DE19914701B4 - Verfahren zur Herstellung eines Festkörperbilddetektors sowie Festkörperbilddetektor - Google Patents

Verfahren zur Herstellung eines Festkörperbilddetektors sowie Festkörperbilddetektor Download PDF

Info

Publication number
DE19914701B4
DE19914701B4 DE19914701A DE19914701A DE19914701B4 DE 19914701 B4 DE19914701 B4 DE 19914701B4 DE 19914701 A DE19914701 A DE 19914701A DE 19914701 A DE19914701 A DE 19914701A DE 19914701 B4 DE19914701 B4 DE 19914701B4
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
layer
scintillator
film
state image
image detector
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
DE19914701A
Other languages
English (en)
Other versions
DE19914701A1 (de
Inventor
Martin Dipl.-Phys. Dr. Spahn
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Siemens Healthcare GmbH
Original Assignee
Siemens AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siemens AG filed Critical Siemens AG
Priority to DE19914701A priority Critical patent/DE19914701B4/de
Priority to JP2000088094A priority patent/JP4812155B2/ja
Priority to US09/538,144 priority patent/US6429414B1/en
Publication of DE19914701A1 publication Critical patent/DE19914701A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE19914701B4 publication Critical patent/DE19914701B4/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/14683Processes or apparatus peculiar to the manufacture or treatment of these devices or parts thereof
    • H01L27/14692Thin film technologies, e.g. amorphous, poly, micro- or nanocrystalline silicon
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/14643Photodiode arrays; MOS imagers
    • H01L27/14658X-ray, gamma-ray or corpuscular radiation imagers
    • H01L27/14663Indirect radiation imagers, e.g. using luminescent members
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/14683Processes or apparatus peculiar to the manufacture or treatment of these devices or parts thereof
    • H01L27/14685Process for coatings or optical elements

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Measurement Of Radiation (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
  • Light Receiving Elements (AREA)

Abstract

Verfahren zur Herstellung eines Festkörperbilddetektors, umfassend eine aus mehreren nebeneinander angeordneten Panels bestehende, mit einer Passivierungsschicht belegte Pixelmatrix aus einem Halbleitermaterial, insbesondere aus amorphem Silizium und eine Szintillatorschicht zum Konvertieren von auf die Szintillatorschicht einfallender Strahlung in von der Pixelmatrix verarbeitbare Strahlung, bei dem auf die Passivierungsschicht eine für die von der Szintillatorschicht emittierte Strahlung transparente Schicht aufgebracht wird, wonach die Szintillatorschicht auf die Schicht aufgedampft wird.

