DE19545005A1 - Verfahren zur Überwachung der Beschichtung einer Platte aus einem Metall mit hoher Leitfähigkeit mit einem Material mit geringerer Leitfähigkeit und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens - Google Patents
Verfahren zur Überwachung der Beschichtung einer Platte aus einem Metall mit hoher Leitfähigkeit mit einem Material mit geringerer Leitfähigkeit und Vorrichtung zur Durchführung des VerfahrensInfo
- Publication number
- DE19545005A1 DE19545005A1 DE1995145005 DE19545005A DE19545005A1 DE 19545005 A1 DE19545005 A1 DE 19545005A1 DE 1995145005 DE1995145005 DE 1995145005 DE 19545005 A DE19545005 A DE 19545005A DE 19545005 A1 DE19545005 A1 DE 19545005A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- contour
- powder
- plate
- line
- video camera
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C24/00—Coating starting from inorganic powder
- C23C24/08—Coating starting from inorganic powder by application of heat or pressure and heat
- C23C24/10—Coating starting from inorganic powder by application of heat or pressure and heat with intermediate formation of a liquid phase in the layer
- C23C24/103—Coating with metallic material, i.e. metals or metal alloys, optionally comprising hard particles, e.g. oxides, carbides or nitrides
- C23C24/106—Coating with metal alloys or metal elements only
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C26/00—Coating not provided for in groups C23C2/00 - C23C24/00
- C23C26/02—Coating not provided for in groups C23C2/00 - C23C24/00 applying molten material to the substrate
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Welding Or Cutting Using Electron Beams (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren gemäß dem Oberbegriff des Anspruches 1 und eine
Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 12.
Kontaktstücke für Vakuumschalter müssen unterschiedlichen Bedingungen gerecht
werden. Zum einen benötigen sie eine ausreichende elektrische Leitfähigkeit und zum
anderen ist dafür zu sorgen, daß der Abbrand aufgrund des Lichtbogens bei einer
Schalthandlung minimiert wird. Aus diesem Grunde ist es nicht möglich, reines Kupfer
zur Herstellung der Kontaktstücke zu verwenden, obwohl Kupfer eine sehr hohe elek
trische Leitfähigkeit hat. Die Verwendung von Chrom beispielsweise ist zwar, was den
Abbrand betrifft, optimal. Da Chrom aber eine niedrige elektrische Leitfähigkeit hat, ist
ein reiner Chromkontakt für Schaltgeräte zur Führung des Nennstromes nicht geeignet.
Aus diesem Grund ist ein Kompromiß gefunden worden. Man verwendet eine Chrom-
Kupferlegierung mit einem bestimmten Gewichts- oder Volumenverhältnis von Chrom
und Kupfer; ein entsprechendes Kontaktstück wird meistens im Sinterverfahren herge
stellt, in dem Chrom-Kupferpulver miteinander vermischt und danach gesintert wird.
Es hat sich herausgestellt, daß es ausreicht, wenn die Kontaktplatte nur in dem Bereich
der Kontaktoberfläche, also derjenigen Oberfläche, die mit dem Gegenkontaktstück in
Berührung kommt und auf der der Lichtbogenfußpunkt wandert, aus Kupfer-Chrom be
steht.
Zur Herstellung einer solchen Beschichtung ist es bekannt geworden, innerhalb einer
Vakuumkammer die Kupferplatte an der Oberfläche aufzuschmelzen und Chrompulver
in das Schmelzbad hineinrieseln zu lassen.
Zur Durchführung eines kontinuierlichen Herstellprozesses ist es notwendig, die Tem
peratur der Kontaktplatte, kurz auch Platte genannt, sowie die Menge des zugeführten
Pulvers und die Lage der Platte auf einem Drehdorn zu erfassen.
Bei der Temperaturerfassung kennt man mehrere Meßmethoden.
Zur berührungslosen Temperaturerfassung können beispielsweise Faseroptiken ver
wendet werden, die allerdings nur einen relativ kleinen optischen Meßbereich erfassen
können. Will man z. B. eine größere Kontur meßtechnisch überwachen, wie dies im
vorliegenden Fall bei der Herstellung einer Kontaktplatte notwendig ist, dann sind meh
rere Faseroptiken vorzusehen, die der Teilekontur entsprechend angebracht sein müs
sen. In bestimmten Fällen ist jedoch kein Platz vorhanden und bei der Herstellung ei
nes Kontaktstückes in einem Hochvakuum müssen geeignete Lichtwellenleiterdurch
führungen installiert werden, was sehr aufwendig ist.
Darüberhinaus besteht die Möglichkeit, pyrometrische Messungen auf der Schei
benoberfläche durchzuführen. Diese Messungen ergaben sehr ungenaue und nicht
reproduzierbare Ergebnisse, da Oberflächenänderungen durch aufgebrachtes Cr-Pul
ver das Meßsignal erheblich verändern. Bei Versuchen wurde festgestellt, daß die tat
sächliche Scheibentemperatur höher war als der gemessene Wert und die Tempera
turverteilung ortsabhängig war. Bei einem Versuch war die Scheibe seitlich zerschmol
zen. Dies liegt daran, daß eine mit Cr-Pulver beschichtete Oberfläche einer Platte nicht
mehr homogen ist und aufgrund der dunklen Oberfläche infolge Werkstoffvermischung
ein verfälschtes Meßsignal ergibt. Dies liegt daran, weil eine solche Oberfläche, wie sie
bei reinen Metallen vorliegt, nicht mehr vorhanden ist. Auch ist zu beachten, daß das
von der Oberfläche der Scheibe emittierte Licht bzw. die emittierte Wärmestrahlung
durch einen Emissionskoeffizienten beeinflußt ist, der nicht konstant ist, weil die
Schmelze inhomogen ist.
Es besteht auch das Problem, daß durch Metalldampf, der bei dem Beschichtungspro
zeß anfällt und die Innenseite des Meßfensters bedampft, eine große Ergebnisverfäl
schung hervorgerufen wird. Unter Umständen kann das Meßfenster durch die Bedamp
fung undurchsichtig werden.
