DE19613745A1 - Verfahren zur Herstellung anamorphotischer mikrooptischer Arrays und damit ausgestattete Faserlinse - Google Patents

Verfahren zur Herstellung anamorphotischer mikrooptischer Arrays und damit ausgestattete Faserlinse

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Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung insbesondere refraktiver und refraktiv-reflektiver anamorphotischer mikrooptischer Arraykomponenten mit hohem Füllfaktor zum Zwecke der Strahlformung, speziell der effizienten Kollimation von Lasern mit räumlich anisotropen Strahleigenschaften, vorzugsweise von Laserdioden-Arrays und Excimerlasern. Erfindungsgemäß wird bei der Dünnschicht-Vakuumbedampfung in einem System mit Planetenrotation eine sequentielle Maskenabschattung vorgenommen, die zu einer in mindestens zwei Raumrichtungen voneinander verschiedenen Schichtdickenmodulation und somit zu einem kompakten mikrooptischen Array mit mindestens zwei verschiedenen Krümmungsradien bzw. Brennweiten der Elemente führt. Durch geeignetes Design von Abschattung und Schichtaufbau können dichroitische Eigenschaften, eine ortsabhängige Teilreflexion oder eine Apodisation von Einzelelementen bzw. des gesamten Arrays erreicht werden, um die optischen Eigenschaften zu verbessern.
Weiterhin betrifft die Erfindung eine speziell gestaltete Faserlinse, bei welcher auf abgeflachten Bereichen die erfindungsgemäß hergestellten anamorphotischen mikrooptischen Arrays angeordnet sind.
Ein wesentliches Anwendungsgebiet der Erfindung ist die Herstellung neuartiger mikrooptischer Komponenten, die sich zur effizienten Strahlformung und Strahlhomogenisierung von anisotropen Lichtquellen eignen. Bevorzugtes Anwendungsgebiet von anamorphotischen Mikrolinsenarrays ist die Kollimation von Laserdiodenarrays und Excimerlasern, die sich typischerweise durch Elliptizität des Strahlprofils und unterschiedliche Divergenzen in voneinander verschiedenen Raumrichtungen auszeichnen und astigmatische Eigenschaften aufweisen können. Für Anwendungen in der Materialbearbeitung, Lasermedizin und Photonik werden isotrope Divergenzverteilungen benötigt, um möglichst zirkulare Laserflecke bei der Fokussierung zu erzielen. Damit lassen sich gegenüber nicht-zirkularen Verteilungen beispielsweise höhere Datenmengen pro Fläche auf optische Speichermedien schreiben und größere Wirkungsgrade bei der Einkopplung in Lichtwellenleiter (Fasern, Faserbündel, integrierte Optik) erzielen. Die verbesserte Fokussierbarkeit spielt eine herausragende Rolle bei optisch gepumpten Lasersystemen, namentlich diodengepumpten Festkörperlasern, für die eine große Breite von Anwendungen abzusehen ist und deren optischer Wirkungsgrad als eine entscheidende Größe in die Kosten pro Photon eingeht. Darüber hinaus können refraktiv- reflektive anamorphotische Arrays zur Realisierung neuartiger Resonatoren eingesetzt werden (Rückkopplung und Kopplung von Laserdioden-Arrays mit externen Resonatoren). Spektral breitbandig transmittierende Arrays lassen sich vorteilhaft für durchstimmbare Laser und breitbandige Quellen einsetzen. Für Bildsensoren mit nichtquadratischen Pixelgeometrien kann wiederum die Erzeugung einer Matrix angepaßter Spots von Interesse sein. Vielfältige neue Anwendungen eröffnen sich bei kompakter Bauweise, geringem Gewicht, Flexibilität und Integrierbarkeit in mikrooptische Systeme.