Description

  • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Festkörperbilddetektors, umfassend eine aus mehreren nebeneinander angeordneten Teildetektoren, sogenannte Panels bestehende, mit einer Passivierungsschicht belegte Pixelmatrix aus einem Halbleitermaterial, insbesondere aus amorphem Silizium, und eine Szintillatorschicht zum Konvertieren von auf die Szintillatorschicht einfallender Strahlung in von der Pixelmatrix verarbeitbare Strahlung.
  • Bekannte derartige Festkörperbilddetektoren basieren auf einer aktiven Auslesematrix in Form der Pixelmatrix aus einem Halbleitermaterial, z.B. aus amorphem Silizium (a-Si). Die Bildinformation wird in einem Röntgenkonverter, einer sogenannten Szintillatorschicht (z.B. aus Cäsiumjodid (CsI)) in eine Strahlung gewandelt, die von der Pixelmatrix verarbeitbar ist. In den aktiven Pixeln der Pixelmatrix wird die Bildinformation als elektrische Ladung gespeichert und anschließend mit einer dedizierten Elektronik ausgelesen und analog-digital gewandelt. Röntgenquanten werden in der Szintillatorschicht in Strahlung, im Falle des Cäsiumjodids in Licht gewandelt und anschließend zu den Fotodioden umfassenden Pixeln des amorphen Siliziums transportiert. Dieser optische Prozess muss optimiert sein, um eine gute Bildqualität zu erreichen. Wesentlich entscheidend ist dabei die Ankopplung der Szintillatorschicht an die Pixelmatrix, da eine schlechte Ankopplung die wichtigsten bildqualitätsrelevanten Parameter negativ beeinflusst. Diese Parameter sind die Auflösung, die – im Frequenzraum – durch die MTF (Modulations-Transfer Funktion) quantifiziert wird, und das frequenzabhängige Signal-zu-Rausch-Übertragungsvermögen, das durch DQE (Detective Quanten Effizienz) beschrieben wird. Um für diese Parameter gute Werte zu erhalten ist es wesentlich, das erzeugte Signal, al so die vom Szintillator erzeugte Strahlung ohne nennenswerte Schwächung (durch Verlust- und Streuprozesse) und ohne wesentliche Aufweichung der Ortsinformation (durch Streuung oder Brechung) auf die Pixelmatrix zu bringen.
  • Die beste bekannte Methode zur Erhaltung von Signal und Ortsinformation ist die direkte Bedampfung der Pixelmatrix bzw. der auf dieser ausgebildeten Passivierungsschicht mit der Szintillatorschicht. Dies ist – unter Einhaltung von gewissen Temperaturrandbedingungen – für Festkörperdetektoren bestehend aus einem einzelnen Panel möglich. Probleme ergeben sich jedoch bei großflächigen Detektoren, die aus mehreren Teildetektoren, die nebeneinander angeordnet sind bestehen. An den Stoßkanten dieser Teildetektoren entstehen stets mikroskopisch kleine Gräben, die das Kristallwachstum der Szintillatorschicht stark stören und ein gleichmäßiges Wachstum verhindern. Im umgebenden Bereich dieser Stoßkanten kann keine befriedigende Signalübertragung und damit Bildqualität erreicht werden. Eine direkte Bedampfung solcher großflächiger Festkörperbilddetektoren ist bisher nicht möglich.
  • Um aber dennoch auf eine derart großflächige Pixelmatrix den Szintillator aufbringen zu können, behilft man sich damit, dass die Szintillatorschicht zunächst auf ein Substrat, in der Regel eine dünne Aluminiumfolie aufgedampft und anschließend mit der Szintillatorschicht zur Pixelmatrix weisend auf die Teildetektoren des Festkörperbilddetektors geklebt wird. Durch diese Klebung werden jedoch die optischen Ankopplungseigenschaften erheblich beeinträchtigt, sodass sowohl MTF als auch DQE, insbesondere bei höheren Ortsfrequenzen schlechter sind als beim direkten Prozess.
