DE19604983C2 - Vorrichtung zur stereolithografischen schichtweisen Herstellung eines Objektes und Verwendung eines kapazitiven Abstandssensors zur Überwachung des Abstandes zu einer Oberfläche eines dielektrischen Gegenstandes - Google Patents

Vorrichtung zur stereolithografischen schichtweisen Herstellung eines Objektes und Verwendung eines kapazitiven Abstandssensors zur Überwachung des Abstandes zu einer Oberfläche eines dielektrischen Gegenstandes

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Description

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur stereolithografischen, schicht­ weisen Herstellung eines Objektes nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1 sowie die Verwendung eines kapazitiven Abstandssensors nach dem Oberbegriff des Anspruchs 3.
Eine gattungsgemäße Vorrichtung zur stereolithografischen, schichtweisen Herstellung eines Objektes ist beispielsweise aus der DE 94 15 849 U1 bekannt.
Bei der stereolithografischen Formherstellung wird ein Gegenstand in einem Bad einer durch Strahlungseinwirkung verfestigbaren, dielektrischen Flüssig­ keit schichtweise hergestellt, wobei eine jeweils zuletzt durch Bestrahlung nahe der Oberfläche des Bades verfestigte Schicht des Objektes weiter in das Bad bewegt wird, um eine jeweils nachfolgend durch Bestrahlung zu verfestigende Flüssigkeitsschicht auf der zuletzt verfestigten Schicht bereit­ zustellen. Dabei ist es wichtig, daß der Flüssigkeitspegel des Bades im wesentlichen konstant gehalten wird. Bei der bekannten stereolithografi­ schen Vorrichtung nach DE 94 15 849 U1 wird der Pegel mittels einer Laser- Triangulationseinrichtung überwacht. Fällt der Flüssigkeitsspiegel beispiels­ weise aufgrund von Schrumpfungsprozessen bei der Verfestigung des Materials unterhalb seines Sollwertes, so wird der Pegelausgleich durch einen Verdrängerkolben hergestellt. Die Pegelmeßeinrichtung (Laser-Triangu­ lationseinrichtung) und die Pegelausgleichseinrichtung (z. B. Verdrängerkol­ ben) sind Bestandteile einer rechnerkontrollierten Regeleinrichtung.
Es sind kapazitive Füllstandsmeßeinrichtungen bekannt, die dazu eingesetzt werden, den Flüssigkeitspegel in einem Behälter zu überwachen bzw. zu messen. Derartige konventionelle kapazitive Meßeinrichtungen haben üblicherweise einen Kondensatorsensor, beispielsweise aus zwei ringzylin­ drischen Elektroden, von denen eine koaxial in der anderen aufgenommen ist. Ein solcher Kondensatorsensor wird üblicherweise so installiert, daß er teilweise in die Flüssigkeit eintaucht, so daß die Flüssigkeit zwischen die Elektroden gelangt und dort als Dielektrikum wirkt. Abhängig von dem Flüssigkeitsstand am Kondensatorsensor ändert sich daher dessen Kapazi­ tät, die mittels einer Kapazitätsmeßschaltung meßbar ist. Der Flüssigkeits­ pegel kann daher durch Messung der Kapazität des Kondensatorsensors überwacht werden.
Aus der DE 24 48 205 B1 ist eine kapazitive Sonde bekannt, bei der eine in einem nichtmetallischen Gehäuse untergebrachte, topfförmige Elektrode in einem vertikalen Abstand zu einer plattenförmigen Gegenelektrode an­ geordnet ist. Die bekannte kapazitive Sonde dient zur Füllstandsmessung in einem Behälter, wobei das Füllgut ein dielektrisches Material sein kann. Die Kapazität der Sonde ändert sich bei Annäherung des Füllguts an die der topfförmigen Elektrode benachbarte Stirnwand der Sonde nur langsam, wohingegen eine starke Kapazitätsänderung meßbar ist, wenn bei steigen­ dem Füllgut die Sonde in das Füllgut eintaucht.
