DE19635178A1 - Verfahren und Vorrichtung zur fotolithografischen Belichtung von Platten oder Folien - Google Patents

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur fotolithografischen Belichtung von Platten oder Folien, bei dem eine mit einer ein- oder beidseitigen Fotolackschicht versehene Platte oder Folie nach einer Vorpositionierung in zumindest eine erste Belichtungsstation eingebracht wird. In dieser Belichtungs­ station wird eine erste Fotomaske aufgelegt und über diese die Fotolackschicht belichtet. Anschließend wird die Platte oder Folie ausgegeben.

Die Erfindung betrifft weiterhin auch eine Vorrichtung zur fotolithografischen Belichtung von Platten oder Folien mit einer Vorpositionierstation, mindestens einer ersten Belich­ tungsstation und einer ersten Ausgabeseite. Dabei weist die erste Belichtungsstation einen Belichtungsrahmen auf, auf den ein Maskenträger auf legbar ist, wobei auf dem Maskenträger die Maske befestigbar ist.

Platten oder Folien der hier zu betrachtenden Art werden vor­ wiegend als Leiterplatten oder Leiterfolien eingesetzt. Dabei ist auf einem elektrisch isolierenden Trägermaterial ein- oder beidseitig eine Metallschicht, insbesondere eine Kupfer­ schicht, aufgebracht. Diese Kupferschicht oder diese Kupfer­ schichten werden über einen fotolithografischen Prozeß struk­ turiert, um elektrische Verbindungen zwischen elektronischen Bauelementen herzustellen.

Zur fotolithografischen Strukturierung der Metallschichten wird auf die Metallschicht oder die Metallschichten ein Foto­ lack aufgebracht, der über eine Fotomaske belichtet und an­ schließend entwickelt wird, wobei Fotolackbereiche stehen­ bleiben, die in einem nachfolgenden Ätzverfahren einen Ätz­ angriff auf die darunterliegende Metallschicht verhindern, wodurch diese als Metalleitbahn erhalten bleibt.

Insbesondere bei der Herstellung von derartigen Leiterplatten oder Leiterfolien ist es erforderlich, die Fotomaske einer genauen Positionierung zu unterziehen, da nachfolgende Verfah­ rensschritte, wie beispielsweise die Strukturierung der gegen­ überliegenden Metallfläche, mit den über den ersten Belich­ tungsschritt erzeugten Strukturen korrespondieren müssen. Außerdem wird einer hoher Automatisierungsgrad und eine hohe Taktzeit der automatischen Belichtungseinrichtung angestrebt, um den Herstellungsprozeß günstig zu gestalten.

Es ist eine Leiterplattenbelichtungsanlage bekannt, die ein gleichzeitiges Belichten der beiden Seiten einer Leiterplatte ermöglicht. Darin wird die Platte über Vakuumplatten angesaugt und mittels eines Schlittens in die Bearbeitungsstation gefah­ ren. Dort erfolgt eine Ablage der Leiterplatte in ein Stift- Loch-System zwischen einer unteren Fotomaske auf einem Masken­ träger. Eine obere Fotomaske wird zusammen mit einem weiteren Maskenträger auf die Leiterplatte aufgelegt. Somit wird die untere Fotomaske, die Leiterplatte und die obere Fotomaske gemeinsam über dieselben Stifte positioniert. Anschließend wird die Leiterplatte von beiden Seiten belichtet.

Der Aufwand zur Bewältigung des Leiterplattenhandlings und zur Realisierung der beidseitigen Belichtung ist bei dieser An­ ordnung relativ hoch.

Weiterhin ist eine Anordnung zur Belichtung von Leiterplatten bekannt, bei der in einer der Belichtungsstation vorgelagerten Position die genaue Positionierung der Leiterplatte erfolgt. Dies geschieht über einen Tisch, der mit Leuchtstreifen verse­ hen ist, wobei über den Leuchtstreifen Bildaufnahmekameras angeordnet sind, die sodann eine Bildauswertung zum Zwecke der Positionierung vornehmen.

Einerseits muß bei dieser Anordnung die Positioniergenauigkeit bis zur Belichtungsstation eingehalten und andererseits die Kameraposition mit der Position der Fotomaske korrelieren, wodurch die Positioniergenauigkeit negativ beeinflußt wird.

