DE1811863A1 - Verfahren und Vorrichtung zur Gleichverteilung einer aufgetragenen Beschichtung durch Schleudern - Google Patents

Verfahren und Vorrichtung zur Gleichverteilung einer aufgetragenen Beschichtung durch Schleudern

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DE1811863A1
DE1811863A1 DE19681811863 DE1811863A DE1811863A1 DE 1811863 A1 DE1811863 A1 DE 1811863A1 DE 19681811863 DE19681811863 DE 19681811863 DE 1811863 A DE1811863 A DE 1811863A DE 1811863 A1 DE1811863 A1 DE 1811863A1
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DE19681811863
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Politycki Dr Alfred
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Siemens AG
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D1/00Processes for applying liquids or other fluent materials
    • B05D1/002Processes for applying liquids or other fluent materials the substrate being rotated
    • B05D1/005Spin coating
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16Coating processes; Apparatus therefor
    • G03F7/162Coating on a rotating support, e.g. using a whirler or a spinner

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Description

  • Verfahren und Vorrichtung zur Gleichverteilung einer aufgetragenen Beschichtung durch Schleudern Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur gleichmäßigen Beschichtung einer Platte mit einem Material, das in noch fließfähigen Zustand auf die Platte aufgebracht, anschlie-Bend durch Schleudern auf der Platte weitgehend gleichmäßig dünn verteilt und verfestigt wird, sowie eine Vorrichtung zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens.
  • Es ist an sich bekannt für Potoätzverfahren zu verwendende Platten mit einen lichtempfindlichen Kopierlack zu beschichten.
  • Er kann durch Aufsprühen, Aufgießen oder Tauchbehandlung aufgebracht werden. Zur möglichst gleichmäßigen Verteilung des Kopierlackes auf der Platte ist es meist üblich, einen Schleuderprozeß bei gleichzeitigen Trocknen des Kopierlackes anzuwenden. Man erhalt auf diese preise innerhalb von Wenigen Minuten eine trockene, mit Kopierlack beschichtete Fotoätzplatte. Bei den bekannten Verfahren bzw. in Arbeitsanweisungen zu bekannten, hierfür vorgesehenen Schleudervorrichtungen wird ausdrücklich darauf hingewiesen, daß während des Schleukerns eine Trocknung der Schicht unter Verwendung von z.B.
  • Infrarotlampen durchgeführt werden soll bzw. daß es sehr wichtig wäre, daß die Schleuder eine genügend große Öffnung besitzt, durch die dieåenigen Lösungsmitteldämpfe entweichen können, die während des Schleuderns aus der Schicht verdampfen.
  • Es wird weiter darauf hingewiesen', daß sich andernfalls ein für den Trocknungsprozeß zu großer Anteil von Lösungsmitteldampf in der Schleuder ansammeln würde.
  • Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren anzugeben, mit dem Platten, insbescndere bis an ihren Rand extrem gleichmä-Big dünn beschichtet werden können.
  • Diese Aufgabe wird durch ein, wie oben angedeutetes Verfahren gelöst, das erfindungsgemäß dadurch- gekennzeichnet ist, daß der Verfestigungs- Lnsbesonderc Trocknungsprozeß zunächst derart verzögert wird, daß das Materialwshrend des Schleuderns bis zur Erreichung einer insbesondere bis an den Rand der Platte hin gleichmaßig dünnschichtigen Verteilung in noch leicht-fließfähigem Zustand verbleibt, und erst dann die Verfestigung vorgenommen, insbesondere das Material getrocknet wird.
  • Das in fließfähigem Zustand aufgebrachte und anschließend in festen Zustand übergeführte Material ist vorzugsweise ein Lack oder eine lackartige Substanz. Die Fließfähigkeit beruht insbesondere auf einem in der Substanz enthaltenen verdampfbaren Lösungsmittel. Das Material kann aber auch so beschaffen sein, daß es durch Ausharten, z.B. durch Ketten- oder Netzbildung (Polymerisation, -kondensation usw.) in festen Zustand übergeht. "Leicht-fließfähig" soll einen vorliegenden Zustand des Materials beschreiben, in dem unter Einwirkung der Fliehkrafte des Schleudervorganges für den Anwendungsfall noch ausreichende Materialverteilung auf der Platte gewährleistet ist.
  • Gemäß einer Weiterbildung der Erfindung ist vorgesehen, daß nach Erreichung der Verteilung und bei noch leicht-fließfähigern Zustand des Itaterials der Schleudervorgang beendet und die Platte noch eine zeitlang in im wesentlichen waagrechter stellung in Ruhe gehalten wird, danit durch Zurückfließen des Materials zur Mitte der Platte hin ein-noch weitergehender Ausgleich der Verteilung vor sich geht. und erst dann der Verfestigungsprozeß eingeleitet wird.
  • Mit "weiterer Ausgleich" ist die Einstellung des Gleichgewichtes der Verteilung des Materials im Ruhezustand angesprechen, das sich von den herrschenden Gleichgewicht während des Schleudervorganges aufgrund des Wegfalis der.Fliehkräfte erheblich, bezogen auf extrem gleichmäßige Verteilung, unterscheidet.
