DE1696110C - Verfahren zur Herstellung von glasigen Schichten auf Substratmateriaüen durch Vakuumaufdampfen mittels Elektronenstrahlen - Google Patents

Description

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Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung von glasigen Schichten auf beliebigen Substralmateriulien mittels Elektronenstrahlofen im Hochvakuum.

Es sind mehrere Verfahren bekannt, um glasige Schichten durch Aufdampfen auf Subsfrate herzustellen.

Das eine beruht darauf, daß leicht oxydierbare Metalle oder Metall-Legierungen, vie ζ. D. Blei—SiIizium, Blei—Tellur, Aluminium—Silizium, in einer Sauerstuff-Argon-Atmosphäre unter einem Gesamtdruck von etwa 2,5· 10~²Torr in Form einer Elektrode versprüht und als Oxid auf dem Substrat niedergeschlagen werden. Diese Methode ist auf Metalle als Ausgangsmaterial und außerdem auf die Festkörperzerstäubung als Aufdampf verfahren beschränkt. Sie benötigt außerdem einen relativ hohen Sauerstoffpartialdruck von etwa 1,2 · 10"² Torr, weswegen sie für die Verdampfung mittels Elektronenstrahlen, die bei Drücken kleiner IO~' Torr ablaufen, nicht geeignet ist. Über die Qualität der aufgedampften Filme wird nichts gesagt. Die Methode ist auf die herstellbaren Legierungen beschränkt, sie erlaubt demzufolge nicht, die Netzwerkwandler, wie Lithium, Natrium, Kalium usw., in die erzeugte Glasschicht einzuführen.

Eine andere Methode geht von mehreren Metalloxiden aus, ilie getrennt im Schiffchen erhitzt und bei IO⁵ Torr verdampft werden. Der Nachteil dieser Methode ist, daß sich aus gelrennt verdampften Oxiden nur sehr schwer homogene Gläser erhalten lassen.

Es ist weiter bekanntgeworden, glasige, einkomponentige Schichten mittels Elektronenstrahlofen im Hochvakuum aufzudampfen. Die^e ar; Quarz bestehenden Schichten erwiesen sich aber als aus vielen Einzelpartikeln bestehend und deshalb als nicht dicht und rissig, so daß ihre Aiiweiidiingsmöglichkciten beschrankt waren.

Auch ist es bekanntgeworden, als zu verdampfendes Material ein niedrigschmelzendes Bleilotglas zu verwenden. Diese Gläser enthalten in der Regel Zink-Blei-Itorale mit Mengen von 50 bis H0°/₀ PbO. Alkali ist in diesen Gläsern nicht enthalten, so daß schwer flüchtige Oxide nicht verdampft werden.

Aufgabe der Erfindung ist ein Verfahren zur Her-Mclliiiig von glasigen Schichten auf beliebigen Substratniaterialicn mittels Elektronenstrahlofen im Hochvakuum, bei dem Schichten erhalten werden, die homogen sind, keine Risse bilden und die weiteren Nachlcile der bekannten Methoden nicht aufweisen, insbesonderc auch die Verdampfung von schwer fliichligcn Oxiden ermöglichen.

Diese Aufgabe wird erfindungsgcinäßdadurchgclöst, daß ein alkalihalliges, höchstens IO Gewichtsprozent Alkn!io\id aufweisendes Mehrkomponcntenglas aufgedampft wird, das vorher unter Vakuum weitgehend entgast oder unter einer Schutzgasatmosphäre er-Ithmolzcn worden ist.

Je nach Herstellungsbedingungen und Verwendung*- zweck können diese Schichten eine oder mehrere der «o folgenden Eigenschaften besitzen: Sie können dicht, hart, biegsam, entweder elektrisch nichtleitend oder halbleitend, antistatisch, hydrolytisch gut bestandig, transparent, von hohem oder niedrigem Brechungsindex »ein, sie können sowohl farblos als auch farbig win, wärmeisolierend und von großer elektrischer Durchschlagfcstigkcit. Für spezielle Zwecke lassen sie sich, ausgehend von verschiedenen Mehrkomponenten-

gläsern, in mehreren Schichten übereinander aufdampfen.

Durch das Verfahren gemäß der Erfindung wird also eine Vielzahl neuer Verwendungsgebiete erschlossen.