  • Der Erfindung liegt das Problem zugrunde, ein Verfahren anzugeben, welches die Herstellung eines großflächigen Festkörperbilddetektors mit verbesserter optischer Ankopplung der Szintillatorschicht ermöglicht.
  • Zur Lösung dieses Problems ist bei einem Verfahren der eingangs genannten Art erfindungsgemäß vorgesehen, dass auf die Passivierungsschicht eine für die von der Szintillatorschicht emittierte Strahlung transparente Schicht aufgebracht wird, wonach die Szintillatorschicht auf die Schicht aufgedampft wird.
  • Beim erfindungsgemäßen Verfahren wird auf die Passivierungsschicht (z.B. Siliziumnitrid) der aus mehreren nebeneinander angeordneten Teildetektoren bestehenden Pixelmatrix zunächst eine strahlungstransparente Schicht aufgebracht, was dazu führt, dass eine ebene Fläche auch im Bereich der Stoßnähte der Panelkanten geschaffen wird. Dies ermöglicht es, das Szintillatormaterial direkt auf diese Schicht aufzudampfen und eine homogene Szintillatorschicht auch im Bereich der Stoßnähte der Teildetektoren aufwachsen zu lassen. Da die strahlungstransparente Schicht unmittelbar auf der Passivierungsschicht der Pixelmatrix aufgebracht ist, und da die Szintillatorschicht unmittelbar auf dieser Schicht aufgebracht ist, ergibt sich somit eine sehr gute optische Ankopplung.
  • Zur weiteren Verbesserung der optischen Ankopplung kann erfindungsgemäß eine Schicht verwendet werden, deren Brechungsindex im wesentlichen mittig zwischen dem Brechungsindex der Szintillatorschicht und der Passivierungsschicht bzw. des Halbleitermaterials liegt. Hierdurch kann erreicht werden, dass die Brechung beim Einkoppeln der von der Szintillatorschicht erzeugten Strahlung in die hierfür strahlentransparente Schicht sowie beim Einkoppeln der diese durchdringenden Strahlung in die Passivierungsschicht bzw. das Halbleitermaterial auftretende Brechung möglichst gering gehalten wird.
  • Gemäß einer ersten Erfindungsausgestaltung kann als Schicht eine Folie verwendet werden, die entweder auf die Passivierungsschicht aufgeklebt oder aber adhäsiv befestigt wird. Dabei kann ein Kleber verwendet werden, dessen Brechungsindex zwischen dem Brechungsindex der Folie und der Passivierungsschicht bzw. des Halbleitermaterials liegt. Da auch die Kleberschicht eine gewisse Dicke aufweist kann durch entsprechende Wahl des Brechungsindex derselben eine weitere Verbesserung der Strahlungsführung im Hinblick auf die Brechung erreicht werden. Schließlich kann auch eine Folie bestehend aus mehreren verschiedene Brechensindices aufweisenden Folienschichten verwendet werden.
  • Die Dicke der Folie sollte möglichst gering sein und im Bereich weniger μm liegen. Da unmittelbar auf die Folie aufgedampft wird, diese also den beim Aufdampfen herrschenden Temperaturen ausgesetzt ist, sollte sie bis wenigstens 180°C, insbesondere bis wenigsten 250°C temperaturstabil sein.
  • Eine zur Ausbildung der Schicht mittels einer Folie alternative Erfindungsausführung sieht dem gegenüber vor, dass die Schicht durch Aufgießen eines viskosen Schichtmaterials und anschließendes Aushärten desselben gebildet. wird. Die Teildetektoren werden quasi oberseitig vergossen, wodurch eine sehr ebene Oberflächenschicht (auf welche dann das Szintillatormaterial aufgedampft werden kann) erhalten wird. Als Schichtmaterial kann ein Kleber verwendet werden, wobei auch hier die Dicke der Schicht wenige μm betragen sollte. Das verwendete Schichtmaterial sollte im ausgehärteten Zustand bis wenigstens 180°C, insbesondere bis wenigstens 250°C stabil sein.
