en) * 2002-07-30 2005-02-01 Kodak Polychrome Graphics Method of manufacturing imaging compositions
US20040023160A1 (en) * 2002-07-30 2004-02-05 Kevin Ray Method of manufacturing imaging compositions
EP1649322A4 (de) 2003-07-17 2007-09-19 Honeywell Int Inc Planarisierungsfilme für fortschrittliche mikroelektronsiche anwendungen und einrichtungen und herstellungsverfahren dafür
US7279263B2 (en) * 2004-06-24 2007-10-09 Kodak Graphic Communications Canada Company Dual-wavelength positive-working radiation-sensitive elements
US7502155B2 (en) * 2005-03-15 2009-03-10 Texas Instruments Incorporated Antireflective coating for semiconductor devices and method for the same
EP1834803B1 (de) * 2006-03-17 2011-07-27 Agfa Graphics N.V. Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform

Family Cites Families (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1245924A (en) * 1967-09-27 1971-09-15 Agfa Gevaert Improvements relating to thermo-recording
US3779778A (en) * 1972-02-09 1973-12-18 Minnesota Mining & Mfg Photosolubilizable compositions and elements
CH621416A5 (de) * 1975-03-27 1981-01-30 Hoechst Ag
DE2718254C3 (de) * 1977-04-25 1980-04-10 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Strahlungsempfindliche Kopiermasse
DE2829512A1 (de) * 1978-07-05 1980-01-17 Hoechst Ag Strahlungsempfindliches gemisch und verfahren zur herstellung von reliefbildern
DE2829511A1 (de) * 1978-07-05 1980-01-24 Hoechst Ag Strahlungsempfindliches gemisch und verfahren zur herstellung von reliefbildern
DE2928636A1 (de) * 1979-07-16 1981-02-12 Hoechst Ag Strahlungsempfindliches gemisch und verfahren zur herstellung von reliefbildern
DE3038605A1 (de) * 1980-10-13 1982-06-03 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Verfahren zur herstellung von reliefkopien
DE3151078A1 (de) * 1981-12-23 1983-07-28 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Verfahren zur herstellung von reliefbildern
DE3406927A1 (de) * 1984-02-25 1985-08-29 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Strahlungsempfindliches gemisch auf basis von saeurespaltbaren verbindungen
US4708925A (en) * 1984-12-11 1987-11-24 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photosolubilizable compositions containing novolac phenolic resin
DE3541534A1 (de) * 1985-11-25 1987-05-27 Hoechst Ag Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch
DE3621376A1 (de) * 1986-06-26 1988-01-07 Hoechst Ag Strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
DE3716848A1 (de) * 1987-05-20 1988-12-01 Hoechst Ag Verfahren zur bebilderung lichtempfindlichen materials
US5216158A (en) * 1988-03-07 1993-06-01 Hoechst Aktiengesellschaft Oxadiazole compounds containing 4,6-bis-trichloromethyl-S-triazin-2-yl groups, process for their preparation
US5085972A (en) * 1990-11-26 1992-02-04 Minnesota Mining And Manufacturing Company Alkoxyalkyl ester solubility inhibitors for phenolic resins
US5227277A (en) * 1991-04-17 1993-07-13 Polaroid Corporation Imaging process, and imaging medium for use therein
DE4112969A1 (de) * 1991-04-20 1992-10-22 Hoechst Ag Saeurespaltbare strahlungsempflindliche verbindungen, diese enthaltendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
DE4112968A1 (de) * 1991-04-20 1992-10-22 Hoechst Ag Saeurespaltbare verbindungen, diese enthaltendes positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
DE4112971A1 (de) * 1991-04-20 1992-10-22 Hoechst Ag Sulfonsaeureester von 2,4,6-tris-(2-hydroxy-ethoxy)-(1,3,5)triazin, ein damit hergestelltes positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und aufzeichnungsmaterial
EP0568993B1 (de) * 1992-05-06 1998-08-12 Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. Chemisch amplifizierte Resistzusammensetzung
JP3290234B2 (ja) * 1993-03-26 2002-06-10 富士写真フイルム株式会社 ポジ型感光性組成物
US5340699A (en) * 1993-05-19 1994-08-23 Eastman Kodak Company Radiation-sensitive composition containing a resole resin and a novolac resin and use thereof in lithographic printing plates
JPH07140666A (ja) * 1993-06-04 1995-06-02 Internatl Business Mach Corp <Ibm> マイクロリトグラフィックレジスト組成物、酸不安定化合物、マイクロリトグラフィックレリーフ画像形成方法及び酸感知性ポリマー組成物
EP0672954B1 (de) * 1994-03-14 1999-09-15 Kodak Polychrome Graphics LLC Strahlungsempfindliche Zusammensetzung, enthaltend ein Resolharz, ein Novolakharz, einen Infrarotabsorber und ein Triazin, und seine Verwendung in lithographischen Druckplatten
JP3461377B2 (ja) * 1994-04-18 2003-10-27 富士写真フイルム株式会社 画像記録材料
JP3317597B2 (ja) * 1994-10-18 2002-08-26 富士写真フイルム株式会社 ポジ型感光性組成物
US5491046A (en) * 1995-02-10 1996-02-13 Eastman Kodak Company Method of imaging a lithographic printing plate
JPH09120157A (ja) * 1995-10-25 1997-05-06 Fuji Photo Film Co Ltd 湿し水不要感光性平版印刷版
JP3589365B2 (ja) * 1996-02-02 2004-11-17 富士写真フイルム株式会社 ポジ画像形成組成物
ATE183136T1 (de) * 1996-04-23 1999-08-15 Kodak Polychrome Graphics Co Vorläufer einer lithographischen druckform und ihre verwendung bei der bebilderung durch wärme
US5763134A (en) * 1996-05-13 1998-06-09 Imation Corp Composition comprising photochemical acid progenitor and specific squarylium dye
JP3814961B2 (ja) * 1996-08-06 2006-08-30 三菱化学株式会社 ポジ型感光性印刷版