Wenn man eine thermografische oder Helligkeitsuntersuchung durchführt, ergeben
sich die gleichen Schwierigkeiten bezüglich Oberflächenänderung durch aufgebrachtes
Cr-Pulver, und es besteht auch hierbei das Problem, daß der Metalldampf das Sicht
fenster langsam undurchsichtig macht. Erschwerend ist auch der lichtintensive Anteil
des Wärmestrahls, der bevorzugt ein Elektronenstrahl ist, wenn Cr-Pulver in den Be
reich des Strahls gelangt.
Wenn eine berührende Messung durchgeführt werden soll, dann müssen Thermoele
mente sicher und fest mit dem zu messenden Objekt verbunden werden. Dies ist bei
der Herstellung von solchen Kontaktstücken nicht realisierbar, da der Prozeßablauf
automatisch und unter Vakuum durchgeführt werden soll. Für die Ausleitungen der
Thermoelemente wären aufwendige Drehdurchführungen erforderlich gewesen, wobei
die Spannung der Thermoelemente über Schleifringkontakte abzunehmen wäre. Au
ßerdem muß das zu messende Objekt mit einer Aufnahmebohrung für ein Thermoele
ment versehen werden; infolge einer Oberflächendiffusionsverschweißung mit der
Scheibe bzw. der Platte verband sich bei einer Untersuchung das Thermoelement so
fest mit dieser, daß es beim Entfernen zerstört wurde.
Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren und eine Vorrichtung der eingangs ge
nannten Art zu schaffen, bei der eine Überwachung der Beschichtung automatisch
erfolgen kann, ohne daß die oben aufgeführten Probleme bei der Temperaturerfassung
auftreten. Im wesentlichen soll mit dem Verfahren berührungslos gemessen werden; es
soll berührungslos die Temperaturbilanz der Scheibe und auch die Menge des zuge
führten Cr-Pulvers erfaßt werden.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch die kennzeichnenden Merkmale des
Anspruches 1.
Danach werden die Temperatur- und die Pulvermenge mittels einer Videokamera ent
weder einer handelsüblichen Videokamera oder einer Industrievideokamera, über
wacht, in dem die der Temperatur bzw. Temperaturverteilung und der Form der Platte
und der zugeführten Pulvermenge zugehörigen optischen Signale von der Videoka
mera erfaßt und in einer Meß- und Auswerteeinrichtung verarbeitet werden. Die Erfas
sung und Auswertung solcher Signale an sich sind Stand der Technik.
Damit können die der Temperatur- und der Pulvermenge entsprechenden Signale in
einer Datenverarbeitungsanlage, vorzugsweise einem Prozeßrechner, verarbeitet wer
den, so daß damit kontinuierlich der Prozeß überwacht und darüberhinaus auch konti
nuierlich die einzelnen Parameter gesteuert werden können. Beispielsweise kann die
zugeführte Leistung der Elektronenstrahlkanone rechtzeitig abgesenkt oder angehoben
werden. Darüberhinaus kann die Menge des Cr-Pulvers gesteuert werden. Durch Ver
wendung einer Videokamera besteht auch die Möglichkeit, zu erkennen, ob überhaupt
eine Scheibe in die Prozeßkammer eingeschoben und dort richtig positioniert wurde.
Wenn mit der Videokamera in Verbindung mit der Datenverarbeitungsanlage detektiert
wird, daß die Scheibe in einer schiefen Lage auf dem Drehdorn aufliegt dann wird bei
spielsweise eine Leistungsfreigabe für die Elektronenstrahlkanone verhindert werden.
Eine Leistungsfreigabe für den Elektronenstrahl kann darüberhinaus auch nur dann
erteilt werden, wenn eine Chrom-Pulverzuführung in einem vorgegebenen Zeitintervall
zu einem definierten Zeitpunkt mit bestimmter Pulvermenge erfolgt.
Eine besonders vorteilhafte Weiterbildung der Erfindung kann dahin gehen, daß die
Videokamera die Platte von der Seite erfaßt und durch Einprojizieren eines ersten
Meßcursors in der Form von in bzw. parallel zu der X- und Y-Achse liegenden Linien
die Flächendifferenz zwischen der Eckkontur, gebildet durch die Linien, welche in der
Oberflächenkontur und der Seitenkantenkontur liegen, und der tatsächlichen Eckkontur
errechnet und mit einem Sollwert verglichen wird, derart, daß dann, wenn die Flä
chendifferenz einen bestimmten Wert über- bzw. unterschreitet, eine Änderung der
Energiezufuhr für den Elektronenstrahl und/oder der Cr-Zufuhr angesteuert wird.
Die X-Achse verläuft senkrecht zur Mittelachse der Scheibe und die Y-Achse parallel
dazu; es ist dabei nicht von Bedeutung, an welche Stelle der Koordinatennullpunkt ge
legt wird. Von Bedeutung ist lediglich, daß der erste Meßcursor, der aus den beiden
sich senkrecht kreuzenden Linien gebildet ist, in einem der oberen Eckpunkte vor
zugsweise im linken oberen Eckpunkt der Scheibe im Videobild liegt, so daß die X-Li
nie, wie sie genannt werden soll, in der oberen Oberfläche der Scheibe und die Y-Linie
in der Seitenkante der Scheibe liegt. Die obere Oberfläche ist diejenige Fläche der
Scheibe, die beschichtet wird.
Bei der Beschichtung der Scheibe, insbesondere bei der Energiezufuhr zur Erhitzung
der Scheibe ist diese natürlich auch zu kühlen; die Kühlung kann durch einen im Dreh
dorn liegenden Flüssigkeitskreislauf erfolgen. Damit kann natürlich außer der Ände
rung der Energiezufuhr für den Elektronenstrahl und/oder der Cr-Zufuhr auch eine Än
derung der Kühlleistung angesteuert werden. Es hat sich nämlich herausgestellt, daß
das Verfahren von drei wesentlichen Faktoren beeinflußt wird, nämlich von der zuge
führten Wärmemenge der Elektronenstrahlkanone auf die Scheibenoberfläche, durch
die definiert abgeführte Wärmemenge über den Drehdorn, auf dem die Scheibe auf
liegt, und durch die zugeführte Pulvermenge pro Zeiteinheit, die einen Teil der zuge
führten Wärmemenge bindet. Wird einer der Faktoren verändert, oder verändert er sich
beispielsweise durch die abgeführte Wärmemenge über den Drehdorn bzw. die Zuge
führte Pulvermenge, so führt dieses bei konstant zugeführter Leistung zur Elektronen
strahlkanone zu einer nicht ausreichenden Erwärmung der Scheibe bzw. zu einer
Überhitzung.
