DE1621783B2 - METHOD OF REALIZATION OF DEFORMED IMAGES - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 78
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 42
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 38
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 claims description 22
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 claims description 22
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 21
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 19
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 19
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 16
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 16
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 13
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 13
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 13
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 13
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 claims description 12
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 claims description 12
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 claims description 11
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 9
- 239000004744 fabric Substances 0.000 claims description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 6
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims description 6
- 239000012815 thermoplastic material Substances 0.000 claims description 6
- 238000005266 casting Methods 0.000 claims description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 5
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 4
- 230000010076 replication Effects 0.000 claims description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 3
- 238000002161 passivation Methods 0.000 claims description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims description 2
- 238000009499 grossing Methods 0.000 claims description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000002269 spontaneous effect Effects 0.000 claims description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 claims 6
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 claims 6
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 claims 3
- 238000001093 holography Methods 0.000 claims 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims 2
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 claims 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 claims 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 claims 1
- 238000013507 mapping Methods 0.000 claims 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 claims 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 claims 1
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 56
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 13
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 13
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- -1 Polydimethylsiloxanes Polymers 0.000 description 9
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 9
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 9
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 7
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 6
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 6
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 6
- 229920000260 silastic Polymers 0.000 description 5
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000009471 action Effects 0.000 description 4
- 229920006217 cellulose acetate butyrate Polymers 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- KMUONIBRACKNSN-UHFFFAOYSA-N potassium dichromate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O KMUONIBRACKNSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000003317 industrial substance Substances 0.000 description 3
- KERTUBUCQCSNJU-UHFFFAOYSA-L nickel(2+);disulfamate Chemical compound [Ni+2].NS([O-])(=O)=O.NS([O-])(=O)=O KERTUBUCQCSNJU-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 229920000205 poly(isobutyl methacrylate) Polymers 0.000 description 3
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 3
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 1H-indene Chemical compound C1=CC=C2CC=CC2=C1 YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerol Natural products OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920005372 Plexiglas® Polymers 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 2
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 2
- 206010047571 Visual impairment Diseases 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N di-tert-butyl peroxide Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 2
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 2
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 2
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 2
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 2
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 2
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 2
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 2
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 2
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 2
- WTARULDDTDQWMU-RKDXNWHRSA-N (+)-β-pinene Chemical compound C1[C@H]2C(C)(C)[C@@H]1CCC2=C WTARULDDTDQWMU-RKDXNWHRSA-N 0.000 description 1
- WTARULDDTDQWMU-IUCAKERBSA-N (-)-Nopinene Natural products C1[C@@H]2C(C)(C)[C@H]1CCC2=C WTARULDDTDQWMU-IUCAKERBSA-N 0.000 description 1
- PFNQVRZLDWYSCW-UHFFFAOYSA-N (fluoren-9-ylideneamino) n-naphthalen-1-ylcarbamate Chemical compound C12=CC=CC=C2C2=CC=CC=C2C1=NOC(=O)NC1=CC=CC2=CC=CC=C12 PFNQVRZLDWYSCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHQGURIJMFPBKS-UHFFFAOYSA-N 2,4,7-trinitrofluoren-9-one Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC([N+]([O-])=O)=C2C3=CC=C([N+](=O)[O-])C=C3C(=O)C2=C1 VHQGURIJMFPBKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical class [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMSGUKVDXXTJDQ-UHFFFAOYSA-N 4-(2-naphthalen-1-ylethylamino)-4-oxobutanoic acid Chemical compound C1=CC=C2C(CCNC(=O)CCC(=O)O)=CC=CC2=C1 CMSGUKVDXXTJDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000032484 Accidental exposure to product Diseases 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000846 In alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001944 Plastisol Polymers 0.000 description 1