Aus der DE 42 32 258 A1 ist ein kapazitiver Sensor in Form eines integrier­ ten Schaltkreises bekannt, wobei der kapazitive Sensor mehrere zusammen­ geschaltete Meßelemente aufweist, die eine Referenzkondensatoranordnung und Meßkondensatoranordnungen umfassen, die jeweils drei leitfähige Ebenen aufweisen. Die von der mittleren leitfähigen Ebene verschiedenen Ebenen der Referenzkondensatoranordnung liegen an Massepotential, wobei die Meßkapazität von zwei parallelgeschalteten Einzelkondensatoren gebil­ det wird, deren mittlere leitfähige Ebenen abwechselnd mit einer der anderen leitfähigen Ebenen verbunden sind und wobei die dem Substrat benachbarten leitfähigen Ebenen der Meßkondensatoren gemeinsames Masse- bzw. Substratpotential aufweisen. Ausweislich der Beschreibung der DE 42 32 258 A1 eignet sich der bekannte kapazitive Sensor zur Registrierung der Annäherung leitfähiger Strukturen an die Oberfläche des den kapazitiven Sensor bildenden integrierten Schaltkreises.
Aus der Zeitschrift Meßtechnik 5/73, Band 81, Seiten 156-159, ist ein Plattenkondensator als linearer Weggeber bekannt. In einer erdsymmetri­ schen Meßanordnung zur Erfassung des Abstandes zu einer nicht geerdeten metallischen Gegenplatte weist der Meßkondensator zwei nebeneinander liegende Kondensatorplatten auf. Als aktive Meßkapazität ist die Hinterein­ anderschaltung der beiden Teilkapazitäten gegenüber der metallischen Gegenplatte wirksam.
Der Erfindung liegt unter einem ersten Gesichtspunkt die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung zur stereolithografischen schichtweisen Herstellung eines Objektes anzugeben, die einen einfach aufgebauten Abstandssensor zur Überwachung des Pegels der dielektrischen Flüssigkeit aufweist, welcher eine hohe Auflösung kleiner Abstandsänderungen ermöglicht, ohne in die Flüssigkeit eingetaucht werden zu müssen. Unter einem zweiten Gesichtspunkt ist es ferner Aufgabe der Erfindung, einen Weg anzugeben, wie mit einem einfach aufgebauten kapazitiven Abstandssensor berührungslos Positionsänderungen eines dielektrischen Gegenstandes mit hoher Nachweisempfindlichkeit registriert werden können.
Bezüglich des ersten Gesichtspunktes wird die Aufgabe durch eine Vorrichtung mit den Merkmalen des Anspruchs 1 und bezüglich des zweiten Gesichtspunktes mit der Verwendung eines kapazitiven Abstandssensors mit den Merkmalen des Anspruchs 3 gelöst.
Der mit einfachen Mitteln realisierbare kapazitive Abstandssensor ersetzt die vergleichsweise komplizierte und teure Laser-Triangulationsmeßeinrichtung nach dem Stand der Technik. Dadurch wird der Gesamtaufbau der Stereolithografie-Vorrichtung wesentlich vereinfacht, wobei die Genauigkeit der Pegeldetektion keine Einbuße erleidet.
Im Unterschied zu herkömmlichen Plattenkondensatoren liegen die Kon­ densatorflächenseiten nicht in Parallelanordnungen einander gegenüber, sondern sind zu einer gemeinsamen Seite hin ausgerichtet, wobei sie vorzugsweise im wesentlichen parallel zur Detektionsseite des Sensor­ elementes in einer gemeinsamen Ebene liegen. Gute Ergebnisse werden jedoch auch dann noch erreicht, wenn die Kondensatorflächenseiten relativ zu einer zur Detektionsseite parallelen Ebene leicht schräg angestellt sind.