Aus der Literatur bekannt sind verschiedene Anordnungen zur Kollimation und Kopplung von Laserdioden, linearen Laserdioden-Arrays, Wellenleitern und Wellenleiterarrays mittels Mikrolinsen bzw. Mikrolinsenarrays und diffraktiven Komponenten sowie Verfahren zur Herstellung derartiger Bauelemente. Zur Kopplung von Einzeldioden mit Einzelfasern wurden Systeme aus zwei Linsen mit homogener oder inhomogener Brechzahl zur Kompensation der Strahl-Elliptizität vorgeschlagen (Drummond: An optical system.- GB 88- 16064). Miniatur-Zylinderlinsen mit elliptischer oder hyperbolischer Profilfunktion zur Kollimation linearer Diodenlaser-Arrays und zur Kopplung mit linearen Faser- Arrays wurden entwickelt und sowohl die Anordnung (Snyder: Laser diode assembly including a cylindrical lens. - US 90-591409) als auch das Herstellungsverfahren (Snyder: Method for fabrication of cylindrical microlenses of selected shape and resulting product. - US 90-591462) in Erfindungsbeschreibungen veröffentlicht. Hierbei werden Glas-Preforms geeigneter Profile mit konventionellen Faser-Ziehmethoden zu Faserlinsen ausgezogen, wobei sowohl an die Bearbeitung der Preforms als auch an den Ziehprozeß extreme Genauigkeitsanforderungen zu stellen sind (Wälti u. a.: Collimation of diode laser arrays with cylinder lenses. - Pure Appl. Opt. 3, 1994, 199-208) . Die Faserlinsen leisten nur eine Kollimation in einer Raumrichtung, wobei nachgeschaltete separate Linsen-Arrays zur Kollimation der zweiten Raumrichtung benutzt werden können (Chen u. a.: Design approaches for laser-diode material-processing systems using fibers and micro-optics. - Opt. Eng. 33, 1994, 3662-3669) . Ein kompakterer Aufbau zur Kollimation linearer Laserdioden-Arrays ergibt sich bei unmittelbarem Aufbringen eines linearen Mikro-Zylinderlinsen-Arrays auf der flachen Seite der Faserlinse (Grunwald u. a.: Microlens arrays for segmented laser architectures. - Proc. SPIE Vol. 2383, 1995, 324-333). Diese Anordnung ist jedoch nicht zur Kollimation zweidimensionaler Laser-Arrays geeignet. In der Literatur wird darauf verwiesen, daß die Realisierung von Arrays aus Faserlinsen schwierig ist und Koppeleffizienzen von maximal 60% erbringt, was allerdings noch weit über den erreichten Effizienzen diffraktiver Arrays aus Mikro- Fresnel-Linsen liegt (Thurlow u. a.: Semiconductor laser array to fibre array coupling via diffractive microlenses. - IEE Colloquium on Microengineering and Optics, Digest No. 1994/043, London 1994). Der Aufwand zur Herstellung diffraktiver Bauelemente ist ebenfalls hoch, da i.a. Vielschrittverfahren einzusetzen sind. Ferner verringert die starke Wellenlängenabhängigkeit der diffraktiven Elemente deren universelle Einsetzbarkeit. Aufwendig ist ebenfalls die Herstellung planarer anamorphotischer Gradientenindexlinsen-Arrays durch Dotierung (Oikawa u. a.: Integrated Planar Microlens and its applications. - SPIE 898, 1988, 3) oder computergenerierter holografischer Elemente (Casasent, Yu: One-dimensional collimation of laser array outputs. - Appl. Opt. 33, 1994, 3118-3126).
Nachteilig bei sämtlichen bekannten technischen Lösungen sind die aufwendigen Herstellungsverfahren für die Komponenten, komplizierte Justageprozeduren und/oder geringe Effizienzen bei Anwendungen zur Kopplung. In den meisten Fällen müssen Systeme aus mehreren Komponenten verwendet werden, was die erreichbare Kompaktheit wesentlich begrenzt.