- WTARULDDTDQWMU-UHFFFAOYSA-N Pseudopinene Natural products C1C2C(C)(C)C1CCC2=C WTARULDDTDQWMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910020175 SiOH Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002174 Styrene-butadiene Substances 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UATJOMSPNYCXIX-UHFFFAOYSA-N Trinitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC([N+]([O-])=O)=CC([N+]([O-])=O)=C1 UATJOMSPNYCXIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- 231100000818 accidental exposure Toxicity 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- XCPQUQHBVVXMRQ-UHFFFAOYSA-N alpha-Fenchene Natural products C1CC2C(=C)CC1C2(C)C XCPQUQHBVVXMRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 229930006722 beta-pinene Natural products 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N butadiene-styrene rubber Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1 MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004648 butanoic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);selenium(2-) Chemical compound [Se-2].[Cd+2] UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001914 calming effect Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006265 cellulose acetate-butyrate film Polymers 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- QIESBVQBFFBEJV-UHFFFAOYSA-N chloro hypochlorite;tin Chemical compound [Sn].ClOCl QIESBVQBFFBEJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 239000004148 curcumin Substances 0.000 description 1
- UKJLNMAFNRKWGR-UHFFFAOYSA-N cyclohexatrienamine Chemical group NC1=CC=C=C[CH]1 UKJLNMAFNRKWGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 125000004177 diethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005323 electroforming Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 230000004720 fertilization Effects 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 235000013305 food Nutrition 0.000 description 1
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 1
- LCWMKIHBLJLORW-UHFFFAOYSA-N gamma-carene Natural products C1CC(=C)CC2C(C)(C)C21 LCWMKIHBLJLORW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPBQJMYROZQQJC-UHFFFAOYSA-N helium neon Chemical compound [He].[Ne] CPBQJMYROZQQJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000003350 kerosene Substances 0.000 description 1
- 229910000464 lead oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- LAQFLZHBVPULPL-UHFFFAOYSA-N methyl(phenyl)silicon Chemical class C[Si]C1=CC=CC=C1 LAQFLZHBVPULPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000051 modifying effect Effects 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical class C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MOFOBJHOKRNACT-UHFFFAOYSA-N nickel silver Chemical compound [Ni].[Ag] MOFOBJHOKRNACT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002560 nitrile group Chemical group 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N oxolead Chemical compound [Pb]=O YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical class OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXNIZHLAWKMVMX-UHFFFAOYSA-N picric acid Chemical compound OC1=C([N+]([O-])=O)C=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O OXNIZHLAWKMVMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004999 plastisol Substances 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 150000003097 polyterpenes Chemical class 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 238000011417 postcuring Methods 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- 150000003346 selenoethers Chemical class 0.000 description 1
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000344 soap Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000011115 styrene butadiene Substances 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N tetrachloro-1,4-benzoquinone Chemical compound ClC1=C(Cl)C(=O)C(Cl)=C(Cl)C1=O UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
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Description
Betrachtung mit normalem Licht erscheint die Bildfläche jedoch als ein willkürlich verteiltes Muster sehr feiner, fast unsichtbarer Erhebungen und Vertiefungen. Da die mittlere Tiefe dieser Verformungen oft weniger als 1 Mikron beträgt, können sie mit bloßem Auge nicht erkannt werden.However, when viewed with normal light, the image surface appears as a randomly distributed pattern very fine, almost invisible bumps and depressions. As the mean depth of these deformations often less than 1 micron, they cannot be seen with the naked eye.
Trotz der ausgezeichneten Qualität haben diese Phasenhologramme auch gewisse Nachteile. Die leicht verformbaren Stoffe schmelzen oft bei geringen Temperaturen, haben eine klebrige Oberfläche und sind weich. Sie können leicht durch falsche Handhabung, versehentliche Einwirkung von Staub oder durch mäßig hohe Temperaturen beeinträchtigt werden. Während eine wünschenswerte Eigenschaft darin besteht, daß die verformbaren Platten zur Wiederverwendung durch nochmaliges Erweichen der Schicht und Glättung der Oberfläche durch Viskositätskräfte gelöscht werden kann, ist diese Temperaturempfindlichkeit für eine dauerhafte Aufzeichnung unerwünscht. Es ist schwierig, von einem Originalhologramm Nachbilder herzustellen, da die Oberfläche des Originals leicht verschlechtert wird. Der Abguß eines holographischen Originals mit einer Schmelze ist schwierig, da die Erhitzung des Originals eine Zerstörung des holographischen Musters bewirkt. Auch sind viele verformbare Stoffe in vielen Lösungsmitteln löslich, die zum Abguß von Nachbildern aus einer Lösung verwendet werden. Ferner ist hierbei eine außergewöhnlich große Genauigkeit erforderlich, da das holographische Muster feinste Einzelheiten aufweist und zwischen den Erhebungen und Vertiefungen oft Amplitudenunterschiede von weniger als 1 Mikron vorliegen.Despite the excellent quality, these phase holograms also have certain disadvantages. The easy Deformable materials often melt at low temperatures, have a sticky surface and are soft. They can easily be due to mishandling, accidental exposure to dust or by moderately high temperatures are affected. While a desirable quality is that the deformable plates can be reused by softening the layer again and smoothing of the surface can be erased by viscosity forces, this is temperature sensitivity undesirable for permanent recording. It's difficult to get from an original hologram Create afterimages because the surface of the original is easily deteriorated. Of the Casting a holographic original with a melt is difficult because the original is heated causes destruction of the holographic pattern. There are also many deformable substances in many solvents soluble, which are used to cast afterimages from solution. Furthermore, here is an extraordinarily high level of accuracy is required because the holographic pattern is extremely fine and between the elevations and depressions often amplitude differences of less be 1 micron.