Es ist darauf zu achten, daß der Wassergehalt durch Einlegen trockner Rohstoffe möglichst gering gehalten wird. Ferner sind Glaszusammensetzungen wenig geeignet, die zur Abgabe größerer Mengen an Sauerstoff neigen.

Beim Schmelzvorgang eignen sich als Schutzgas beispielsweise getrocknete Luft, Stickstoff oder Edelgase.

Ferner hat es sich als ungünstig ergeben, Gläser mit großen Gehalten an Bestandteilen zu verwenden, deren Danipfdruck viel größer als der Druck im Rezipienten bei Behandlung im Vakuum ist. Daher sollen erfindungsgemäß die Mehrkomponentengläser zwar Alkali enthalten, jedoch höchstens 10 Gewichtsprozent Alkalioxid aufweisen.

Als besonders vorteilhaft hat sich Alkaliborosilikatglas erwiesen, dessen Borsäuregehalt nicht mehr als 25 Gewichtsprozent beträgt.

Auch können erfindungsgemäß zum Teil kristallisierte ode: entmischte Mehrkomponentengläser verdampft und niedergeschlagen werden. Hierdurch gelingt es, Gläser für άί i Verfahren nutzbar zu machen, die bei einer Wärmebehandlung das für andere Fälle nachteilige Auskristallisieren oder Entmischen zeigen.

Es wurde gefunden, daß sich zur Anwendung des Verfahrens gemäß der Erfindung Mehrkomponentenglaser besonders eignen, die folgende Komponenten einzeln oder gemischt enthalten: Oxide der L₁ IL, III., IV. und V. Hauptgruppe sowie Oxide der L, IL, HL, IV., V., VL, VIL und VIII. Nebengruppe des Periodischen Systems der Elemente, insbesondere aber die von Lithium, Natrium. Kalium, Barium, Titan, Vanadin, Niob, Tantal, Bor, Aluminium, Gallium, Silicium, Germanium und Phosphor.

Das Verfahren gemäß der Erfindung kann auch in der Weise durchgeführt werden, daß ein schwer schmelzbares, aber gut verdampfbares Alkaliborosilikatglas in einem leicht schmelzbaren, aber sehr schwer verdampfbaren Glas gelöst oder mit diesem innig vermischt wird und diese Lösung bzw. Mischung als zu verdampfendes Mehrkomponcntenglas dient. Hierdurch wird die Anzahl der in Betracht kommenden Mehrkomponentengläser mit ihren speziellen Eigenschäften beträchtlich vermehrt.

Zweckmäßig weisen die erfindungsgemäß verwendcten Mchrkomponenienglüser folgende Zusainmcn-Setzung auf:

SiO .15 bis 85 Gewichtsprozent

'^s 5 bis 25 Gewichtsprozent

1·'ι° ° ^nis 5 Gewichtsprozent

Na₁O 0,5 bis H) Gewichtsprozent

^Kj° 0,5 bis 10 Gewichtsprozent

AI₁O₁ 3 bis 40 Gewichtsprozent

CaO 0 bis 25 Gewichtsprozent

BaO 0 bis 25 Gewichtsprozent

TiO, O bis 20 Gewichtsprozent

^vi°» 0 bis 50 Gewichtsprozent

Um dicke Schichten oder Schichtpakete zu erhalten, können erfindungsgemäß ein oder mehrere Mehrkomponentengläser simultan oder abwechselnd aufgedampft werden.

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Da hei Anwendung von Elektronenstrahlofen dus portionsweise eingeschmolzen. Der IMatintiegel be-

Mchrkomponentenglas sehr schnell auf hohe Tempe- findet sich in einem evakuierbaren und induktiv beheiz-

raturen gebracht wird und einen Wiirmeschock erleidet, ten Ofen. Das aufgeschmolzene Glas wird zur Läute-

Si)II der thermische Ausdehnungskoeffizient Vorzugs- rung bis auf 1620"C erhitzt. Nun wird vorsichtig

weise ■ ;40 · 10 '/¹⁵C im Bereich von 20 bis 300⁰C sein. 5 evakuiert bis ein Druck von kleiner als 10 Torr erreicht

Lim auch andere Mehrkomponentengläser für das ist. Dies wird in eiwa 12 Stunden erreicht. Danach