Bekannt ist die Möglichkeit der Schichtdickenmodulation mit Hilfe abschattender 3D-Masken bei Bedampfungsprozessen, so zur Herstellung von einzelnen Gradientenspiegeln bzw. Mikro-Gradientenspiegel-Arrays geringer Füllfaktoren mit Vakuumbedampfung (Grunwald u. a.: Verfahren zur Herstellung optischer Elemente mit örtlich variablem Reflexionsgrad. - DD C 23 C 14/332 071 5; bzw. Grunwald u. a.: Graded Reflectivity Micro- Mirror Arrays. - SPIE Vol. 1983, 1993, 49-50) und zur Herstellung von einzelnen Mikro-Luneburg-Linsen durch Sputtern (Yao, Anderson: Shadow sputtered diffraction- limited waveguide Luneburg Lenses. - Appl. Phys. Lett. 33, 1978, 307-309) . Subtraktive Techniken (strichweises Ätzen von Polymer) wurden in zwei zueinander senkrechten Richtungen in gleicher Weise angewandt, um Mikrolinsen-Arrays als Reliefs in Substrate zu schreiben (Przyrembel: Continous-relief microoptical elements fabricated by laser beam writing. - Microsystem Technologies, Berlin 1994, 219-228; Zimmer, Bigl: 1. Int. Mittweidaer Fachtagung Qualitäts- und Informationsmanagement 1994). Diese Verfahren sind aufwendig. Als additive Technik zur Herstellung orthogonaler oder hexagonaler Mikrolinsenarrays hoher Füllfaktoren wurde die Methode des Aufdampfens gekreuzter Dünnschicht-Zylinderlinsen-Arrays entwickelt, bei der ein einziges Schlitzmasken-Array in verschiedenen Winkelstellungen benutzt wird und pro Schritt gleiche Schichtdicken aufgedampft werden (3. Berlin 1995, Summary). Die resultierenden orthogonalen Arrays haben gleiche Krümmungsradien in allen Raumrichtungen parallel zum Substrat und eignen sich daher nicht für die Kollimation von bzgl. der Divergenz anisotroper Laserstrahlung.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein einfaches, kostengünstiges und reproduzierbares Verfahren anzugeben, das die Herstellung von kompakten, laserfesten Arrays aus anamorphotischen, refraktiven sowie refraktiv-reflektiven Einzelelementen in zweidimensionaler Anordnung mit hohem geometrischem Füllfaktor mit möglichst wenigen technologischen Verfahrensschritten gestattet. Weiterhin ist es Aufgabe der Erfindung, eine kompakte Anordnung zur Kollimation und Kopplung matrixförmig angeordneter Lichtquellen zu schaffen.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch die Merkmale im kennzeichnenden Teil der Hauptansprüche 1, 10 und 17 im Zusammenwirken mit den Merkmalen im jeweiligen Oberbegriff.
Zweckmäßige Ausgestaltungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen enthalten.
Das erfindungsgemäße Verfahren beruht darauf, daß mittels maskengesteuerter Vakuumbedampfung in einem System mit Planetenrotation der Substrathalterungen Dünnschicht-Zylinderlinsen-Arrays unterschiedlicher Schichtdicke und/oder unterschiedlicher Geometrie gekreuzt auf ein oder mehrere Substrate, vorzugsweise auf eine einzige Substratoberfläche, aufgebracht werden. Die Bedampfung erfolgt in wenigen (typischerweise zwei oder drei) Schritten mit Hilfe abschattender, wohlgeformter Schlitzmasken-Arrays zur örtlichen Schichtdickenmodulation. Die verwendeten Schlitzmasken weisen definierte Kanten-Schnittprofile, bevorzugt schräge Kanten mit mehreren Anstiegen oder auch glatte Profilfunktionen, auf. Auf diese Weise können Arrays aus Einzelelementen hergestellt werden, die in unterschiedlichen Raumrichtungen unterschiedliche Krümmungsradien aufweisen. Durch Abscheidung von Einzelschichten oder Mehrschichtsystemen mit geeignetem Design können sowohl refraktive als auch refraktiv-reflektive (hybride) Array-Komponenten realisiert werden. Damit lassen sich dichroitische oder apodisierende Eigenschaften sowie breitbandige Entspiegelungen integrieren. Die Verwendung UV-transmittierender Schichtmaterialien (SiO₂) erlaubt die problemlose Herstellung von strahlungsfesten Arrays für Excimerlaser-Anwendungen. Die Verwendung von dünnen Polymerfolien oder abgeflachten Fasern als Substrat erlaubt die Herstellung extrem kompakter, flexibler mikrooptischer Systeme mit integrierten anamorphotischen Arrays.