Weiterhin ist eine Belichtungsanordnung bekannt, bei der die Leiterplatten in waagerechter Richtung vorjustiert und an­ schließend in eine senkrechte Position geschwenkt werden. Alle weiteren Bearbeitungsschritte geschehen sodann an der senk­ recht stehenden Leiterplatte, wobei auch die Fotomasken senk­ recht zu stellen sind, um den Kontakt zwischen Fotomaske und Leiterplatte herzustellen. Bei dieser Vorrichtung erfolgt eine zweiseitige Belichtung durch nacheinander folgende Belich­ tungsschritte, wobei die Belichtungsrichtung jeweils waage­ recht verläuft. Die Ausgabe der Leiterplatten erfolgt sodann in waagerechter Position.

Diese Anordnung zeigt ein außerordentlich aufwendiges Hand­ lingsystem, wodurch sowohl der gerätetechnische Aufwand als auch die Taktzeiten relativ hoch sind.

Schließlich ist noch eine Belichtungsanordnung bekannt, bei der ein Schlitten verwendet wird. Dieser Schlitten ist zweige­ teilt, so daß nach der Eingabe einer ersten Leiterplatte ein Schlittenteil bereits eine weitere Platte aufnehmen kann, während sich die erste Platte noch in der Bearbeitungsstation befindet. Durch eine derartige Anordnung werden zwar relativ geringe Taktzeiten realisiert, allerdings zeigt sich ein hoher gerätetechnischer Aufwand infolge einer relativ komplizierten Handhabung. Außerdem können infolge des geteilten Schlittens keine Leiterfolien verarbeitet werden, da diese nicht über die gesamte Fläche aufliegen können.

Schließlich wird in dieser Anordnung die Leiterplatte außer­ halb der Belichtungsstation lagejustiert, wodurch wieder Ju­ stierfehler auftreten können.

Die Aufgabe der Erfindung besteht nunmehr darin, ein Verfahren und eine Vorrichtung zur fotolithografischen Belichtung von Platten oder Folien anzugeben, wodurch unter Beibehaltung geringer Taktzeiten′ und unter Gewährleistung eines einfachen Aufbaus eines Handlingssystems eine hohe Justiergenauigkeit erreicht wird.

Verfahrensseitig wird die Aufgabe dadurch gelöst, daß die Platte oder Folie in waagerechter Lage vorpositioniert und in der Vorpositionierstation auf ihrer der zu belichtenden Seite gegenüberliegenden Seite der Platte oder Folie vollflächig aufgenommen und gehalten wird. Unter Beibehaltung dieser Hal­ terung wird die Leiterplatte in ein und derselben Richtung in die erste Belichtungsstation bis zur Ausgabe geführt. Die Justierung erfolgt in der Belichtungsstation derart, daß die erste Fotomaske relativ zu der Platte oder Folie in waagerech­ ter Ebene bis zur exakten Justierungsposition bewegt wird.

Durch die einmalige Aufnahme der Platte oder Folie erübrigt sich eine Übergabe innerhalb des Handlingsystems. Während des Transportes durch die Belichtungsstation braucht lediglich die Vorpositioniergenauigkeit mit übertragen zu werden, was regel­ mäßig mit geringem Aufwand gewährleistet werden kann.

Dadurch, daß die Fotomaske mit der zu belichtenden Platte oder Folie relativ bewegt wird, kann in der Belichtungsstation, also dort wo die höchste Positioniergenauigkeit erforderlich ist, genau die Position zwischen Fotomaske und Platte oder Folie eingestellt werden. Diese Justiergenauigkeit braucht im weiteren nicht mit zu übertragen zu werden.

Der konsequente Transport in waagerechter Ebene in ein und derselben Richtung verhindert, daß irgendwelche Umlenkschrit­ te, die stets eine Beeinträchtigung der Taktzeiten mit sich bringen würden, vermieden werden.

In einer besonders günstigen Ausgestaltung des Verfahrens ist vorgesehen, daß die mit einer beidseitigen Fotolackschicht versehene Platte oder Folie unter Beibehaltung der vorpositio­ nierten Lage an der Ausgabe ebenfalls wieder aufgenommen wird. Die erneute Aufnahme erfolgt voll flächig und auf der nunmehr bereits belichteten Seite der Platte oder Folie. Nach der Aufnahme wird die Platte oder Folie in ihrer aufgenommenen Position gehalten und unter Beibehaltung dieser Halterung in waagerechter Lage und in derselben Richtung über eine zweite Belichtungsstation, die eine gegenüber der ersten Belichtungs­ station entgegengesetzte Belichtungsrichtung aufweist, und mit einer zweiten Fotomaske arbeitet, bis zur Ausgabe geführt. Dabei erfolgt die Justierung in der zweiten Belichungsstation in der Art, daß die zweite Fotomaske relativ zu der Platte oder Folie in waagerechter Ebene bis zur exakten Justierposi­ tion bewegt wird.

