DE19733053A1 - Transparentes Substrat - Google Patents
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Description
Die Erfindung betrifft ein transparentes Substrat mit ei
ner transparenten, niederohmigen Beschichtung, welche
eine unmittelbar auf das Substrat aufgebrachte Oxid
schicht, darauf eine dünne, transparente Metallschicht
und darauf eine zweite Oxidschicht aufweist.
Ein solches transparentes Substrat ist beispielsweise in
der DE 42 39 355 A1 beschrieben und kann für großflächige
Displays (Monitore) Anwendung finden. Das Substrat hat
über einen Wellenlängenbereich zwischen 400 und 600 nm
eine Transmission von über 80%, was für die Monitoranwen
dung vorteilhaft ist. Bei größeren Wellenlängen fällt die
Transmission jedoch deutlich unter 80% ab, wodurch in
folge von Reflexion ein roter Farbeindruck entsteht, der
bei verschiedenen Anwendungen, insbesondere bei großflä
chigen Displays, als störend empfunden wird. Da die Be
schichtung einen geringen elektrischen Widerstand haben
muß, besteht zur Vermeidung des Transmissionsabfalls
nicht die Möglichkeit der Verringerung der Schichtdicke
der Metallschicht.
Der Erfindung liegt das Problem zugrunde, ein Substrat
mit einer solchen Beschichtung zu entwickeln, welches in
einem Wellenlängenbereich zwischen 400 und 700 nm eine
möglichst konstante, hohe Transmission hat, so daß ein
Rotlichteindruck vermieden werden kann.
Dieses Problem wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß
auf der zweiten Oxidschicht eine weitere, dünne, transpa
rente Metallschicht und darauf als Deckschicht wiederum
eine Oxidschicht vorgesehen ist.
Überraschenderweise zeigte sich, daß durch die zweite
Metallschicht und die Deckschicht der Transmissionsabfall
im Rotlichtbereich vermieden werden kann, ohne daß die
Transmission im übrigen sichtbaren Spektralbereich we
sentlich verringert wird. Die beiden Metallschichten kön
nen jeweils eine gleiche Schichtdicke aufweisen wie die
Metallschicht nach der DE 42 39 355 A1, so daß sich we
gen der insgesamt stärkeren Metallbeschichtung der elek
trische Widerstand vermindert und bei einer Transmission
von über 80% ein elektrischer Widerstand des Schichtsys
tems von etwa 5,5 Ohm/sq. und bei einer Transmission von
70% ein Widerstand von nur 2,5 Ohm/sq. erreichbar sind.
Die Herstellung des erfindungsgemäßen Substrates kann mit
geringem zusätzlichen Aufwand in Sputteranlagen erfolgen,
weil in ihnen ohnehin zur Erstellung der ersten drei
Schichten ein Target mit einem Metalloxid und ein Target
mit reinem Metall vorhanden sein müssen.
Besonders gute optische Eigenschaften hat das Substrat
aufgrund seiner Beschichtung, wenn gemäß einer Weiterbil
dung der Erfindung die Oxidschichten ITO-Schichten
(Indium-Zinn-Oxid) sind.
Wegen seines weißen Aussehens ist aus optischen Gründen
reines Silber für die Metallschichten am besten geeignet.
Um jedoch eine ausreichende Härte der Metallschicht zu
erreichen, ist es vorteilhaft, wenn die Metallschichten
aus Silber mit einem geringen Legierungsanteil Kupfer be
stehen.
Für die Monitoranwendung des erfindungsgemäßen Substrates
sind die Schichtdicken optimal bemessen, wenn die Oxid
schichten eine Schichtdicke von 30-70 nm und die Me
tallschichten eine Schichtdicke von 6-12 nm aufweisen.
Die Erfindung läßt verschiedene Ausführungsformen zu.
Zur weiteren Verdeutlichung ihres Grundprinzips wird
nachfolgend auf die Zeichnung Bezug genommen. Diese zeigt
in
Fig. 1 einen Schnitt durch ein Substrat mit der
erfindungsgemäßen Beschichtung,
Fig. 2 ein Diagramm, welches die Transmission zweier
Substrate über die Wellenlänge wiedergibt.
Die Fig. 1 zeigt einen Teilbereich eines glasförmigen
Substrates 1, auf welchem zunächst eine Oxidschicht 2 von
30-70 nm Dicke aus Indium-Zinn-Oxid (ITO) durch Sput
tern aufgebracht wurde. Darüber verläuft eine dünne Me
tallschicht 3 von 6-12 nm Dicke aus Silber, welches ei
nen geringen Kupferanteil als Legierungsbestandteil hat.
Es folgt wiederum eine Oxidschicht 4 von 30-70 nm Dicke
aus Indium-Zinn-Oxid, der sich eine weitere Metallschicht
5 und als Deckschicht wiederum eine Oxidschicht 6
anschließt. Die beiden äußeren Schichten 5 und 6 sind
gleich beschaffen und haben eine gleiche Dicke wie die
Oxidschicht 2 und die Metallschicht 3.
In der Fig. 2 sind für zwei glasförmige, beschichtete
Substrate die Transmission in Abhängigkeit von der auf
der Wellenlänge des Lichtes wiedergegeben. Die gestri
chelte Linie gibt für ein bekanntes Substrat mit einem
Schichtsystem aus ITO, Metall und ITO die Transmission
wieder. Diese liegt bis zu einer Wellenlänge von etwas
mehr als 600 nm über 80% und fällt dann bis zu einer Wel
lenlänge von 700 nm deutlich auf unter 65% ab. Dieser Ab
fall führt bei einem Monitor mit einem solchen Substrat
zu einem Rotlichteindruck.
Mit einer durchgezogenen Linie ist in Fig. 2 die Trans
mission eines glasförmigen Substrates mit der erfindungs
gemäßen Beschichtung dargestellt. Zu erkennen ist, daß
diese bis zu einer Wellenlänge von 600 nm geringfügig ge
ringer ist als bei dem Substrat nach dem Stand der Tech
nik, dann jedoch bis 700 nm auf einem Wert deutlich über
80% verbleibt und somit nicht im Rotlichtbereich abfällt.
Claims (4)
1. Transparentes Substrat mit einer transparenten, nie
derohmigen Beschichtung, welche eine unmittelbar auf das
Substrat aufgebrachte Oxidschicht, darauf eine dünne,
transparente Metallschicht und darauf eine zweite Oxid
schicht aufweist, dadurch gekennzeichnet, daß auf der
zweiten Oxidschicht (4) eine weitere, dünne, transparente
Metallschicht (5) und darauf als Deckschicht wiederum
eine Oxidschicht (6) vorgesehen ist.
2. Transparentes Substrat nach Anspruch 1, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Oxidschichten (2, 4, 6) ITO-
Schichten (Indium-Zinn-Oxid) sind.
3. Transparentes Substrat nach Anspruch 2, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Metallschichten (3, 5) aus Silber
mit einem geringen Legierungsanteil Kupfer bestehen.
4. Transparentes Substrat nach zumindest einem der voran
gehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die
Oxidschichten (2, 4, 6) eine Schichtdicke von 30-70 nm
und die Metallschichten (3, 5) eine Schichtdicke von 6-12 nm
aufweisen.
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Publication number | Publication date |
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JPH11116280A (ja) | 1999-04-27 |
KR19990014165A (de) | 1999-02-25 |
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