DE19534980A1 - Dünne SiO¶2¶-Folien, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung - Google Patents
Dünne SiO¶2¶-Folien, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre VerwendungInfo
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- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C1/00—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels
- C03C1/006—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels to produce glass through wet route
- C03C1/008—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels to produce glass through wet route for the production of films or coatings
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2323/00—Details relating to membrane preparation
- B01D2323/08—Specific temperatures applied
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2323/00—Details relating to membrane preparation
- B01D2323/08—Specific temperatures applied
- B01D2323/081—Heating
Description
Die Erfindung betrifft dünne, rißfreie, vorzugsweise trans
parente und farblose SiO₂-Folien, ein Verfahren zu ihrer
Herstellung nach dem Sol-Gel-Prozeß und ihre Verwendung
z. B. als Membranen, Filter, Bestandteile von Laminaten oder
Trägermaterialen mit inkorporierten funktionellen Zusatz
stoffen.
Glasfolien werden üblicherweise mittels Zieh- oder Extru
sionsverfahren aus der Schmelze hergestellt. Diese Ver
fahren sind von den thermischen Eigenschaften des Glases
(Erweichungspunkt, Kristallisationsgeschwindigkeit etc.)
abhängig und daher auf bestimmte Glaszusammensetzungen
beschränkt. Eine weitere Beschränkung besteht hinsichtlich
der Mindestdicke der herstellbaren Glasfolien, wodurch es
bisher nicht möglich war, Kieselglasfolien mit einer Dicke
unterhalb etwa 250 µm durch Schmelz- und anschließende
Formgebungsverfahren herzustellen.
Es ist bekannt, daß durch Sol-Gel-Techniken die Verdich
tungstemperatur von glasartigen und/oder keramischen Werk
stoffen wesentlich verringert werden kann. Die Herstellung
von SiO₂-Folien nach dem Sol-Gel-Prozeß scheiterte jedoch
bisher an Problemen bei der Überführung der meist wäßrig
alkoholischen Vorstufen (Sole) in den Xerogelkörper durch
Lösungsmittelentzug oder Zusatz eines Gelierungsmittels.
Beim Trocknen von Solen auf Unterlagen kommt es durch Ka
pillarkräfte und aufgrund der unterschiedlichen Trocknungs
geschwindigkeit an der Ober- bzw. Unterseite leicht zur
Bildung von Rissen. Außerdem lösen sich die die Gelfilme
aufgrund der bevorzugten Lösungsmittelverdampfung an der
Oberfläche beim Trocknen von der Unterlage ab und rollen
ein. Es war deshalb kein Verfahren bekannt, nach dem trans
parente, rißfreie SiO₂-Folien mit größeren Abmessungen durch
Gießen und Gelieren von SiO₂-Solen auf einer Unterlage
hergestellt werden können.
Überraschenderweise wurde nun gefunden, daß dünne SiO₂-
Folien sehr einfach und in praktisch beliebigen Abmessungen
(Länge und Breite) in einem Sol-Gel-Verfahren herstellbar
sind.
Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung
dünner SiO₂-Folien, das dadurch gekennzeichnet ist, daß man
- a) 40 bis 100 Masse-% eines oder mehrerer Silane der allgemeinen Formel (I) Rx-Si-A4-x (I)worin die Reste A gleich oder verschieden sind und Hydroxylgruppen oder hydrolytisch abspaltbare Gruppen darstellen, die Reste R gleich oder verschieden sind und hydrolytisch nicht abspaltbare Gruppen darstellen und x den Wert 0, 1, 2 oder 3 hat, wobei bei minde stens 70 Stoffmengen-% der Silane x 1 ist; gegebenenfalls in Gegenwart von
- b) 0 bis 50, vorzugsweise 0 bis 25 Masse-% kolloidalem SiO₂ und/oder
- c) 0 bis 10 Masse-% eines organischen Bindemittels
hydrolysiert und kondensiert, das erhaltene viskose Sol zu
einer Gelfolie verarbeitet und die Gelfolie wärmebehandelt.
Gegenstand der Erfindung sind ferner auf diese Weise her
stellbare SiO₂-Folien und SiO₂-Folien mit einer Dicke von
2,5 bis 250 µm und einer Fläche von mindestens 25 cm², vor
zugsweise mindestens 50 cm², besonders bevorzugt mindestens
100 cm².
