DE1747113U - Kuehleinrichtung fuer halbleiteranordnungen. - Google Patents

Kuehleinrichtung fuer halbleiteranordnungen.

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DE1747113U
DE1747113U DE1954S0014723 DES0014723U DE1747113U DE 1747113 U DE1747113 U DE 1747113U DE 1954S0014723 DE1954S0014723 DE 1954S0014723 DE S0014723 U DES0014723 U DE S0014723U DE 1747113 U DE1747113 U DE 1747113U
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coolant
cooling
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liquid
cooled
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Siemens Schuckertwerke AG
Siemens AG
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Siemens Schuckertwerke AG
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Description

  • , < *-
    J@'inrichtung für Halbleiteranordnungen-mit"
    pn=h'a---z-
    rkc eE =
    Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf Halbleiteranordnungen
    mit p-n-Charakter, wie sie z. B. als Flächengleichrichter oder Transistoren benutzt werden. Ihr liegt die Erkenntnis zu Grunde, daß sich bei solchen Halbleiteranordnungen für die Sperrichtung bevorzugt am Rande der p-n-Schicht relativ hohe Stromdichten und somit relativ hohe elektrische Verlustleistungsdichteh, verbunden mit entsprechenden Erwärmungen ; ergeben, die bevorzugt als punktförmige Erhitzung in Erscheinung'treten können. Diese Erscheinungen haben ihre Begründung in den Störgebieten, die in den Randzonen einer solchen p-n-Schicht vorliegen. Diese Verlustleistungsdichten führen zu einer erhöhten Erwärmung und wegen des negativen Temperaturkoeffizienten des Sperrwiderstandes der p-n-Schicht zu einer immer weiter ansteigenden Erwärmung an diesen Stellen. Auf diese Weise können, ausgehend von der Randzone der p-n-Schicht, durch die anwachsende temperaturmäßige Beanspruchung unerwünschte Schäden für die gesamte Anordnung entstehen.
  • Die entstandene Wärmemenge kann meist nicht in'genügend wirksamer Weise von den nahezu punktförmigen Wärmequellen abgeführt werden, Neue Seite 2 der Beschreibung denn der Ausbreitungswiderstand von der punktförmigen Warmequelle behindert stark die Wärmeleitung von diesen Stellen der Randzone der p-n-Schicht zum Inneren des Halbleiters.
  • Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Kühleinrichtung für Halblkiteranordnungen mit p-n-Charakter mit Verwendung eine. umlaufenden flüssigen Kühlmittels, bei der diese Nachteile vermieden Rind. Die Erfindung besteht darin, daß im Kühlmittelbehälter zur Lenkung des Kühlmittelumlaufes Zwischenwände engeordnet sind, die derart wirken, daß vorwiegend die Randzonen d@@ p-n-Schicht vom Kühlmittel bespült werden. Das hierbei benutzte Kühlmittel soll sich vorzugsweise durch eine möglichst große spezifische Wärme auszeichnen, um schnell und wirksam möglichst große Wärmemengen von den zu kühlenden thermisch gefährdeten Punkten bzw. Stellen der Randzone der p-n-Schicht abführen zu können. Bei einer örtlich starken Erhitzung wird weich auge Weise gegebenenfalls eine Dampfbildung aus dem flüssigen Kühlmittel ergeben, was unter dem Gesichtspunkt der dabei verbrau@@@@@
    'aapfungswärmG o\n wirksame Kühlung bedeutet. Damit die
    'wirksame Kühlung stets gewährleistet ist, wird die Anordnung
    voramewoisa derart getroffen, daß einerseits solche entwickelten
    Dampfblasen Möglichst schnell, vorzugsweise unter Ausnutzung den Auftrieb, in der Flüssigkeit abströmen können und andererseits durch Schaffung eines selbsttätigen Umlaufs der Flüssigkeit an den zu kühlenden Stellen vorbei, z. B. durch Benutzung der Thermoeyphonwirkung, stets für eine schnelle Zufuhr von neuem flüssigen Kühlmittel zu denjenigen Stellen gesorgt wird, an denen eine Dampfbildung stattgefunden hatte, gegebenenfalls kann statt der einfachen Thermophonwirkung bei größeren Halbleiteranordnungen auch eine foreierte Flüssigkeitskühlung, z. B. mittels einer Pumpeinrichtung, angewendet werden.
  • Um die Verdampfungstemperatur des Kühlmittels auf einen vorbestimmten Wert festzulegen und somit die Temperaturerhöhung der zu kühlenden Stelle zu begrenzen, ist es vorteilhaft, den das Kühlmittel einschließenden Raum nach außen völlig abzuschließen und den Druck im Kühlmittelkreislauf entsprechend festzulegen.
  • Diese Festlegung kann je nach der als Kühlmittel benutzten
    Flüssigkeit in einer Erhöhung dos inneren Gasdruckes dieses
    Raumes gegenüber dem äußeren Luftdruck oder in einer HerabsetsMSg
    gegenüber diesem bestehen. Wird z. B. als Kühlmittel Wasser benutzt, so wird der Gasdruck in dem Gefäß gegenüber dem äußeren Luftdruck vorzugsweise herabgesetzt, während bei Anwendung eines Kühlmittels mit bei Atmosphären-Druck niedrigem Verdampfung druck sich auch eine Steigerung des Dampfdruckes in dem Gefäß empfehlen kann, wobei diese gegebenenfalls durch ein in das Gefäß eingebrachtes neutrales Gas bestimmt werden kann, wie z. B. ein Edelgas oder Stickstoff.