Die Aufgabe der Erfindung besteht deshalb darin, ein verbessertes Verfahren zur Nachbildung eines Deformationsbildes mit einer Verformungstiefe von bis zu 1 Mikron, insbesondere eines holographischen Bildes, anzugeben, mit dem die Herstellung von Nachbildungen möglich ist, die sich durch hohe Bildauflösung und Verformungsfestigkeit bei Spannungsbeanspruchungen auszeichnen. The object of the invention is therefore to provide an improved method for simulating a Deformation image with a deformation depth of up to 1 micron, especially a holographic one Image, with which the production of replicas is possible, which is characterized by high image resolution and resistance to deformation under stress.
Für ein Verfahren der eingangs genannten Art wird diese Aufgabe erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß an dem nachzubildenden Deformationsbild bei einer Temperatur unter etwa 95° C eine Schicht eines härtbaren, gegenüber der Bildoberfläche neutralen Stoffes, vorzugsweise von Silikonkautschuk, der einen Füllstoff mit einem Teilchendurchmesser von 10 Millimikron bis 1 Mikron hat, verformt und als negative Nachbildung von dem Deformationsbild abgezogen wird, und daß auf diese Nachbildung ein verflüssigter filmbildender Stoff gegossen und nach Filmbildung als positive Nachbildung von der negativen Nachbildung abgezogen wird.For a method of the type mentioned at the outset, this object is achieved according to the invention by that on the deformation image to be reproduced at a temperature below about 95 ° C a layer of a curable substance neutral to the image surface, preferably silicone rubber, of the one Has filler with a particle diameter of 10 millimicrons to 1 micron, deformed and considered negative Replica is deducted from the deformation image, and that on this replica a liquefied one Cast film-forming substance and after film formation as a positive replica of the negative replica is deducted.
Das erfindungsgemäße Verfahren gewährleistet eine hohe Auflösung der Nachbildungen, wobei gleichzeitig die Vermeidung von Verformungen durch Spannungsbeanspruchung sichergestellt ist, was in Anbetracht der geringen Verformungstiefe von entscheidender Bedeutung für die Bildqualität ist. Unscharfen der Nachbildungen werden daher praktisch vollständig vermieden. Der für die negative Nachbildung verwendete Füllstoff hat die Eigenschaft, die Spannungsfestigkeit der Nachbildung zu erhöhen. Ferner kann bei geeigneter Wahl des mittleren Durchmessers der Füllstoffteilchen die Bildauflösung gegenüber den Möglichkeiten bekannter Verfahren wesentlich erhöht werden. Es ist deshalb möglich, mit dem Verfahren nach der Erfindung Nachbildungen von Originalen mit der genannten sehr geringen Verformungstiefe bei ausgezeichneter Bildqualität herzustellen, so daß sich dieses Verfahren besonders gut für die Nachbildung holographischer Bilder eignet. Es ist zwar bereits bekannt (siehe z. B. deutsche Patentschriften 850 421 und 945 224), Originale durch Aufbringen von Kunststoffmassen nachzubilden. Bei den dazu angewendeten Verfahren kommtThe method according to the invention ensures a high resolution of the simulations, with at the same time, the avoidance of deformations due to stress is ensured, which in Considering the shallow deformation depth is of crucial importance for the image quality. Blurred the replicas are therefore practically completely avoided. The one for the negative replica The filler used has the property of increasing the dielectric strength of the replica. Furthermore, with a suitable choice of the mean diameter of the filler particles, the image resolution can be compared to the possibilities of known methods can be increased significantly. It is therefore possible with the Method according to the invention Replicas of originals with said very small deformation depth with excellent image quality, so that this process works particularly well suitable for the reproduction of holographic images. It is already known (see e.g. German Patent specifications 850 421 and 945 224) to reproduce originals by applying plastic compounds. In the procedure used to do this, comes
ίο jedoch nur die Nachbildung großer Gegenstände oder Formen in Betracht, wobei zwar die jeweilige Form naturgetreu wiederzugeben ist, jedoch die mit der Nachbildung eines Deformationsbildes mit sehr geringer Verformungstiefe auftretenden Probleme nicht gelöst werden. Solche Abformverfahren sind deshalb mit dem Verfahren nach der Erfindung nicht vergleichbar, denn bei den mit ihnen hergestellten Produkten kommt es nicht auf eine optimale Bildauflösung oder Spannungsfestigkeit mit für Deformationsbilder vorzugebenden Werten an.ίο only the replica of large objects or shapes into consideration, although the respective shape is to be reproduced faithfully, but the one with the reproduction of a deformation pattern with a very small deformation depth cannot be resolved. Such molding processes are therefore not possible with the process according to the invention comparable, because the products made with them do not have an optimal image resolution or dielectric strength with values to be specified for deformation images.
