DE19739290A1 - Verfahren zur Beseitigung axialer Bildfehler erster, zweiter und dritter Ordnung bei Korrektur des Öffnungsfehlers dritter Ordnung in elektronen-optischen Systemen - Google Patents
Verfahren zur Beseitigung axialer Bildfehler erster, zweiter und dritter Ordnung bei Korrektur des Öffnungsfehlers dritter Ordnung in elektronen-optischen SystemenInfo
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 24
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims abstract description 20
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 17
- 201000009310 astigmatism Diseases 0.000 claims description 23
- 206010010071 Coma Diseases 0.000 claims description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 3
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 claims 1
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 claims 1
- 239000008107 starch Substances 0.000 claims 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 abstract description 5
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 4
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 4
- 230000004304 visual acuity Effects 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 241001080189 Quadrus Species 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/153—Electron-optical or ion-optical arrangements for the correction of image defects, e.g. stigmators
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Lenses (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19739290A DE19739290A1 (de) | 1997-09-08 | 1997-09-08 | Verfahren zur Beseitigung axialer Bildfehler erster, zweiter und dritter Ordnung bei Korrektur des Öffnungsfehlers dritter Ordnung in elektronen-optischen Systemen |
| EP98951265A EP1012866B1 (de) | 1997-09-08 | 1998-08-29 | Verfahren zur beseitigung axialer bildfehler erster, zweiter und dritter ordnung bei korrektur des öffnungsfehlers dritter ordnung in elektronenoptischen systemen |
| JP2000511180A JP2001516139A (ja) | 1997-09-08 | 1998-08-29 | 電子光学系の三次球面収差の補正時に一次、二次および三次光軸の像の変形を除去する方法 |
| DE59814013T DE59814013D1 (de) | 1997-09-08 | 1998-08-29 | Verfahren zur beseitigung axialer bildfehler erster, zweiter und dritter ordnung bei korrektur des öffnungsfehlers dritter ordnung in elektronenoptischen systemen |
| PCT/DE1998/002596 WO1999013490A1 (de) | 1997-09-08 | 1998-08-29 | Verfahren zur beseitigung axialer bildfehler erster, zweiter und dritter ordnung bei korrektur des öffnungsfehlers dritter ordnung in elektronenoptischen systemen |
| US09/508,239 US6646267B1 (en) | 1997-09-08 | 1998-08-29 | Method for eliminating first, second and third-order axial image deformations during correction of the third-order spherical aberration in electron optical systems |
| JP2007182485A JP2007266008A (ja) | 1997-09-08 | 2007-07-11 | 電子光学系の像収差の補正方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19739290A DE19739290A1 (de) | 1997-09-08 | 1997-09-08 | Verfahren zur Beseitigung axialer Bildfehler erster, zweiter und dritter Ordnung bei Korrektur des Öffnungsfehlers dritter Ordnung in elektronen-optischen Systemen |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE19739290A1 true DE19739290A1 (de) | 1999-03-11 |
Family
ID=7841589
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19739290A Ceased DE19739290A1 (de) | 1997-09-08 | 1997-09-08 | Verfahren zur Beseitigung axialer Bildfehler erster, zweiter und dritter Ordnung bei Korrektur des Öffnungsfehlers dritter Ordnung in elektronen-optischen Systemen |