  • Es kann sich in Verbindung mit der Erfindung empfehlen, für eine leichte Ablösbarkeit der sich entwickelnden Dampfblasen von der Oberfläche zu sorgen, an der sie entwickelt werden} d, ho also ihre Adhäsion gegenüber den zu kühlenden Flächen herabzusetzen und diejenige gegenüber der Kühlflüssigkeit möglichst zu steigern. In dieser Hinsicht zweckmäßig ist beispielsweise die Zugabe von Stoffen, die die Oberflächenspannung der Flüssigkeit herabsetzen und/oder das Überziehen der Oberfläche, insbesondere der Randzone der. Sperrschicht mit elektrisch isolierenden Stoffen, die den etwaigen Siedeverzug herabsetzen, also Bo durch Bedampfung mit einer etwa 1 starken oder noch dünneren porösen Quarzschicht.
  • Einige beispielsweise Anordnungen für die Anwendung der Erfindung veranschaulichen die Figuren der Zeichnung.
  • In dem Ausführungsbeispiel nach Figur 1 ist eine Anordnung gezeigt mit einer Grundplatte 1. Auf dieser ist ein Halbleitersyster 2 aus einer antimonhaitigen Elektrode 2a, einem Germaniumkörper 2b mit der p-n-Sperrschicht 2c und der Indiumelektrode 2d'angeordnet. Diese. Anordnung ist eingeschlossen mittels einer Kappe 3, die zusammen mit der Grundplatte 1 einen Behälter für die Aufnahme des flüssigen Kühlmittels 4 bildet. In der Kappe 3 ist eine Zwischenwand 5 aus wärmeisolierendem Stoff vorgesehen. Diese besitzt an ihrem oberen und ihrem unteren Ende Durchgangsöffnungen, so daß die Flüssigkeit in dem zwischen dem Boden der Kappe und der Zwischenwand gebildeten Raum umlaufen kann. In der Seitenwand der Kappe 3 ist ferner eine dichte Durchführung 6 aus Isoliermaterial, vorzugsweise aus Glas für den Ableitungsdraht 7 von der Elektrode 2d vorgesehen. Den anderen Anschluß bildet unmittelbar die metallische Grundplatte 1, die ihrerseits flüssigkeits-oder luftgekühlt sein kann. Auf der Randzone der p-n-Sperrschicht 2c kann ein Überzug 2 aus einer dünnen Quarzschicht vorgesehen sein, deren Oberfläche porös ist. wie die Figur zeigt, ist das Gleichrichterelement derart eingebaut, daß seine p-n-Sperrschicht senkrecht steht. Es könnte natürlich auch eine geneigte Lage benutzt werden. Auf jeden Fall wird dadurch bei kleiner Bauweise eine gute Thermosyphonwirkung in dem Kühlmittelsystem erreicht.
  • Bilden sich örtlich. erhitzte Stellen in der Randzone der p-n-Sperrschicht 2c aus, so steigt das an diesen Stellen erwärmte Kühlmittel nach oben und sinkt an der Bodenfläche des Kappendeckels 3 entlang infolge seiner Abkühlung wieder nach unten.
  • Die Zwischenwand 5 unterstützt diesen Strom, indem sie einen unmittelbaren Ausgleich durch Wärmeübergang oder durch Vermischung des warmen und des abgekühlten Flüssigkeitsstromes unterbindet.
  • Wie die Figur ferner erkennen läßt, wird vorzugsweise das Gleichrichterelement in dem Gehäuse unterhalb dessen Mitte angeordnet, wodurch eine Kaminwirkung für den aufsteigenden warmen Strom entsteht.
  • Erreicht die Temperatur an den örtlich erhitzten Stellen der p-n-Sperrschicht die Siedetemperatur des Kühlmittels, so entstehen Dampfblasen. Diese erhöhen die Kühlmittelumlaufsgeschwindigkeit. Der Überzug aus Quarz an der Randschichtzone verhindert das Auftreten des Siedeverzuges, denn seine poröse Oberfläche ist derart groß, daß das Entstehen von Dampfblasen begünstigt wird.
  • Ein weiteres Ausführungsbeispiel veranschaulichen die Figuren 2 und 3, wobei Figur 2 ein Schnitt der Figur 1 nach der Linie II-II und Figur 3 ein Schnitt der Figur 2 nach der Linie 111-111
    ist.
    Bei dieser Anordnung ist die Randschichtzone der Sperrschicht bevorzugt gegenüber den übrigen Teilen der Halbleiteranordnung gekühlt. In diesen Figuren bezeichnet 21 wieder eine Grundplatte.
  • Auf dieser ist die Gleichrichteranordnung 22 angeordnet. Sie besteht wieder aus den Elektroden 22a, weiterhin z. B. einem Germanium-Kristallkörper 22b mit einer p-n-Sperrschicht 22c, einer Elektrode 22d und der Abnahmeelektrode 23. Über die Anordnung ist eine Kappe 24 aus Isoliermaterial aufgebracht, welche mit dem Rand des Körpers 22b eine flüssigkeits-und gasdichte Verbindung eingeht.'. Der Innenraum dieser Kappe ist mit einer Kühlflüssigkeit 25 gefullt. Oberhalb des Spiegels der Flüssigkeit verbleibt ein gac-bzw. dampfgefüllter Raum 26. Die Kappe 24 ist vorzugsweise derart aufgebaut, daß an ihr in dem Raum zufolge des Wärmeauftriebes aufsteigende Flüssigkeit in seitlichen Armen 27 und 28 der Kappe wieder zum unteren Teil der Flüssigkeitsfüllung zurückfließen kann und dabei in diesen Armen eine Kühlung erfolgt.
  • Die Figur 4 zeigt einen Schnitt der Figur 2 nach der Linie IV-IV.
  • 4Figuren sol 6 Patentansprüche