Dies kann dann ausgenutzt werden wie folgt:
Beim Aufschmelzen nämlich kann festgestellt werden, daß die tatsächliche Eckkontur, also der Übergang von der Seitenkante bis zur Oberfläche, eine Bogenform erreicht, wenn die Oberfläche aufgeschmolzen wird; je nach dem, wie sich die Bogenkontur krümmt, kann sich die Flächendifferenz ändern. Wenn beispielsweise ein Teil der Platte abschmilzt, dann wird sich dort eine Bogenkontur mit großem Radius ergeben und damit eine große Flächendifferenz erzeugt werden, die als fehlerhaft detektiert und angesehen werden kann.
Beim Aufschmelzen nämlich kann festgestellt werden, daß die tatsächliche Eckkontur, also der Übergang von der Seitenkante bis zur Oberfläche, eine Bogenform erreicht, wenn die Oberfläche aufgeschmolzen wird; je nach dem, wie sich die Bogenkontur krümmt, kann sich die Flächendifferenz ändern. Wenn beispielsweise ein Teil der Platte abschmilzt, dann wird sich dort eine Bogenkontur mit großem Radius ergeben und damit eine große Flächendifferenz erzeugt werden, die als fehlerhaft detektiert und angesehen werden kann.
Dieser erste Meßcursor kann U-förmig ausgebildet sein, wobei der eine Schenkel in
der oberen und der andere Schenkel in der unteren Oberfläche und der Steg in der
Seitenkante liegt. Wenn aufgrund einer Aufschmelzung das Material der Kontaktplatte
nach unten abfließen will, dann kann dieser weitere Meßcursor eine solche Material
verlagerung detektieren.
Eine weitere Ausführungsform kann dahin gehen, daß ein zweiter Meßcursor in das
Videobild eingeblendet wird, der eine in oder parallel zu der X-Achse liegende Linie
und eine in oder parallel zu der Y-Achse liegende Linie besitzt, die so dem ersten
Meßcursor zugeordnet sind, daß zwischen dem ersten Meßcursor und dem zweiten
Meßcursor eine Rechteckfläche umgrenzt wird. Es besteht dabei die Möglichkeit, daß
die Y-Linie des zweiten Meßcursors in der Mittelachse der Scheibe und die X-Linie im
unteren Schenkel des ersten Meßcursors liegt.
Damit erhält man eine durch die beiden Meßcursors gebildete Viereck- oder Rechteck
fläche, von der die durch die tatsächliche Kontur der Kontaktplatte innerhalb dieser
Meßfläche gebildete Fläche abgezogen werden kann; der restliche Bereich ist dieje
nige Flächendifferenz oder Differenzfläche, die ein Maß für die Bogenkontur und den
Radius ist.
Die durch die beiden Meßcursors gebildete Viereck- oder Rechteckfläche kann ledig
lich so groß sein, daß sie den Bereich der betrachteten Eckkontur der Scheibe über
deckt; es besteht auch die Möglichkeit, daß die Rechteckfläche der links von der Mit
tellinie der Scheibe befindlichen Scheibenkontur entspricht.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform kann ein dritter Meßcursor vorgesehen sein,
der in Form einer quer zur Rieselrichtung des Cr-Pulvers unterhalb der Schüttöffnung
für das Pulver verlaufende Linie in das Videobild hineinprojiziert wird; mit diesem drit
ten Meßcursor wird dabei die Pulvermenge überwacht.
Durch die beiden erstgenannten Meßcursors kann nicht allein nur die Temperatur des
zu überwachenden Objektes detektiert werden, sondern darüberhinaus auch die exakte
horizontale Lage der Platte.
Die Videosignale werden in bevorzugter Weise in die Grafikkarte eines Prozeßrech
ners eingegeben.
Ein wesentliches Problem, das bei dem Verfahren auftritt, ist die Tatsache, daß sich
aufgrund der Aufschmelzung des Oberflächenbereiches der Platte Metalldämpfe bil
den, die das Sichtfenster, durch welches die Videokamera Einblick in das Innere der
Vakuumkammer erhält, beschlagen, weil sie auf der Innenfläche der Sichtscheibe kon
densieren. Damit wird die Sichtscheibe mit der Zeit trübe und demgemäß sind Maß
nahmen vorzusehen, um dies zu verhindern.
Bei einer ersten Ausführung ist eine Vakuumkammer vorgesehen, in der die Platten
beschichtet werden, an der ein Sichtfenster vorgesehen ist, innerhalb welchem eine
transparente Folie als Bedampfungsschutz für das Sichtfenster vorgesehen ist, die
nach Durchführung einiger Beschichtungen weiter transportierbar ist, so daß ein neuer,
unbedampfter Folienabschnitt vor das Sichtfenster gelangt.
Dabei kann die Folie beim Transport von einer Spule, die auf einer Seite des Sichtfen
sters angeordnet ist, abziehbar und auf eine andere Spule die auf der anderen Seite
des Sichtfensters angeordnet ist, aufwickelbar sein.
Allerdings kann bei Verwendung der Folie, die in bevorzugter Weise eine Polyimidfolie
ist, eine Dämpfung des Meßsignales durch Absorbtion von Licht in bestimmten Spek
tralbereichen bewirkt werden. Darüberhinaus kann unter Temperatureinwirkung Koh
lendioxid und/oder Kohlenmonoxid erzeugt werden, was für den Herstellungsprozeß
nachteilig ist.
Gemäß einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung kann an der Vakuum
kammer ein nach außen vorspringender Stutzen vorgesehen sein, an dessen freiem
Ende das Sichtfenster angeordnet ist, so daß sich das Sichtfenster in großem Abstand
zum Meßobjekt befindet. Dabei werden evtl. Dämpfe im wesentlichen an der Innenflä
che des kalten Stutzens kondensieren. Infolge eines reduzierten Metalldampfnieder
schlages wird die Gebrauchsdauer des Sichtfensters verlängert, so daß mehr Teile pro
Wartungsintervall bis zum nächsten Austausch des Sichtfensters gefertigt werden kön
nen.