Verfahren nutzbar zu machen, wird das Mehrkompo- wird das Glas in üblicher Weise gegossen und gekühlt,

nentenglas zweckmäßig vor Beginn der Verdampfung Die Evakuierungszeit wird vorteilhaft durch Rühren

durch eine Aufheizvorrichtung auf eine Temperatur verkürzt. Das auf diese Weise hergestellte Glas hat

oberhalb der unteren Kühltemperatur erhitzt. io folgende Zusammensetzung:

Während die bisher bekannten aufgedampften ^q ^ 3 Gewichtsprozent

Schichten, insbesondere solche von kristalliner Struk- _Q q n'7 Gewichtsprozent

tnr, meist mehr oder minder starke Zugspannungen _A] q Vo Gewichtsprozent

aufweisen, welche mitunter schon bei Dicken oberhalb tsh Ό 271 Gewichtsprozent

0,1 μηι zu Rißbildung oder Abblättern von der Unter- 15 ^₀ 04 Gewichtsprozent

lage führen können, sind die nach dem beschriebenen *

Verfahren hergestellten glasigen Schichten weitgehend Es hat folgende Eigenschaften:

frei von Zugspannungen und wegen ihrer vorzüglichen _Λ __. ^i 0 · 10' ITC

Haftfähigkeit auf den gebräuchlichen Substratmateri- j„ _ 555'¹¹C

tuen selbst bei relativ großen Dicken noch stabil, ao y_A __ 1412¹C

Auf Grund dieser Eigenschaften isi es darüber hinaus Dichte = ' 20 g/cm³

möglich, den Schichten noch eine festigke^:tssteigernde j^ ^, iqq _ 254° C

Wirkung zu verleihen, indem man bei geeigneter Stoff- hydrolytische Klasse 1

ttuswahl die Kondensation des verdampften Glases so π — I 4670

durchführt, daß sich permanente Druckspannungen 25 _{v r}- 6541
in der Schicht bilden. Dies gelingt vorzugsweise auf

Unterlagen von gutem Haftvermögen, wie z. B. Glas- Eine Scheibe aus diesem Glas wird in einen Elek-

oberflächen, wenn ein Mehrkomponentenglas, dessen tronenstrahlofen üblicher Bauart so eingesetzt, daß

thermischer Ausdehnungskoeffizient vor und/oder sie während des Bedampfen* gedreht werden kann,

tuch der Verdampfung und Kondensation auf das 30 Der Elektronenstrahl wird um IKOC abgelenkt, so

Substrat niedriger ist als der des Substratmateria's, daß das Glas ungehindert auf das Substrat aufdampfen

verdampft und auf dem Substrat niedergeschlagen kann. Bevor der Elektronenstrahl eingeschaltet wird,

wird, während sich dieses auf einer gegenüber der wird die Probe abgeglirnmt. Bei diesem Glas kann der

normalen Gebrauchstemperatur erhöhten Temperatur Elektronenstrahl sofort voll eingeschaltet werden,

befindet. Nach der Abkühlung auf normale Temperatur 35 ohne daß die thermischen Spannungen das Glas zer-

entstehen dann gemäß einem bekannten Prinzip in der stören. Es kann auf beliebige Substratiiiaterialien mit

kondensierten Schicht tangential Druckspannungen, beliebiger Form aufgedampft werden. Körper mit

welche eine Erhöhung der mechanischen Festigkeit dreidimensionaler Ausdehnung müssen in zwei Ebenen

und Oberliächenhärte der Unterlage bewirken. Die gedreht werden.

Schichtdicke wird hierzu zweckmäßig auf mindestens 40 Die aufgedampfte Schicht hat folgende F.igenschaf-

mehrere μηι bemessen. Für das bisher ungelöste ten, sie ist: dicht, transparent, in engem Radius biegbar,

Problem, eine wirksame Oberflächenhärtung von antistatisch, ritzfest, elektrisch isolierend, thermisch