Ein Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen Verfahrens wird im folgenden an Hand der einzigen Figur beschrieben, in der der Ablauf eines Nachbildungsverfahrens dargestellt ist.One embodiment of the method according to the invention is given below with reference to the only one Figure described in which the sequence of a replication process is shown.
Wie aus der Figur hervorgeht, wird das nachzubildende Deformationsbild zuerst nach einem üblichen Verfahren erzeugt. Vorzugsweise soll die Oberfläche dieses Originalbildes zur Härtung oder Verfestigung behandelt werden, wie im folgenden noch beschrieben wird.As can be seen from the figure, the deformation image to be reproduced is first made according to a usual one Process generated. The surface of this original image should preferably be used for hardening or solidification as described below.
Dann wird eine erste Nachbildung erzeugt, indem ein Stoff auf das Originalbild gegossen wird, der dieses nicht beeinträchtigt.A first replica is then created by pouring a fabric onto the original image, the this does not affect it.
Dann wird von der ersten Nachbildung eine zweite Nachbildung gegossen.Then a second replica is cast from the first replica.
Die so erzeugte zweite Nachbildung wird dann auf einen Bildträger übertragen, so daß sich eine endgültige positive Nachbildung des Originalbildes ergibt, und die erste Nachbildung wird wieder als eine Mutterplatte verwendet, oder es wird auf ihr eine dünne Silberschicht und darauf eine dickere Nickelschicht elektrisch gebildet.The second replica produced in this way is then transferred to an image carrier, so that a final positive replica of the original image results, and the first replica is again considered to be one Mother plate is used, or a thin layer of silver is put on it and a thicker layer of nickel on top of it electrically formed.
Ist eine dritte Nachbildung mit Silber und Nickel hergestellt, so kann diese entweder als eine Preßmatrize für Kurzbetrieb verwendet werden, oder es wird mit ihr eine festere Nickelplatte nach Passivierung gebildet, die als Preßmatrize für längeren Betrieb verwendet wird.If a third replica is made with silver and nickel, it can either be used as a press die can be used for short-term operation, or it becomes a stronger nickel plate with it after passivation formed, which is used as a press die for longer operation.
Selbstverständlich sind bei dem in der Figur dargestellten Verfahren viele Änderungen möglich, wie noch beschrieben wird.Of course, many changes are possible in the method shown in the figure, such as will be described.
Wie noch erläutert wird, können einige der vorstehend genannten Verfahrensschritte hinsichtlich der Betriebsbedingungen, Stoffe, gewünschten Anzahl von Kopien usw. abgeändert werden. Dieses Verfahren ermöglicht die Herstellung von Nachbildungen eines Originals, das sehr empfindlich gegen Druck, Lösungsmittel oder Hitze ist, mit außergewöhnlich guter Qualität.As will be explained, some of the method steps mentioned above can be used with regard to the Operating conditions, substances, desired number of copies, etc. can be changed. This method enables the production of replicas of an original that is very sensitive to pressure, Solvent or heat is of exceptionally good quality.