Eine weitere Ausgestaltung der Erfindung kann darin bestehen, daß wenigstens eine
Blende im Stutzen vorgesehen ist, so daß das Hinwandern von Metalldämpfen zur
Sichtscheibe noch weiter verringert ist. Hierbei bestehen die Vorteile, daß die Handha
bung sehr einfach ist und die Kosten gering sind, da das Anschweißen oder Befestigen
eines Stutzens an der Vakuumkammer ein einfacher Vorgang ist und eine zusätzliche
Gasentwicklung, wie sie bei der Verwendung einer Folie entstehen würde, vermieden
wird.
Das Bildanalysesystem erkennt auf optischem Weg die prozeßbedingte Gestaltände
rung der Kontaktscheibe, in dem sich die Flächendifferenz, siehe oben, während des
Beschichtungsprozesses ändert. Die sog. On-line-Verarbeitung der Videodaten erfolgt
dabei in Echtzeit. Die Änderung der Differenzfläche oder der Flächendifferenz inner
halb des Meßfensters wird dabei laufend berechnet; sie ist abhängig von der Ge
samttemperaturbilanz der Platte oder Scheibe.
Bei Erreichen von experimentell ermittelten Grenzwerten, die in einem Rechenpro
gramm installiert und variabel sind, wird von dem Bildanalysesystem gemäß dem erfin
dungsgemäßen Verfahren eine Reduzierung bzw. Anhebung des Kathodenstromes für
die Elektronenstrahlkanone vorgenommen; es besteht auch die Möglichkeit, die Cr-
Pulverzufuhr und/oder die Kühlleitung für die Scheibe durch den Drehdorn zu beein
flussen.
Bei einer bevorzugten Ausgestaltung sind vier Grenzwerte für die Differenzfläche in
stalliert; es sind selbstverständlich auch mehr als vier Grenzwerte möglich. Mit dem
Erreichen des einzelnen Grenzwertes wird die Elektronenstrahlleistung verändert und
unmittelbar eine Beeinflussung der Wärmeenergie erreicht, wodurch eine unzulässige
Gestalt- bzw. Konturänderung bis hin zu einer etwaigen Tropfenbildung vermieden
wird.
Die Gesamtfunktionen des erfindungsgemäßen Verfahrens und der erfindungsgemä
ßen Vorrichtung werden über eine speicherprogrammierbare Steuerungseinrichtung
gesteuert. Die Sollwertvorgaben zur Veränderung der Elektronenstrahlleistung bzw.
der Cr-Pulverdosiereinrichtung erfolgen über die Anlagen-SPS mittels Digi
tal/Analogwandler. Das Bildanalysesystem gemäß der Erfindung greift nur beim Be
schichtungszyklus in der erfindungsgemäß beschriebenen Weise in den Prozeß ein.
Hierzu sind die Anlagen-SPS und der Prozeßrechner des Bildanalysesystems mitein
ander verbunden.
Anhand der Zeichnung, in der ein Ausführungsbeispiel der Erfindung dargestellt ist,
sollen die Erfindung sowie weitere vorteilhafte Ausgestaltungen und Verbesserungen
der Erfindung näher erläutert und beschrieben werden.
Es zeigen:
Fig. 1 eine schematische Darstellung einer erfindungsgemäßen Anordnung,
Fig. 2 drei übereinanderliegende Bilder mit Kontaktstücken in Seitenansicht
unterschiedlicher Qualität,
Fig. 3 bis 5 Seitenansichten eines Kontaktstückes mit eingezeichneten Meßcur
sorn,
Fig. 6 und 7 jeweils ein Spannungs-Zeit-Diagramm, und
Fig. 8 ein Diagramm des zulässigen Kantenverformungsbereiches und der
Leistung der Elektronenstrahlkanone über der Zeit.
Ein Kontaktstück 10 in Form einer Scheibe für einen Vakuumschalter ist auf einem
Dorn 11 aufgelegt, der von einem nicht näher dargestellten Antriebsmotor in Drehung
versetzt wird. Das Kontaktstück oder die Kontaktscheibe 10 ist in einem Gehäuse 12
untergebracht, in das eine Elektronenstrahlkanone 13 hineinragt. Aus einem Behälter
14, der im Gehäuse 12 untergebracht ist, wird Cr-Pulver 16 einer Schüttvorrichtung 15
zugeführt und rieselt von dort auf die Oberfläche des Kontaktstückes. Der Elektronen
strahl besitzt die Bezugsziffer 17. An der Kammer 12 ist ein Stutzen 18 befestigt des
sen Stutzenende ein transparentes Sichtfenster 19 aufweist und in dem zwei Blenden
20 und 21 untergebracht sind. Der Stutzen ist rohrförmig. Außerhalb des Sichtfensters
befindet sich das Objektiv 22 einer handelsüblichen Videokamera 23. Wenn mit der
Videokamera das Kontaktstück 10 von der Seite aufgenommen wird, dann werden die
optischen Signale in elektronische Signale umgewandelt, welche über eine Signallei
tung 24 einer Grafikkarte innerhalb eines Prozeßrechners 25 zugeführt werden. Auf
grund der Videosignale werden vom Prozeßrechner 25 Ansteuersignale über eine Lei
tung 65 einer speicherprogrammierbaren Steuerung (SPS genannt) 64 zugeführt, von
der die Ansteuersignale verarbeitet und über eine Leitung 26 der Elektronenstrahlka
none und über eine Leitung 27 der Schüttvorrichtung zu deren Ansteuerung zugeführt
werden. Wenn, was nicht dargestellt ist, über den Drehdorn 11 eine Kühlung für die
Scheibe vorgesehen ist, dann wird auch die Kühlleistung bzw. die erforderliche Wär
meabfuhr von der SPS angesteuert.
Das Beschichtungsverfahren muß in Vakuum ablaufen. Somit muß der Raum, in dem
sich die Scheibe 10 befindet, unter Hochvakuum stehen; in gleicher Weise muß auch
der Behälter 14 und die Elektronenstrahlkanone 13 wenigstens teilweise unter Hoch
vakuum stehen, wobei teilweise bedeutet, daß der Elektronenstrahl 17 ausschließlich
in Vakuum verlaufen muß. Dies ist angedeutet durch die strichlierte Linie 28. Alles, was
innerhalb der strichlierten Linie 28 sich befindet, steht unter Vakuum.
Die Fig. 2 zeigt übereinanderliegend drei Bilder von unterschiedlichen Kontaktstücken.