| DE59814013T Expired - Lifetime DE59814013D1 (de) | 1997-09-08 | 1998-08-29 | Verfahren zur beseitigung axialer bildfehler erster, zweiter und dritter ordnung bei korrektur des öffnungsfehlers dritter ordnung in elektronenoptischen systemen |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE59814013T Expired - Lifetime DE59814013D1 (de) | 1997-09-08 | 1998-08-29 | Verfahren zur beseitigung axialer bildfehler erster, zweiter und dritter ordnung bei korrektur des öffnungsfehlers dritter ordnung in elektronenoptischen systemen |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6646267B1 (enExample) |
| EP (1) | EP1012866B1 (enExample) |
| JP (2) | JP2001516139A (enExample) |
| DE (2) | DE19739290A1 (enExample) |
| WO (1) | WO1999013490A1 (enExample) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001056057A1 (de) * | 2000-01-26 | 2001-08-02 | Ceos Corrected Electron Optical Systems Gmbh | Verfahren zur ermittlung geometrisch optischer abbildungsfehler |
| DE10136190A1 (de) * | 2001-07-25 | 2003-02-06 | Ceos Gmbh | Schlitzlinsenanordnung für Teilchenstrahlen |
| EP1398818A3 (en) * | 2002-09-11 | 2005-12-07 | Hitachi High-Technologies Corporation | Charged particle beam apparatus and irradiation method |
| DE10231426B4 (de) * | 2001-07-13 | 2015-08-06 | Jeol Ltd. | Korrektureinrichtung zur Korrektur der sphärischen Aberration |
| DE112014003890B4 (de) | 2013-09-30 | 2018-08-02 | Hitachi High-Technologies Corporation | Mit einem Strahl geladener Teilchen arbeitende Vorrichtung |
Families Citing this family (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10001277A1 (de) * | 2000-01-14 | 2001-07-19 | Harald Rose | Elektronenoptischer Korrektor zur Beseitigung der Bildfehler dritter Ordnung |
| JP4328192B2 (ja) * | 2003-12-12 | 2009-09-09 | 日本電子株式会社 | 荷電粒子光学系における多極場発生装置および収差補正装置 |
| JP4607558B2 (ja) * | 2004-11-22 | 2011-01-05 | 日本電子株式会社 | 荷電粒子光学装置及び収差補正方法 |
| DE102006017686A1 (de) * | 2006-04-15 | 2007-10-18 | Ceos Corrected Electron Optical Systems Gmbh | Elektronenoptischer Korrektor für aplanatische Abbildungssysteme |
| JP4851268B2 (ja) * | 2006-08-31 | 2012-01-11 | 日本電子株式会社 | 収差補正方法および電子線装置 |
| JP4922883B2 (ja) * | 2006-10-20 | 2012-04-25 | 日本電子株式会社 | 荷電粒子線装置 |
| EP1914786A3 (en) * | 2006-10-20 | 2010-08-04 | JEOL Ltd. | Charged particle beam system |
| DE102007058443B4 (de) * | 2007-12-05 | 2010-05-06 | Ceos Corrected Electron Optical Systems Gmbh | Korrektor für axialen und außeraxialen Strahlengang und TEM damit |
| US7659505B2 (en) | 2008-02-01 | 2010-02-09 | Ionics Mass Spectrometry Group Inc. | Ion source vessel and methods |
| JP5623719B2 (ja) * | 2008-10-06 | 2014-11-12 | 日本電子株式会社 | 荷電粒子線装置の色収差補正装置及びその補正方法 |
| DE102009052392A1 (de) * | 2009-11-09 | 2011-12-15 | Carl Zeiss Nts Gmbh | SACP-Verfahren und teilchenoptisches System zur Ausführung eines solchen Verfahrens |
| JP5469246B2 (ja) | 2010-07-05 | 2014-04-16 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 走査透過電子顕微鏡 |
| JP5743698B2 (ja) * | 2011-05-09 | 2015-07-01 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 3次寄生収差の補正方法および荷電粒子線装置 |
| JP5758728B2 (ja) | 2011-07-26 | 2015-08-05 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
| US9275817B2 (en) | 2012-04-09 | 2016-03-01 | Frederick Wight Martin | Particle-beam column corrected for both chromatic and spherical aberration |
| EP2722868B2 (en) * | 2012-10-16 | 2025-03-26 | ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH | Octopole device and method for spot size improvement |