  • Zu der Erfindung führten die fo-lgenden Überlegungen: Mit den an sich bekannten Vorrichtungen zum Schleudern von beschichteten Platten bzw. nach den für diese Einrichtungen vorgesehenen Arbeitsarnieisungen oder anderweitig beschriebenen einschlägigen Verfahren war es insbesondere nicht möglich, eine auch im Bereich des Randes der Platte gleichmäßige Beschichtung zu erreichen. Bei niedrigeren Drehzahlen ergab sich stets eine Verdickung der Schicht in Bereich des Randes, die auf die am Randc der Platte auf die Schicht wirkenden Haftkräfte zurückzuführen ist. Solche Stauwulste ergeben sich überall dort, wo die zu beschichtende Platte eine Profilierung aufweist, z.B. an Stufen und Löchern. Wenn statt der ebenen Platten schließlich Folien beschichtet erden sollen, die in einen Profilrahmen eingespannt sind, läßt sich auf diese Weise keine ausreichende Gleichmäßigkeit in der Schichtdicke erzielen. Höhere Umdrehungsgeschv/indigkeiten brachten keinen Erfolg, sondern führten lediglich zu insbesondere in radialer Richtung ungleichmäßiger Schichtdicke.
  • Die bei niedrigen drehzahlen auftretende Verdickung der Beschichtung wurde bisher dadurch eliminiert, daß man diese Flächenteile der Platte von der vorgesehenen Benutzung ausschloß. Insbesendere bei Speicherplatten, d.h. bei Platten, die für elektrische Speicher, insbesondere für ferromagnetische Speicher, verwendet werden und die mit einem durch Ätzen hergestellten, bis zum Rande sich erstreckenden System von Leitungsbahnen bedeckt sein sollen, kommt es entscheidend darauf än, daß diese Platten zuvor bis zum äußersten Rand gleichmäßig mit den fotoempfindlichen Material beschichtet waren. Eine wulstförmige Verdickung dor Schicht an Rande der Platte führt insbesondere dazu, daß die abdeckende Maske nicht dicht auflIegt und ein scharfer Schattenwurf beim Beliehtungsprozeß dort ausbleibt. Schmale Stege werden dann unter Umstanden segar völlig unterstrahlt. Nach dem ätzen stellt man dann Kurzschlüsse bzw. Unterbrechungen in den Leiterbahnen fester die erreichbare Feinheit und Genauigkeit des zu ätzenden Beiterbahnmusters ist die Gleichmaßigkeit der Fotolackschicht daher maßgebend.
  • Die angedeuteten Schwierigkeiten ergaben sich insbesondere bei größeren Platten; s.B. mit 200.x 400mm Fläche, die mit bis zum Rande durchgehenden Leiterbahnen zu versehen waren.
  • Insbesondere für die genannten Verwendungszecke führt das erfindungsgemäße Verfahren sowie deren Weiterbildung voll zum Erfolg. Die Herauszögerung oder zeitweise Behinderung des Verfestigungsprozesses des Schichtmaterials ermöglicht es, während des Schleuderns und gegebenenfalls auch nach dem Schleudern eine zufriedenstellende gleichmäßige Verteilung desselben zu erreichen. Die jeweils geeignete Winkelgeschwindigkeit des Schleuderns kann insbesondere auch durch einfachen Versuch ausgewählt werden.
  • imine bevorzugte Ausführungsform einer Vorrichtung zur Durch fL:hrung des erfindungsgemäßen Verfahrens zeigt die Figur.
  • Darin ist 1 ein kreisrund-wannenförmiger Körper, der mittels einer vorzugsweise durchsichtigen Scheibe zugedeekt ist. Mit 3 sind-Spannverrichtungen für den Deckel und mit 4 eine zwischen 1 und 2 einzufugende Dichtung bezeichnet. Die beschichtete und zu schleudernde Platte, deren orm nichtnotwendigerweise kreisrund sein muß, ist mit 5 bezeichnet. Sie ruht in einer Plattenaufnahme, in der sie vorzugsweise durch stiftförmige Vorsprünge gegen ein Verschieben sicher gehaltert ist.
  • Bei V-ornahme des SchLudervorganges wird die Anordnung, bestehend aus den Teilen 1 bis 6 in rasche Drehung um die Achse 7 versetzt Vorzugsweise ist ein, die Anordnung 1 bis 6, bzw. 1 bis 79 umgebendes Schutzgehäuse 8 vorgesehen, das vorteilhafter weise ebenfalls einen verschließbaren Deckel aufweist.
  • Durch den dichten Abschluß der Platte 5 gegenüber der Außenurgetung, insbescndere bei Verzicht auf Wärmezufuhr ist es möglich, den leicht-fließfähigen Zustand des auf der Platte 5 aufgetragenen I.aterials für den erfindungsgemäßen Zweck aus reichend lange aufrecht zu erhalten, und zwar vorzugsweise in den Fallen, in denen dieser Zustand von der Verdampfungsrate einer Kompcnente des aufgetragenen Materials abhängt.
  • Bei Verwendung der oben beachriebenen Vorrichtung lassen sich extrem dünne Lackschichten erzielen, was in vielen Anwendungsfüllen vorteilhaft ist. Werden dickere Schichten benötigt, sind. Fotolacke entsprechend erhöhter Viskosität zu verwenden.
  • Das Verfahren läßt sich auch ganz allgemein mit Vorteil einsetzten, nanlich dort, wo es darauf ankommt, größere Platten oder auch beliebig geformte Teile mit einer gleichmäßig ausgebildeten Schicht, z.B. Schutz- oder Isolationsschicht zu versehen, deren Material sich in flüssiger, z.B.
  • gelöster Form auftragen läßt.
  • 5 Patentansprüche 1 Figur