Das mittlere Bild b) zeigt ebenso wie die beiden oberen und unteren Bilder a) und c)
ein Kontaktstück 10, welches einen Grundkörper 10₁ aus Kupfer und eine Schicht 102
aus einer Chrom-Kupferlegierung aufweist. Das Kontaktstück 10 der Fig. 2 b) ist kor
rekt, was man an der Abrundungskontur 10₃ links oben erkennen kann.
Das in der Fig. 2 a) dargestellte obere Kontaktstück 30 ist gleich aufgebaut wie das
Kontaktstück gemäß Fig. 2 b); es ist aber fehlerhaft gefertigt in dem zuviel Energie
zugeführt wurde. Dieses führte an der linken oberen Ecke zu einer starken, fast kegel
stumpfförmigen Abrundung 30₃ und einem Schmelztropfen 30₄, der an der Unterseite
des Grundmaterials 30₁ des Kontaktstückes 30 nach unten hervorragt.
Bei der Ausführung gemäß Fig. 2 c) ist das dort beschriebene Kontaktstück 40 zu we
nig umschmolzen, so daß die Bogenform 40₃ im Bereich der linken oberen Ecke prak
tisch eckig ist. Die Konturen der Fig. 2 a) und 2 c) sind demgemäß fehlerhaft.
Die Fig. 3 zeigt ein Videobild einer Kontaktstückscheibe 10, von der Seite aufgenom
men, vor der Beschichtung mit der Kupfer-Chromschicht. Die Scheibe 10 liegt dabei auf
dem Dorn 11 auf, der sich entgegen der Uhrzeigerrichtung dreht, wie durch den Pfeil
45 angedeutet.
In das Videobild, das der Fig. 3 entspricht, sind zwei Meßcursors 46 und 47 eingeblen
det bzw. hineinprojiziert, die miteinander eine Meßfläche 48 begrenzen. Der erste
Meßcursor 46 besitzt dabei einen unteren Schenkel 49 und einen oberen Schenkel 50,
die beide parallel zueinander verlaufen; der obere Schenkel 50 liegt in der oberen
Oberflächenkontur und der Schenkel 49 in der unteren Oberflächenkontur. Die beiden
Linien 49 und 50 sind miteinander mittels einer Linie 51 miteinander verbunden, die
exakt in der Kontur der Seitenkante liegt, so daß die drei Linien 49, 50 und 51 des er
sten Meßcursors 46 eine U-Form bilden und die linke Seite der Kontaktscheibe 10 um
grenzen. Der zweite Meßcursor 47 besitzt eine Linie 52, die parallel zu den Linien 49
und 50 verläuft, und eine weitere Linie 53, die parallel zu der Linie 51 verläuft; die Li
nien 49, 50 und 52 liegen in der X-Achse oder parallel dazu, wogegen die Linien 51
und 53 in der Y-Achse oder parallel dazu sich befinden. Die Linien 51 und 50 und die
Linien 52 und 53 bilden das Meßviereck 48 zwischen sich.
Während des Schmelzvorganges wird der Übergang von der oberen Fläche bzw.
Kontur 10₅ zu der Seitenkante 10₆, der zu Beginn des Schmelzvorganges exakt eine
90°-Ecke wie die Ecke 10₇ bildete, nunmehr abgerundet unter Bildung des Bogens 10₃.
Die Kontur des Kontaktstückes 10 entsprechend Fig. 2b und Fig. 4 mit den Bogenab
schnitten 10₃ innerhalb der Meßfläche 48 kann dadurch detektiert werden, daß die ho
rizontal schraffierte Fläche 10₈ gemessen und von der von den Linien 52, 53 und 51,
50 umgrenzten Fläche 48 abgezogen wird. Die Differenzfläche 54 ist dann ein Maß für
die Temperatur bzw. Qualität des gefertigten Kontaktstückes. Die Messung der flä
chen ist an sich Stand der Technik, so daß hierauf nicht näher eingegangen werden
muß.
Unterhalb der Schüttöffnung 15 nach Fig. 5 befindet sich ein dritter Meßcursor 55, der
senkrecht zur Schüttrichtung S des Pulvers 16 und parallel zu den Linien 49, 50 und 52
verläuft. Dieser linienförmige Meßcursor 55 dient zur Erfassung der Menge des herun
terrieselnden Pulvers 16. Der Meßcursor 55 ist dann zusammen mit den anderen Meß
cursorn 46 und 47 in das Videobild hineinprojiziert.
Bei den Fig. 3, 4 und 5 ist die Meßfläche 48 bezogen auf die halbe Konturfläche der
Platte oder Scheibe 10 relativ klein. Es besteht natürlich auch die Möglichkeit, daß die
Linie 52 des Meßcursors 47 in der Linie 49 und die Linie 53 in der Mittelachse der
Scheibe 10 liegt. Es können natürlich auch Stellungen dazwischen vorgesehen wer
den.
Es sei nun Bezug genommen auf die Fig. 8.
Die untere Kurve zeigt den zulässigen Kantenverformungsbereich in Form des Radius
aufgetragen über der Zeit, wobei der Radius R abhängig ist von der Differenzfläche 54.
Dieser Radius R bzw. die Differenzfläche darf einen maximalen und minimalen Wert
nicht unterschreiten. Dazwischen befinden sich bestimmte Grenzwerte G1, G2, G3, die
dann, wenn die Kurve 60 die jeweiligen Grenzwerte erreicht und über- oder, je nach
Verfahrensablauf, unterschreitet, jedenfalls aber kreuzt, eine Ansteuerung der Leistung
der Elektronenstrahlkanone bewirken. Die Grenzwerte G1, G2 und G3 entsprechen
den Grenzwerten des Radius bzw. der Differenzfläche, an denen eine Einwirkung auf
die Elektronenstrahlkanone vorgenommen werden muß, wenn ein korrektes Kontakt
stück hergestellt werden soll.
Die obere Kurve zeigt die Leistung der Elektronenstrahlkanone über der Zeit, wobei in
der Steuerung drei Zeitabschnitte tI, tII und tIII bestimmt sind, zu denen die Leistung der
Elektronenstrahlkanone abgesenkt wird. Diese stufenartig verlaufende, dick ausgezo
gene Leistungskurve zeigt diejenige Leistung an, die für eine normale oder Referenz
scheibe zweckmäßig ist. Die Kurve ist aufgrund von Untersuchungen in dieser Form
festgelegt worden.