  • Insbesondere im Falle der Verwendung einer Folie hat es sich aus Stabilitätsgründen als zweckmäßig erwiesen, wenn vor dem Aufbringen der Schicht die Stoßnähte der nebeneinander angeordneten Teildetektoren, die auf einem Glassubstrat angeordnet sind, zumindest teilweise mit einem Füllmaterial gefüllt werden. Im Falle des Aufgießens der Schicht werden die Stoß nähte ohnehin mit dem Schichtmaterial verfüllt, sodass sich hierdurch eine hinreichende Stabilität ergibt.
  • Um jedoch zu vermeiden, dass über die Stossnähte seitlich Strahlung in das Halbleitermaterial und damit in die randseitigen Pixel eingekoppelt wird, sollte das Füllmaterial für die von der Szintillatorschicht emittierte Strahlung nicht transparent sein. Auch hierfür eignet sich ein Kleber. Dieses Füllmaterial, insbesondere der Kleber wird sowohl im Falle der Verwendung einer Folie als auch im Falle der Ausbildung einer Gießschicht vorher in die Stoßnähte eingeführt, wonach erst die Folie aufgebracht oder aber das Schichtmaterial aufgegossen wird. Die Stoßnähte sollten dabei möglichst vollständig mit dem nicht strahlungstransparenten Material gefüllt werden. Hierdurch kann ein unbeabsichtigtes, zu einer Informationsverfälschung im Kantenbereich führendes Einkoppeln von vom Szintillator emittierter Strahlung vermieden werden.
  • Neben dem Verfahren betrifft die Erfindung ferner einen Festkörperbilddetektor, umfassend eine aus mehreren nebeneinander angeordneten Teildetektoren bestehende, mit einer Passivierungsschicht belegte Pixelmatrix aus einem Halbleitermaterial, insbesondere aus amorphem Silizium, und eine Szintillatorschicht zum Konvertieren von auf die Szintillatorschicht einfallender Strahlung in von der Pixelmatrix verarbeitbare Strahlung. Dieser Festkörperbilddetektor zeichnet sich dadurch aus, dass auf die Passivierungsschicht eine diese bedeckende Schicht aufgebracht ist, auf welcher die Szintillatorschicht aufgebracht ist.
  • Weitere zweckmäßige Erfindungsausgestaltungen sind den abhängigen Unteransprüchen zu entnehmen.
  • Weitere Vorteile und Einzelheiten der Erfindung ergeben sich aus den nachfolgenden beschriebenen Ausführungsbeispielen sowie anhand der Zeichnungen. Dabei zeigen:
  • 1 eine Prinzipdarstellung eines aus mehreren einzelnen Panels bestehenden Festkörperbilddetektors,
  • 2 eine Schnittansicht in Form einer Prinzipskizze durch den Festkörperbilddetektor mit einer Schicht in Form einer Folie,
  • 3 eine Ansicht entsprechend 2 mit einer durch Aufgießen erzeugten Schicht und
  • 4 eine Schnittansicht durch einen Festkörperbilddetektor zur Darstellung der sich aus einem direkten Aufdampfen der Szintillatorschicht ohne Einbringen der erfindungsgemäßen Schicht ergebenden Konfiguration.
  • 1 zeigt in Form einer Pririzipdarstellung einen erfindungsgemäßen Festkörperbilddetektor 1 bestehend aus vier separaten Teildetektoren, sogenannten Panels 2 aus einem Halbleitermaterial, die jeweils eine Pixelmatrix bestehend aus einer Vielzahl einzelner Pixel 3 aufweisen. Die Panels 2 sind unter Bildung von Stoßnähten 4 nebeneinander geordnet. Die Stoßnähte 4 sind einige μm breit, ihre Breite hängt im wesentlichen von der Kantenqualität der aneinander gegenüberstehenden Panelkanten ab. Untersuchungen haben gezeigt, dass sich Nahtbreiten im Bereich von 20–80 μm, mitunter aber auch mehr ergeben. Die in 1 gezeigten Panels 2 sind mit ihrer Unterseite auf einem gemeinsamen Substrat in Form eines Glasträgers angeordnet. Auf die aktive Bildfläche, gebildet von den Pixeln 3, ist eine nicht näher gezeigte Passivierungsschicht 5 aufgebracht, z.B. aus Siliziumnitrid. Auf diese Passivierungsschicht wiederum wird, wie wir nachfolgend noch beschreiben die Szintillatorschicht aufgebracht. In 1 gezeigt sind ferner noch die Zeilentreiber 6 sowie die Auslesechips 7 der Ansteuer- und Ausleseelektronik.