Claims (5)

  1. P a t e n t a n s p r ü c h e 1. Verfahren zur gleichmäßigen Beschichtung einer Platte mit einen Material, das in noch fließfähigem Zustand auf die Platte aufgebracht, anschließend durch Schleudern auf der Platte verteilt und verfestigt wird., dadurch gekennzeichnet, daß der Verfestigungsprozeß zunächst derart verzögert wird, daß das Material während des Schleuderns bis zur Erreichung einer insbesondere bis an den Rand der Platte hin gleichmäßig dünnachichtigen Verteilung in noch leicht flicßfähigem Zustand verbleibt, und erst dann verfestigt, insbcsondere getrocknet wird.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß nach Erreichung der Verteilung und bei noch leicht-fließfähigem Zustand des IIaterials der Schleudervorgang beendet und die Platte noch eine zeitlang in im wesentlichen waagrechter Stellung in Ruhe gehalten wird, damit durch Zurückfließen des Materials zur Mitte der Platte hin ein noch weitergehender Ausgleich der Verteilung ver sich geht, und erst dann der eigentliche Verfestigungsprozeß eingeleitet wird.
  3. 3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß als leicht-fließfähiges Material ein solches verwendet wird, das durch ein verdampfbares Lösungsmittel leicht fließfähig gemacht ist
  4. 4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß anstelle von Platten beliebig geformte Beile mit einer sehr dünnen Schicht überzogen werden.
  5. 5. Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß eine an sich bekannte Schleuder vorgesehen ist, deren Schleuderraum derart dampfdicht abschließbar ist, daß eine Wegdiffusion aus dem Material abdampfenden Lösungsmittels des Materials unterbunden ist.
DE19681811863 1968-11-29 1968-11-29 Verfahren und Vorrichtung zur Gleichverteilung einer aufgetragenen Beschichtung durch Schleudern Pending DE1811863A1 (de)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0363235A1 (de) * 1988-09-15 1990-04-11 Karl Suss Technique Verfahren und Vorrichtung zur gleichmässigen Beschichtung eines Substrats mit einer Photolackschicht

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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EP0363235A1 (de) * 1988-09-15 1990-04-11 Karl Suss Technique Verfahren und Vorrichtung zur gleichmässigen Beschichtung eines Substrats mit einer Photolackschicht

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