Claims (1)

  1. SchutzanBpruche ------------ 1.Kühleinrichtung für Halbleiteranordnungen mit p-n-Charakter mit Verwendung eines umlaufenden tlitssigen Kühlmittels, dadurch ;. geketnse et da3 lm » amistel thälter zur Lenkung des Kuhl- mittelumlaufes Zwischenwände angeordnet sind, die derart wirken, daß vorwiegend die Randzonen der per-schicht vom Kühlmittel be spültwerden. 2a Einrichtung nach Jmspruch 1. dadurch gekennzeichnet. daß sie mit: eungekühlung und vorzugsweise mit foreiertem KUb ttte- unlauf erbe : Ltet" vobei d-er Gaadruck im KUhlm1ttelbehAlter 8Q g-...,. I'.' : uäl le't <ä&@ dor Tcr&mpfungspunkt des Kühlmittels-aBtera- e StaSQGoa. SShottcmpotmF der zu kuhlenden St*Uen der BQbeöaosnag log .-' zu 3 BiaN&oang Noh Ansac ? p äaaoh gekeBBseihae daa<Q' S ç S rk q 'Cbc'öop MM, aioo <S.'ss ? @h SQSQOOnaBsikBg erol aa S . .-" ., l.,"" : ;',' ;
    &"iHin nch Anspruch 1 oder einem der folgenden, dadurch kennzeichnet, daß ein Kühlmittel mit möglichst hoher spezifi- scher Wärme benutzt wird 5. Einrichtung nach Anspruch 1 oder einem der folgenden, dadurch ekeimseichnet, daß die Rndzonenoberfläche der p-n-Schicht einen
    Überzug aus einem elektrisch isolierenden Stoff mit einer Oberflächenbeschaffenheit aufweist, die geeignet ist, den Siedeverzug des Kühlmittels herabzusetzen.
    6. Einrichtung nach Anspruch 5, gekennzeichnet durch einen vorzugsweise porösen Quarzüberzug.
DE1954S0014723 1954-09-15 1954-09-15 Kuehleinrichtung fuer halbleiteranordnungen. Expired DE1747113U (de)

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DE (1) DE1747113U (de)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1230265B (de) * 1959-04-25 1966-12-08 Guenther Spelsberg K G Mauerduebel
DE3402003A1 (de) * 1984-01-21 1985-07-25 Brown, Boveri & Cie Ag, 6800 Mannheim Leistungshalbleitermodul
DE4217599A1 (de) * 1992-05-27 1993-12-02 Siemens Nixdorf Inf Syst Einbausystem für auf Leiterplatten montierte, hochintegrierte, gehäuselose Bausteine

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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DE1230265B (de) * 1959-04-25 1966-12-08 Guenther Spelsberg K G Mauerduebel
DE3402003A1 (de) * 1984-01-21 1985-07-25 Brown, Boveri & Cie Ag, 6800 Mannheim Leistungshalbleitermodul
DE4217599A1 (de) * 1992-05-27 1993-12-02 Siemens Nixdorf Inf Syst Einbausystem für auf Leiterplatten montierte, hochintegrierte, gehäuselose Bausteine

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