  • Wie beschrieben ist auf die in 1 gezeigte Panelanordnung eine Szintillatorschicht aufzubringen. Die sich aus den vorhandenen Stoßnähten ergebenden Probleme bei einer direkten Bedampfung der nebeneinander angeordneten Panels zeigt 4. Zwischen den beiden Panels 2 auf dem Substrat 8 befindet sich die Stoßnaht 4. Wie 4 deutlich zeigt ergibt sich beim Aufwachsen der Szintillatorschicht 9, die im vorliegenden Fall aus nadelförmigen Cäsiumjodid-Kristallen 10 besteht, auf die Passivierungsschicht ein gestörtes Kristallwachstum. Dies führt zu einer in Bereich der Stoßnaht unbefriedigenden Bildqualität.
  • 2 zeigt einen Schnitt durch einen Festkörperbilddetektor 11. Bei diesem ist die Stoßnaht 12 zwischen den beiden Panels 13 mittels eines Füllmaterials 14 z.B. in Form eines Klebers aufgefüllt. Das Füllmaterial 14 ist für die vom Szintillator 15 emittierte Strahlung nicht transparent, sodass ein seitliches Einkoppeln von Strahlung in die Randbereiche der Panels 13 vermieden wird. Auf die Passivierungsschicht 16, die die Pixelmatrizen 17 der Panels 13 bedeckt, ist im gezeigten Ausführungsbeispiel eine Schicht 18 in Form einer für die von der Szintillatorschicht 15 emittierte Strahlung transparente Folie 19 aufgebracht. Die Folie 19 überdeckt sowohl die Passivierungsschicht 16 als auch die Stoßnaht 12 und bildet eine ebene Fläche, auf die die Szintillatorschicht 15 unmittelbar aufgedampft ist. Die Befestigung der Folie 19 erfolgt mittels einer Kleberschicht 20. Der Brechungsindex der Folie 19, gegebenenfalls auch der Brechungsindex der Kleberschicht 20 sind zur Optimierung der Strahlungsführung von der Szintillatorschicht 15 hin zu den Pixelmatrizen 17 entsprechend den Brechungsindices der Szintillatorschicht 15 sowie der Passivierungsschicht 16 und gegebenenfalls des Halbleitermaterials der Panels 13 gewählt. Alternativ zum Befestigen der Folie 19 mittels der Kleberschicht 20 ist es auch möglich, die Folie adhäsiv zu befestigen.
  • Eine weitere Erfindungsausführung zeigt 3. Bei der dort gezeigten Schnittansicht eines Festkörperbilddetektors 21 ist die Schicht 22 durch Aufgießen eines viskosen Schichtmaterials auf die Panels 23 und anschließendes Aushärten des Schichtmaterials, bei dem bevorzugt ein Kleber verwendet wird, gebildet. Die Schicht 22 bedeckt homogen die Passivierungsschichten 24 der Panels 23, ferner füllt sie die auch hier mit einem nicht transparenten Füllmaterial 25 gefüllte Stoßnaht 26 auf. Auch hier bildet sich eine ebene Oberfläche aus, auf die die Szintillatorschicht 27 aufgedampft werden kann.
  • Die Dicken der Schichten 18 und 22 betragen wenige μm. Sie sind resistent gegen die vom Szintillator emittierte Strahlung und hinsichtlich der während des Aufdampfens herrschenden Temperaturen stabil. Die in 2 gezeigte Folie kann weiterhin aus mehreren aufeinander angeordneten Folienschichten bestehen, wobei jede Schicht einen anderen Brechungsindex aufweisen kann, um hierdurch eine Verbesserung der optischen Ankopplung zu erzielen.