Durch diese Weiterbildung der Verfahrens wird eine Zweiseiten­ belichtung realisiert, wobei die vor dem ersten Belichtungs­ schritt eingestellte Vorpositionierung der Platte oder Folie für den zweiten Belichtungsschritt übernommen wird. Hiermit erfolgt die genaue Positionierung ebenfalls wieder unmittelbar in der Belichtungsstation, so daß hier ebenfalls keine Posi­ tioniergenauigkeit übertragen ist.

Dadurch, daß die Bewegungsrichtung der Platte aufrechterhalten wird, ist die Handhabung der Platte oder der Folie mit gerin­ gem Aufwand möglich.

Vorrichtungsseitig wird die Aufgabe dadurch gelöst, daß ein erster Schlitten vorgesehen ist, der zwischen der Vorpositio­ nierstation und der ersten Ausgabeseite in waagerechter Ebene bewegbar ist und der eine Aufnahmefläche zur vollflächigen Aufnahme der Platte oder Folie aufweist.

Auf diese Aufnahmefläche des Schlittens wird sodann die in der Vorpositionierstation vorpositionierte Platte oder Folie durch den Schlitten übernommen und durch alle Stationen getragen, wodurch die Vorpositioniergenauigkeit mit übertragen werden kann. In einer weiteren Ausbildung ist ein zweiter Schlitten vorgesehen, dessen Aufnahmefläche auf dessen Oberseite an­ geordnet ist, wenn die Aufnahmefläche des ersten Schlittens auf dessen Unterseite angeordnet ist oder umgekehrt. Der zwei­ te Schlitten ist zwischen der ersten Ausgabeseite, die in diesem Fall als Übergabestation ausgeführt worden ist, und einer zweiten Ausgabeseite in waagerechter Ebene bewegbar. Zwischen der Übergabestation und der zweiten Ausgabeseite ist eine zweite Belichtungsstation angeordnet, die eine zu der ersten Belichtungsstation entgegengesetzte Belichtungsrichtung aufweist. Diese besondere Ausführungsform der Erfindung gibt die Möglichkeit eines Zweiseitenbelichters an. Dadurch, daß an der Übergabestation die Platte oder Folie von dem ersten Schlitten abgeben und vom zweiten Schlitten aufgenommen wird, erfolgt an dieser Stelle eine Übertragung der Vorpostionierung der Platte oder Folie für den zweiten Belichtungsschritt.

In einer Ausgestaltung der erfindungsgemäßen Vorrichtung ist vorgesehen, daß der Maskenträger auf dem Belichtungsrahmen mittels elektromagnetisch lösbarer Permanentmagneten erhalten ist.

Durch diese Halterung wird einerseits erreicht, daß der Mas­ kenträger, der zumeist als Glasplatte ausgebildet ist, an einer Vielzahl von Stellen gehalten werden kann, so daß dessen Ebenheit gewährleistet werden kann. Andererseits ist es mög­ lich, den Maskenträger ohne nennenswerten Montageaufwand zu wechseln.

In einer weiteren Ausgestaltung der Vorrichtung ist vorgese­ hen, daß die Aufnahme des Schlittens größer ist als die Fläche der größten zu belichteten Platte oder Folie und daß sie als Vakuumsaugplatte mit mindestens zwei Saugbereichen ausgebildet ist. Die beiden Saugbereiche sind getrennt voneinander und/oder an verschiedene Vakuumquellen anschließbar. Dabei ist der erste Saugbereich im wesentlichen von der Platte oder Folie abdeckbar. Der zweite Saugbereich ist als Rand der Auf­ nahmefläche ausgebildet, der über die Fläche der größten zu belichteten Platte übersteht. Der zweite Saugbereich ist in Richtung zu dem äußeren Rand der Aufnahmeflächen mit einer Lippendichtung versehen, die an den Maskenträger anlegbar ist.

Durch eine derartige Aufnahmefläche wird es möglich, durch den ersten Saugbereich die Platte oder Folie über die einzelnen Stationen hinweg in der vorpositionierten Lage zu halten. Mit dem zweiten Saugbereich wird es ermöglicht, daß der Masken­ träger und damit die Maske, die auf dem Maskenträger befestigt ist, an die Platte oder Folie angesaugt wird, wodurch ein sehr enger Kontakt zwischen der Fotomaske und der Platte oder Folie entsteht. Zur Sicherung des Vakuums des zweiten Saugbereiches ist die Lippendichtung vorgesehen.