Gläsern oder keramischen Stoffen durch aufgedampfte isolierend, hydrolytisch sehr gut beständig.
Überzüge ohne Anwendung von Diffusionsprozessen

zu erzielen, werden somit durch das neue Verfahren 45 B e i s ρ i e 1 2
Möglichkeiten für eine einfache technische Realisierung erschlossen. Ein Glas mit folgender Zusammensetzung

tiic kompakte Struktur der erfindungsgemäß erhal- _{SjOj 8()90} G,;_Wj_c|_ltsprozent

tcnen Schichten, welche einen Volumfaktor sehr nach BO 12^8 Gewichtsprozent

1 aufwehen, verleiht diesen gleichzeitig einen hohen 50 aI O 22 Gewichtsprozent

Grad an Schlitzwirkung gegen atmosphärische und NaO 5Gewichtsprozent

chemische Einllüsse, welche meist schon bei geringen j^"q ₀ 6 Gewichtsprozent

Schichtdicke!) erreicht wird. Auf diese Weise können

z. B. auf optischen Gläsern oder Kristallen optisch wird in einer Por/.ellaiimühlc mit iVrzellankugeln so einwandfreie .Schutzüberzüge erzielt werden. Auch 55 lange gemahlen, so daß 91°/₀ < 10 μ und 46°/,, <5 μ Metall- und Kunststoffoberflächen können nach dem sind. 1000 g dieses Pulvers werden in einen Platintiegel neuen Verfahren verglast werden. Ebenso eignen sich gefüllt, der sch in einem induktiv beheizten Vakuumdie Schichten zur Schutzabdeckung und Abkapselung ofen befindet. Das Glaspulver wird zur Entfernung des von mechanisch empfindlichen Oberflächen, wie z. B. Oberflächenwassers auf 580°C erhitzt und gleichzeitig Dünnfilmschaltungen oder Oberflächenspiegel, sowie 60 der Druck auf 0,1 Torr erniedrigt. Bei dieser Temperazur Abdichtung und Isolierung von inhomogenen tür wird das Glas 4 Stunden belassen. Danach wird Oberflächen, z. B. von faseroptischen Platten. die Temperatur auf 700 bis 72O°C erhöht, gleichzeitig

wird der Druck auf 0,05 Torr erniedrigt. Diese Tempe-

Beispiel 1 _{ratuf wird 2}o Stunden gehalten. Dabei entweicht das

Ein Gemenge von 808Og SiO₁, 224Og Borsäure, 63 im Glas gebundene Wasser. Anschließend wird das

232 g Al₁O₃, 628 g Natriumcarbonat, 150 g Natrium- Glas in kurzer Zeit auf 110O⁰C aufgeheizt. Diese

chlorid, 91 g Kaliumcarbonat wurden in einem Platin- Temperatur wird 2 Stunden gehalten. Nun wird das

tiegel bei Temperaturen zwischen 1550 und 1600⁰C Glas auf 1500⁰C erhitzt und 1 Stunde bei dieser Tem-

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peratur belassen. Danach wird das Glas wie üblich Die Verdampfungseigenschaften des Glases sind gegossen und gekühlt. wegen der geringen Gehalte an Alkalioxid und des Das auf diese Weise erschmolzene Glas hat folgende angewendeten Schmelzverfahrens niedrigen Wasser-Zusammensetzung: gehaltes sehr gut.

SiO₂ 81,9 Gewichtsprozent ⁵ B e i s ρ i e 1 5

A&:::::::::::::::: i:! Sachses ^{Ein G}™^ m* folgender zusammensetzung

Na₂O 2,0 Gewichtsprozent SiO₁ 7330 g

K₅O 0,5 Gewichtsprozent B₁O₁, (entwässert) 181Og

, , ¹⁰ AI₁O₃ 775 g

Weitere Eigenschaften: Na₁O 143 g

λ = 29 · 10"' 1/⁰C. wird in einem Platin-Iridium-Tiegel in einem elektrisch

beheizten Ofen bei 1550⁰C aufgeschmolzen, während-

Die Eigenschaften dieses Glases sind weitgehend 15 dessen der Ofen mit scharf getrockneter Luft gespült identisch mit den unter Beispiel 1 genannten. Auch wird. Nach dem Aufschmelzen wird die Temperatur die Zusammensetzung und die Eigenschaften der auf- in 2 Stunden auf 1700⁰C gesteigert. Zur Läuterung gedampften Schicht weisen kaum Unterschiede zu der wird die Temperatur während 8 Stunden belassen, unter Beispiel 1 genannten auf. Hiernach wird die Temperatur unter fortdauerndem

ao Spülen mit trockener Luft auf 1600⁰C gesenkt und das

Beispiel 3 ^{Glas wie ub}l'^cn gegossen und gekühlt. Durch eine

Temperbehandlung bei 1200⁰C wird das Glas in einen

Ein Gemenge der Zusammensetzung teilkristallinen Zustand überführt werden. Dieses Glas

zeigt beim Verdampfen im Elektronenstrahlofen, wie

^SiO2 ,rr ^ε »5 unter Beispiel 1 beschrieben, ausgezeichnete Eigen-

B₂O₃ (entwässert) 400 g schäften.

