DE19628949A1 - Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma - Google Patents

Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma

Info

Publication number
DE19628949A1
DE19628949A1 DE1996128949 DE19628949A DE19628949A1 DE 19628949 A1 DE19628949 A1 DE 19628949A1 DE 1996128949 DE1996128949 DE 1996128949 DE 19628949 A DE19628949 A DE 19628949A DE 19628949 A1 DE19628949 A1 DE 19628949A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
vacuum container
tube
conductor
distributor
conductors
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE1996128949
Other languages
English (en)
Other versions
DE19628949B4 (de
Inventor
Eberhard Dr Ing Raeuchle
Horst Muegge
Fritz Konstantin Raeuchle
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Muegge GmbH
Original Assignee
Muegge Electronic GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from DE1995103205 external-priority patent/DE19503205C1/de
Application filed by Muegge Electronic GmbH filed Critical Muegge Electronic GmbH
Priority to DE1996128949 priority Critical patent/DE19628949B4/de
Publication of DE19628949A1 publication Critical patent/DE19628949A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE19628949B4 publication Critical patent/DE19628949B4/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H01J37/32192Microwave generated discharge
    • H01J37/32211Means for coupling power to the plasma
    • H01J37/3222Antennas
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H01J37/32192Microwave generated discharge
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24Generating plasma
    • H05H1/46Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma in einem Unterdruckbehälter mit Hilfe von elektromagnetischen Wechselfeldern, wobei ein stabförmiger Leiter innerhalb eines Rohres aus isolierendem Werkstoff durch den Unterdruckbehälter geführt ist, wobei der Innendurchmesser des Rohres größer als der Durchmesser des Leiters ist, wobei das Rohr an beiden Enden durch Wände des Unterdruckbehälters gehalten und gegenüber den Wänden an seiner Außenfläche abgedichtet ist, wobei der Leiter an beiden Enden an Quellen zur Erzeugung der elektromagnetischen Wechselfelder angeschlossen ist (nach Patent 195 03 205.5) und wobei mehrere aus je einem stabförmigen Leiter und einem Rohr bestehende Vorrichtungen in dem Unterdruckbehälter angeordnet sind.
Bei einer derartigen im Hauptpatent beschriebenen Vorrichtung ist es für verschiedene Anwendungen vorteilhaft, die einzelnen Rohre dicht nebeneinander anzuordnen - beispielsweise Rohre mit einem Durchmesser von 30 mm in einem Abstand von 60 mm. Die Zuführung der Wechselfelder erfolgt bei bekannten Vorrichtungen, beispielsweise gemäß DE 41 36 297 A1 durch einen Hohlleiter, der senkrecht zu mehreren nebeneinander angeordneten Mikrowellen-Erzeugungseinrichtungen verläuft. Für jede der Mikrowellen-Erzeugungseinrichtungen ist im Hohlleiter eine Koppeleinrichtung vorgesehen, welche die Auskopplung eines Teils der in dem Hohlleiter geführten Energie zur jeweiligen Plasmaerzeugungseinrichtung vornimmt. Dabei ist der Abstand der einzelnen Koppeleinrichtungen und damit der Plasmaerzeugungseinrichtungen auf die Hälfte der Wellenlänge oder auf ein ganzzahliges Vielfaches davon beschränkt. Bei vielen Anwendungsfällen der Vorrichtung nach dem Hauptpatent ist es jedoch vorteilhaft, die einzelnen Rohre (Mikrowellen-Erzeugungseinrichtungen) dichter nebeneinander anzuordnen.