Das nachzubildende Deformationsbild kann nach jedem geeigneten Verfahren hergestellt werden. Das erfindungsgemäße Verfahren ist speziell zur Nachbildung von Phasenhologrammen der in der Patentanmeldung R 45090 IX a/42 h beschriebenen Art geeignet. Es ist ferner zur Nachbildung von Mattierungsbildern der in der USA.-Patentschrift 3 196 001 beschriebenen Art und von Reliefbildern der in der USA.-Patentschrift 3 005 006 beschriebenen Art ge-The deformation image to be reproduced can be produced by any suitable method. That The method according to the invention is specifically for simulating phase holograms that in the patent application R 45090 IX a / 42 h described type suitable. It is also used to reproduce matting images of the type described in US Pat. No. 3,196,001 and of relief images of the type described in US Pat USA.-Patent 3 005 006 described type ge
i 621 783i 621 783
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eignet. Die nach diesen Verfahren erzeugten Defor- Typische organische Fotoleiter sind 1,4-Dicyanmationsbilder
sind im allgemeinen zerbrechlich und naphthalin; 2,5-bis-(p-Amino-phenyl)-l,3,4-oxidiazol;
gegenüber Hitze oder Reibung empfindlich. Diese N-Vinylcarbazol; Phthalocyanine, Chinacridone und
Bilder werden erzeugt, indem auf einer Oberfläche deren Mischungen. Besteht die verformbare Schicht
eines verformbaren thermoplastischen Stoffes ein 5 aus einem geeigneten aromatischen Polymer, so kann
elektrostatisches Ladungsmuster gebildet und der sie selbst durch Zusammensetzung mit einer geeigthermoplastische
Stoff auf seine Erweichungstempe- neten Lewissäure fotoleitfähig gemacht werden,
ratur erhitzt wird, wodurch das Deformationsbild Typische Lewissäuren sind 2,4,7-Trinitro-9-fluorenon,
spontan erscheint. Solche Bilder werden also im all- 4,4'-bis-(Dimethyl-amino) benzophenon, tetra-Chlorgemeinen
auf thermoplastischen Stoffen erzeugt, die io phthalsäureanhydrid, Chloranil, Picrinsäure, 1,3,5-oft
wenig oberhalb der Zimmertemperatur weich Trinitro-benzol und deren Mischungen,
werden. Das Oberflächendeformationsbild kann auf der Zur Erzeugung des nachzubildenden Originalbildes erhitzten verformbaren Schicht nach jedem geeigkann
jede geeignete verformbare, nichtleitende neten Verfahren gebildet werden. Allgemein gethermoplastische
Schicht verwendet werden. Typische 15 sprachen, bestehen die Bilderzeugungsschritte aus
nichtleitende thermoplastische Stoffe sind die GIy- einer gleichförmigen elektrostatischen Aufladung der
cerol- und Pentaerythritolester von teilweise hydrier- Schichtoberfläche, Belichtung der Oberfläche mit
tem Kolophonium, Polyalphamethylstyrol, Terpoly- einem zu reproduzierenden Lichtmuster und Ermere
von Styrol, Inden und Isopren; Piccolyte S-70 weichung der Schicht zur spontanen Ausbildung des
und S-IOO (Polyterpenharze von Beta-Pinen, erhält- 20 Oberflächendeformationsbildes. Befinden sich die
lieh von der Pennsylvania Industrial Chemical Com- verformbare Schicht und/oder die fotoleitfähige
pany mit nach Ring- und Kugelanalyse ermittelten Schicht auf einer leitfähigen Unterlage, wie z. B.
Schmelzpunkten von 70 bzw. 100° C); Piccopale einer Metallfolie oder einem polymeren Film mit
70 SF und Piccopale 85 (nicht reagierende Olefindien- einem transparenten leitfähigen Überzug, so kann
harze der Pennsylvania Industrial Chemical Company 25 die gleichförmige elektrostatische Ladung beispielsmit
Schmelzpunkten von 70 und 85° C und Mole- weise durch Koronaentladung erfolgen, wie sie in der
kulargewichten von 800 bzw. 1000); Piccolastic A-75, USA.-Patentschrift 2 588 699 beschrieben ist. Selbst-D-100
und E-100 (Polystyrolharze mit Schmelz- verständlich können durch diese Aufladung jedoch
punkten von 75 und 100° C der Pennsylvania auch andere Verfahren verwirklicht werden, bei-Industrial
Chemical Company); Amberol ST-137X 30 spielsweise durch reibungselektrische Aufladung, wie
(ein nicht reagierendes, nicht modifiziertes Phenol- sie in der USA.-Patentschrift 2 297 691 beschrieben
formaldehydharz der Firma Röhm & Haas); Neolyn ist. Sind die wärmeverformbare Schicht und/oder die
23 (ein Alkydharz der Hercules Chemical Company); fotoleitfähige Schicht selbsttragend ausgeführt oder
Polycarbonate, Polysulfone, Polyvinylchlorid, Mi- befinden sie sich auf einer nichtleitenden Unterlage,
schungen von Silikon- und Styrolharzen mit ge- 35 so.kann die gleichförmige Aufladung beispielsweise
ringem Molekulargewicht sowie Mischungen dieser mit dem Doppelkoronaverfahren erfolgen, wie es in
Stoffe. Vorzugsweise soll der thermoplastische Stoff der USA.-Patentschrift 2 885 556 beschrieben ist.