Die erfindungsgemäßen SiO₂-Folien sind dünn, rißfrei, vor
zugsweise transparent und farblos, zeichnen sich durch hohe
Flexibilität und minimale Schrumpfung aus.
Einzelheiten des Sol-Gel-Prozesses sind bei C.J. Brinker,
G.W. Scherer: "Sol-Gel Science - The Physics and Chemistry
of Sol-Gel-Processing", Academic Press, Boston, San Diego,
New York, Sydney (1990) und in den DE 19 41 191, DE 37 19 339,
DE 40 20 316 und DE 42 17 432 beschrieben.
Dort sind auch spezielle Beispiele für die im erfindungs
gemäßen Verfahren einsetzbaren Silane sowie deren hydroly
tisch abspaltbare Reste A und hydrolytisch nicht abspalt
bare Reste R angegeben.
Bevorzugte Beispiele für hydrolytisch abspaltbare Gruppen A
sind Wasserstoff, Halogen (F, Cl, Br und I, insbesondere Cl
und Br), Alkoxy (insbesondere C1-4-Alkoxy, wie z. B. Meth
oxy, Ethoxy, n-Propoxy, i-Propoxy und Butoxy), Aryloxy
(insbesondere C6-10-Aryloxy, z. B. Phenoxy), Alkaryloxy
(z. B. Benzyloxy), Acyloxy (insbesondere C1-4-Acyloxy, wie
z. B. Acetoxy und Propionyloxy) und Alkylcarbonyl (z. B.
Acetyl). Ebenfalls geeignete Reste A sind Amingruppen (z. B.
Mono- oder Dialkyl-, -aryl- und -aralkylamingruppen mit den
oben genannten Alkyl-, Aryl- und Aralkylresten), Amidgrup
pen (z. B. Benzamido) und Aldoxim- oder Ketoximgruppen.
Zwei oder drei Reste A können zusammen auch eine das Si-
Atom komplexierende Gruppierung bilden, wie dies z. B. bei
Si-Polyolkomplexen der Fall ist, die sich von Glykol, Gly
cerin oder Brenzkatechin ableiten.
Die genannten hydrolysierbaren Gruppen A können gegebenen
falls einen oder mehrere übliche Substituenten tragen, z. B.
Halogenatome oder Alkoxygruppen.
Die hydrolytisch nicht abspaltbaren Reste R sind vorzugs
weise ausgewählt aus Alkyl (insbesondere C1-4-Alkyl, wie
z. B. Methyl, Ethyl, Propyl und Butyl), Alkenyl (insbeson
dere C2-4-Alkenyl, wie z. B. Vinyl, 1-Propenyl, 2-Propenyl
und Butenyl), Alkinyl (insbesondere C2-4-Alkinyl, wie
Acetylenyl und Propargyl), Aryl (insbesondere C6-10-Aryl,
wie z. B. Phenyl und Naphthyl) und den entsprechenden Alk
aryl- und Arylalkylgruppen. Auch diese Gruppen können ge
gebenenfalls einen oder mehrere übliche Substituenten, z. B.
Halogen-, Alkoxy- oder Epoxidgruppen, aufweisen.
Die oben genannten Alkyl-, Alkenyl- und Alkinylgruppen
schließen die entsprechenden cyclischen Reste, wie z. B.
Cyclohexyl, ein.
Die erfindungsgemäß verwendeten Silane der allgemeinen
Formel (I) können ganz oder teilweise in Form von Vorkon
densaten eingesetzt werden, d. h. Verbindungen, die durch
teilweise Hydrolyse der Silane der Formel (I), entweder
allein oder im Gemisch mit anderen hydrolysierbaren Ver
bindungen entstanden sind. Derartige, im Reaktionsmedium
vorzugsweise lösliche Oligomere können geradkettige oder
cyclische niedermolekulare Teilkondensate (Polyorganosilo
xane) mit einem Kondensationsgrad von z. B. etwa 2 bis 100,
insbesondere etwa 2 bis 6, sein.
Konkrete Beispiele für Silane der allgemeinen Formel (I)
sind Verbindungen der folgenden Formeln:
Si(OCH₃)₄, Si(OC₂H₅)₄, Si(O-n- oder i-C₃H₇)₄
Si(OC₄H₉)₄, SiCl₄, HSiCl₃, Si(OOCCH₃)₄, CH₃-SiCl₃,
CH₃-Si(OC₂H₅)₃, C₂H₅-SiCl₃, O₂H₅-Si(OC₂H₅)₃,
O₃H₇-Si(OCH₃)₃, C₆H₅-Si(OCH₃)₃, C₆H₅-Si(OC₂H₅)₃,
(CH₃O)₃-Si-C₃H₆-Cl, (CH₃)₂SiCl₂, (CH₃)₂Si(OCH₃)₂, (CH₃)₂Si(OC₂H₅)₂, (CH₃)₂Si(OH)₂, (C₆H₅)₂SiCl₂, (C₆H₅)₂Si(OCH₃)₂,
(C₆H₅)₂Si(OC₂H₅)₂, (i-C₃H₇)₃SiOH, CH₂=CH-Si(OOCCH₃)₃,
CH₂ =CH-SiCl₃, CH₂=CH-Si(OCH₃)₃, CH₂=CH-Si(OC₂H₅)₃,
CH₂=CH-Si(OC₂H₄OCH₃)₃, CH₂=CH-CH₂-Si(OCH₃)₃,
CH₂=CH-CH₂-Si(OC₂H₅)₃, CH₂=CH-CH₂-Si(OOCCH₃)₃,
CH₂=C(CH₃)-COO-C₃H₇-Si(OCH₃)₃,
CH₂=C(CH₃)-COO-C₃H₇-Si(OC₂H₅)₃,
Si(OCH₃)₄, Si(OC₂H₅)₄, Si(O-n- oder i-C₃H₇)₄
Si(OC₄H₉)₄, SiCl₄, HSiCl₃, Si(OOCCH₃)₄, CH₃-SiCl₃,
CH₃-Si(OC₂H₅)₃, C₂H₅-SiCl₃, O₂H₅-Si(OC₂H₅)₃,
O₃H₇-Si(OCH₃)₃, C₆H₅-Si(OCH₃)₃, C₆H₅-Si(OC₂H₅)₃,
(CH₃O)₃-Si-C₃H₆-Cl, (CH₃)₂SiCl₂, (CH₃)₂Si(OCH₃)₂, (CH₃)₂Si(OC₂H₅)₂, (CH₃)₂Si(OH)₂, (C₆H₅)₂SiCl₂, (C₆H₅)₂Si(OCH₃)₂,
(C₆H₅)₂Si(OC₂H₅)₂, (i-C₃H₇)₃SiOH, CH₂=CH-Si(OOCCH₃)₃,
CH₂ =CH-SiCl₃, CH₂=CH-Si(OCH₃)₃, CH₂=CH-Si(OC₂H₅)₃,
CH₂=CH-Si(OC₂H₄OCH₃)₃, CH₂=CH-CH₂-Si(OCH₃)₃,
CH₂=CH-CH₂-Si(OC₂H₅)₃, CH₂=CH-CH₂-Si(OOCCH₃)₃,
CH₂=C(CH₃)-COO-C₃H₇-Si(OCH₃)₃,
CH₂=C(CH₃)-COO-C₃H₇-Si(OC₂H₅)₃,
Diese Silane lassen sich nach bekannten Methoden herstel
len; vgl. W. Noll, "Chemie und Technologie der Silicone",
Verlag Chemie GmbH, Weinheim/Bergstraße (1968).
Die erfindungsgemäßen SiO₂-Folien können z. B. aus reinem Me
thyltriethoxysilan (MTEOS) oder aus Mischungen von MTEOS
und Tetraethoxysilan (TEOS) hergestellt werden. Ein beson
ders bevorzugtes System umfaßt 90 Stoffmengen-% MTEOS und
10 Stoffmengen-% TEOS.
Zur Verbesserung der Handhabbarkeit und anderer mechani
scher Eigenschaften der dünnen SiO₂-Folien wird vorzugsweise
kolloidales SiO₂ als zusätzliches Ausgangsmaterial ange
wandt. Dessen Verwendung erhöht auch die Dichte und das
Porenvolumen der Folien. Das kolloidale SiO₂ kann z. B. in
Form von Kieselsolen oder nanoskaligen, dispergierbaren
Pulvern vorliegen. Bevorzugt ist ein alkoholisches Kiesel
sol mit Teilchengrößen von ca. 10 nm.
Als weitere Eventualkomponente kann ein organisches Binde
mittel angewandt werden, das sich anschließend wieder ther
misch aus der Gelfolie entfernen läßt. Geeignete Bindemit
tel sind z. B. Polyvinylalkohol, Polyvinylacetat, Stärke,
Polyethylenglykol und Gummi arabicum.
Die Hydrolyse und Kondensation wird unter Sol-Gel-Bedingun
gen vorzugsweise in einem alkoholischen Lösungsmittel (z. B.
Methanol oder Ethanol) unter basischer Katalyse (z. B. mit
Ammoniak) durchgeführt, bis ein viskoses Sol entsteht. Um
eine günstige Solpartikel-Morphologie und Sol-Viskosität
einzustellen, unterwirft man das Hydrolysat/Kondensat vor
zugsweise einem gezielten Alterungsschritt, bei dem die
Reaktionsmischung mehrere Stunden bis mehrere Tage auf
Temperaturen von 40 bis 120°C erwärmt wird. Besonders be
vorzugt ist eine etwa 4tägige Erwärmung auf 80°C. Hierbei
entsteht ein Sol mit einer Viskosität von vorzugsweise 5
bis 100 Pa·s, besonders bevorzugt 20 bis 25 Pa·s.
Das Sol kann anschließend auf verschiedene Weise zu einer
Gelfolie verarbeitet werden, beispielsweise durch Gießen
und Gelieren auf einem Substrat oder in einer Form, Film
ziehen, Blastechniken oder Auspressen aus einer Schlitzdü
se, wobei die Gelierung durch Verdampfen des Lösungsmittels
und/oder Zugabe von Gelierungsmitteln (z. B. H₂O, HCl oder
NH₃) erfolgt. Besonders bevorzugt sind das Gießen oder
Aufrakeln auf eine nicht-haftende Unterlage, z. B. aus Poly
styrol, Polyethylen oder Teflon und Verdampfen des Lösungs
mittels. Die Gelierung des Sols kann auch kontinuierlich
z. B. auf einer Walze oder einem Transportband erfolgen.
Bei dem besonders bevorzugten System aus 90 Stoffmengen-%
MTEOS und 10 Stoffmengen-% TEOS wurde überraschenderweise
gefunden, daß dieses bei basischer Katalyse und einer Tem
peratur von 80°C auch nach einem Zeitraum von 100 h nur
unwesentlich kondensiert. Dies widerspricht der herkömm
lichen Erfahrung, wonach die Anwesenheit von basischen
Katalysatoren die Kondensationsreaktion beschleunigt. Da
gegen wird das erfindungsgemäße System praktisch vollstän
dig hydrolysiert, jedoch nicht kondensiert, so daß keine
Gelierung erfolgt. Das hat zur Folge, daß beim Eingießen
des Sols in eine Form das Lösungsmittel abdampfen kann,
ohne daß eine Gelierung erfolgt. Erst wenn das Lösungsmit
tel nahezu vollständig verdampft ist, setzt eine Gelierung
unter Bildung einer Gelfolie ein.
Die erhaltene Gelfolie wird dann getrocknet, vorzugsweise
bei Temperaturen von Raumtemperatur bis 100°C unter Normal
druck oder verringertem Druck. Besonders bevorzugte Trock
nungsbedingungen sind 3 h bei 20 bis 30°C, gefolgt von 15 h
bei 50°C.
Der erhaltene Gelkörper kann gegebenenfalls verschiedenen
Vorbehandlungen unterzogen werden. Beispielsweise kann eine
Formgebung durch mechanische oder chemische Bearbeitung
erfolgen, z. B. Bohren, Schneiden, Anlösen, Ätzen, Struktu
rieren (Prägen, Ionenbeschuß), Falten oder Biegen.
Um die mechanischen Eigenschaften zu verbessern, kann die
Gelfolie gegebenenfalls in funktionelle (reaktive) Lösungs
mittel eingebracht oder damit behandelt werden, z. B. mit
Wasser, Alkoholen, Aminen, Si-Verbindungen (z. B. TEOS),
oder mit reaktiven Gasen behandelt werden, z. B. mit HCl
oder NH₃.
Gegebenenfalls kann auch eine Vorbehandlung der Gelfolie
durch Corona- oder Plasmaerzeuger erfolgen.
