DE19729413C1 - Verfahren zum Herstellen eines Flachbildverstärkers und somit hergestellter Flachbildverstärker - Google Patents

Verfahren zum Herstellen eines Flachbildverstärkers und somit hergestellter Flachbildverstärker

Info

Publication number
DE19729413C1
DE19729413C1 DE1997129413 DE19729413A DE19729413C1 DE 19729413 C1 DE19729413 C1 DE 19729413C1 DE 1997129413 DE1997129413 DE 1997129413 DE 19729413 A DE19729413 A DE 19729413A DE 19729413 C1 DE19729413 C1 DE 19729413C1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
silicon carrier
radiation
light
carrier
recesses
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE1997129413
Other languages
English (en)
Inventor
Dieter Dr Schmettow
Volker Dr Lehmann
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Siemens AG
Original Assignee
Siemens AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siemens AG filed Critical Siemens AG
Priority to DE1997129413 priority Critical patent/DE19729413C1/de
Priority to JP19420498A priority patent/JP4294759B2/ja
Application granted granted Critical
Publication of DE19729413C1 publication Critical patent/DE19729413C1/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/08Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors
    • H01L31/10Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors characterised by potential barriers, e.g. phototransistors
    • H01L31/115Devices sensitive to very short wavelength, e.g. X-rays, gamma-rays or corpuscular radiation