Die Kantenverformung, somit die Differenzfläche oder der Radius, vergrößert sich zu
nächst relativ steil, wie aus der dick ausgezogenen Kurve 60 unterhalb des Minimal
wertes ersichtlich ist und wird dann flacher. Dabei bestehen vier Möglichkeiten, ab
hängig von der Scheibe 10 selbst.
Nach Erreichen des Wertes RMin kann die Kurve 60 so verlaufen, wie durch die
strichlierte Linie 60₁ dargestellt. Sie verbleibt unterhalb des Grenzwertes G1, und dem
gemäß verläuft die Leistungskurve der Elektronenstrahlkanone so wie dick ausgezogen
im oberen Teil.
Sollte die Kurve 60 den unteren Grenzwert G1 erreichen bzw. überschreiten und der
dick ausgezogenen Linie 60₂ folgen, sollte also die Differenzfläche oder der Radius
diesen unteren Grenzwert erreichen bzw. überschreiten, dann wird die Leistungskurve
beim Überkreuzen des Wertes G1 abgesenkt auf einen Wert P₁; wenn dann der Wert
G2 nicht mehr erreicht wird, verläuft die Leistungskurve ab dem Zeitpunkt t₁ entspre
chend der dick ausgezogenen Linie im oberen Bereich.
Erreicht die Kurve 60 den Grenzwert G2, wie strichliert durch 60₃ dargestellt ist, dann
wird bei Erreichen des Grenzwertes G2 die Leistung abgesenkt auf den Wert P₂.
Sollte dann der Radius oder die Differenzfläche dem punktierten Verlauf 60₄ folgen und
den Grenzwert G3 erreichen, dann wird die Leistungskurve von dem Leistungswert P₂
aus nochmals abgesenkt auf Null, damit der Grenzwert G3 nach Abkühlung wieder
unterschritten wird.
Ob die einzelnen Grenzwerte G1, G2 und G3 erreicht und/oder überschritten und ggf.
wieder unterschritten werden, hängt von der Beschaffenheit der Scheibe und von den
einzelnen Parametern ab, wie z. B. von der über den Drehdorn abgeführten Wärme
menge zur Kühlung der Scheibe, von der Leistung der Elektronenstrahlkanone oder
von der Schüttmenge des Cr-Pulvers pro Zeiteinheit.
In Fig. 8 sind lediglich drei Grenzwerte angegeben. Es besteht natürlich auch die Mög
lichkeit, weitere Grenzwerte vorzusehen.
Es sei nun Bezug genommen auf die Fig. 7, bei der die Spannung an der Elektronen
strahlkanone aufgetragen ist über der Zeit. Die dick ausgezogene Spannungskurve
entspricht der von der zentralen speicherprogrammierbaren Steuerung 24 angegebe
nen bzw. vorgegebenen Spannung USPS, die in der SPS 24 einprogrammiert ist. Es ist
eine Treppenkurve mit einer ersten Stufe 61, bei der die Spannung angehoben wird
und einer zweiten Stufe 62, bei der sie abgesenkt wird; bei der dritten Stufe 63 wird die
Spannung auf Null zurückgefahren.
Sollte bei der Zeit tG1 der Grenzwert G1 überschritten werden, dann wird die Spannung
USPS bei tG1 um einen Wert U₁ abgesenkt; die Spannung des Elektronenstrahls liegt
dann, wenn der Grenzwert G2 nicht mehr überschritten wird, um den Wert U₁ vermin
dert unterhalb der dick ausgezogenen Kurve USPS.
Wenn der Grenzwert G2 über-, der Grenzwert G3 nicht überschritten wird, wird die
Elektronenstrahlspannung, ausgehend von der Spannung USPS um den Betrag U₂ ab
gesenkt; sollte der Grenzwert G3 unterschritten werden, dann um den Wert U₃. Sollte
dann ein weiterer Grenzwert G4, der zusätzlich noch eingegeben sein kann, nicht er
reicht werden, dann verläuft, wie aus Fig. 7 ersichtlich ist, die Spannung des Elektro
nenstrahls entlang der Linie USPS, vermindert um U₃. Sobald ein Grenzwert G4 erreicht
wird, wird die Spannung USPS zum Zeitpunkt tG4 um den Wert U₄ vermindert.
Bei der Ausführung nach Fig. 6 wird die Spannung U₂ nicht stufenweise, sondern ei
nem Regelvorgang entsprechend abgesenkt; hierzu ist ein PID-Regler im Prozeßrech
ner (Bildanalysesystem) vorgesehen, so daß eine stufige Absenkung der Spannung am
Elektronenstrahl direkt abgestimmt ist auf die Verhältnisse an der Scheibe.
Claims (17)
1. Verfahren zur Überwachung der Beschichtung einer Platte aus einem Metall
vorzugsweise mit einer hohen Leitfähigkeit, insbesondere aus Kupfer, mit einem Mate
rial mit geringerer Leitfähigkeit, insbesondere Chrom, zur Bildung einer Cu-Cr-Schicht,
insbesondere für Vakuumschaltkontakte, in dem die Platte an ihrer Oberfläche mit ei
nem Wärmestrahl, insbesondere einem Elektronenstrahl, auf- bzw. angeschmolzen
und in die Schmelze Chrompulver eingegeben wird, dadurch gekennzeichnet, daß die
Temperatur bzw. Temperaturverteilung und/oder die Pulvermenge mittels einer Video
kamera überwacht werden, in dem die der Temperatur und der Form der Platte
und/oder der zugeführten Pulvermenge zugehörigen optischen Signale von der Video
kamera erfaßt und in einer Meß- und Auswerteeinrichtung verarbeitet werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Videokamera
die Platte seitlich betrachtet und durch Einprojizieren eines ersten Meßcursors in Form
von in oder parallel zu der X- und Y-Achse liegenden Linien (X-Linien, Y-Linien) die
Flächendifferenz oder Differenzfläche zwischen der Eckkontur des ersten Meßcursors
gebildet durch die X-Y-Linien, die in der oberen Oberflächenkontur bzw. in der Seiten
kantenkontur liegen, und der tatsächlichen Eckkontur der Scheibe errechnet und mit
einem Soll- oder Grenzwert verglichen wird, derart, daß dann, wenn die Flächendiffe
renz einen bestimmten Wert über- bzw. unterschreitet, eine entsprechende Änderung
der Energiezufuhr zu dem Elektronenstrahl und/oder der Cr-Zufuhr und/oder der abge
führten Wärmemenge einer evtl. vorhandenen Kühlung der Scheibe bewirkt wird, da
hingehend, daß bei Überschreitung eines Grenzwertes die Energiezufuhr verringert,
die Schüttmenge erhöht oder die Kühlleitung erhöht oder alles gleichzeitig durchgeführt
wird.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der erste Meßcur
sor U-förmig ist und jeweils einen in der oberen Oberflächenkontur und in der unteren
Oberflächenkontur liegenden Schenkel und einen in der Seitenkantenkontur liegenden
Steg aufweist.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß
die Videokamera die Platte seitlich betrachtet und ein zweiter Meßcursor in das Video
bild einprojiziert wird, der eine Linie, die parallel zur oberen Oberflächenkontur verläuft,
und eine weitere Linie, die parallel zur Seitenkantenkontur verläuft, aufweist, so daß
zwischen dem ersten und dem zweiten Meßcursor eine rechteckige Meßfläche gebildet
ist, von der die durch die tatsächliche Eckkontur gebildete Ist-Fläche abgezogen wird.