Schließlich erfolgt eine Wärmebehandlung der Gelfolie im
Temperaturbereich von 100 bis 1400°C, wobei unterhalb 200°C
eine Temperung stattfindet, im Bereich von 200 bis 700°C
die organischen Komponenten ausgebrannt werden und oberhalb
700°C eine thermische Verdichtung (Sinterung) erfolgt.
Die Wärmebehandlung kann durch z. B. durch Erhitzen, Be
strahlen mit Infrarot-, Laser- oder Blitzlichtstrahlung
(Rapid Thermal Annealing) erfolgen. Hierbei werden Aufheiz
geschwindigkeiten von vorzugsweise 40 bis 50°C/h angewandt.
Die Wärmebehandlung kann in verschiedenen Gasatmosphären
durchgeführt werden, z. B. in Luft, Sauerstoff, Stickstoff,
Ammoniak, Chlor, Kohlenstofftetrachlorid oder entsprechen
den Gasmischungen.
Die thermische Verdichtung in Luft eignet sich vorzugsweise
für dünnere SiO₂-Folien mit einer Dicke bis zu 50 µm. Bei
1000°C bilden sich hierbei dünne transparente Glasfolien.
Die Sinterung in Stickstoff bei 1000 bis 1250°C ergibt
schwarze Glasfolien mit eingeschlossenen Kohlenstoff
partikeln, die hohe Festigkeit aufweisen und z. B. als Sub
strate oder für Laminate geeignet sind. Durch Sintern in
Ammoniak können überraschenderweise auch dickere Glasfolien
von ausgezeichneter Transparenz hergestellt werden.
Die erfindungsgemäßen SiO₂-Folien zeigen keine Tendenz zu
Rißbildung, ungewolltem Ablösen oder Einrollen. Ferner
wurde überraschenderweise festgestellt, daß die eingesetz
ten organischen Komponenten problemlos ohne Rißbildung
thermisch entfernt werden können, so daß farblos-trans
parente Glasfolien herstellbar sind, deren Abmessungen
lediglich durch die Größe der Unterlage beschränkt sind.
Die erfindungsgemäßen SiO₂-Folien eignen sich für die ver
schiedensten Anwendungszwecke, z. B. als Membranen, Filter,
Bestandteile von Laminaten oder Trägermaterialen mit inkor
porierten funktionellen Zusatzstoffen, wie magnetischen
Partikeln, Kohlenstoff, Metallkolloiden, Farbstoffen (auch
photochrom) und Pigmenten. Weitere Anwendungsbereiche sind
optische und elektronische Bauteile sowie Multilayer
materialien für kugelsichere Verglasungen.
Die folgenden Beispiele erläutern die Erfindung.
Eine Mischung aus 0,92 Mol MTEOS, 0,08 Mol TEOS und 0,25
Mol kolloidalem SiO₂ (MA-ST von Nissan Chemicals; 30% in
Methanol) wird mit 4,5 Mol absolutem Ethanol verdünnt und
mit 4 Mol Ammoniakwasser (0,34 g 25% Ammoniaklösung in 72 g
Wasser) unter Rühren mit einem Magnetrührer hydrolysiert.
Das Rührer wird weitere 3 min fortgesetzt. Durch 4tägiges
Altern der Reaktionsmischung bei 80°C in einem geschlosse
nen Behälter wird ein viskoses Sol mit einer Viskosität von
20-25 Pa·s erhalten.
Das Sol wird direkt auf flache Polystyrolformen gegossen
oder aufgerakelt, wobei Ziehgeschwindigkeiten von 5 bis 20
mm/s angewandt werden. Hierauf bedeckt man die Polystyrol
form und hält sie 15 h in einem Ofen bei Temperaturen von
40 bis 65°C. In dieser Zeit geliert das viskose Sol und es
kann eine riß- und verwerfungsfreie Gelfolie entnommen
werden, die 3 h bei 20-30°C und anschließend 15 h bei 50°C
getrocknet wird.
Die auf diese Weise hergestellten Gelfolien können unabhän
gig von ihrer Dicke in Luft bei Temperaturen bis zu 400°C
gesintert werden, wobei transparente Glasfolien entstehen.
Gelfolien mit einer Dicke unter 50 µm können ohne Rißbil
dung in Luft bis zu 1000°C zu transparenten Glasfolien
gesintert werden.