AI₂O₃ 200g

Li₂CO₃ 100g Beispiel 6

Na₂CO₃ 172 g _Ej_n Gemenge der Zusammensetzung

_LiF . 70 g B₁O₁ (entwässert) 1770 g

,". . . . Al₁O₁ 400 g

v/ird in einen Platintiegel in einem elektrisch beheizten BaCO₃ 1300 g

Ofen bei einer Temperatur von 1500⁰C eingelegt. CaCO 360 ε

Nach dem Aufschmelzen des Gemenges wird die 35 Na₁CO₃ 520 ε

Temperatur in 2 Stunden auf 1650°C erhöht. Zum yp* "'" ₁₇₅ *

Läutern wird dasGIasbeidieserTemperaturlO Stunden

lang belassen. Danach wird die Temperatur auf ISOO⁰C wird bei 140O⁰C in einem Platintiegel in einem elek-

in einer V₂ Stunde gesenkt und das Glas wie üblich trisch beheizten Ofen aufgeschmolzen, währenddesser

gegossen und gekühlt. Während des Einlege- und 40 wird der Ofen mit scharf getrockneter Luft gespült

Schmelzvorganges wird der Ofen mit scharf getrock- Nach dem Aufschmelzen wird das Glas unter Rührer

neter Luft gespült. ^auf 1600°C erhitzt und zum Läutern 3 Stunden be

Auf Grund der niedrigen Gehalte an Alkalioxid und dieser Temperatur belassen. Unter fortdauernden-

des nach dieser Methode erhaltenen niedrigen Wasser- Spülen mit trockener Luft wird das Glas unter Rührer

gehaltes zeigt das Glas ausgezeichnete Verdampfungs- 45 auf 1400⁰C abgekühlt, wie üblich gegossen und ge

eigenschaften. kühlt. Wegen der aufgetretenen Entmischung isi

dieses Glas weiß-opak.

Beispiel 4 Die Verdampfungseigenschaften dieses Glases sine

sehr gut.

Ein Gemenge der Zusammensetzung 50 Das Verfahren gemäß der Erfindung wird in einen

r- ~ "" 4610 g Ausführungsbeispiel an Hand der Zeichnung, in we!

B θ' (entwässern 1500 g ^{cher eine} Vorrichtung zur Durchführung des Vw

B₂U, (entwassert) B _fahrens ^^^^ _{und sche}matisch dargestellt ist

I?'²"' IJjJJ & näher erläutert.

_C3_CO ³ ₃₁₆0 g 55 Auf der drehbaren Halterung 1, die vom Motor 2

_N (-Λ 516 g ^{öber die Welle 4} angetrieben wird, liegt das Mehr

_LiF ^{2 3} _l76g komponentenglas 2. Zum Aufheizen wird der am Hebel

arm 7 befestigte Ofen bzw. Strahler 6 mittels eine:

wird in einem Platintiegel und in einem elektrisch Drehdurchführung 8 über die Probe geschwenkt. Jetr

beheizten Ofen üblicher Bauart bei 1450⁰C eingelegt 60 wird das Mehrkomponentenglas auf die gewünscht«

und aufgeschmolzen, währenddessen wird der Ofen Temperatur erhitzt. 1st diese erreicht, so wird dei

mit scharf getrockneter Luft gespült. Die Temperatur Ofen durch Drehung der Durchführung 8 aus den

wird nun auf 1500°C erhöht und währenddessen die Dampfstrahlbereich des Glases herausgeschwenkt unc

Schmelze zur Beschleunigung des Läuterns gerührt. arretiert. Nun wird die Elektronenkanone 5 einge