Diese Lippendichtung ist in einer besonders günstigen Ausge­ staltung der Erfindung als aufblasbare Lippendichtung ausge­ bildet, wodurch es möglich wird, die Dichtwirkung dieser Lip­ pendichtung im erheblichen Maße zu erhöhen.

Die Erfindung soll nachfolgend anhand eines Ausführungsbei­ spieles näher erläutert werden. In den zugehörigen Zeichnungen zeigt

Fig. 1 eine Vorderansicht einer erfindungsgemäßen Anordnung,

Fig. 2 eine Draufsicht der erfindungsgemäßen Anordnung und

Fig. 3 einen Querschnitt durch eine Lippendichtung.

An einem Grundgestell 1 ist eine Vorpositionierstation 2 an­ geordnet. Diese Vorpositionierstation 2 ist mit angetriebenen Laufrollen 3 versehen. Auf diese Laufrollen wird eine Leiter­ platte 4 aufgelegt und durch die Laufrollen 3 in Längsrichtung 5, die der gesamten Anordnung gemeinsam ist, gegen nicht näher dargestellte Anschläge geschoben. Damit ist die Leiterplatte 4 in Längsrichtung 5 vorpositioniert. Sodann werden ebenfalls nicht näher dargestellte Anschläge senkrecht zur Längsrichtung seitlich an die Leiterplatte herangefahren, so daß diese auch in seitlicher Richtung eine Vorpositionierung erfährt.

Weiterhin ist ein erster Schlitten 6 vorgesehen, der mittels eines Supports 7 in der Längsrichtung 5 zwischen der vorposi­ tionierten Station 2 und einer Ausgabeseite, die bei der dar­ gestellten Vorrichtung als Übergabestation 8 ausgebildet ist, beweglich ist.

Die Unterseite des ersten Schlittens 6 ist als Aufnahmefläche ausgebildet, wobei der innere Flächenteil an ein erstes Vakuum und der äußere Flächenteil zum Rand hin an ein zweites Vakuum anschließbar ist. Mittels des ersten Vakuums kann die Leiter­ platte 4 an dem ersten Schlitten 6 von der Vorpositionier­ station aufgenommen und während des Transports gehalten wer­ den.

In der ersten Belichtungsstation 9 ist ein Belichtungsrahmen 10 vertikal beweglich angeordnet. Dieser Belichtungsrahmen 10 trägt einen Maskenträger 11. Der Maskenträger 11 ist als eine Glasplatte ausgeführt, die in diesem Falle durch die Schwer­ kraft auf dem Belichtungsrahmen 10 aufliegt. Auf dem Masken­ träger 11 ist in herkömmlicher Weise die nicht näher darge­ stellte Fotomaske aufgebracht.

Befindet sich nunmehr der erste Schlitten 6 in der ersten Belichtungsstation 9, so wird der Belichtungsrahmen 10 zu­ sammen mit dem Maskenträger 11 nach oben gehoben. Dabei kommt zur Abdichtung des zweiten Vakuums eine Lippendichtung 12, die im äußeren Rand der Unterseite der Aufnahmefläche angeordnet ist, auf dem Maskenträger 11 zur Auflage.

Sogleich kann über die zweite Vakuumfläche der Maskenträger 11 zusammen mit der Fotomaske gegen die Leiterplatte 4 gezogen werden.

Die Lippendichtung 12 ist in einer Nut 13 in dem ersten Schlitten 6 angebracht. In dieser Nut 13 ist ein Stützring 14 vorgesehen, der von der Lippendichtung 12 umgriffen wird. Der Stützring 14 ist zumindest mit einer Bohrung 15 versehen, durch die Luft in den verbleibenden Hohlraum zwischen der Oberseite des Stützringes 14 und der Dichtlippe 16 der Lippen­ dichtung 12 eingeblasen werden kann. Infolge dieses Aufblasens wölbt sich die Dichtlippe 16 nach oben und kann sich somit an den Maskenträger 11 anlegen, wodurch die Unterseite des ersten Schlittens 6 gegenüber den Maskenträger nach außen abgedichtet ist und das zweite Vakuum den Maskenträger 11 gegen den ersten Schlitten 6 ziehen kann.