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die parallel zur
oberen Oberflächenkontur verlaufende Linie maximal in der unteren Oberflächenkontur
und die parallel zur Seitenkontur verlaufende Linie maximal in der Mittelachse der
Scheibe oder Platte liegt.
6. Verfahren nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet,
daß ein dritter Meßcursor in Form einer horizontal und senkrecht zur Rieselrichtung
des Cr-Pulvers unterhalb der Schüttöffnung für das Pulver verlaufenden Linie in das
Videobild einprojiziert wird, mit dem die zugeführte Pulvermenge überwacht wird.
7. Verfahren nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet,
daß durch den ersten und/oder den zweiten Meßcursor die exakte Horizontallage der
Platte detektiert wird.
8. Verfahren nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet,
daß die Videosignale der Videokamera in eine Grafikkarte eines Rechners, vorzugs
weise eines Prozeßrechners, eingegeben werden.
9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß der Rechner mit
einer speicherprogrammierbaren Steuerung (SPS) verbunden ist.
10. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die gesamte
Steuerung aller Parameter einschließlich der Bildanalysedurchführung ausschließlich
durch einen Prozeßrechner erfolgt.
11. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß der Rechner ein
Personalcomputer ist.
12. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahren nach einem der vorherigen An
sprüche, mit einer Vakuumkammer, in der die Aufschmelzung und Beschichtung der
Platte vorgenommen werden, dadurch gekennzeichnet, daß die Vakuumkammer ein
Sichtfenster aufweist, durch das die Videokamera ins Innere sieht.
13. Vorrichtung nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß innerhalb der
Vakuumkammer vor dem Sichtfenster eine klar transparente Folie als Bedampfungs
schutz für das Sichtfenster vorgesehen ist, die nach einiger Zeit weitertransportierbar
ist, so daß ein neuer, unbedampfter Folienabschnitt vor das Sichtfenster gelangt.
14. Vorrichtung nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß die Folie beim
Transport von einer Spule, die auf einer Seite des Sichtfensters angeordnet ist, ab
ziehbar und auf eine andere Spule, die auf der gegenüberliegenden Seite des Sicht
fensters angeordnet ist, aufwickelbar ist.
15. Vorrichtung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß die Folie aus
Polyimid besteht.
16. Vorrichtung nach einem der vorherigen Ansprüche 12 bis 15, dadurch ge
kennzeichnet, daß an der Vakuumkammer ein nach außen vorspringender Stutzen
vakuumdicht befestigt ist, an dessen freiem äußerem Ende das Sichtfenster angeord
net ist, so daß sich das Sichtfenster in großem Abstand von der Platte befindet und
evtl. Metalldämpfe im wesentlichen an der Innenfläche des Stutzens kondensieren.
17. Vorrichtung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß wenigstens
eine Blende im Stutzen befestigt ist.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1995145005 DE19545005A1 (de) | 1995-12-02 | 1995-12-02 | Verfahren zur Überwachung der Beschichtung einer Platte aus einem Metall mit hoher Leitfähigkeit mit einem Material mit geringerer Leitfähigkeit und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1995145005 DE19545005A1 (de) | 1995-12-02 | 1995-12-02 | Verfahren zur Überwachung der Beschichtung einer Platte aus einem Metall mit hoher Leitfähigkeit mit einem Material mit geringerer Leitfähigkeit und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19545005A1 true DE19545005A1 (de) | 1997-06-05 |
Family
ID=7779027
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1995145005 Withdrawn DE19545005A1 (de) | 1995-12-02 | 1995-12-02 | Verfahren zur Überwachung der Beschichtung einer Platte aus einem Metall mit hoher Leitfähigkeit mit einem Material mit geringerer Leitfähigkeit und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE19545005A1 (de) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0955389A1 (de) * | 1998-05-06 | 1999-11-10 | Linde Aktiengesellschaft | Qualitätsicherung beim thermischen Spritzen |
WO2000031313A1 (de) * | 1998-11-25 | 2000-06-02 | Joma Chemical As | Werkstoff und verfahren zum herstellen einer korrosions- und verschleissfesten schicht durch thermisches spritzen |
EP1038987A1 (de) * | 1999-03-25 | 2000-09-27 | Ford Motor Company | Verfahren zur Verzerrungsverminderung eines sprühgegossenen schnellen Werkzeuges |
WO2001090435A1 (de) * | 2000-05-23 | 2001-11-29 | Joma Chemicals As | Werkstoff und verfahren zum herstellen einer korrosions- und verschleissfesten schicht durch thermisches spritzen |
WO2002083971A1 (en) * | 2001-04-18 | 2002-10-24 | Ford Motor Company Limited | A method for controlling a spray form apparatus |
WO2002083972A1 (en) * | 2001-04-17 | 2002-10-24 | Ford Motor Company Limited | An automated spray form cell |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1941547A1 (de) * | 1968-08-14 | 1970-06-18 | Hamamatsu Tv Co Ltd | Verfahren und Vorrichtung zur Vermessung eines Koerpers mittels einer Bildaufnahmevorrichtung |
DE2645345A1 (de) * | 1975-10-20 | 1977-04-28 | Trw Inc | Verfahren und vorrichtung zur steuerung des thermischen metallauftrags |
DE3013244A1 (de) * | 1979-04-05 | 1980-10-09 | Armco Inc | Automatische fehlstellen-detektorvorrichtung |