wenig oberhalb Zimmertemperatur weich werden und Soll ein Mattierungs- oder Reliefbild erzeugt werden,
bei der Erweichungstemperatur nichtleitend sein, so so wird eine Belichtung mit einem zu reproduzierendaß
sich seine Oberfläche in richtiger Weise abhängig 40 den Licht-Schatten-Muster vorgenommen. Ist die
von dem Oberflächenladungsmuster verformt. Im all- verformbare Schicht von sich aus fotoleitfähig, so
gemeinen sind diese vorzugsweisen Stoffe bei Zim- kann auf den Belichtungsschritt unmittelbar die Entmertemperatur
etwas weich und klebrig, und die wicklung folgen. Ist die verformbare Schicht als
Oberflächendeformationsmuster verschlechtern sich Überzug auf einen Fotoleiter aufgebracht, so ist es
bei leichter Erhitzung oder Berührung mit den 45 im allgemeinen vorteilhaft, die Oberfläche der 'vermeisten
organischen Lösungsmitteln. Daher müssen formbaren Schicht beispielsweise durch Koronadie
mit einem Bild versehenen Blätter sorgfältig be- ladung nochmals zu laden, um ein für die Entwickhandelt
werden. lung geeignetes Oberflächenladungsmuster zu erFalls erwünscht, kann die thermoplastische Iso- zeugen. Soll ein Phasenhologramm hergestellt werden,
lierstoffschicht auf einer fotoleitfähigen Isolierstoff- 50 so wird die Belichtung nach dem in der obengenannschicht
vorgesehen sein oder durch Einlagerung ge- ten Patentanmeldung beschriebenen Verfahren voreigneter
fotoleitfähiger Stoffe oder durch Sensitivie- genommen. Die Entwicklung kann auf jede geeignete
rung des Harzes zur Bildung eines fotoleitfähigen Weise erfolgen, wobei die Oberfläche der verformladungsübertragenden
Komplexstoffes fotoleitfähig baren Schicht zur Ausbildung des Deformationsbildes
gemacht werden. Typische als Überzug aufzu- 55 erreicht wird. Im allgemeinen wird die Platte vorbringende
fotoleitfähige Schichten bestehen aus zugsweise auf die Erweichungstemperatur der veramorphem
Selen, aus Pigmentstoff und Bindemittel formbaren Schicht erwärmt,, das Deformationsbild
mit fotoleitfähigen Pigmentstoffen, wie Kadmium- erzeugt und dann die Platte zur Fixierung des Bildes
sulfid, Kadmiumselenid, Zinksulfid, Zinkselenid, unter die Erweichungstemperatur abgekühlt. Auch
Zinkoxid, Bleioxid, Titandioxid, Bleijodid, Blei- 60 kann die Oberfläche, falls dies erwünscht ist, durch
selenid, dispergiert in einem nichtleitenden, film- Aufbringen einer Lösungsmittelflüssigkeit oder von
bildenden Bindemittel, wie ein Silikonharz, ein Dampf erweicht werden.suitable. Typical organic photoconductors are 1,4-dicyanmation images are generally fragile and are naphthalene; 2,5-bis (p-aminophenyl) -1, 3,4-oxidiazole; sensitive to heat or friction. This N-vinyl carbazole; Phthalocyanines, quinacridones and images are created by mixing them on a surface. If the deformable layer of a deformable thermoplastic material consists of a suitable aromatic polymer, an electrostatic charge pattern can be formed and it is made photoconductive to its softening temperature by combining it with a suitable thermoplastic substance, which is heated, whereby the deformation pattern typical Lewis acids are 2,4,7-trinitro-9-fluorenone, appears spontaneously. Such images are generated in all-4,4'-bis- (dimethyl-amino) benzophenone, tetra-chlorine common on thermoplastic materials, the io phthalic anhydride, chloranil, picric acid, 1,3,5-often a little above room temperature soft trinitro -benzene and their mixtures,