Ist dies erfolgt, kann der Belichtungsvorgang eingeleitet werden, was dadurch geschieht, daß durch eine Belichtungslampe 17 eine Lichtbestrahlung in im wesentlichen senkrechter Rich­ tung nach oben durch die Fotomaske hindurch auf die Foto­ lackschicht auf der Unterseite der Leiterplatte 4 erfolgt.

Nach dem Beleuchtungsvorgang wird die Verbindung zwischen dem ersten Schlitten 6 und dem Maskenträger 11 wieder gelöst und der erste Schlitten 6 transportiert die nunmehr auf ihrer Unterseite belichtete Leiterplatte 4 zur Übergabestation 8. An dieser Übergabestation 8 wird die Leiterplatte 4 durch einen zweiten Schlitten 18 von dem ersten Schlitten 6 übernommen. Dabei ist die Oberseite des zweiten Schlittens 18 wieder als Aufnahmeplatte ausgebildet, in dem in gleicher Art und Weise wie bei dem ersten Schlitten 6 zwei Vakuumsaugbereiche, die nach außen hin mit einer Lippendichtung 12 abgeschlossen sind, angeordnet sind.

An der Übergabestation 8 wird die Leiterplatte 4 mit der in der Vorpositionierstation eingestellten Vorpositionierung an den zweiten Schlitten 18 übergeben. Dieser fährt die Leiter­ platte 4 sodann in eine zweite Belichtungsstation 19. Da die Aufnahme der Leiterplatte 4 durch den zweiten Schlitten 18 nunmehr auf der Seite erfolgt, die in der ersten Belichtungs­ station 9 belichtet worden ist, ist nunmehr die andere Seite für die zweite Belichtungsstation 19 frei. Die zweite Belich­ tungsstation 19 hat eine Belichtungsrichtung von oben nach unten und steht somit in entgegengesetzter Belichtungsrichtung zu der Belichtungsrichtung der ersten Belichtungsstation 9.

In der zweiten Belichtungsstation 19 befindet sich der Masken­ träger 11 an dem Belichtungsrahmen 10 unter diesem. Hierzu sind in den Maskenträger 11 ferromagnetische Streifen einge­ lassen, die über nicht näher dargestellte Permanentmagneten im Belichtungsrahmen 10 gehalten werden. Zum Zwecke des Auswech­ selns des Maskenträgers 11 sind diese Permanentmagneten elek­ tromagnetisch lösbar gestaltet.

Im Maskenträger 11 sind permanentmagnetische Streifen einge­ lassen, mit deren Hilfe folienartige Masken durch ferromagne­ tische Streifen am Maskenträger 11 befestigt werden können.

In der zweiten Belichtungsstation 19, wie auch in der ersten Belichtungsstation 9, ist der Belichtungsrahmen 10 neben der möglichen Vertikalbewegung auch in Längsrichtung 5, senkrecht zur Längsrichtung 5 und um eine senkrecht zur Ebene des Be­ lichtungsrahmens 10 stehende Achse schwenkbar gestaltet. Damit wird es möglich, den Belichtungsrahmen 10 zusammen mit dem Maskenträger 11 bezüglich der Leiterplatte 4 vor einer Belich­ tung genau zu justieren.

Nach der Belichtung fährt der zweite Schlitten 18 in die end­ gültige Ausgabeposition 20, von wo aus die sodann belichtete Leiterplatte 4 entnommen werden kann.

Bezugszeichenliste

1 Grundgestell
2 Vorpositionierstation
3 Laufrolle
4 Leiterplatte
5 Längsrichtung
6 erster Schlitten
7 Support
8 Übergabestation
9 erste Belichtungsstation
10 Belichtungsrahmen
11 Maskenträger
12 Lippendichtung
13 Nut
14 Stützring
15 Bohrung
16 Dichtlippe
17 Belichtungslampe
18 zweiter Schlitten
19 zweite Belichtungsstation
20 Ausgabeposition

Claims (7)

1. Verfahren zur fotolithografischen Belichtung von Platten oder Folien, bei dem eine mit einer ein- oder beidseitigen Fotolackschicht versehene Platte oder Folie nach einer Vorpositionierung in zumindest eine erste Belichtungs­ station eingebracht wird, in der eine erste Fotomaske aufgelegt und über diese die Fotolackschicht belichtet wird, und anschließend die Platte oder Folie ausgegeben wird, dadurch gekennzeichnet, daß die Platte (4) oder Folie in waagerechter Lage vorpositioniert und in der Vorpositionierstation (2) auf ihrer der zu belichtenden Seite der Platte oder Folie gegenüberliegen­ den Seite vollflächig aufgenommen und gehalten wird und unter Beibehaltung dieser Halterung in waagerechter Lage und in ein und derselben Richtung (5) über die erste Be­ lichtungsstation (9) bis zur Ausgabe (8) geführt wird, und daß die Justierung in der ersten Belichtungsstation (9) derart erfolgt, daß die erste Fotomaske relativ zu der Platte (4) oder Folie in waagerechter Ebene bis zur ex­ akten Justierposition bewegt wird.

2. Verfahren zur fotolithografischen Belichtung von Platten oder Folien nach Anspruch 1, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die mit einer beidseitigen Fotolack­ schicht versehene Platte (4) oder Folie unter Beibehaltung der vorpositionierten Lage an der Ausgabe (8) auf ihrer belichteten Seite vollflächig aufgenommen und gehalten wird und unter Beibehaltung dieser Halterung in waagerech­ ter Lage und in derselben Richtung (5) über eine zweite Belichtungsstation (18), mit einer gegenüber der ersten Belichtungsstation (9) entgegengesetzten Belichtungsrich­ tung und einer zweiten Fotomaske, bis zur Ausgabe geführt wird und daß die Justierung in der zweiten Belichtungs­ station (18) derart erfolgt, daß die zweite Fotomaske relativ zu der Platte (4) oder Folie in waagerechter Ebene bis zur exakten Justierposition bewegt wird.

3. Vorrichtung zur fotolithografischen Belichtung von Platten oder Folien mit einer Vorpositionierstation, mindestens einer ersten Belichtungsstation, die einen Belichtungs­ rahmen aufweist, auf den ein Maskenträger auflegbar ist, wobei auf dem Maskenträger die Maske befestigbar ist, und einer ersten Ausgabeseite, dadurch gekenn­ zeichnet, daß ein erster Schlitten (6) vorgesehen ist, der zwischen der Vorpositionierstation (2) und der ersten Ausgabeseite (8) in waagerechter Ebene bewegbar ist und der eine Aufnahmefläche zur vollflächigen Aufnahme der Platte (4) oder Folie aufweist.

4. Vorrichtung zur fotolithografischen Belichtung von Platten oder Folien nach Anspruch 1, dadurch gekenn­ zeichnet, daß ein zweiter Schlitten (17) vorgesehen ist, dessen Aufnahmefläche auf dessen Oberseite angeordnet ist, wenn die Aufnahmefläche des ersten Schlittens (6) auf dessen Unterseite angeordnet ist, oder umgekehrt, und der zwischen der ersten Ausgabeseite, die in diesem Falle als Übergabestation (8) ausgeführt ist, und einer zweiten Ausgabeseite (19) in waagerechter Ebene bewegbar ist, und daß zwischen der Übergabestation (8) und der zweiten Aus­ gabeseite (19) eine zweite Belichtungsstation (18) mit einer zu der ersten Belichtungsstation (9) entgegengesetz­ ten Belichtungsrichtung angeordnet ist.

5. Vorrichtung zur fotolithografischen Belichtung von Platten oder Folien nach Anspruch 3 oder 4, dadurch ge­ kennzeichnet, daß der Maskenträger (11) auf dem Belichtungsrahmen (10) mittels elektromagnetisch lösbarer Permanentmagneten gehalten ist.

6. Vorrichtung zur fotolithografischen Belichtung von Platten oder Folien nach einem der Ansprüche 3 bis 5, da­ durch gekennzeichnet, daß die Aufnahme­ fläche des Schlittens (6; 18) größer ist als die Fläche der größten zu belichtenden Platte (4) oder Folie und als Vakuumsaugplatte mit mindestens zwei Saugbereichen ausge­ bildet ist, die getrennt voneinander und/oder an verschie­ dene Vakuumquellen anschließbar sind, wobei der erste Saugbereich im wesentlichen von der Platte (4) oder Folie abdeckbar ist und der zweite Saugbereich in einem über die Fläche der größten zu belichtenden Platte überstehenden Rand der Aufnahmefläche ausgebildet ist und daß der zweite Saugbereich in Richtung zum äußeren Rand der Aufnahmeflä­ che hin mit einer Lippendichtung (12) versehen ist, die an den Maskenträger (11) anlegbar ist.

7. Vorrichtung zur fotolithografischen Belichtung von Platten oder Folien nach Anspruch 6, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die Lippendichtung (12) aufblasbar ist.