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Light Receiving Elements (AREA)
  • Measurement Of Radiation (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Flachbildverstärkers und einen somit hergestellten Flachbild­ verstärker.
Aus der DE 195 35 285 ist eine Röntgendiagnostikeinrichtung mit einem Röntgenbildwandler bekannt, der aus einem digitalen röntgenempfindlichen Festkörperbildwandler besteht, der in einer Matrix angeordnete Bildelemente aufweist. Zwischen ei­ ner Röntgenstrahlenquelle und dem Röntgenbildwandler ist ein Streustrahlenraster zur Unterdrückung der von einem Untersu­ chungsobjekt ausgehenden Streustrahlung angeordnet. Der Streustrahlenraster kann fest mit dem Röntgenstrahlendetektor verbunden sein, so daß er sehr dicht am Röntgenstrahlendetek­ tor plaziert ist oder sogar eine Einheit mit ihm bilden. Die detaillierte Ausbildung des Röntgenbildwandlers ist nicht of­ fenbart.
In der DE 39 00 245 C2 und in der US 5,386,122 A sind Verbund­ anordnungen aus Detektorarrays und Szintillatorschichten be­ schrieben, in die nachträglich Gräben geritzt oder geätzt werden, welche wiederum mit reflektierenden Materialien auf­ gefüllt werden, um so ein Streustrahlenraster zu erzeugen.
Aus der DE 38 29 912 A1 und der DE 38 36 835 A1 ist es be­ kannt, Szintillatoranordnungen mit darin enthaltenem Streu­ strahlenraster durch Kleben mit Detektoranordnungen zu ver­ binden bzw. Dünnfilmdetektoren direkt auf diesen herzustel­ len.
Aus Patent Abstracts of Japan, P-614, Vol. 11, no. 279, JP 62-76478 ist es bekannt, in die Rückseite eines Halblei­ tersubstrates mit Detektoren Vertiefungen zu ätzen und darin ein Szintillatormaterial abzuscheiden. Diese Substrate werden zu Stapeln zusammengestellt, um die von einem Szintillator ausgehende Strahlung jeweils in dem darunterliegenden Detek­ tor eines zweiten Substrates zu detektieren.
Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren zur Herstellung eines Flachbildverstärkers und einen Flachbildverstärker an­ zugeben mittels dessen Röntgenaufnahmen mit hoher Auflösung und hohem Kontrast bei geringst möglicher Strahlenbelastung her­ stellbar sind.
Die Aufgabe wird erfindungsgemäß durch ein Verfahren nach dem Patentanspruch 1 und einen Flachbildverstärker nach dem Pa­ tentanspruch 11 gelöst.
Vorteil der Erfindung ist, daß der erfindungsgemäße Flach­ bildverstärker einen kompakten Aufbau hat, da auf einem Sili­ ciumträger sowohl die lichtempfindlichen Detektoren als auch das Streustrahlenraster sowie die Röntgenstrahlung in Licht wandelnde Schicht angeordnet sind. Durch den geringen Abstand den das Streustrahlenraster somit von der die Röntgenstrah­ lung wandelnden Schicht und den lichtempfindlichen Detektoren hat und sowie den geringen Abstand der Röntgenstrahlen in Licht wandelnden Schicht zu den Licht wandelnden Detektorele­ menten ist die Auflösung sowie der Kontrast hoch und aufgrund der hierdurch bedingten geringeren Verluste kann die für die Bilderzeugung erforderliche Dosisleistung reduziert werden.
Besonders genau und kostengünstig können die Ausnehmungen im Siliciumträger sowie ein Bereich zwischen den Strahlung ab­ sorbierenden Bereichen durch Ätzen entfernt werden.
Weitere Vorteile und Einzelheiten der Erfindung ergeben sich aus der nachfolgenden Beschreibung eines Ausführungsbeispie­ les anhand der Zeichnungen in Verbindung mit den Unteransprü­ chen.
Es zeigt:
Fig. 1 einen Siliciumträger eines Flachbildverstärkers nach der Erfindung,
Fig. 2 den Siliziumträger mit in Ausnehmungen angeordnetem Strahlung absorbierendem Material und
Fig. 3 den Flachbildverstärker nach der Erfindung.
In der Fig. 1 ist ein Träger aus Silicium, der als Scheibe ausgebildet ist, mit dem Bezugszeichen 1 gekennzeichnet. Auf einer ersten Seite 2 dieses Trägers 1 sind durch Dotieren lichtempfindliche Detektoren 3 ausgebildet, die jedoch nur in prinzipieller Weise dargestellt sind und in einer Matrix an­ geordnet sein können. Vorzugsweise sind auf der ersten Seite 2 auch zumindest eine Ausleseelektronik 4, die ebenfalls nur in prinzipieller Weise dargestellt ist und die Auswahltransi­ storen oder Auswahldioden aufweist, ausgebildet. Diese Ausle­ seelektronik 4 muß aber nicht notwendigerweise auf dem Träger 1 ausgebildet sein, sondern kann auch separat in einem Chip vorliegen.
In der Fig. 2 ist dargestellt, daß Ausnehmungen 5 im Träger 1 ausgebildet sind, die von der, der der ersten Seite 2 des Trägers 1 gegenüberliegenden zweiten Seite 6 ausgehen und zu den lichtempfindlichen Detektoren 3 gerichtet sind. Diese Ausnehmungen 5 können vorzugsweise durch Ätzen von Löchern oder Linien in den Träger 1 eingebracht werden. Zur Ausbil­ dung eines Streustrahlenrasters wird in diese ca. 150 µm bis 600 µm, vorzugsweise ca. 300 µm tiefen Ausnehmungen 5 ein Strahlung absorbierendes Material, beispielsweise Wolfram oder Blei, zur Ausbildung von Lamellen 7 des Streustrahlenra­ sters eingebracht. In einem weiteren Verfahrensschritt wird ein Bereich 8 zwischen den Lamellen 7 abgetragen, so daß der verbleibende Träger 1 eine Dicke von 10 µm bis 100 µm, vor­ zugsweise von ca 50 µm, hat. Die Abtragung kann ebenfalls vorzugsweise durch Ätzung erfolgen. Nach einem sich daran an­ schließenden Prozeß zum Passivieren der Grenzfläche zu den lichtempfindlichen Detektoren 3 durch Dotieren oder Oxidieren wird eine Röntgenstrahlung in Licht wandelnde Schicht 9 in die Bereiche 8, d. h. zwischen die Lammellen 7 eingebracht. Diese vorzugsweise aus CsJ, ZnS oder GdO2S bestehende Schicht 9 von 50 µm bis 300 µm, vorzugsweise 100 µm, Dicke kann vor­ zugsweise durch Sedimentieren in die Bereich 8 eingebracht werden.
Der somit erhaltende Flachbildverstärker kann sich in einer Ebene erstrecken, oder er kann bogen- oder kuppelförmig ausge­ bildet sein. Die auf den Flachbildverstärker auftreffende Streustrahlung wird von den Lamellen 7 absorbiert, wohingegen die Direktstrahlung in der Schicht 9 absorbiert und in Licht­ quanten gewandelt wird. Diese Lichtquanten erzeugen im Trä­ ger 1 Ladungsträgerpaare, die durch den Träger 1 diffundieren und über die lichtempfindlichen Detektoren 3 ein elektrisches Signal erzeugen.
Es wird somit auf kostengünstige und einfache Weise ein Flach­ bildverstärker erhalten, wobei aufgrund der integrierten Bau­ weise der sich nachteilig auswirkende Röntgenstreustrahlungs­ anteil durch den geringen Abstand des Streustrahlenrasters zu dem Strahlendetektor sowie die Reflekionsverluste durch den direkten Kontakt zwischen der Röntgenstrahlung in Licht wan­ delnden Schicht 9 zu den lichtempfindlichen Detektoren 3 re­ duziert sind und daraus resultierend die Bildauflösung ver­ bessert ist.