DE3128381A1 (de) * | 1981-07-17 | 1983-02-03 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Roentgendiagnostikeinrichtung fuer roentgenschichtbilder |
US5200230A (en) * | 1987-06-29 | 1993-04-06 | Dunfries Investments Limited | Laser coating process |
DE4413745A1 (de) * | 1994-04-20 | 1995-10-26 | Gramm Gmbh & Co Kg | Verfahren und Vorrichtung zur Kontrolle der Oberfläche von Gegenständen |
-
1995
- 1995-12-02 DE DE1995145005 patent/DE19545005A1/de not_active Withdrawn
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1941547A1 (de) * | 1968-08-14 | 1970-06-18 | Hamamatsu Tv Co Ltd | Verfahren und Vorrichtung zur Vermessung eines Koerpers mittels einer Bildaufnahmevorrichtung |
DE2645345A1 (de) * | 1975-10-20 | 1977-04-28 | Trw Inc | Verfahren und vorrichtung zur steuerung des thermischen metallauftrags |
DE3013244A1 (de) * | 1979-04-05 | 1980-10-09 | Armco Inc | Automatische fehlstellen-detektorvorrichtung |
DE3128381A1 (de) * | 1981-07-17 | 1983-02-03 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Roentgendiagnostikeinrichtung fuer roentgenschichtbilder |
US5200230A (en) * | 1987-06-29 | 1993-04-06 | Dunfries Investments Limited | Laser coating process |
US5409537A (en) * | 1989-10-11 | 1995-04-25 | Dunfries Investments, Ltd. | Laser coating apparatus |
DE4413745A1 (de) * | 1994-04-20 | 1995-10-26 | Gramm Gmbh & Co Kg | Verfahren und Vorrichtung zur Kontrolle der Oberfläche von Gegenständen |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0955389A1 (de) * | 1998-05-06 | 1999-11-10 | Linde Aktiengesellschaft | Qualitätsicherung beim thermischen Spritzen |
WO2000031313A1 (de) * | 1998-11-25 | 2000-06-02 | Joma Chemical As | Werkstoff und verfahren zum herstellen einer korrosions- und verschleissfesten schicht durch thermisches spritzen |
EP1038987A1 (de) * | 1999-03-25 | 2000-09-27 | Ford Motor Company | Verfahren zur Verzerrungsverminderung eines sprühgegossenen schnellen Werkzeuges |
US6179039B1 (en) | 1999-03-25 | 2001-01-30 | Visteon Global Technologies, Inc. | Method of reducing distortion in a spray formed rapid tool |
WO2001090435A1 (de) * | 2000-05-23 | 2001-11-29 | Joma Chemicals As | Werkstoff und verfahren zum herstellen einer korrosions- und verschleissfesten schicht durch thermisches spritzen |
WO2002083972A1 (en) * | 2001-04-17 | 2002-10-24 | Ford Motor Company Limited | An automated spray form cell |
WO2002083971A1 (en) * | 2001-04-18 | 2002-10-24 | Ford Motor Company Limited | A method for controlling a spray form apparatus |
US6640878B2 (en) | 2001-04-18 | 2003-11-04 | Ford Motor Company | Automated spray form cell |
US6648053B2 (en) | 2001-04-18 | 2003-11-18 | Ford Motor Company | Method and apparatus for controlling a spray form process based on sensed surface temperatures |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE112010004153B4 (de) | Vorrichtung zur inspektion von elektroden zum punktschweissen | |
EP1534458B1 (de) | Verfahren zur qualitätsüberwachung von punktschweissungen | |
DE3923899A1 (de) | Verfahren fuer die regelung der auftreffpositionen von mehreren elektronenstrahlen auf ein schmelzbad | |
DE3403253A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum steuern von schweissvorgaengen | |
DE2751643B2 (de) | Verfahren zur Überwachung von elektrischen Widerstands-Punktschweißungen | |
DE2618906A1 (de) | Durchstrahlungsdickenmessvorrichtung | |
WO1990000458A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum bearbeiten von werkstücken mit laserstrahlung | |
DE2012075A1 (de) | ||
DE3687209T2 (de) | Vorrichtung zur echtzeitkontrolle von schweissungen, insbesondere fuer nicht direkt beobachtbare schweissstellen. | |
DE19545005A1 (de) | Verfahren zur Überwachung der Beschichtung einer Platte aus einem Metall mit hoher Leitfähigkeit mit einem Material mit geringerer Leitfähigkeit und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens | |
CH670160A5 (de) | ||
DE2703113C3 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Regelung der Leistung eines Lichtbogen-Schweißbrenners | |
DE3447724C2 (de) | Temperaturmeßvorrichtung einer einen Hochdruckofen aufweisenden isostatischen Heißpreßeinrichtung | |
DE3705423A1 (de) | Verfahren zum ausrichten eines roentgenstrahlendetektors mit einem linearen feld | |
DE102008043172A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Anzeigen und zur Kontrolle des Profils einer Schweißnaht im Inneren einer zwischen zwei metallischen Teilen vorgesehenen Abfasung | |
DE4404550C2 (de) | Anordnung zur Regelung der Verdampferrate von Tiegeln | |
DE3323798C2 (de) | ||
DE112016001546T5 (de) | Verfahren zur herstellung eines energiespeichergeräts und vorrichtung zur herstellung eines energiespeichergeräts | |
DE3810175A1 (de) | Kathodenzerstaeubungsvorrichtung | |
EP1119436B1 (de) | Verfahren zur materialbearbeitung mit plasma induzierender hochenergiestrahlung | |
EP0094378A2 (de) | Einrichtung zur Durchführung von Umschmelzverfahren mit selbstverzehrenden Elektroden | |
DE19632410C1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Beschichtung eines Bauteils mit einer Wärmedämmschicht | |
EP1054469A1 (de) | Vorrichtung und Verfahren zum Erwärmen von Bauteilen aus mikrowellenabsorbierendem Kunststoff | |
DE19810922A1 (de) | Gastargetfenster | |
DE3344684C2 (de) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OM8 | Search report available as to paragraph 43 lit. 1 sentence 1 patent law | ||
8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |