DE1917543C3 - Lichtempfindliches Gemisch - Google Patents

Lichtempfindliches Gemisch

Info

Publication number
DE1917543C3
DE1917543C3 DE1917543*A DE1917543A DE1917543C3 DE 1917543 C3 DE1917543 C3 DE 1917543C3 DE 1917543 A DE1917543 A DE 1917543A DE 1917543 C3 DE1917543 C3 DE 1917543C3
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
light
organic halogen
compounds
compound
photosensitive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DE1917543*A
Other languages
English (en)
Other versions
DE1917543A1 (de
DE1917543B2 (de
Inventor
George Henry Saint Paul Minn. Smith (V.St.A.)
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
3M Co
Original Assignee
Minnesota Mining and Manufacturing Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Minnesota Mining and Manufacturing Co filed Critical Minnesota Mining and Manufacturing Co
Publication of DE1917543A1 publication Critical patent/DE1917543A1/de
Publication of DE1917543B2 publication Critical patent/DE1917543B2/de
Application granted granted Critical
Publication of DE1917543C3 publication Critical patent/DE1917543C3/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/28Processing photosensitive materials; Apparatus therefor for obtaining powder images
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/675Compositions containing polyhalogenated compounds as photosensitive substances
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
    • G03F7/0295Photolytic halogen compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/026Layers in which during the irradiation a chemical reaction occurs whereby electrically conductive patterns are formed in the layers, e.g. for chemixerography
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing
    • Y10S430/12Nitrogen compound containing
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing
    • Y10S430/126Halogen compound containing
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/127Spectral sensitizer containing

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)

Description

photolysierbaren organischen Halogenverbindungen sind bei Raumtemperatur flüssig oder fest und besitzen ein polarographisches HalbwelleivReduktionspotential überhalb etwa —0,9. Beispiele hierfür sind Hexabrommethan, Tetrabrom-o-xylol, Dibromtetrachloräthan, Tribromtrichloräthan, Pentabromäthan, Dibromcyanoacetamid, Tris-tribrommethyltriazin, Dibromdibenzoylmethan, Trijodmethan, Tetrabromditluoräthan, Tribromchinaldin, Hexachlor-p-xylol.
Gemäß einer Ausgestaltung der Erfindung enthält das lichtempfindliche Gemisch eine radikalisch polymerisierbare oder eine durch Säure polymerisierbar monomere Verbindung.
Obgleich das Konzentrationsverhältnis von Sensibilisierungsmittel zur organischen Hajogenverbinliung kein kritisches Merkmal darstellt, beträgt das Vf oi verhältnis zwecks Erzielung der maximalen Geschwindigkeit im allgemeinen 1 : 20 bis 2 : 1.
Durch die Erhndung wird erreicht, daß Filme oder Blätter, die mit Lösungen dieser organischen Haiogen- >erbindungen und der Sensibilisierungsmittel, die normalerweise noch ein Bindemitte! enthalten, beschichtet sind, im allgemeinen stabil sind und während längerer Zeiträume unter normalen Raumbedingungen gelagert werden können. Die erhaltenen Aufzeichnungsmaterialien absorbieren das Licht gut im sichtbaren Wellenbereich.
Die Sensibilisierungsmittel sind in organischen Losungsmitteln, A'ie z. B. Aceton, Methyläthylketon, Äthyienglykolmonomethyläther, löslich und lassen sich auf einfache Weise herstellen und reinigen. Darüber hinaus ermöglicht die lohe Wirksamkeit dieser Sensibilisierungsmittel die Verwendung von weniger kostspieligen und nichltoxischen organischen Halogenverbindungen.
Um die Erfindung zu erläutern, wurden Lösungen hergestellt, die 102MoI an organischer Halogenverbindung und etwa 103MoI an Sensibilisierungsmittel in Aceton enthielten. 20 ml jeder Lösung wurden durch ein Filter belichtet, welches Licht miö Wellenlängen von mehr als 390 ma hindurchläßt, so daß nur das Sensibilisierungsmittel Licht absorbierte. Für die Belichtung wurde eine Mitteldruck-Quecksilberdampflampe verwendet, um 0,07 Watt cm2 einfallende Energie zu erzeugen. Nach der Belichtung wurden 2 m! jeder belichteten Lösung zu 1 ml einer Säure-Base-Indikatorlösung von 0,005 g 4-Phenylazoll-naphthylamin in 100 ml Isopropanol hinzugegeben. Die erhaltenen Lösungen wurden dann mit Isopropanol bis zu 10 ml verdünnt, und die sichtbaren Absorptionsspektren wurden gemessen. Der Logarithmus des Verhältnisses zweier erhaltener Peaks wurde als log A/B ermittelt, wobei A die Absorption bei 540 σιμ (Säureform) und B die Absorption bei 437 ηΐμ (Basenform) war. Dieser Wert wurde darin verwendet, um die Menge der erzeugten Säure zu bestimmen, und zwar durch Vergleich mit einer zuvor geeichten geradlinigen Kurvendarstellung von Säurekonzentrationen gegen log Ajß, die durch Zugabe bekannter Mengen an Säurelösung (p-Toluolsulfonsiiure) zur Farbstofflösung und Messung der Absorptionspcaks erhalten worden war. Der geradlinige Teil der Kurve liegt zwischen den Säurekonzentrationen 2 · 10-s und 9 · 10-' Mol, und die Belichtungszeit wurde so· eingestellt, daß Säurekonzentrationen in diesem ,'!..icich erzeugt wurden. Die Tabelle zeigt die E^bnisse, die mit den als Beispiele dienenden photolysierbaren organischen Halogenverbindungen und Sensibilisierungsmittein erhalten wurden. Im allgemeinen tritt die Sensibilisierung von photo'lysierbaren organischen Halogenverbindungen in flüssigen Lösungen ein, wenn die Konzentration an organischer Halogenverbindung mehr als etwa 1O2MoI beträgt. Diese sensibilisierten photolysierbaren organischen Halogenverbindungen können als flüssige Lösung in einem organischen Lösungsmittel, z. B. einer photoausbleichbaren Tinte, oder als feste Lösung in einem inerten organischen Bindemittel,
ίο ζ. B. als eine photoempfindliche Schicht in einem Kopierblatt, verwendet werden.
Das erfindungsgemäße lichtempfindliche Gemisch hat infolge der erhöhten Empfindlichkeit zahlreiche Anwendungsmöglichkeiten in einer Vielzahl von photographischen Materialien. Nachfolgend werden einige erläutert.
Wenn die anmeldungsgemäQen sensibilisierten lichtempfindlichen Gemische der Erfindung in Verbindung mit aromatischen Hydroxy- oder Amino-Reduktionsmitteln, welche zunächst als Tetrahydropyrane I-Derivate vorliegen, verwendet werden, wird durch die bei Belichtung erzeugte Säure eine Spaltung jener Derivate in die Hydroxy- oder Aminoverbindungen hervorgerufen, die ihrerseits Silber- oder andere
as Metallkomplexe tilter Erzeugung von sichtbaren Bildern zu reduzieren vermögen.
Wenn die anmeldungsgemäßen lichtempfindlichen Gemische zusätzlich Vinylether enthalten, verursacht die durch Belichtung erzeugte Säure eine kationische Polymerisation des äthvlenisch ungesättigten Monomers.
Wenn die anmeldungsgemäßen lichtempfindlichen Gemische zusätzlich Acrylester enthalten, verursachen die durch Belichtung erzeugten freien Radikale die radikalische Polymerisation de* äthylenisch ungesättigten Monomers. Durch Entwicklung mit einem Tonerpulver wird das Bild sichtbar gemacht, indem das Tonerpulver nur an den klebrig gebliebenen nicht polymerisieren Schichtteilen haftet.
4" Die nicht polymerisieren und unbelichteten Schichtteile können auf glattes Papier übertragen und dann mit Pulver entwickelt werden, wodurch eine Kopie des ursprünglichen Lichtbildes erzeugt wird. Das unpolyrnerisierte Monomer kann auch auf eine wasseraufnahmefähige Metalloberfläche übertragen und dann polymerisier! werden, um eine lithographische Platte zu erzeugen. Bei einer weiteren Anwendungsart wird die unter Lichteinwirkung erzeugte Säure verv.endet, um Farbstoffe auszubleichen, wobei sich ein Positiv oder Nicht-Umkehrkopien mit hoher Auflösung von transparenten graphischen Kopiervorlagen ergeben.
Zu den lichtempfindlichenA ufzeichnungsmaterialien, die erfindungsgemäß sensibilisiert werden können, gehören die in der USA.-Patentschrift 3 081 165 beschriebenen, wobei ihre Verwendung für xerogra· phische Bildaufzeichmingsverfahren, die als »Elektrochemographie« charakterisiert sind, erläutert wird. Bei diesen Verfahren wird ein elektrostatisches latentes Bild durch Belichtung einer elektrochemographisch empfindlichen Oberfläche oder Schicht gebildet, wobei ein leitfähiges latentes Bild erhalten wird, das zur Erzeugung eines elektrostatischen latenten Bildes durch selektive Auslöschung einer elektrostatischen Oberflächenaufladung geeignet ist, und zwar entweder nur einmal oder wiederholt, ohne daß aufeinanderfolgende Belichtungen mit einem optischen Bild erforderlich sind.
5 Konzentration Sensibilisierungsmittel Konzcnt, ation
des Sensibili-
sicriingsmittels
Wellenlünge 6 Säure-
konzcnlration
Phoio-
lysierbare
organische
Halogen-
MoI Mo! Belichtungszeit Mo!
verbindung 1,0 · ΙΟ"4 ohne _ Insgesamt 5,5 · 10-'
CBr6 7,0 · 10-2 ohne >39O ηιμ 120 Sekunden ohne Säure
QBr6 7,0 · 10-2 2-Äthyl-9,10-di- 7,0 · ΙΟ"2 >390 Γημ 10 Minuten 2,39 ■ 10-6
QBr6 methoxyanthracen 10 Sekunden
7,0 · 10-"- 2-Äthyl-9,10-di- 3,5 · 10-2 >390 ΐημ 6,97 · 10-5
C1Br6 methoxyanthracen 10 Sekunden
7,0 · 10-°- 2-Äthyl-9,10-di- 1,75 · ΙΟ"2 >39O πιμ 4,87 - 10 -6
CnBr6 . , methoxyanthi acen 10 Sekunden
7,0 · 10-" 2-Äthyl-9,10-di- 7,0 · 10-3 >39Οΐημ 3,56 ■ 10-5
C2Br6 methoxyanthracen 15 Sekunden
7,0 · 10-2 2-Ä thy 1-9,10-di- 2,8 · ΙΟ"3 >390πιμ 3,38 · 10-s
C1Br6 methoxyanthracen 30 Sekunden
Tetrabrom- 7,0 · ΙΟ"2 2-Äthyl-9,10-di <7,0· 10-3 >390ηιμ 5,64 · 10-6
c-.xylol .. methoxvanthracen 30 S. i.unden
Hexachlor- 7,0 · 10-2 2-Äthyl-9,iO-di- <7,0 · 10-3 >390ΐτιμ 2,03 · 10-6
p-xylol .. methoxyanthracen 165 Sekunden
Tetrabrom- 7,0 · 10-2 Perylen 7,0 · ΙΟ"3 > 390 Γημ 4,0 · 10-6
o-xylol .. (gesättigt) 10 Sekunden
Tetrabrom- 7,0 · 10-2 Tetracen 7,0 · ΙΟ"3 >390 ΐημ 3,84 · 10-6
o-xylol .. (gesättigt) 90 Sekunden
Tetrabrom- 7,0· 10-2 Benzonaphtho- 7,0 · ΙΟ"3 > 390 ηιμ 2,06 · ΙΟ"6
o-xylol .. naphthacen (gesättigt) 30 Sekunden
Tetrabrom- 7,0 · 10-2 Dibenzpyren 7,0 · ΙΟ"3 >390 πιμ 3,2 · 10-5
o-xylol .. (1,2,4,5) (gesättigt) 30 Sekunden
7,0 ■ 10-2 Rubren 7,0 · 10-3 > 390 Γημ 7,1 · ΙΟ"6
C2Br6 7,0 · 10-2 Coronen (gesättigt)
7,0 -10-3
(gesättigt)
7,0 · ΙΟ-3
>390 mμ 8 Sekunden 1,6 · 10-6
C2Br6 7,0 · 10-» Perylen (gesättigt) >390 πιμ 20 Sekunden 8,0 -ΙΟ"6
CHBr3 .... 10 Sekunden
Die folgenden Beispiele erläutern die Verwendung der gemäß der Erfindung sensibilisierten lichtempfindlichen Gemische.
Beispiel 1
Die folgende Lösung wurde zubereitet:
1,0 g Vinyloxyäthyläther von /3-Naphthol,
0,5 g Celluloseacetatbutyrat,
0,075 g Hexabromäthan,
50 mi Methyläthylketon.
55
In 4,0 ml der obigen Lösung wurden 0,003 g 2-Äthyl-9,10-dimethoxyanthracen gelöst. Diese Lösung wurde durch Messerauftrag bei einer Messereinstellung von 0,0508 mm auf einen Polyesterschichtträger aufgetragen. Eine Probe des getrockneten Aufzeichnungsmaterials wurde 2 Sekunden lang durch ein geeignetes Durchsichtbild hindurch mit einer Wolframlampe belichtet, die IiOOO Fußkerzen einfaltende Lichtenergie lieferte. Die belichtete Probe wurde dann gegen ein Blatt von gewöhnlichem Papier gelegt und 5 Sekunden lang auf 95° C erhitzt. Das Papier wurde mit
einem harzbeschichteten gefärbten Toner behandelt, welcher selektiv an denjenigen Bereichen des Papiers haftete, die den unbelichteten Anteilen des Originals entsprachen. Das Erhitzen verursachte das Schmelzen des farbiger. Tonerpulvers, wobei eine positive Kopie des Originals erhalten wurde.
Beispiel 2
Die folgende Lösung wurde zubereitet;
32 g einer 5P/Oigen Lösung von CeIIu loseäthyl-
äther in Aceton,
0,3 % Tetrabromdichloräthan,
0,1 g Rose Bengal N (Color Index Nr. 45440), 0,02 g Perylen.
Die obige Lösung wurde durch Messerauftrag bei einer Messereinstellung von 0,1016 mm auf einen Polyestersrhichtträger aufgetragen. Eine 50 Sekunden lange Belichtung durch ein positives Durchsichtbild mit Wolframlicht von 15 000 Fußkerzen einfallender Lichtenergie verursachte die vollständige Ausbleichung des roten Farbstoffes Rose Bengal Nv wobei eine pcsitive Kopie des ursprünglichen Durchsichtbildes erhalten wurde.
Das freigesetzte 4-Methoxy-l-naphthol verursache
Beispiel 3 die selektive Reduktion des Silberbehenats in der
belichteten Bereichen, wobei eine dichte Schwarzweiß· Die folgende Lösung wurde zubereitet: Negativkopie der Kopiervorlage erhalten wurde.
3.0g einer 5n/oigen Lösung von Cellulose- Beispiel 4
acetatbutyrat in Aceton, Die folgende Lösung wurde zubereitet:
0.01 g Hexabromäthan, ,_, , .... ... _ . ', .
0 00*5 β Pervlen I0 ml emer 2/o'8en Losung von Polymethyl-
0,02 g8 l-U-Tet'rahydropyranyloxyH-melhoxy- 10 *??*[ <MW etwa 100000> in MetMen·
naphthalin. „, florid,. .. u
0,1 g Hexabromäthan,
„. , .. . . , .. , .·. 0,1 g 2-Methyl-9,10-dimethoxyanthraccn.
Die Losung wurde mittels Messerauftrag bei einer
Messereinstellung" von 0,0762 mm auf einen Polyester- Diese Lösung wurde durch Messerauftrag (0,0762mm
schichtträger aufgetragen. Eine Probe des getrockneten 15 feuchte Schichtdicke) auf eine leitfähige Unterlage,
Aufzeichnungsmaterials wurde nur 1 Sekunde lang z. B. einen durch Dampfbeschichtung mit Aluminium
durch ein photographisches Negativ mit Wolframlicht überzogenen Polyesterschichtträger, aufgetragen. Eine
belichtet, das 1000 Fußkerzen einfallende Lichtenergie Probe des getrockneten Aufzeichnungsmaterial wurde
lieferte. mit einer negativen elektrischen Oberflächenaufladung
Die belichtete Probe wurde dann auf etwa 1000C ao versehen, und zwar in Abwesenheit von Licht mittels
erhitzt, während sie sich in Berührung mit einem Bild- einer negativen Coronaentladung von 600 Volt,
cnipfangsblatt befand, das eine Schicht folgender Die aufgeladene Probe wurde dann durch eine trans-
Zusammcnsetzung enthielt: parente Vorlage mit 100 Fußkerzen einfallendem
Wolframlicht 15 Sekunden lang belichtet und in ein
Gewichtsteile 25 elektrostatisches flüssiges Standard-Entwicklerbad cin-
Silberbehenat 12,6 gebracht. Das Tonerpulver in dem Entwickler wurde
Phthalazinon-Toner 5,2 in den unbelichteten Bereichen abgeschieden, wobei
2,6-Di-tcrt.-butyl-4-methyIphenol ... 2,2 eine positive Kopie des Originals erhalten wurde.
Polyvinylbutyral-Bindemittel 19,8 Dieses Beispiel erläutert die Anwendung der er-
Zinkoxid-Puher 50,0 30 findurg^gemäGen sensibilisierten Massen in einem BiId-
Polyterpenharz 10,0 aufzeichnungsmedium für die Elektrochemographie.

Claims (3)

1 2 Patentansprüche· besitzen nur ein begrenztes Lichtabsorptionsvermögen und sensibilisieren die organische Halogenverbindung
1. Lichtempfindliches Gemisch, das eine photo- nicht wirksam genug.
lysierbare organische Halogenverbindung enthält Lichtempfindliche Gemische, die eine photolysmr- und frei von Leukofarhstoffen oder N-Vinyl- S bare organische Halogenverbindung und eine Acenverbindungen ist, dadurch gekennzeich- Verbindung als Sensibilisator enthalten, sind aus der net, daß es als Sensibilisierungsmittel mindestens deutschen Patentschrift 1 135 755 bekannt. Die lichteine gefärbte Acenverbinaiing aufweist, die ein empfindlichen Gemische der deutschen Patentschrift lonisierungspotential unterhalb 7,4 besitzt und 1 135 755 sollen Leukoverbindungen von Farbstoffen im Dunkeln unter Normalbedingungen nicht mit io enthalten und stellen Materialien dar, welche gegender organischen Halogenverbindung umsetzbar ist. über sichtbarem Licht unempfindlich sind. Gemäß
2. Lichtempfindliches Gemisch nach Anspruch 1, einem Vorschlag der deutschen Offenlegungsschrift dadurch gekennzeichnet, daß es eine radikalisch 1547 951 enthalten solche lichtempfindlichen Gepolymerisierbare oder eine durch Säure poly- mische N-Vinylmonomere.
merisierbare monomere Verbindung enthält. 15 Aufgabe der Erfindung war die Entwicklung eines
3. Lichtempfindliches Gemisch nach Anspruch 1, neuartigen, gegenüber sichtbarem Licht lichtempfinddadurch gekennzeichnet, daß das molare Ver- liehen Gemisches, welches lichtempfindliche photolybäknis \on Sensibilisierungsmittel zu organischer sierbare organische Halogenverbindungen und Sensi-Halogenverbindung 1: 20 bis 2: 1 beträgt. bilisierungsmittel enthält, die die Nachteile der für
20 derartige Gemische bekannten Sensibilisierungsmittel
. nicht aufweisen, die insbesondere eine bessere Stabilität
in der lichtempfindlichen Schicht aufweisen und so zu
Die Erfindung betrifft ein lichtempfindliches Ge- besser lagerfähigen Aufzeichnungsmaterialien führen,
misch, das eine photolysierbare organische Halogen- Der Gegenstand der Erfindung geht aus von einem
verbindung enthält und frei von Leukofarbstoffen 25 lichtempfindlichen Gemisch, das eine photolysierbare
odtr N-Vinylverbindungen ist. organische Halogenverbindung enthält und frei von
Photolysierbare organische Halogenverbindungen Leukofarbstoffen oder N-Vinylverbindungen ist. Diefinden in vielen photographischen Schichten, ins- ses Gemisch ist dadurch gekennzeichnet, daß es als besondere solchen für die Reproduktionsgraphik, Sensibilisierungsmittel mindestens eine gefärbte Acenverbreitete Anwendung als Photoinitiatoren, die freie 30 verbindung aufweist, die ein lonisierungspotential Radikale ,'tefern. Derartige Schichten enthalten bei- unter 7,4 besitzt und im Dunkeln unter Normalspielsweise photographische Auskopier- und Bleich- bedingungen nicht mit der organischen Halogensysteme. Photolysierbare organische Halogenverbin- verbindung umsetzbar ist.
düngen können bekanntlich durch Lichteinwirkung Diese Sensibilisierungsmittel sind im Dunkeln unter unter Abgabe freier Halogenradikale, z. B. freier 35 Umgebungsbedingungen nicht mit den organ:schen Brom- oder Chlorradikale, dissoziieren, welche Was- Halogenverbindungen umsetzbar, d. h., sie sind in serstoff entziehen und in Gegenwart von Wasserstoff- photographischen Schichten, die photolytische HaIodonatoren Säuren bilden. Ihre Verwendung bei Photo- genverbinclungen enthalten, während eines Zeitpolymerisationsverfahren wird in »Light Sensitive raumes von mindestens 3 Monaten, vorzugsweise Systems: Chemistry and Application of Nonsilver 40 mindestens 6 Monaten, unter Normalbedingungen im Halide Photographic Processes«' von J. Kosar, Dunkeln stabil. Sie sind z.B. vorzugsweise frei von J. Wiley & Sons (New York 1965), beschrieben. Die Amingruppen, die sich mit Halogenverbindungen in Verwendung von Sensibilisierungsmitteln zur Er- Abwesenheit von Licht umsetzen würden.
Weiterung der spektralen Ansprechbarkeit dieser Beispiele für aromatische polycyclisch^ Verbinphotolysierbaren organischen Halogenverbindungen ist 45 düngen, die die vorstehenden Kriterien erfüllen, sind: ebenfalls bekannt. Gelbe Azofarbstoffe, Styryl- und Perylen: Rubren, 2-Äthyi-9,10-di-metho*yanthraeen; Leukofarbstoffbasen sowie Cyaninfarbstoffe sind für Tetraphenylpyren; Tetracen; Pentacen; Coronen; diesen Zweck geeignet. Die Beständigkeit vieler dieser Benzo-5 pyren; Benzo-\-naphihonaphthacen; Diben-Sensibilisierungsmittel wirft jedoch unter normalen zochrysen; Benzopentaphen; Rubisen; Benzoperylen; Lagerungsbedingungen vor der Benutzung des licht- 50 Trirnethylazulen; Decacyclen; Diphenylanthracen.
empfindlichen Aufzeichnungsmaterials Probleme auf. Die erfindungsgemäß bevorzugten Sensibilisierungs-Viele Sensibilisierungsmitte! enthalten eine basische mittel sind nichtpolymere, gefärbte Verbindungen.
Gruppe, z. B. eine Dimethylaminogruppe, die mit der Der hier verwendete Begriff »lonisierungspotential« organischen Halogenverbindung reagiert, was zu wird von Morton E. W a c k s in dem Aufsatz »Electron einer Herabsetzung oder dem Verlust der Licht- 55 Impact Studies of Aromatic Hydrocarbons« in The empfindlichkeit führt, z.B. durch vorzeitige Säure- Journal of Chemical Physics, Bd. 41, 6 (1964), S. 1661 bildung. Andere Sensibilisierungsmitte!, wie z. B. die bis 1666, in dem auch erfindungsgemäß gebrauchten Cyaninfarbstoffe, sind Salze von starken Säuren und Sinn erläutert. Eine Erläuterung der Techniken zur schwachen Basen, welche sich auf Grund ihres sauren Bestimmung des Ionisierungspotentials findet sich in Charakters mit säureempfindlichen Komponenten in 60 dem Aufsatz von F. A. M a t s e n, »Electron Affinities, dem lichtempfindlichen System während der Lagerung Methyl Affinities and Ionization Energies of Conumsetzen. Da Farbstoffe in der Salzform im all- densed Ring Aromatic Hydrocarbons« in The Journal gemeinen in organischen Lösungsmitteln unlöslich of Chemical Physics, Bd. 24, 3 (1956), S. 602 bis 606, sind, ist ihre Verarbeitung und die Auftragung schwie- worauf auch M. E. W a c k s in der angeführten Verrig, kompliziert und teuer. Leukofarbstoff basen be- 65 öffentlichung Bezug nimmt.
sitzen nicht nur basischen Charakter, sondern sind Photolysierbare organische Halogenverbindungen, auch sauerstoffempfindlich und da.Vr schwierig zu die unter Lichteinwirkung freie: Halogenradikale freireinigen und zu lagern. Die gelben Azoverbindungen zusetzen vermögen, sind bekannt. Die bevorzugten
DE1917543*A 1968-04-10 1969-03-31 Lichtempfindliches Gemisch Expired DE1917543C3 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US72037768A 1968-04-10 1968-04-10

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DE1917543A1 DE1917543A1 (de) 1969-10-23
DE1917543B2 DE1917543B2 (de) 1973-06-28
DE1917543C3 true DE1917543C3 (de) 1974-01-24

Family

ID=24893797

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE1917543*A Expired DE1917543C3 (de) 1968-04-10 1969-03-31 Lichtempfindliches Gemisch

Country Status (7)

Country Link
US (1) US3640718A (de)
JP (1) JPS4936260B1 (de)
CH (1) CH514156A (de)
DE (1) DE1917543C3 (de)
FR (1) FR2007425A1 (de)
GB (1) GB1261938A (de)
NL (1) NL6904928A (de)

Families Citing this family (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3905815A (en) * 1971-12-17 1975-09-16 Minnesota Mining & Mfg Photopolymerizable sheet material with diazo resin layer
US3935012A (en) * 1973-07-12 1976-01-27 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photosensitive sheet materials
US4069054A (en) * 1975-09-02 1978-01-17 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photopolymerizable composition containing a sensitized aromatic sulfonium compound and a cationacally polymerizable monomer
JPS5495687A (en) * 1978-01-11 1979-07-28 Fuji Photo Film Co Ltd Photopolymerizable composition
JPS6053300B2 (ja) * 1978-08-29 1985-11-25 富士写真フイルム株式会社 感光性樹脂組成物
US4460677A (en) * 1981-03-26 1984-07-17 Minnesota Mining And Manufacturing Company Visible light sensitive, thermally developable imaging systems
US4515886A (en) * 1983-02-16 1985-05-07 Toyo Soda Manufacturing Co., Ltd. Photosensitive compositions
US4698286A (en) * 1985-06-03 1987-10-06 Hercules Incorporated Plasma developable photoresist compositions containing perylene coumarin photosensitizer
CA1315591C (en) * 1986-02-20 1993-04-06 Takeshi Ishitsuka Visible ray-recording hologram material
US5187045A (en) * 1988-09-07 1993-02-16 Minnesota Mining And Manufacturing Company Halomethyl-1,3,5-triazines containing a sensitizer moiety
US4985562A (en) * 1988-09-07 1991-01-15 Minnesota Mining And Manufacturing Company Halomethyl-1,3,5-triazines containing an amine-containing moiety
US5034526A (en) * 1988-09-07 1991-07-23 Minnesota Mining And Manufacturing Company Halomethyl-1,3,5-triazines containing a sensitizer moiety
US5153323A (en) * 1988-09-07 1992-10-06 Minnesota Mining And Manufacturing Company Halomethyl-1,3,5-triazines containing a photoinitiator moiety
US5387682A (en) * 1988-09-07 1995-02-07 Minnesota Mining And Manufacturing Company Halomethyl-1,3,5-triazines containing a monomeric moiety
US5116977A (en) * 1988-09-07 1992-05-26 Minnesota Mining And Manufacturing Company Halomethyl-1,3,5-triazines containing an amine-containing moiety
US5011762A (en) * 1990-08-14 1991-04-30 Industrial Technology Research Institute Photosensitive compositions having enhanced photopolymerization rate
US5422204A (en) * 1991-07-19 1995-06-06 Canon Kabushiki Kaisha Photo-crosslinkable resin composition and hologram recording medium
US5374501A (en) * 1992-08-17 1994-12-20 Minnesota Mining And Manufacturing Company Alkali soluble photopolymer in color proofing constructions
US5460918A (en) * 1994-10-11 1995-10-24 Minnesota Mining And Manufacturing Company Thermal transfer donor and receptor with silicated surface for lithographic printing applications
US5856373A (en) * 1994-10-31 1999-01-05 Minnesota Mining And Manufacturing Company Dental visible light curable epoxy system with enhanced depth of cure
US5707780A (en) 1995-06-07 1998-01-13 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photohardenable epoxy composition
TW439016B (en) * 1996-09-20 2001-06-07 Sumitomo Chemical Co Positive resist composition
US5847133A (en) * 1997-05-23 1998-12-08 Minnesota Mining And Manufacturing Company Ionic halomethyl-1,3,5-triazine photoinitiators
US6010821A (en) 1997-05-23 2000-01-04 Minnesota Mining And Manufacturing Company Aqueous developable color proofing elements
US6930134B2 (en) * 2002-11-12 2005-08-16 Tokuyama Corporation Photocationic polymerization initiator and photocationically polymerizable composition
WO2004059389A2 (en) * 2002-12-23 2004-07-15 Aprilis, Inc. Sensitizer dyes for photoacid generating systems
KR20170008735A (ko) * 2014-05-08 2017-01-24 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 리소그래피용 막형성재료, 리소그래피용 막형성용 조성물, 리소그래피용 막, 패턴 형성방법 및 정제방법
KR20170005413A (ko) * 2014-05-08 2017-01-13 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 레지스트재료, 레지스트 조성물 및 레지스트 패턴형성방법
CN106462073B (zh) * 2014-05-21 2019-11-29 Az电子材料(卢森堡)有限公司 上层膜形成用组合物以及使用了其的抗蚀图案形成方法