Der Abstandssensor eignet sich insbesondere zur Messung kleiner Distanzen zwischen den Kondensatorflächenseiten und der Oberfläche der dielektrischen Flüssigkeit. Der meßbare Abstandsbereich beträgt bei einer erfolgreich erprobten Ausführungsform ca. 0-100 mm. Sehr gute Ergebnisse mit extrem hoher Auflösung wurden in einem Abstandsbereich von ca. 5- 20 mm erhalten.
Zur Überwachung des Flüssigkeitspegels wird das Sensorelement außerhalb der Flüssigkeit in einem bestimmten Abstand zur Flüssigkeitsoberfläche angeordnet, so daß die Detektionsseite des Sensorelements im wesentli­ chen parallel zur Flüssigkeitsoberfläche ausgerichtet ist. Ändert sich der Abstand aufgrund einer Änderung des Flüssigkeitspegels, so läßt sich dies durch Messung der Kapazität der Kondensatorplattenanordnung hochempfindlich nachweisen. Bei entsprechender Kalibrierung des erfindungs­ gemäßen Abstandssensors können derartige Abstandsänderungen quantita­ tiv erfaßt werden.
Wie eingangs erwähnt, betrifft die Erfindung ferner die Verwendung eines kapazitiven Abstandssensors zur Überwachung des Abstands vom Abstandssensor zu einer Oberfläche eines dielektrischen Gegenstandes, insbesondere einer dielektrischen Flüssigkeit, wobei man mittels einer Kapazitätsmeßschaltung Kapazitätsänderungen des mit Kondensatorflächenelektroden ausgestatteten Abstandssensors bei Veränderung des Abstandes des Abstandssensors zu der Oberfläche des dielektrischen Gegenstandes erfaßt.
Wie bereits angedeutet, ist die Verwendung eines kapazitiven Sensors zur Füllstandsmessung aus der DE 24 48 205 B1 bekannt, auch soweit dielek­ trisches Füllgut betroffen ist.
Der kapazitive Sensor nach der DE 24 48 205 B1 hat jedoch einen vergleichsweise komplizierten Aufbau und weist ein empfindliches Ansprechverhalten erst dann auf, wenn er mit dem betreffenden Füllgut in Berührung kommt, also eintaucht.
Demgegenüber wird durch die Erfindung ein Weg aufgezeigt, wie durch Verwendung eines einfach aufgebauten, kapazitiven Abstandssensors berührungslos Positionsänderungen eines dielektrischen Gegenstandes mit hoher Nachweisempfindlichkeit registriert werden können.
Zur Verwirklichung dieses zweiten Gesichtspunktes der Erfindung wird vorgeschlagen, daß man einen kapazitiven Abstandssensor verwendet, der eine Detektionsseite und als Kondensatorflächenelektroden wenigstens zwei Kondensatorplatten aufweist, die derart nebeneinander angeordnet sind, daß ihre Kondensatorflächenseiten an der Detektionsseite nach außen weisen und daß man zur Abstandsüberwachung die Detektionsseite zu der Oberfläche der dielektrischen Gegenstandes ausrichtet.
Vorzugsweise sind die Kondensatorplatten derart angordnet, daß ihre Kondensatorflächenseiten in einer gemeinsamen Ebene parallel zur Detektionsseite liegen.
Die erfindungsgemäße kapazitive Abstandsüberwachung kann beispiels­ weise im Zusammenhang mit einem Diebstahlssicherungssystem bzw. einem Alarmsystem eingesetzt werden, um das Vorhandensein eines Gegenstandes an einem bestimmten Ort in einer bestimmten Position zu überwachen.
Die Erfindung wird nachstehend anhand der Zeichnung näher erläutert.
Fig. 1 zeigt in einer schematischen Darstellung einen kapazitiven Abstands­ sersor in einer Abstandsmeßanordnung mit zur Ober­ fläche einer dielektrischen Flüssigkeit ausgerichteter Detektionsseite.