Die Erfindung wird nachstehend anhand von zumindest teilweise in den Figuren dargestellten Ausführungsbeispielen näher erläutert.
Es zeigen:
Fig. 1 eine Abscheidungsvariante mit unterschiedlichen Schichtdicken
Fig. 2 eine Abscheidungsvariante mit gleichen Schichtdicken
Fig. 3 eine Abscheidungsvariante aus elliptisch geformten Einzelelementen
Fig. 4 eine Realisierungsvariante auf einer Faserlinse
Ausführungsbeispiel 1
Fig. 1 zeigt stark schematisch eine Variante des erfindungsgemäßen Verfahrens, bei der eine gekreuzte Abscheidung von zwei linearen Zylinderlinsen-Arrays dermaßen erfolgt, daß die einander überlagernden Arrays im Winkel von 90° zueinander ausgerichtet sind und die Schichtdicken beider erzeugender Arrays unterschiedlich gewählt werden. Dies wird durch sequentielle Bedampfung mit einem Schlitzmasken-Array in zwei Winkelstellungen (0°, 90°) erreicht, wobei jeder Winkelstellung unterschiedliche Bedampfungszeiten entsprechen. Im Falle kreiszylindrischer Mikrolinsen verhalten sich die Quadrate der resultierenden Krümmungsradien r₁, r₂ in den beiden ausgezeichneten Richtungen zueinander wie
r₁²/r₂² = (h₂/h₁) * (h₁²+d²/4)/(h₂²+d²/4) (1)
(h₁, h₂ = Schichtdicken, d = Linsendurchmesser senkrecht zur Zylinderachse)
Ausführungsbeispiel 2
Das zweite Ausführungsbeispiel beschreibt als eine weitere erfindungsgemäße Verfahrensvariante gemäß Fig. 2 die gekreuzte Abscheidung von zwei linearen Zylinderlinsen-Arrays in derartiger Weise, daß die einander überlagernden Arrays ebenfalls im Winkel von 90° zueinander ausgerichtet sind, jedoch gleiche Schichtdicken gewählt werden. Dies wird durch sequentielle Bedampfung mit zwei Schlitzmasken-Arrays unterschiedlicher Geometrie (Schlitzbreite) in zwei Winkelstellungen (0°, 90°) erreicht, wobei jeder Winkelstellung gleiche Bedampfungszeiten entsprechen.
Im Falle kreiszylindrischer Mikrolinsen verhalten sich die Quadrate der resultierenden Krümmungsradien r₁, r₂ in den beiden ausgezeichneten Richtungen zueinander wie
r₁²/r₂² = (h²+d₁²/4)/(h²+d₂²/4) (2)
(d₁, d₂ = Linsendurchmesser senkrecht zu den jeweiligen Zylinderachsen,
h = Schichtdicke)
Ausführungsbeispiel 3
Das dritte Ausführungsbeispiel beschreibt als eine weitere erfindungsgemäße Verfahrensvariante gemäß Fig. 3 die Abscheidung von anamorphotischen Linsen-Arrays aus elliptisch geformten Einzelelementen. Der Dampfstrahl D in einer Vakuumbedampfungsanlage mit Planetenrotation, welcher relativ zum Substrat S rotiert, passiert eine abschattende dicke Maske M mit elliptischen Löchern und erzeugt auf diese Weise eine ortsabhängig dickenmodulierte Schicht auf dem Substrat S mit einer maximalen Dicke h. Die Maskenöffnungen sind als Array angeordnet und zeichnen sich dadurch aus, daß die beiden Ellipsen-Hauptachsen in x- und y-Richtung, dXL1, dYL1, auf der dem Substrat zugewandten Seite der Maske infolge schräger Lochkanten kleiner als die beiden Ellipsen-Hauptachsen in x- und y-Richtung, dXL2, dYL2, auf der vom Substrat abgewandten Seite der Maske sind. Ferner sind die Verhältnisse der jeweiligen beiden Hauptachsen der Ellipsen für beide Seiten unterschiedlich:
dXL1/dYL1 ≠ dXL2/ dYL2 (3)
Die Maskengeometrie ist so gewählt, daß die resultierenden Einzelelemente in x- und y-Richtung parabolische Schnittprofile mit jeweils unterschiedlichen Brennweiten aufweisen, deren Verhältnis aus den unterschiedlichen Hauptachsen dX und dY resultiert. Das Verfahren kommt im Gegensatz zur Methode der gekreuzten Zylinderlinsen-Arrays mit einem einzigen Bedampfungsschritt aus.