Die Temperatur wird 3 Stunden bei 1500° C belassen 65 schaltet, so daß das Glas verdampft und sich auf dei

und die Spülung ständig fortgesetzt. Danach wird die zu bedampfenden Substraten 9 niederschlägt. Dai

Temperatur unter Rühren auf 140O⁰C gesenkt und Sysiem wird gegen die Außenatmosphäre durch dei

das Glas wie üblich gegossen und gekühlt. Rezipierten 10 abgeschlossen.

r τ ρ

Claims (7)

7 8 Patentansprüche: SiO2 35 bis 85 Gewichtsprozent

1. Verfahren zur Herstellung von glasigen BjO₃ 5 bis 25 Gewichtsprozent

Schichten auf bdiebigen Substratmaterialien durch Li₈O O bis 5 Gewichtsprozent

Vakuumaufdampfen mittels Elektronenstrahlen. Na₈O 0,5 bis iO Gewichtsprozent

d a d u r c Ii g e k e η η ζ e i c h η e t. daßein alka- 5 K₂O 0,5 bis 10 Gewichtsprozent

lihaltiges. höchstens 10 Gewichtsprozent Alkali- AI₂O_n 3 bis 40 Gewichtsprozent

oxid aufweisendes Mehrkomponentenglas aufge- CaO O bis 25 Gewichtsprozent

dampft v,ird. das vorher unter Vakuum weitgehend HaO O bis 25 Gewichtsprozent

entgast oder unter einer Schutzgasatmosphäre er- TiO₂ O bis 20 Gewichtspr^cznt

schmolzen worden ist. io V₂O_ft O bis 50 Gewichtsprozent

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Mehrkomponentenglas ein Alkali- 8. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 7. daborosilikatfjlas aufgedampft wird. durch gekennzeichnet, daß ein schwer schmelzbares.

3. Verfahren nach Anspruch 2. dadurch gekenn- aber gut verdampfbares Glas in einem leicht zeichnet, daß ein Alkaliborosilikatglas aufgedampft 15 schmelzbaren, aber selbst schwer <>erdampfbaren wird, dessen Borsäuregehalt nicht mehr als 25 Ge- Glas gelöst oder mit diesem innin vermischt wird wirchtsprozent beträgt. und diese Lösung bzw. Mischung als aufzudamp-

4. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 3, da- fendes Mehrkomponentenglas verwendet wird, durch gekennzeichnet, daß zum Teil kristallisiertes 9. Verfahren nach den Ansprüchen 6 und 7, da· Mchrkomponentenglas aufgedampft wird. ao durch gekennzeichnet, daß ein oder mehrere Mehr-

5. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 4, da- komponentengläser simultan oder abwechselnd zui durch gekennzeichnet, daß entmischtes Mehrkom- Erzeugung einer Schicht oder von Schichtpaketen ponentcnglas aufgedampft wird. aufgedampft werden.

6. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 5. da- 10. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß Mehrkomponenten- 35 durch gekennzeichnet, daß das Mchrkomponenten· (.KiM.i diiigcUiunplt werden, die Oxide der I.. II., glas vor Beginn der Aufdampfiinc auf eine Tcnipe III.. IV. und V. Hauptgruppe sowie Oxide der I., ratur oberhalb der unteren Kühltcmpeiatur erhitzt I!.. III., IV.. V.. VI.. VII. und VIII. Nebengruppe wird.

des Persischen Systems der Elemente, insbeson- 11. Verfahren nach den Ansprüchen ; bis 10. da

derc aber die Oxide von Lithium. Natrium, 30 durch gekennzeichnet, daß ein Mehl komponenten·

Kalium. Barium.Titan. Vanadin. Niob. Tantal. Bor, glas, dessen thermischer Ausdchnungskoeffizieni

Aluminium, Gallium. Silicium, Germanium und vor und/oder nach der Aufdampfung auf das Sub

Phosphor einzeln oder gemischt enthalten. strat niedriger ist als der des SubstrafmE terials. auf

7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekenn- gedampft wird, während das Substrat auf einei zeichnet, daß Mehrkomponentengläser folgender 35 gegenüber der normalen Gebrauchsteniperatur er Zusammensetzung aufgedampft werden: höhten Temperatur gehalten wird.

Hierzu 1 Blatt Zeichnungen