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1072404A1 (de) * 1999-07-30 2001-01-31 Lastra S.P.A. Infrarotstrahlungs- und wärme-empfindliche Zusammensetzung, und lithographische Druckplatte, die mit dieser Zusammensetzung beschichtet ist
US6500600B1 (en) 1999-07-30 2002-12-31 Lastra S.P.A. Composition sensitive to IR radiation and to heat and lithographic plate coated with this composition

Also Published As

Publication number Publication date
US6326123B1 (en) 2001-12-04
BE1011389A5 (fr) 1999-08-03
US6060222A (en) 2000-05-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE19749915A1 (de) Positiv arbeitende bildverarbeitende Zusammensetzung und Element sowie Verfahren zur Bildung eines positiven Bildes mittels eines Lasers
DE60009923T2 (de) Positiv-arbeitende photoresistzusammensetzung und bildaufzeichnungselement
EP0969966B1 (de) Positiv arbeitende infrarotstrahlungsempfindliche zusammensetzung, druckplatte und bildherstellungsverfahren
DE69731513T2 (de) Verfahren zur Herstellung einer positiv arbeitenden lithographischen Druckplatte
DE69818421T2 (de) Verfahren zur herstellung lithographischen druckplatten
DE69935934T2 (de) Positiv arbeitendes thermisches bilderzeugendes Element und positiv arbeitender lithographischer Druckplattenvorläufer
DE69833046T2 (de) Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte
DE60031608T2 (de) Wärmebehandlung bebilderbarer Beschichtungen
DE60028505T2 (de) Gegenstand mit beschichtungen, in denen ein bild aufgezeichnet werden kann
DE602004007007T2 (de) Thermisch reaktive, nah-infrarot absorbierende Polymere und ihre Verwendung in wärmeempfindlichen lithographischen Druckplatten
US6083662A (en) Methods of imaging and printing with a positive-working infrared radiation sensitive printing plate
US6117610A (en) Infrared-sensitive diazonaphthoquinone imaging composition and element containing non-basic IR absorbing material and methods of use
US5858626A (en) Method of forming a positive image through infrared exposure utilizing diazonaphthoquinone imaging composition
US6063544A (en) Positive-working printing plate and method of providing a positive image therefrom using laser imaging
EP0819980A1 (de) IR-Strahlungsempfindliches Bildaufzeichnungselement und Verfahren zur Herstellung von lithographischen Druckplatten mit diesem Element
EP0819985B1 (de) Strahlungsempfindliches Bildaufzeichnungselement und Verfahren zur Herstellung von lithographischen Druckplatten mit diesem Element
DE60307668T2 (de) Thermisches verfahren zur herstellung einer maske für den flexodruck
EP0864419A1 (de) Verfahren zur Herstellung von positiv arbeitenden lithographischen Druckplatten
US6489078B1 (en) IR radiation-sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith
DE19910363B4 (de) Positives, lichtempfindliches bebilderbares Element
US6140022A (en) Radiation sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith
DE10347682B4 (de) Verfahren zur Herstellung zweischichtiger wärmeempfindlicher bebilderbarer Elemente
EP0833204A1 (de) Infrarotempfindliche, Diazonaphthochinon enthaltende Bildaufzeichnungszusammensetzung und Element
DE69917004T2 (de) Verfahren zur Herstellung einer Flachdruckplatte durch Laserablation eines wärmempfindlichen Elements
US20040241573A1 (en) Thermally sensitive, white light safe mask for use in flexography

Legal Events

Date Code Title Description
8127 New person/name/address of the applicant

Owner name: KODAK POLYCHROME GRAPHICS LLC, NORWALK, CONN., US

8110 Request for examination paragraph 44
8125 Change of the main classification

Ipc: G03F 7039

8127 New person/name/address of the applicant

Owner name: EASTMAN KODAK COMPANY, ROCHESTER, N.Y., US

R002 Refusal decision in examination/registration proceedings
R003 Refusal decision now final

Effective date: 20120505