Claims (13)

1. Verfahren zum Herstellen eines Flachbildverstärkers, auf­ weisend die Verfahrensschritte:
  • a) Ausbilden von lichtempfindlichen Detektoren (3) auf einer ersten Seite (2) eines Siliciumträgers (1),
  • b) Ausbilden von Ausnehmungen (5) ausgehend von der den lichtempfindlichen Detektoren (3) gegenüberliegenden zweiten Seite (6) des Siliciumträgers (1)
  • c) zumindest teilweises Befüllen dieser Ausnehmungen (5) mit einem Strahlung absorbierenden Material,
  • d) Ausbilden eines Bereiches (8) zwischen dem Strahlung ab­ sorbierenden Material durch Entfernen des Siliciumträgers (1),
  • e) Passivieren der somit zu den lichtempfindlichen Detekto­ ren (3) ausgebildeten Grenzfläche durch Dotieren oder Oxidieren und
  • f) Einbringen einer Röntgenstrahlung in Licht wandelnden Schicht (9) in den Bereich (8).
2. Verfahren nach Anspruch 1, wobei der Verfahrensschritt a) ergänzt ist durch das zusätz­ liche Ausbilden von zumindest einer Ausleseelektronik (4) auf dem Siliciumträger (1).
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, wobei die Ausnehmungen (5) durch Ätzen des Siliciumträgers ausgebildet werden.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei die Ausnehmungen (5) linienförmig oder rund ausgebildet sind.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei das Strahlung absorbierende Material aus Wolfram oder Blei besteht.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei der Siliciumträger (1) zwischen dem Strahlung absorbie­ renden Material durch Ätzen entfernt wird.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, wobei die Röntgenstrahlung in Licht wandelnde Schicht CsJ aufweist.
8. Verfahren nach Anspruch 3 oder 4, wobei die Ausnehmungen (5) eine Tiefe von 150 µm bis 600 µm haben.
9. Verfahren nach Anspruch 1 oder 6, wobei der Siliciumträger (1) bis auf eine Schichtdicke von 10 µm bis 100 µm entfernt wird.
10. Verfahren nach Anspruch 1 oder 7, wobei die Schichtdicke der Röntgenstrahlen in Licht wandelnden Schicht (9) im Bereich von 50 bis 300 µm liegt.
11. Flachbildverstärker hergestellt nach dem Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 10.
12. Flachbildverstärker nach Anspruch 11, wobei sich der Siliciumträger (1) in einer Ebene erstreckt.
13. Flachbildverstärker nach Anspruch 11, wobei der Siliciumträger (1) bogen- oder kuppelförmig ausge­ bildet ist.
DE1997129413 1997-07-09 1997-07-09 Verfahren zum Herstellen eines Flachbildverstärkers und somit hergestellter Flachbildverstärker Expired - Fee Related DE19729413C1 (de)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE1997129413 DE19729413C1 (de) 1997-07-09 1997-07-09 Verfahren zum Herstellen eines Flachbildverstärkers und somit hergestellter Flachbildverstärker
JP19420498A JP4294759B2 (ja) 1997-07-09 1998-07-09 平面画像増幅器の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE1997129413 DE19729413C1 (de) 1997-07-09 1997-07-09 Verfahren zum Herstellen eines Flachbildverstärkers und somit hergestellter Flachbildverstärker

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE19729413C1 true DE19729413C1 (de) 1998-11-19

Family

ID=7835182

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE1997129413 Expired - Fee Related DE19729413C1 (de) 1997-07-09 1997-07-09 Verfahren zum Herstellen eines Flachbildverstärkers und somit hergestellter Flachbildverstärker

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP4294759B2 (de)
DE (1) DE19729413C1 (de)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7170143B2 (en) 2003-10-20 2007-01-30 Hamamatsu Photonics K.K. Semiconductor photo-detection device and radiation apparatus
JP5085122B2 (ja) 2006-12-21 2012-11-28 浜松ホトニクス株式会社 半導体光検出素子及び放射線検出装置