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, bei einer Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma nach dem Hauptpatent die Zuführung der Wechselfelder auch bei dicht nebeneinander liegenden Rohren zu ermöglichen.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß zur Zuführung der elektromagnetischen Wechselfelder zu den Leitern mehrerer jeweils nebeneinander liegender Rohre an jeweils einem der Enden ein Verteiler mit einem Eingang, mit sich verzweigenden Koaxialleitungen und mit Ausgängen vorgesehen ist, die jeweils mit einem der Leiter verbunden sind.
Dabei wird eine stabile, betriebssichere und zur Übertragung hoher Leistungen geeignete Vorrichtung insbesondere dadurch erzielt, daß ein Verteiler jeweils aus einem massiven Metallblock, vorzugsweise aus einem Aluminiumblock, besteht, in welchem die Koaxialleitungen in Form von Kanälen mit jeweils einem Innenleiter eingebracht sind.
Je nach Voraussetzungen im einzelnen können durch einen Verteiler zwei, vier oder auch mehr Leiter mit Wechselfeldern versorgt werden. Bei einer größeren Anzahl von Leitern bzw. Rohren können mehrere Verteiler angeordnet werden, wobei dann vorzugsweise vorgesehen ist, daß dem Eingang jeweils eines Verteilers das Wechselfeld über einen Hohlleiter zuführbar ist.
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung ist in der Zeichnung dargestellt und in der nachfolgenden Beschreibung näher erläutert.
Die dargestellte erfindungsgemäße Vorrichtung umfaßt einen Unterdruckbehälter 1, von dem lediglich zwei Wände 2, 3 dargestellt sind, in denen Glasrohre 41 bis 48 gelagert sind, in denen sich jeweils ein stabförmiger Leiter 51 bis 58 befindet. Einzelheiten zur Lagerung der Glasrohre sowie zur Abdichtung gegenüber den Wänden 2, 3 sind dem Hauptpatent entnehmbar.
Den stabförmigen Leitern 51 bis 58 werden von beiden Enden hochfrequente Wechselfelder zugeführt. Dazu dient jeweils ein Mikrowellen-Generator 6, 7, dessen Ausgang mit einem Hohlleiter 8, 9 verbunden ist. Jeweils zwei Koppeleinrichtungen 10, 11; 12, 13 in den Hohlleitern 8, 9 koppeln einen Teil der Energie aus den Hohlleitern 8, 9 aus und führen ihn in jeweils eine Eingangsöffnung 22, 23, 24, 25 eines Verteilers 14, 15; 16, 17. Die durch die Öffnungen 22, 23, 24, 25 eingekoppelten Leistungen können durch die Öffnungsdurchmesser, durch die geometrische Form der Koppeleinrichtungen sowie durch Abstimmstifte individuell angepaßt werden, so daß von Rohr zu Rohr eine homogene oder beabsichtigte inhomogene Plasmabildung erfolgt.
Zwei in Richtung der Doppelpfeile bewegliche Abstimmstifte 26, 27 sind beispielhaft in der Figur dargestellt. Diese wirken auf die Leistung aller an die Verteiler 15, 17 angeschlossenen Rohre 45 bis 48. Abstimmstifte können auch in den verzweigten Teilen der Koaxialleitungen angeordnet sein, wobei sie dann auf die jeweils angeschlossenen Rohre oder einzelne Rohre wirken. In der Figur sind die Abstimmstifte 26, 27 in der Zeichenebene dargestellt, um deren Verschiebbarkeit zu veranschaulichen. Sie können jedoch auch in einem anderen Winkel angeordnet sein, beispielsweise senkrecht zur Zeichenebene.
Die Koaxialleitung 18, 19, 20, 21 verzweigt sich jeweils zu vier Ausgängen, die mit jeweils einem Ende der stabförmigen Leiter 51 bis 58 verbunden sind. Die Innenleiter können durch Abstandshalter aus Nichtleitern, beispielsweise Teflon oder Keramik, gestützt sein. Durch die Koaxialleitungen kann ein Kühlmittel, beispielsweise Luft, strömen.