Claims (20)

  1. Verfahren zur Herstellung eines Festkörperbilddetektors, umfassend eine aus mehreren nebeneinander angeordneten Panels bestehende, mit einer Passivierungsschicht belegte Pixelmatrix aus einem Halbleitermaterial, insbesondere aus amorphem Silizium und eine Szintillatorschicht zum Konvertieren von auf die Szintillatorschicht einfallender Strahlung in von der Pixelmatrix verarbeitbare Strahlung, bei dem auf die Passivierungsschicht eine für die von der Szintillatorschicht emittierte Strahlung transparente Schicht aufgebracht wird, wonach die Szintillatorschicht auf die Schicht aufgedampft wird.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass eine Schicht verwendet wird, deren Brechungsindex im wesentlichen mittig zwischen dem Brechungsindex der Szintillatorschicht und der Passivierungsschicht und/oder des Halbleitermaterials liegt.
  3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass als Schicht eine Folie verwendet wird.
  4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Folie auf die Passivierungsschicht aufgeklebt oder adhäsiv befestigt wird.
  5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass ein Kleber verwendet wird, dessen Brechungsindex zwischen dem Brechungsindex der Folie und der Passivierungsschicht bzw. des Halbleitermaterials liegt.
  6. Verfahren nach einem der Ansprüche 3 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass eine Folie bestehend aus mehreren verschiedene Brechungsindices aufweisenden Folienschichten verwendet wird.
  7. Verfahren nach einem der Ansprüche 3 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass eine Folie mit einer Dicke von wenigen μm verwendet wird.
  8. Verfahren nach einem der Ansprüche 3 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass eine bis wenigstens 180°C, insbesondere bis wenigstens 250°C stabile Folie verwendet wird.
  9. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Schicht durch Aufgießen eines viskosen Schichtmaterials und anschließendes Aushärten desselben gebildet wird.
  10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass als Schichtmaterial ein Kleber verwendet wird.
  11. Verfahren nach Anspruch 9 oder 10, dadurch gekennzeichnet, dass eine Schicht mit einer Dicke von wenigen μm ausgebildet wird.
  12. Verfahren nach einem der Ansprüche 9 bis 11, dadurch gekennzeichnet, dass ein Schichtmaterial verwendet wird, das im ausgehärteten Zustand bis wenigstens 180°C, insbesondere bis wenigstens 250°C stabil ist.
  13. Verfahren nach einem der Ansprüche 3 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass vor dem Aufbringen der Schicht die Stoßnähte der nebeneinander angeordneten Panels zumindest teilweise mit einem Füllmaterial gefüllt werden.
  14. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, dass als Füllmaterial ein für die von der Szintillatorschicht emittierte Strahlung nicht transparentes Material verwendet wird.
  15. Verfahren nach Anspruch 13 oder 14, dadurch gekennzeichnet, dass als Füllmaterial ein Kleber verwendet wird.
  16. Festkörperbilddetektor, umfassend eine aus mehreren nebeneinander angeordneten Panels bestehende, mit einer Passivierungsschicht belegte Pixelmatrix aus einem Halbleitermaterial, insbesondere aus amorphem Silizium und eine Szintillatorschicht zum Konvertieren von auf die Szintillatorschicht einfallender Strahlung in von der Pixelmatrix verarbeitbare Strahlung, dadurch gekennzeichnet, dass auf die Passivierungsschicht (16, 24) eine diese bedeckende Schicht (18, 22) aufgebracht ist, auf welche die Szintillatorschicht (15, 27) aufgebracht ist.
  17. Festkörperbilddetektor nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, dass der Brechungsindex der Schicht (18, 22) im wesentlichen mittig zwischen dem Brechungsindex der Szintillatorschicht (15, 27) und der Passivierungsschicht (16, 24) und/oder gegebenenfalls des Halbleitermaterials liegt.
  18. Festkörperbilddetektor nach Anspruch 16 oder 17, dadurch gekennzeichnet, dass die Schicht (18) eine Folie (19) ist, die auf die Pixelmatrix (17) aufgeklebt oder adhäsiv befestigt ist.
  19. Festkörperbilddetektor nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, dass der Brechungsindex des Klebers zwischen dem Brechungsindex der Folie (19) und der Passivierungsschicht (16, 24) und/oder gegebenenfalls des Halbleitermaterials liegt.
  20. Festkörperbilddetektor nach Anspruch 18 oder 19, dadurch gekennzeichnet, dass die Folie aus mehreren verschiedene Brechungsindices aufweisenden Folienschichten besteht.
DE19914701A 1999-03-31 1999-03-31 Verfahren zur Herstellung eines Festkörperbilddetektors sowie Festkörperbilddetektor Expired - Lifetime DE19914701B4 (de)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19914701A DE19914701B4 (de) 1999-03-31 1999-03-31 Verfahren zur Herstellung eines Festkörperbilddetektors sowie Festkörperbilddetektor
JP2000088094A JP4812155B2 (ja) 1999-03-31 2000-03-28 固体画像検出器の製造方法および固体画像検出器
US09/538,144 US6429414B1 (en) 1999-03-31 2000-03-29 Solid state image detector and method for producing same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19914701A DE19914701B4 (de) 1999-03-31 1999-03-31 Verfahren zur Herstellung eines Festkörperbilddetektors sowie Festkörperbilddetektor