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3829912A1 (de) * 1987-09-04 1989-03-16 Hitachi Ltd Mehrelement-strahlungsdetektor
DE3836835A1 (de) * 1987-10-28 1989-06-08 Hitachi Ltd Strahlungsdetektor und herstellungsverfahren dafuer
DE3900245C2 (de) * 1988-01-06 1993-07-29 Hitachi, Ltd., Tokio/Tokyo, Jp
US5386122A (en) * 1992-06-30 1995-01-31 Hitachi Medical Corporation Radiation detector and method for making the same
DE19535285A1 (de) * 1995-09-22 1997-03-27 Siemens Ag Röntgendiagnostikeinrichtung mit einem digitalen Detektor

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3829912A1 (de) * 1987-09-04 1989-03-16 Hitachi Ltd Mehrelement-strahlungsdetektor
DE3836835A1 (de) * 1987-10-28 1989-06-08 Hitachi Ltd Strahlungsdetektor und herstellungsverfahren dafuer
DE3900245C2 (de) * 1988-01-06 1993-07-29 Hitachi, Ltd., Tokio/Tokyo, Jp
US5386122A (en) * 1992-06-30 1995-01-31 Hitachi Medical Corporation Radiation detector and method for making the same
DE19535285A1 (de) * 1995-09-22 1997-03-27 Siemens Ag Röntgendiagnostikeinrichtung mit einem digitalen Detektor

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Pat. Abstr. of JP, P-614, Vol. 11, No. 279, JP 62-76478 *

Also Published As

Publication number Publication date
JPH1174553A (ja) 1999-03-16
JP4294759B2 (ja) 2009-07-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2849739C2 (de) Verfahren zum Herstellen vielschichtiger Scintillator-Körper
DE102011050963A1 (de) Anti-Streu-Röntgengittervorrichtung und Verfahren zur Herstellung derselben
DE10105239A1 (de) Selbstausrichtendes Interszintillatorreflektorröntgenschutzschild und dessen Herstellungsverfahren
DE102014225396B3 (de) Sensorboard für ein Detektormodul und Verfahren zu dessen Herstellung
DE10044357A1 (de) Detektoranordnung zur Detektion von Röntgenstrahlen
DE10392637T5 (de) Hintergrundbeleuchtetes Photodioden-Array und Verfahren zum Herstellen desselben
DE102011108876B4 (de) Direktwandelnder Röntgendetektor mit Strahlenschutz für die Elektronik
US4288264A (en) Detector construction
WO2006045747A1 (de) Strahlungsdetektor zur erfassung von strahlung
DE2934665A1 (de) Gammakameraszintillatoranordnung und damit ausgeruestete gammakamera
DE102004005883A1 (de) Verfahren und Vorrichtung für eine aufgebrachte hermetische Abdichtung für ein digitales Röntgenstrahlpaneel
DE19914701B4 (de) Verfahren zur Herstellung eines Festkörperbilddetektors sowie Festkörperbilddetektor
EP1255125A1 (de) Hybride zweidimensionale Szintillatoranordnung
DE2451382A1 (de) Aufnahmeroehre
DE10153882A1 (de) Strahlungsbildgeberabdeckung
DE102008051045B4 (de) Strahlungsdirektkonverter
DE19729413C1 (de) Verfahren zum Herstellen eines Flachbildverstärkers und somit hergestellter Flachbildverstärker
DE4025427A1 (de) Detektoranordnung zum nachweis von roentgenstrahlung und verfahren zu deren herstellung
DE112015007248T5 (de) Detektoranordnung für strahlungsbildgebungsverfahren
DE2841124C2 (de) Verfahren zum Herstellen von elektronischen Halbleiterbauelementen durch Röntgen-Lithographie
DE102020202855B4 (de) Streustrahlenkollimator und Verfahren zur Herstellung eines Streustrahlenkollimators
WO2016034494A1 (de) Szintillatorplatte und verfahren zu deren herstellung
DE102011004589B4 (de) Röntgendetektor, aufweisend eine Vielzahl von Sensorelementen
WO2006097129A1 (de) Flächiger bildsensor
DE102011077195A1 (de) Röntgendetektor und Verfahren zur Herstellung eines Röntgendetektors

Legal Events

Date Code Title Description
8100 Publication of the examined application without publication of unexamined application
D1 Grant (no unexamined application published) patent law 81
8364 No opposition during term of opposition
8320 Willingness to grant licenses declared (paragraph 23)
R119 Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee

Effective date: 20140201