Claims (3)

1. Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma in einem Unterdruckbehälter mit Hilfe von elektromagnetischen Wechselfeldern, wobei ein stabförmiger Leiter innerhalb eines Rohres aus isolierendem Werkstoff durch den Unterdruckbehälter geführt ist, wobei der Innendurchmesser des Rohres größer als der Durchmesser des Leiters ist, wobei das Rohr an beiden Enden durch Wände des Unterdruckbehälters gehalten und gegenüber den Wänden an seiner Außenfläche abgedichtet ist, wobei der Leiter an beiden Enden an Quellen zur Erzeugung der elektromagnetischen Wechselfelder angeschlossen ist (nach Patent 195 03 205.5) und wobei mehrere aus je einem stabförmigen Leiter und einem Rohr bestehende Vorrichtungen in dem Unterdruckbehälter angeordnet sind, dadurch gekennzeichnet, daß zur Zuführung der elektromagnetischen Wechselfelder zu den Leitern (51 bis 58) mehrerer jeweils nebeneinander liegender Rohre (41 bis 48) an jeweils einem der Enden ein Verteiler (14 bis 17) mit einem Eingang, mit sich verzweigenden Koaxialleitungen (18 bis 21) und mit Ausgängen vorgesehen ist, die jeweils mit einem der Leiter (51 bis 58) verbunden sind.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß ein Verteiler (14 bis 17) jeweils aus einem massiven Metallblock, vorzugsweise aus einem Aluminiumblock, besteht, in welchem die Koaxialleitungen (18 bis 21) in Form von Kanälen mit jeweils einem Innenleiter eingebracht sind.
3. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß dem Eingang jeweils eines Verteilers (14 bis 17) das Wechselfeld über einen Hohlleiter (8, 9) zuführbar ist.
DE1996128949 1995-02-02 1996-07-18 Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma Expired - Lifetime DE19628949B4 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE1996128949 DE19628949B4 (de) 1995-02-02 1996-07-18 Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE1995103205 DE19503205C1 (de) 1995-02-02 1995-02-02 Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma
DE1996128949 DE19628949B4 (de) 1995-02-02 1996-07-18 Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE19628949A1 true DE19628949A1 (de) 1998-01-22
DE19628949B4 DE19628949B4 (de) 2008-12-04

Family

ID=26012034

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE1996128949 Expired - Lifetime DE19628949B4 (de) 1995-02-02 1996-07-18 Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE19628949B4 (de)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19801366A1 (de) * 1998-01-16 1999-07-22 Leybold Systems Gmbh Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma
WO2000016374A1 (de) * 1998-09-12 2000-03-23 Balzers Und Leybold Deutschland Holding Ag Vorrichtung zur plasmatechnischen abscheidung von polykristallinem diamant
DE19928876A1 (de) * 1999-06-24 2000-12-28 Leybold Systems Gmbh Vorrichtung zur lokalen Erzeugung eines Plasmas in einer Behandlungskammer durch Mikrowellenanregung
DE19955671A1 (de) * 1999-11-19 2001-05-31 Muegge Electronic Gmbh Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma
DE10138693A1 (de) * 2001-08-07 2003-07-10 Schott Glas Vorrichtung zum Beschichten von Gegenständen
DE102004039468A1 (de) * 2004-08-14 2006-03-02 Gschwandtner, Alexander, Dr.phil. Vorrichtung zur Erzeugung angeregter und/oder ionisierter Teilchen in einem Plasma
EP2139303A1 (de) * 2007-03-30 2009-12-30 Mitsui Engineering & Shipbuilding Co., Ltd. Plasmaerzeugungsvorrichtung und plasmafilmbildungsvorrichtung

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1324464A (en) * 1971-07-01 1973-07-25 Standard Telephones Cables Ltd Electric commutator arrangement
DE68926923T2 (de) * 1988-03-16 1996-12-19 Hitachi Ltd Mikrowellenionenquelle
DE4136297A1 (de) * 1991-11-04 1993-05-06 Plasma Electronic Gmbh, 7024 Filderstadt, De Vorrichtung zur lokalen erzeugung eines plasmas in einer behandlungskammer mittels mikrowellenanregung
US5230740A (en) * 1991-12-17 1993-07-27 Crystallume Apparatus for controlling plasma size and position in plasma-activated chemical vapor deposition processes comprising rotating dielectric
US5223809A (en) * 1992-04-24 1993-06-29 At&T Bell Laboratories Signal isolating microwave splitters/combiners