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE19914701A1 DE19914701A1 (de) 2000-10-19
DE19914701B4 true DE19914701B4 (de) 2005-07-07

Family

ID=7903141

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19914701A Expired - Lifetime DE19914701B4 (de) 1999-03-31 1999-03-31 Verfahren zur Herstellung eines Festkörperbilddetektors sowie Festkörperbilddetektor

Country Status (3)

Country Link
US (1) US6429414B1 (de)
JP (1) JP4812155B2 (de)
DE (1) DE19914701B4 (de)

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4447752B2 (ja) * 2000-08-03 2010-04-07 浜松ホトニクス株式会社 放射線検出器
JP4283427B2 (ja) * 2000-08-03 2009-06-24 浜松ホトニクス株式会社 放射線検出器およびシンチレータパネル
DE10119783A1 (de) * 2001-04-23 2002-10-31 Siemens Ag Strahlungswandler
US7054408B2 (en) * 2003-04-30 2006-05-30 General Electric Company CT detector array having non pixelated scintillator array
US7166849B2 (en) * 2004-08-09 2007-01-23 General Electric Company Scintillator array for use in a CT imaging system and method for making the scintillator array
DE102005045895B3 (de) * 2005-09-26 2007-06-14 Siemens Ag CMOS Röntgenflachdetektor
US7471767B2 (en) * 2006-05-03 2008-12-30 Siemens Medical Solutions Usa, Inc. Systems and methods for determining image acquisition parameters
US7881555B2 (en) * 2006-08-29 2011-02-01 Siemens Medical Solutions Usa, Inc. Methods and systems for reducing bright burn in images
WO2011081938A2 (en) * 2009-12-15 2011-07-07 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Radiation detection system and method of making a radiation detection system
DE102010004890A1 (de) * 2010-01-18 2011-07-21 Siemens Aktiengesellschaft, 80333 Photodiodenarray, Strahlendetektor und Verfahren zur Herstellung eines solchen Photodiodenarrays und eines solchen Strahlendetektors
JP5911274B2 (ja) * 2011-11-28 2016-04-27 キヤノン株式会社 放射線検出装置及び放射線撮像システム
JP6077787B2 (ja) * 2012-08-22 2017-02-08 キヤノン株式会社 放射線撮像装置及び放射線撮像システム
JP6018854B2 (ja) * 2012-09-14 2016-11-02 浜松ホトニクス株式会社 シンチレータパネル、及び、放射線検出器
JP6245799B2 (ja) * 2012-11-29 2017-12-13 キヤノン株式会社 放射線撮像装置、及び放射線撮像システム
US9739898B2 (en) * 2014-03-26 2017-08-22 California Institute Of Technology Subnanosecond scintillation detector
JP7268454B2 (ja) * 2019-04-03 2023-05-08 コニカミノルタ株式会社 放射線撮影装置

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4422928A1 (de) * 1993-06-30 1995-01-12 Shimadzu Corp Zweidimensionaler Strahlungsdetektor
DE19524858A1 (de) * 1995-07-07 1997-01-09 Siemens Ag Röntgenbilderzeugungssystem
EP0903590A1 (de) * 1997-02-14 1999-03-24 Hamamatsu Photonics K.K. Strahlungsermittlungsvorrichtung und verfahren zur herstellung dieses vorrichtung

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5262649A (en) * 1989-09-06 1993-11-16 The Regents Of The University Of Michigan Thin-film, flat panel, pixelated detector array for real-time digital imaging and dosimetry of ionizing radiation
JPH06140613A (ja) * 1992-10-27 1994-05-20 Hamamatsu Photonics Kk 半導体光検出器
US5401668A (en) * 1993-09-02 1995-03-28 General Electric Company Method for fabrication solid state radiation imager having improved scintillator adhesion
US5381014B1 (en) * 1993-12-29 1997-06-10 Du Pont Large area x-ray imager and method of fabrication
US5430298A (en) * 1994-06-21 1995-07-04 General Electric Company CT array with improved photosensor linearity and reduced crosstalk
JP3880094B2 (ja) * 1996-02-22 2007-02-14 キヤノン株式会社 放射線検出装置及びその製造方法
JPH09257943A (ja) * 1996-03-22 1997-10-03 Canon Inc 光電変換装置
JP3839872B2 (ja) * 1996-06-13 2006-11-01 キヤノン株式会社 2次元パネルの製造方法
US5844243A (en) * 1997-07-15 1998-12-01 Direct Radiography Co. Method for preparing digital radiography panels
JP2000131444A (ja) * 1998-10-28 2000-05-12 Canon Inc 放射線検出装置、放射線検出システム、及び放射線検出装置の製造方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4422928A1 (de) * 1993-06-30 1995-01-12 Shimadzu Corp Zweidimensionaler Strahlungsdetektor
DE19524858A1 (de) * 1995-07-07 1997-01-09 Siemens Ag Röntgenbilderzeugungssystem
EP0903590A1 (de) * 1997-02-14 1999-03-24 Hamamatsu Photonics K.K. Strahlungsermittlungsvorrichtung und verfahren zur herstellung dieses vorrichtung