Fig. 2 zeigt in einem Diagramm die versuchsweise ermittelte Abhängigkeit zwischen der Ausgangsspannung einer einen Sensor nach Fig. 1 in einem Zweig enthaltenden Kapazitätsmeßbrücke und dem Abstand zwischen den Kondensatorflächenseiten des Sensors und der gegenüberliegenden Ober­ fläche einer dielektrischen Flüssigkeit.
Fig. 3 zeigt eine schematisch dargestellte Vorrichtung zur stereolithografi­ schen Formung eines Objektes mit einem kapazitiven Abstandssensor in einem Regelsystem zur Regelung des Pegels der Bad­ oberfläche.
Fig. 1 zeigt das Sensorelement 1 des kapazitiven Abstandssensors in einer Seitenansicht, wobei die dem Betrachter gegenüberliegende Gehäusewand 3 teilweise aufgebrochen dargestellt ist, um die Anordnung der Kondensa­ torplatten 5a, 5b erkennbar zu machen.
In der Abstandsmeßanordnung nach Fig. 1 ist die Detektionsseite 7 des Sensorelementes der Oberfläche 9 einer dielektrischen Flüssigkeit mit der Dielektrizitätskonstante ε2 zugewandt. Zwischen dem Sensorelement 1 und der Flüssigkeitsoberfläche 9 befindet sich normalerweise Luft mit der Dielektrizitätskonstanten ε1.
Wie aus Fig. 1 deutlich zu ersehen ist, weisen die Kondensatorflächenseiten 11a, 11b der Plattenkondensatoren 5a, 5b an der Detektionsseite 7 des Sensorelementes 1 nach außen, d. h. sie liegen beide der Flüssigkeitsober­ fläche 9 gegenüber. Im Beispiel sind die Kondensatorflächenseiten in einer zur Detektionsseite 7 parallelen gemeinsamen Ebene angeordnet. An dieser Stelle sei jedoch betont, daß eine solche strenge Parallelität nicht unbedingt erforderlich ist. Wie bei 5a' strichpunktiert angedeutet, wird der erfindungs­ gemäße Erfolg auch dann erreicht, wenn die betreffenden Kondensator­ flächenseiten eine geringe Schrägstellung gegenüber der Detektionsseite 7 bzw. der zu überwachenden Oberfläche 9 aufweisen.
Bei der erfindungsgemäßen Anordnung der Kondensatorflächenseiten bildet die in der Abstandsmeßanordnung gegenüberliegende Flüssigkeitsoberfläche 9 (dies könnte auch eine Festkörperoberfläche sein) eine "Gegenplatte", deren Abstand zu der Kondensatorplattenanordnung 5a, 5b deren effektiven Plattenabstand und damit deren Kapazität Cges verändert.
Für die Darstellung der Kapazität der Kondensatorplattenanordnung in der Abstandsmeßanordnung kann folgender qualitativer Ansatz gemacht werden:
Cges = C1 (ε1, deff) + C2 (ε2).
C1 bezeichnet darin einen Kapazitätsbeitrag, der von der Dielektrizitätskon­ stanten ε1 der Luft und von dem effektiven Abstand deff abhängt, wobei deff eine Funktion des tatsächlichen Abstandes und der Geometrie der Kon­ densatorplattenanordnung ist. Der Kapazitätsbeitrag C2 hängt von der Dielektrizitätskonstanten ε2 des Mediums ab, dessen Abstand vom Sensor 1 überwacht werden soll.
Mit ist in Fig. 1 der qualitative Verlauf der Feldlinien des elektrischen Feldes in einer Momentaufnahme angedeutet.
Die Kondensatorplatten 5a, 5b sind über Leitungen 13 mit einer Kapazitäts­ meßschaltung 15 verbunden, die einen Wechselspannungsgenerator für die Plattenkondensatoranordnung 5a, 5b enthält.