will. The surface deformation image can be formed on the deformable layer heated to produce the original image to be replicated by any suitable deformable, non-conductive method. Generally a thermoplastic layer can be used. Typical 15 languages, the image generation steps consist of non-conductive thermoplastic materials are the GIy- a uniform electrostatic charge of the cerol- and pentaerythritol esters from partially hydrogenated layer surface, exposure of the surface with tem rosin, polyalphamethylstyrene, terpoly- a light pattern to be reproduced and Ermere of styrene, Indene and isoprene; Piccolyte S-70 softening of the layer for the spontaneous formation of the and S-100 (polyterpene resins from beta-pinene, receives surface deformation image. If the layer borrowed from the Pennsylvania Industrial Chemical Com- deformable layer and / or the photoconductive pany with ring- and sphere analysis determined layer on a conductive base, such as melting points of 70 or 100 ° C); Piccopale a metal foil or a polymeric film with 70 SF and Piccopale 85 (non-reactive olefin - a transparent conductive coating, so resins from the Pennsylvania Industrial Chemical Company 25 the uniform electrostatic charge, for example with melting points of 70 and 85 ° C and mole by corona discharge take place as they are in the kulargewichten of 800 or 1000); Piccolastic A-75, U.S. Patent 2,588,699. Even-D-100 and E-100 (polystyrene resins with melt - understandably, however, other processes can be realized by this charge at points of 75 and 100 ° C in Pennsylvania, at-Industrial Chemical Company); Amberol ST-137X 30, for example, by triboelectric charging, such as (a non-reactive, non-modified phenol - formaldehyde resin from Röhm & Haas described in US Pat. No. 2,297,691); Neolyn is. Is the thermoformable layer and / or the 23 (an alkyd resin from Hercules Chemical Company); Self-supporting photoconductive layer or polycarbonates, polysulfones, polyvinylchloride, Mi- they are on a non-conductive surface, silicone and styrene resins with a low molecular weight, for example, and mixtures of these can be carried out using the double corona process, as is the case in fabrics. Preferably, the thermoplastic is said to be described in U.S. Patent 2,885,556. soften a little above room temperature and if a matting or relief image is to be produced which is non-conductive at the softening temperature, then an exposure is carried out with a surface that can be reproduced correctly depending on the light-shadow pattern. Is that deformed by the surface charge pattern. In the all-deformable layer inherently photoconductive, these preferred substances are so common at Zim- the demining temperature can be a bit soft and sticky immediately after the exposure step, and the winding can follow. If the deformable layer is applied to a photoconductor as a surface deformation pattern, it is generally advantageous to avoid organic solvents on the surface when it is slightly heated or in contact with the 45. Therefore, the mouldable layer, for example, by corona, the imaged sheets must be carefully reloaded in order to be treated for development. If desired, the thermoplastic insulation can produce a suitable surface charge pattern. If a phase hologram is to be produced, a layer of adhesive on a photoconductive insulating material, the exposure is carried out according to the method described in the above-mentioned layer or by incorporating suitable photoconductive substances or by means of sensitivities. The development can take place in any suitable manner of the resin for the formation of a photoconductive manner, the surface of the deformation charge transferring complex substance being made photoconductive ble layer for the formation of the deformation image. Typically applied as a coating. In general, the photoconductive layers that provide the plate consist of preferably the softening temperature of the amorphous selenium, the layer that can be formed from pigment and binder, the deformation image is generated with photoconductive pigments, such as cadmium, and then the plate for fixing the image sulfide, cadmium selenide, zinc sulfide , Zinc selenide, cooled below the softening temperature. Zinc oxide, lead oxide, titanium dioxide, lead iodide, lead 60, the surface can, if so desired, be softened by selenide, dispersed in a non-conductive, film, application of a solvent liquid or of a forming binder, such as a silicone resin, a vapor.