Bei der Sinterung dickerer Folien in Stickstoff im Bereich
von 400 bis 1250°C entstehen mechanisch und thermisch sta
bile schwarze Glasfolien, die beim anschließenden Erhitzen
auf 1300°C keine sichtbare Veränderung zeigen. Die thermo
mechanischen Eigenschaften entsprechen in etwa denen von
reinem Kieselglas.
Bei Sinterung in einer Ammoniakatmosphäre bei Temperaturen
bis 1000°C werden auch mit dickeren Gelfolien rißfreie
Glasfolien von ausgezeichneter Transparenz erhalten. Die in
Ammoniak gesinterten SiO₂-Folien weisen bessere chemische und
thermische Stabilität und höhere Bruchfestigkeit, Mikrohär
te und Hochtemperaturbeständigkeit auf als reine Kiesel
gläser.
Zur Herstellung von photochromen Glasfolien wird eine 1 ×
10-3 molare Lösung eines photochromen Spiropyran-Farbstoffs
in Methanol hergestellt und 1 ml dieser Lösung zu 10 ml des
wie in Beispiel 1 hergestellten Sols getropft, das einen
Feststoffgehalt von nahezu 30 Massen-% aufweist. Die wei
tere Verarbeitung erfolgt wie in Beispiel 1.
Zur Herstellung von magnetischen Glasfolien werden 2,5 ml
einer Suspension von nanoskaligen Maghämit-Teilchen mit
einer primären Teilchengröße von 10 nm und einem Feststoff
gehalt von 6 Massen-% zu dem wie in Beispiel 1 hergestell
ten Sol getropft. Die weitere Verarbeitung erfolgt wie in
Beispiel 1, wobei bei der Sinterung in Luft transparente
rotbraun gefärbte magnetische Glasfolien erhalten werden.
Claims (9)
1. Verfahren zur Herstellung dünner SiO₂-Folien, dadurch
gekennzeichnet, daß man
- a) 40 bis 100 Masse-% eines oder mehrerer Silane der
allgemeinen Formel (I)
Rx-Si-A4-x (I)worin die Reste A gleich oder verschieden sind
und Hydroxylgruppen oder hydrolytisch abspaltbare
Gruppen darstellen, die Reste R gleich oder
verschieden sind und hydrolytisch nicht abspalt
bare Gruppen darstellen und
x den Wert 0, 1, 2 oder 3 hat, wobei bei minde stens 70 Stoffmengen-% der Silane x 1 ist; gegebenenfalls in Gegenwart von - b) 0 bis 50 Masse-% kolloidalem SiO₂ und/oder
- c) 0 bis 10 Masse-% eines organischen Bindemittels
hydrolysiert und kondensiert, das erhaltene viskose
Sol zu einer Gelfolie verarbeitet und die Gelfolie
wärmebehandelt.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
man die Hydrolyse und Kondensation in Gegenwart von
sauren oder basischen, vorzugsweise basischen Kon
densationskatalysatoren durchführt.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeich
net, daß man das Hydrolysat/Kondensat durch mehrstün
diges bis mehrtägiges Altern bei Temperaturen von 40
bis 120°C in ein viskoses Sol überführt.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch
gekennzeichnet, daß man das Sol auf einer nicht-haf
tenden Unterlage zu einer Gelfolie verarbeitet.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch
gekennzeichnet, daß man die Gelfolie trocknet und bei
Temperaturen bis 1400°C wärmebehandelt.
6. Dünne SiO₂-Folien, herstellbar nach dem Verfahren
eines der Ansprüche 1 bis 5.
7. Dünne SiO₂-Folien mit einer Dicke von 2,5 bis 250 µm
und einer Fläche von mindestens 25 cm².
8. Verwendung der SiO₂-Folien nach Anspruch 6 oder 7 als
Membranen, Filter, Bestandteile von Laminaten oder
Trägermaterialen mit inkorporierten funktionellen
Zusatzstoffen.
Priority Applications (9)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| DE19534980A DE19534980A1 (de) | 1995-09-20 | 1995-09-20 | Dünne SiO¶2¶-Folien, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung |
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002098998A1 (de) * | 2001-06-01 | 2002-12-12 | Henkel Kommanditgesellschaft Auf Aktien | System zur freisetzung von aktivstoffen und wirkstoffen |
-
1995
- 1995-09-20 DE DE19534980A patent/DE19534980A1/de not_active Withdrawn
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