Bei der Kapazitätsmeßschaltung 15 kann es sich beispielsweise um eine dem Fachmann bekannte Brückenmeßschaltung handeln. Die Kapazitäts­ meßschaltung kann ferner eine Linearisierungsschaltung aufweisen, die eine lineare Beziehung zwischen der Abstandsänderung und dem Ausgangssignal der Schaltung 15 herstellt. Die Linearisierung kann beispielsweise mittels eines Digitalrechners (Mikroprozessors) realisiert werden.
Probemessungen mit einem Sensor der in Fig. 1 dargestellten Art haben ergeben, daß in einem Abstandsmeßbereich von ca. 0-100 mm gut Meß­ ergebnisse erzielt werden können.
Eine besonders hohe Auflösung kleiner Abstandsänderungen wird beispiels­ weise in einem Bereich von etwa 5 mm bis 25 mm erhalten (vgl. Fig. 2).
Dies läßt erkennen, daß der erfindungsgemäße Abstandssensor mit beson­ deren Vorteilen dort eingesetzt werden kann, wo es darum geht, geringe Abstandsänderungen zu einem betreffenden Objekt zuverlässig und schnell zu erkennen.
Ein solcher Anwendungsfall wird nachstehend unter Bezugnahme auf Fig. 3 erläutert.
Fig. 3 zeigt schematisch den Aufbau einer Anlage zur stereolithografischen Herstellung eines Objektes 20 in einem Bad 22 einer durch Strahlungsein­ wirkung verfestigbaren, dielektrischen Flüssigkeit 24. Zum näheren Aufbau einer derartigen Vorrichtung mit konventioneller Überwachung des Flüssig­ keitspegels kann beispielsweise auf die DE 94 15 849 U1 verwiesen werden.
Grundsätzlich weist eine derartige Stereolithografie-Vorrichtung einen Behälter 26 zur Aufnahme eines unter Normalbedingungen flüssigen Kunst­ stoffes 24 auf, der unter Einwirkung von Strahlung verfestigbar ist. In dem Behälter 26 ist eine Trägerplatte 28 zur Halterung des herzustellenden Objektes 20 vorgesehen. Im Beispielsfall nach Fig. 3 ist die Trägerplatte 28 an einer Stange 30 befestigt, die sich durch eine Dichtungsanordnung im Behälterboden hindurch aus dem Behälter 26 heraus erstreckt. Die Stange 30 ist mittels eines nicht gezeigten Antriebs axial beweglich, so daß die Trägerplatte 28 und der darauf abgestützte und bereits verfestigte Teil des Objektes 20 tiefer in das Kunststoffbad 22 hinein bewegt werden können. Mit 32 ist in Fig. 3 ein Laser gekennzeichnet, der das zur Verfestigung des Fotopolymer-Kunststoffes 24 erforderliche UV-Licht bereitstellt.
Etwa mittig oberhalb der Trägerplatte 28 ist ein Umlenkspiegel 34 angeord­ net, der den gebündelten Lichtstrahl 36 zur Oberfläche 38 des Kunststoff­ bades 22 ablenkt. Der Spiegel 34 ist mittels einer schematisch angedeute­ ten Schwenkvorrichtung 40 schwenkbar, so daß der vom Spiegel 34 reflektierte UV-Strahl 36 in gesteuerter Weise auf jede gewünschte Stelle der Oberfläche 38 des Kunststoffbades 22 gerichtet werden kann. Zu Beginn der Herstellung eines Objektes 20 befindet sich die Trägerplatte 28 in geringem Abstand von der Oberfläche 38 in dem Kunststoffbad 22. Die Schwenkvorrichtung 40 des Umlenkspiegels 34 wird sodann von einem Computer 54 derart gesteuert, daß der UV-Strahl 36 an der Oberfläche 38 einen Flächenbereich abtastet, der dem gewünschten Querschnitt der ersten zu verfestigenden Schicht des Objektes 20, nämlich der unmittelbar an der Trägerplatte 28 angrenzenden Schicht, entspricht.
Nachdem diese erste Schicht durch die Einwirkung der Strahlung verfestigt worden ist, wird die Trägerplatte 28 um ein bestimmtes Maß im wesentli­ chen entsprechend der Dicke der nachfolgend auszuhärtenden Schicht unter Kontrolle des Steuercomputers 54 weiter in das Kunststoffbad 22 hinein bewegt, um auf der bereits verfestigten Schicht eine neue Schicht aus flüssigem Kunststoff 24 zu bilden, die dann durch Abtastung mit dem Laserstrahl 36 verfestigt wird.
Zur Ausbildung eines homogenen Festschichtaufbaus des Objektes 20 ist es wichtig, daß der vertikale Abstand X zwischen dem Umlenkspiegel 34 und der Badoberfläche 38 während des gesamten Herstellungsprozesses mög­ lichst konstant ist. Um dies zu gewährleisten, werden Einrichtungen be­ nutzt, die dafür sorgen, daß die Flüssigkeitsoberfläche 38 auf einen kon­ stanten Sollwertpegel S eingeregelt wird. Sollte aufgrund von Schrumpfungsprozessen bei der Aushärtung der Flüssigkeitsspiegel 38 fallen, so kann beispielsweise der bei 42 angedeutete Verdrängerkolben mittels seines Antriebsmechanismus 44 weiter in das Bad 22 hinein bewegt werden, bis der Flüssigkeitsspiegel 38 seinen Sollpegel S erreicht hat. Zur Überwachung des Flüssigkeitsspiegels 38 wurden bisher teils komplex aufgebaute Laser-Triangulationseinrichtungen verwendet, die den Istwert des Flüssigkeitspegels in einem Regelsystem bereitgestellt haben, welches einen entsprechenden Antrieb 44 für den Verdrängerkolben 42 steuert.
In Fig. 3 ist die teure und aufwendige Laser-Triangulationsmeßeinrichtung durch den einfach aufgebauten kapazitiven Abstandssensor nach der Erfindung ersetzt worden, der in Fig. 3 mit 1 bezeichnet ist. Der Sensor 1 befindet sich in einem geeigneten Abstand oberhalb des Sollpegels S des Flüssigkeitsspiegels 38. Wie bei 46 angedeutet, ist der Sensor 1 mecha­ nisch an einem Rahmenelement verschiebbar befestigt, welches in bezug auf einen den Umlenkspiegel 34 schwenkbeweglich haltenden (nicht gezeigten) Rahmen ortsfest ist. Der Sensor 1 ist daher nicht an dem Behäl­ ter 26 befestigt. Dies hat insbesondere bei Stereolithografie-Vorrichtungen mit auswechselbaren Behältern 26 den Vorteil, daß der Sensor nach Aus­ wechslung eines betreffenden Behälters 26 zur erstmaligen Adjustierung des Flüssigkeitspegels 38 entsprechend dem Abstand X verwendet werden kann. Mit 15 ist in Fig. 3 eine entsprechende Kapazitätsmeßschaltung bezeichnet, deren Ausgangssignal dem Steuercomputer 54 zugeführt wird, der seinerseits den Antrieb 44 des Verdrängerkolbens 42 steuert. Die Elemente 1, 15, 54, 44 und 42 bilden somit ein Regelsystem, das eine präzise Überwachung des Flüssigkeitspegels 38 ermöglicht und den Flüssig­ keitsspiegel 38 auf den Sollwert S bzw. auf einen Sollabstand X zum Spiegel 34 regelt.

Claims (4)

1. Vorrichtung zur stereolithografischen, schichtweisen Herstellung eines Objektes in einem Bad einer durch Strahlungseinwirkung ver­ festigbaren, dielektrischen Flüssigkeit, umfassend:
einen Behälter (26) zur Aufnahme des Flüssigkeitsbades (22),
eine Bestrahlungseinrichtung (32, 34) zur Bestrahlung einer jeweils nahe der Oberfläche (9, 38) des Bades (22) zu verfesti­ genden Schicht der Flüssigkeit zwecks Bildung einer betreffen­ den Schicht des Objektes (20),
einen Träger (28) zur Positionierung des bereits verfestigten Teils des Objektes (20) relativ zur Oberfläche (38) des Bades (22) und
eine Einstellvorrichtung (1, 15, 42, 44, 54) zur Einstellung eines vorbestimmten Arbeitsabstandes zwischen der Badober­ fläche (9, 38) und einer die Strahlung der Bestrahlungseinrichtung (32, 34) auf die Badoberfläche richtenden Komponente (34) der Bestrahlungseinrichtung, wobei die Einstellvorrichtung einen oberhalb des Flüssigkeitsbades (22) angeordneten Abstandssensor (1) zur Überwachung des Flüssigkeitspegels aufweist,
dadurch gekennzeichnet,
daß der Abstandssensor (1) ein kapazitiver Abstandssensor ist, der eine Detektionsseite (7) aufweist, die zur Überwachung des Ab­ standes (d) zwischen dem Abstandssensor (1) und der Oberfläche (9, 38) der dielektrischen Flüssigkeit zu der Flüssigkeitsoberfläche (9, 38) ausgerichtet ist, wobei der Abstandssensor (1) eine Kondensator­ plattenanordnung (5a, 5b) aus wenigstens zwei, mit einer Kapazitäts­ meßschaltung (15) verbundenen Kondensatorplatten (5a, 5b) auf­ weist, die derart nebeneinander angeordnet sind, daß ihre Kondensa­ torflächenseiten (11a, 11b) an der Detektionsseite (7) nach außen weisen.
2. Vorrichtung zur stereolithografischen, schichtweisen Herstellung eines Objektes nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Kondensatorplatten (5a, 5b) des kapazitiven Abstandssensors (1) derart angeordnet sind, daß ihre Kondensatorflächenseiten (11a, 11b) parallel zur Detektionsseite (7) des Abstandssensors liegen.
3. Verwendung eines kapazitiven Abstandssensors zur Überwachung des Abstandes von dem Abstandssensor zu einer Oberfläche (9, 38) eines dielektrischen Gegenstandes (22), insbesondere einer dielek­ trischen Flüssigkeit, wobei man mittels einer Kapazitätsmeßschaltung (15, 54) Kapazitätsänderungen des mit Kondensatorflächenelektroden (5a, 5b) ausgestatteten Abstandssensors (1) bei Veränderung des Abstandes von dem kapazitiven Abstandssensor (1) zu der Ober­ fläche (9, 38) des dielektrischen Gegenstandes (22) erfaßt, dadurch gekennzeichnet, daß man einen kapazitiven Abstandssensor (1) verwendet, der eine Detektionsseite (7) und als Kondensatorflächenelektroden wenigstens zwei Kondensatorplatten (5a, 5b) aufweist, die derart nebeneinander liegend angeordnet sind, daß ihre Kondensatorflächenseiten (11a, 11b) an der Detektionsseite (7) nach außen weisen und daß man zur Abstandsüberwachung die Detektionsseite (7) zu der Oberfläche (9, 38) des dielektrischen Gegenstandes (22) ausrichtet.
4. Verwendung eines kapazitiven Abstandssensors zur Überwachung des Abstandes vom Abstandssensor (1) zu einer Oberfläche (9, 38) eines dielektrischen Gegenstandes (22) nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Kondensatorplatten (5a, 5b) derart angeordnet sind, daß ihre Kondensatorflächenseiten (11a, 11b) in einer gemeinsamen Ebene parallel zur Detektionsseite (7) liegen.
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