Also Published As

Publication number Publication date
US6429414B1 (en) 2002-08-06
DE19914701A1 (de) 2000-10-19
JP2000338253A (ja) 2000-12-08
JP4812155B2 (ja) 2011-11-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE19914701B4 (de) Verfahren zur Herstellung eines Festkörperbilddetektors sowie Festkörperbilddetektor
DE69123563T2 (de) Hochempfindliches, hochauflösendes festkörperröntgen-abbildungsgerät mit sperrschicht
DE69926769T2 (de) Szintillatorpanel, strahlungsbildsensor und verfahren zu deren herstellung
DE69112199T2 (de) Methode zum formen einer röntgenbildmatrix sowie der matrix.
DE4418391C2 (de) Strahlungsmeßvorrichtung
DE69417317T2 (de) Festkörperstrahlungsdetektor mit einer Sperrschicht
DE102005010077B4 (de) Detektor mit einem Szintillator und bildgebendes Gerät, aufweisend einen derartigen Detektor
DE69403590T2 (de) Verfahren zur Herstellung eines Phosphors
DE102010004890A1 (de) Photodiodenarray, Strahlendetektor und Verfahren zur Herstellung eines solchen Photodiodenarrays und eines solchen Strahlendetektors
DE102004020468A1 (de) CT-Detektorarray mit einem nicht in Pixel unterteiltem Szintillatorarray
DE102010011581A1 (de) Verfahren zur Herstellung eines 2D-Kollimatorelements für einen Strahlendetektor sowie 2D-Kollimatorelement
DE102014225396B3 (de) Sensorboard für ein Detektormodul und Verfahren zu dessen Herstellung
DE69927522T2 (de) Strahlungsbildsensor und verfahren zu dessen herstellung
DE102004005883A1 (de) Verfahren und Vorrichtung für eine aufgebrachte hermetische Abdichtung für ein digitales Röntgenstrahlpaneel
DE68906057T2 (de) Roentgenbildverstaerker und sein herstellungsverfahren.
DE3751762T2 (de) Röntgenbildverstärker
WO2002048739A2 (de) Speicherschicht und wandlungsschicht sowie vorrichtung zum auslesen von röntgeninformationen und röntgenkassette
WO2018219915A1 (de) Strahlungsdetektierendes halbleiterbauelement
DE102011004918B4 (de) Strahlungsdetektor, insbesondere Röntgenstrahlungsdetektor
DE102012210487B3 (de) Szintillatorplatte und Verfahren zur Herstellung einer Szintillatorplatte
DE102004060870B4 (de) Festkörperstrahlungsdetektor
DE102006021046B4 (de) Röntgendetektor
DE102006042484A1 (de) Strahlungsdetektor
DE102022130680A1 (de) Mehrschicht-röntgendetektor
DE102015203604B4 (de) Schichtaufbau für mehrschichtige Laue-Linsen bzw. zirkulare Multischicht-Zonenplatten

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
8120 Willingness to grant licences paragraph 23
8364 No opposition during term of opposition
R081 Change of applicant/patentee

Owner name: SIEMENS HEALTHCARE GMBH, DE

Free format text: FORMER OWNER: SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT, 80333 MUENCHEN, DE

R071 Expiry of right