Ausführungsbeispiel 4
Wie Ausführungsbeispiel 3, jedoch besitzen die zur Abschattung verwendeten Löcher auf beiden Seiten der Maske eine unterschiedliche Form. Während auf der vom Substrat abgewandten Seite elliptische Öffnungen vorliegen, sind die zum Substrat hin gerichteten Öffnungen von quadratischer Form und liegen direkt auf dem Substrat auf. Durch geeignete Anordnung der Öffnungen in der Art eines Schachbrettmusters kann nach einem ersten Bedampfungsschritt durch Verschieben der Maske um eine Seitenlänge eines Quadrates in einem zweiten Bedampfungsschritt die freigebliebene Fläche ebenfalls bedampft und somit ein hoher Füllfaktor erreicht werden.
Ausführungsbeispiel 5
Das fünfte Ausführungsbeispiel beschreibt gemäß Fig. 4 eine kompakte Anordnung zur Kollimation und Kopplung von matrixförmig angeordneten optischen Bauelementen, bestehend aus einer abgeflachten Faserlinse und einem integrierten zweidimensionalen Array aus anamorphotischen Dünnschichtlinsen, welche auf der ebenen Seitenfläche der Faser aufgedampft sind. Die Einzelkomponenten der Anordnung (Faserlinse, Mikrolinsenarray) sind durch geeignete Beschichtung spektral selektiv, insbesondere für ausgewählte Spektralbereiche breitbandig transparent (AR-coating), während in anderen Spektralbereichen ein hoher Reflexionsgrad erreicht wird. Die Anordnung kann in zwei Richtungen betrieben werden, um entweder ein lineares Array A (n) von Quellen (z. B. Laserdiodenzeile) in ein zweidimensionales Array B (n × m) aus beispielsweise aktiven oder passiven Lichtwellenleitern zu überführen, oder um ein zweidimensionales Array B (n × m) aus Quellen (z. B. Stacks aus Laserdiodenzeilen) in ein lineares Array A (n) aus aktiven oder passiven Lichtwellenleitern zu überführen.
Mehrere Faserlinsen der beschriebenen Art können ferner zu einem Stack zusammengefaßt werden, wodurch auch eine Kopplung von (n × k) in (n × k × m) Zellen und umgekehrt möglich wird.

Claims (20)

1. Verfahren zur Herstellung anamorphotischer mikrooptischer Arrays, dadurch gekennzeichnet, daß dünne optische Schichten in einem System mit Planetenrotation derart auf Substraten abgeschieden werden, daß durch sequentielles oder simultanes Einbringen wohlgeformter Arrays von Abschattungsmasken und Steuerung der Bedampfungsdauer eine in mindestens zwei Raumrichtungen unterschiedliche Schichtdickenmodulation und daraus resultierend mehrere unterschiedliche Krümmungsradien realisiert werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Abscheidung der optischen Schichten durch Vakuumbedampfung erfolgt.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß eine sequentielle Bedampfung in mindestens zwei Schritten erfolgt, zwischen denen die Masken um definierte Winkel gedreht werden, wobei mit Schritten von 90° orthogonale Strukturen und mit Schritten von 60° hexagonale Strukturen aus der Überlagerung von linearen Arrays zylindrischer Einzelelemente erzeugt werden, wobei im Winkelbereich kleiner 90° zwei Schritte zur Realisierung elliptischer Einzelelemente ausreichen.
4. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß als Masken lineare Arrays von Schlitzen mit geeigneten Tiefenprofilen, vorzugsweise mit zur Maskenebene schrägen Wänden mit je einem oder mehreren Anstiegswinkeln, oder zusammengesetzte Masken unterschiedlichen Profils verwendet werden.
5. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß in den einzelnen Winkelschritten Maskenarrays unterschiedlicher Geometrie, vorzugsweise Schlitze unterschiedlicher Breite, verwendet werden.
6. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Beschichtung in den einzelnen Winkelschritten mit unterschiedlicher Bedampfungsdauer erfolgt.
7. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß Mehrfachschichten aufgedampft und auf diese Weise Einzelelemente mit ortsabhängiger Reflexion, dichroitischen oder apodisierenden Eigenschaften realisiert werden.
8. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Arrays zusätzlich breitbandig entspiegelt werden.
9. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß UV-transmittierende Materialien, vorzugsweise SiO₂, aufgebracht werden.
10. Verfahren zur Herstellung anamorphotischer mikrooptischer Arrays, dadurch gekennzeichnet, daß optische Einzel- oder Mehrfachschichten in einem System mit Planetenrotation derart auf Substraten abgeschieden werden, daß eine Maske oder Masken­ kombination mit speziellen Öffnungen wie einem Ar­ ray aus elliptischen Löchern, zur Abschattung des Dampfstrahls eingesetzt wird und in einem einzigen Schritt in mindestens zwei Raumrichtungen unter­ schiedliche Schichtdickenmodulationen (Krümmungs­ radien) realisiert werden.
11. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß als Substrat abgeflachte Faserlinsen verwendet werden.
12. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 8 oder 10, dadurch gekennzeichnet, daß als Substrat dünne, flexible Polymerfolien verwendet werden.
13. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß Zylinderlinsenarrays auf unterschiedlichen Seiten eines oder mehrerer Substrate aufgebracht werden.
14. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß den lokalen Schichtdickenprofilen mit Hilfe zusätzlicher Abschattungs-Masken globale einhüllende Funktionen überlagert werden.
15. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß sich die Form der Öffnungen der Abschattungsmaske auf der dem Substrat zugewandten und der vom Substrat abgewandten Seite der Maske wesentlich unterscheiden, bei elliptischen Löchern vorzugsweise durch ein unterschiedliches Verhältnis der beiden Hauptachsen.
16. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Öffnungen der Maske auf der dem Substrat zugewandten Seite quadratisch geformt sind und zwischen den Öffnungen definierte Flächen freigelassen sind, so daß mit mindestens zwei Bedampfungsschritten und zwischengeschalteten geeigneten lateralen Verschiebungen der Maske relativ zum Substrat die gesamte Fläche ausgefüllt und auf diese Weise ein hoher Füllfaktor erzeugt wird.
17. Anordnung zur Kollimation und Kopplung matrixförmig angeordneter Lichtquellen, dadurch gekennzeichnet, daß ein oder mehrere zweidimensionale Arrays vorzugsweise anamorphotischer Dünnschicht- Mikrolinsen direkt auf einer oder mehreren einseitig abgeflachten Faserlinsen angeordnet sind, so daß entweder ein oder mehrere lineare Arrays von Quellen in ein oder mehrere zweidimensionale Arrays oder umgekehrt ein oder mehrere zweidimensionale Arrays von Quellen in ein oder mehrere lineare Arrays transformiert werden.
18. Anordnung nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, daß ausgewählte spektral selektive Beschichtungen integriert sind.
19. Anordnung nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, daß diffraktive Gitterstrukturen im Material der Faserlinse oder in zusätzlichen Schichten eingeschrieben sind.
20. Anordnung nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, daß elektrisch schaltbare, reflektive oder transmittive Array-Komponenten, vorzugsweise ferroelektrische räumliche Lichtmodulatoren (SLM) einbezogen sind.
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