| JP7017985B2 (ja) | 2018-06-05 | 2022-02-09 | 株式会社日立製作所 | システム及び処理条件の決定方法 |
| CN112098438B (zh) * | 2020-07-23 | 2021-11-19 | 西安交通大学 | 一种高分辨大扫描场系统的二阶像差补偿方法 |
| JP2023107653A (ja) | 2022-01-24 | 2023-08-03 | 富士フイルムビジネスイノベーション株式会社 | 画像形成装置 |
| US20250299903A1 (en) * | 2022-06-27 | 2025-09-25 | Hitachi High-Tech Corporation | Aberration Correction Device and Aberration Correction Method |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4414474A (en) * | 1982-02-17 | 1983-11-08 | University Patents, Inc. | Corrector for axial aberrations in electron optic instruments |
| EP0451370B1 (en) * | 1990-04-12 | 1996-03-27 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Correction system for a charged-particle beam apparatus |
| JPH07220669A (ja) * | 1994-01-31 | 1995-08-18 | Jeol Ltd | 非点・入射軸補正装置を備えた電子顕微鏡 |
| DE69733873T2 (de) * | 1996-05-21 | 2006-04-06 | Fei Co., Hillsboro | Vorrichtung zur korrektur von linsenfehlern in teilchen-optischer geräte |
| US5659083A (en) * | 1996-05-30 | 1997-08-19 | Sanofi | Process of preparing 2,2'-(1-methyl-1,2-ethanediylidene) bis[hydrazinecarboximidamide] |
| EP0960429A1 (en) * | 1997-12-11 | 1999-12-01 | Philips Electron Optics B.V. | Correction device for correcting the spherical aberration in particle-optical apparatus |
-
1997
- 1997-09-08 DE DE19739290A patent/DE19739290A1/de not_active Ceased
-
1998
- 1998-08-29 DE DE59814013T patent/DE59814013D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1998-08-29 US US09/508,239 patent/US6646267B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-08-29 JP JP2000511180A patent/JP2001516139A/ja active Pending
- 1998-08-29 WO PCT/DE1998/002596 patent/WO1999013490A1/de not_active Ceased
- 1998-08-29 EP EP98951265A patent/EP1012866B1/de not_active Expired - Lifetime
-
2007
- 2007-07-11 JP JP2007182485A patent/JP2007266008A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001056057A1 (de) * | 2000-01-26 | 2001-08-02 | Ceos Corrected Electron Optical Systems Gmbh | Verfahren zur ermittlung geometrisch optischer abbildungsfehler |
| US6858844B2 (en) | 2000-01-26 | 2005-02-22 | Joachim Zach | Method for detecting geometrical-optical aberrations |
| DE10231426B4 (de) * | 2001-07-13 | 2015-08-06 | Jeol Ltd. | Korrektureinrichtung zur Korrektur der sphärischen Aberration |
| DE10136190A1 (de) * | 2001-07-25 | 2003-02-06 | Ceos Gmbh | Schlitzlinsenanordnung für Teilchenstrahlen |
| EP1398818A3 (en) * | 2002-09-11 | 2005-12-07 | Hitachi High-Technologies Corporation | Charged particle beam apparatus and irradiation method |
| US7282722B2 (en) | 2002-09-11 | 2007-10-16 | Hitachi High-Technologies Corporation | Charged particle beam apparatus and charged particle beam irradiation method |
| DE112014003890B4 (de) | 2013-09-30 | 2018-08-02 | Hitachi High-Technologies Corporation | Mit einem Strahl geladener Teilchen arbeitende Vorrichtung |
| US10319558B2 (en) | 2013-09-30 | 2019-06-11 | Hitachi High-Technologies Corporation | Charged particle beam device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE59814013D1 (de) | 2007-07-05 |
| EP1012866B1 (de) | 2007-05-23 |
| EP1012866A1 (de) | 2000-06-28 |
| WO1999013490A1 (de) | 1999-03-18 |
| JP2007266008A (ja) | 2007-10-11 |
| JP2001516139A (ja) | 2001-09-25 |
| US6646267B1 (en) | 2003-11-11 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| 8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
| 8131 | Rejection |