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6161501A (en) * 1998-01-16 2000-12-19 Leybold Systems Gmbh Device for plasma generation
DE19801366A1 (de) * 1998-01-16 1999-07-22 Leybold Systems Gmbh Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma
DE19801366B4 (de) * 1998-01-16 2008-07-03 Applied Materials Gmbh & Co. Kg Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma
US6487986B1 (en) 1998-09-12 2002-12-03 Unaxis Deutschland Holding Gmbh Device for the plasma deposition of a polycrystalline diamond
WO2000016374A1 (de) * 1998-09-12 2000-03-23 Balzers Und Leybold Deutschland Holding Ag Vorrichtung zur plasmatechnischen abscheidung von polykristallinem diamant
DE19928876A1 (de) * 1999-06-24 2000-12-28 Leybold Systems Gmbh Vorrichtung zur lokalen Erzeugung eines Plasmas in einer Behandlungskammer durch Mikrowellenanregung
DE19955671B4 (de) * 1999-11-19 2004-07-22 Muegge Electronic Gmbh Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma
DE19955671A1 (de) * 1999-11-19 2001-05-31 Muegge Electronic Gmbh Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma
DE10138693A1 (de) * 2001-08-07 2003-07-10 Schott Glas Vorrichtung zum Beschichten von Gegenständen
DE102004039468A1 (de) * 2004-08-14 2006-03-02 Gschwandtner, Alexander, Dr.phil. Vorrichtung zur Erzeugung angeregter und/oder ionisierter Teilchen in einem Plasma
DE102004039468B4 (de) * 2004-08-14 2008-09-25 R3T Gmbh Rapid Reactive Radicals Technology Vorrichtung zur Erzeugung angeregter und/oder ionisierter Teilchen in einem Plasma
EP2139303A1 (de) * 2007-03-30 2009-12-30 Mitsui Engineering & Shipbuilding Co., Ltd. Plasmaerzeugungsvorrichtung und plasmafilmbildungsvorrichtung
EP2139303A4 (de) * 2007-03-30 2010-11-10 Mitsui Shipbuilding Eng Plasmaerzeugungsvorrichtung und plasmafilmbildungsvorrichtung

Also Published As

Publication number Publication date
DE19628949B4 (de) 2008-12-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE19628952B4 (de) Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma
EP1415321B1 (de) Vorrichtung zum beschichten von gegenständen
EP1183709B1 (de) Linear ausgedehnte anordnung zur grossflächigen mikrowellenbehandlung und zur grossflächigen plasmaerzeugung
WO2000035256A1 (de) Vorrichtung zur erzeugung eines freien kalten plasmastrahles
EP0916153A1 (de) Vorrichtung zur erzeugung von plasma
DE2232065B2 (de) Mikrowellen-Erhitzungseinrichtung
DE19628949B4 (de) Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma
EP1291077B1 (de) Mikrowellenreaktor und Verfahren zur Steuerung von Reaktionen von aktivierten Molekülen
DE10143375C1 (de) Pyrolysevorrichtung und Pyrolyseverfahren
DE102008035883B4 (de) Phasenschieber
DE19801366B4 (de) Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma
DD263648B5 (de) Einrichtung zur erzeugungs eines Mikrowellenplasmas mit grosser Ausdehnung und Homogenitaet
EP1665324B1 (de) Ecr-plasmaquelle mit linearer plasmaaustrittsöffnung
DE3912569A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur erzeugung eines elektrischen hochfrequenzfeldes in einem nutzraum
DE102013215252A1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Behandlung von Prozessgasen in einem Plasma angeregt durch elektromagnetische Wellen hoher Frequenz
EP1252647B1 (de) Einkoppelanordnung für mikrowellenenergie mit impedanzanpassung
EP0963141A2 (de) Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma
DE102006034084B4 (de) Anordnung zur Konzentration von Mikrowellenenergie
DE19928876A1 (de) Vorrichtung zur lokalen Erzeugung eines Plasmas in einer Behandlungskammer durch Mikrowellenanregung
WO2020016307A1 (de) Durchfluss-mikrowellenheizung
EP3096395A1 (de) Combiner-anordnung
DE4142219A1 (de) Koppelvorrichtung mit variablem koppelfaktor zur ankopplung einer koaxialen speiseleitung an einen hohlraumresonator
DE3918435C2 (de) Schutzvorrichtung für einen Empfänger
DE911630C (de) Anordnung zur Erregung einer Hohlrohrleitung mit ultrakurzen Wellen
DE102018113443A1 (de) Plasmabehandlungsvorrichtung mit einer linearen Mikrowellen-Plasmaquelle und einer Gasleitvorrichtung

Legal Events

Date Code Title Description
AF Is addition to no.

Ref country code: DE

Ref document number: 19503205

Format of ref document f/p: P

8110 Request for examination paragraph 44
8162 Independent application
8139 Disposal/non-payment of the annual fee
8170 Reinstatement of the former position
8364 No opposition during term of opposition
8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: ROTH & RAU MUEGGE GMBH, 64385 REICHELSHEIM, DE

R071 Expiry of right