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3526506A (en) * 1966-06-13 1970-09-01 Minnesota Mining & Mfg Heat reactive,light desensitizing compositions

Also Published As

Publication number Publication date
GB1261938A (en) 1972-01-26
CH514156A (de) 1971-10-15
US3640718A (en) 1972-02-08
FR2007425A1 (de) 1970-01-09
NL6904928A (de) 1969-10-14
DE1917543A1 (de) 1969-10-23
DE1917543B2 (de) 1973-06-28
JPS4936260B1 (de) 1974-09-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE1917543C3 (de) Lichtempfindliches Gemisch
US3595657A (en) Non-silver direct positive dye bleachout system using indigoid dyes and colorless activators
US3729313A (en) Novel photosensitive systems comprising diaryliodonium compounds and their use
DE1572136B1 (de) Fotopolymerisierbares Gemisch
DE1111935B (de) Elektrisch isolierende, photoleitfaehige Schichten fuer elektrophotographische Zwecke
US2305693A (en) Process of making photographs
DE2125457A1 (de) Photopolymerisierbare Kunststoffmasse
US3736139A (en) Heat and light stabilization of photosensitive elements containing poly-halogenated hydrocarbons,n-vinylcarbazoles and difurfurylidene pentaerythritols
DE3340210T1 (de) Lichtempfindliches Bildwiedergabematerial
US2324060A (en) Photographic copying paper
DE1597623C3 (de) Verfahren zur Herstellung eines Bildes
DE1572046A1 (de) Negativ arbeitendes Kopiermaterial
DE1597869C3 (de) Elektrophotographisches Verfahren
US3628954A (en) Diazo material and visible light development process therefore
US3615565A (en) Photosensitive article and method of using same incorporating leuco dye precursors and quinone activators
US3582342A (en) Light-sensitive photographic materials
US2162456A (en) Photographic printing material
US3697272A (en) Process for making non-silver free radical film images visible
US3902903A (en) Carbonyl bisulfite adducts as fixers for halogen liberating free radical systems
DE2059540C3 (de) Elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial mit einer photoleitfähigen Schicht
DE1282446B (de) Photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial
DE4135004A1 (de) Positiv arbeitendes, lichtempfindliches elektrostatisches original mit verbessertem spielraum bei umwelteinfluessen
US3563738A (en) Copying process and materials
US3615446A (en) Photographic copy medium comprising a semiconductor layer with a photopolymerizable layer thereover
DE1813843A1 (de) Photoempfindliches Praeparat und photographisches Verfahren

Legal Events

Date Code Title Description
C3 Grant after two publication steps (3rd publication)
E77 Valid patent as to the heymanns-index 1977