Styrol-Butadienharz od. ä. Geeignete organische Mit diesen Verfahren ergeben sich Originalbilder Fotoleiter können auch als Überzugsschichten aus- hoher Auflösung auf Stoffen, die durch Hitze, gebildet oder in die wärmeverformbare Schicht ein- 65 Lösungsmittel oder Abrieb beeinträchtigt werden gemischt sein. Falls erwünscht, können diese Foto- können. Die Deformationsbilder werden im allgemeileiter sensitiviert werden, wozu geringe Anteile von nen gelöscht, wenn die Oberfläche der Deformations-Farben oder Lewissäuren verwendet werden. schicht durch Hitze oder Lösungsmittel erweichtStyrene-butadiene resin or the like. Suitable organic With these methods, original images are obtained Photoconductors can also be used as coating layers - high resolution on materials that are exposed to heat, formed or impaired in the heat-deformable layer by a 65 solvent or abrasion be mixed. If desired, these can be photo- can. The deformation images are generally more advanced sensitized, including small portions of nen deleted when the surface of the deformation colors or Lewis acids can be used. layer softened by heat or solvents
9 109 10
wird, nachdem das bildmäßig verteilte Ladungs- RTV-116 und RTV-118, erhältlich von Generalafter the Imagewise Distributed Charge RTV-116 and RTV-118, available from General
muster abgeleitet wurde. Electric, Silastic RTV-501, Silastic RTV S-5137A,pattern was derived. Electric, Silastic RTV-501, Silastic RTV S-5137A,
Als ein erster Schritt bei der Erzeugung von Nach- Silastic RTV S-5138A, Silastic RTV S-5302 und bildungen eines Deformationsbildes soll das Original- Silastic RTV S-5303, erhältlich von Dow Corning, bild vorzugsweise derart behandelt werden, daß sich 5 sowie Mischungen dieser Stoffe. Vorzugsweise wird eine »Oberflächenhaut« mit einer Stärke größer als diese erste negative Nachbildung mit einem aushärtetwa 0,3 Mikron bildet. Die Fixierung der Ober- baren Stoff hergestellt. Optimale Ergebnisse ermögflächendeformation durch Bildung derartiger Ober- liehen Silikonkautschukverbindungen, die bei Tempeflächenhäute ist eingehender in der Patentanmeldung raturen unter etwa 93° C aushärten. Silikonkautschuk R 41261 IXa/57e beschrieben. Diese Oberflächen- io ergab die Nachbildung mit der höchsten Auflösung haut ist härter und weniger löslich und gibt damit unter allen getesteten härtbaren Stoffen. Silikondem Originalbild eine höhere Widerstandskraft kautschukarten werden aus Silikongummi gebildet, gegenüber Abrieb, geringer Erhitzung oder Beruh- Diese Gummiarten bestehen weitgehend aus PoIyrung mit geringen Mengen Lösungsmitteldampf. Zur meren von Dimethylsilikon. Sie können Dimethyl-Bildung der Oberflächenhaut kann jedes geeignete 15 siloxane, kopolymerisiert mit geringeren Mengen Verfahren angewendet werden. Sie kann an Ort und eines weiteren zweiwertigen Silikons, enthalten. Bei-Stelle oder durch Aufbringen eines Stoffes auf einen spielsweise können Polydimethylsiloxane mit etwa anderen Stoff erzeugt werden. Typische Verfahren 5 bis etwa 15 % Diphenylsilikon, Diäthylsilikon oder zur Hautbildung sind die Belichtung mit aktivieren- Methylphenylsilikon kopolymerisiert sein. Das SiIidem Licht, X-Strahlen, Betastrahlen, Gammastrahlen, 20 kongummi kann ferner aktive Gruppen, wie SiH, Elektronenbeschuß, Koronaentladung, Hochspan- SiOH oder SiOC2H5 enthalten, und Vinyl-, Fluornungsentladung, Belichtung mit sichtbarem Licht, kohlenstoff- oder Nitrilgruppen können in das Einwirkung von Luft, Einwirkung von chemischen Silikonmolekül eingefügt sein. Falls erwünscht, kön-Stoffen, wie Oxydationsmittel und/oder Mittel zur nen feinverteilte Füllmittel, wie Silikagel, Kalzium-Bildung von Querverbindungen, Beifügung von Sen- 25 carbonat, Titandioxid, Eisenoxid oder deren Mischunsitivierungsmitteln zur Erhöhung der Empfindlich- gen mit dem Silikongummi gemischt sein, um die keit der wärmeverformbaren Schicht gegenüber der Spannungsfestigkeit der endgültigen Silikonkautschuk-Behandlung zur Hautbildung, Sprühen, Tauchüber- nachbildung zu erhöhen. Im allgemeinen erhöht sich zug sowie jede geeignete Kombination der Ver- die Bildauflösung bei abnehmendem mittlerem fahren. Abhängig von der Zusammensetzung der 30 Durchmesser der Füllstoffteilchen. Typische Füllverformbaren Schicht können der Grad und die stoffe haben einen Teilchendurchmesser von etwa Dauer der Belichtung mit den verschiedenen Strah- 10 Millimikron bis etwa 1 Mikron. Jeder geeignete lungsquellen zur Bildung einer geeigneten Ober- Katalysator, wie Metallseifen, Peroxide und andere flächenhaut geändert werden. Für die vorzugsweise Stoffe zur Erzeugung freier Radikale, kann zur Ausanzuwendenden deformierbaren Stoffe wurde ge- 35 härtung der Silikongummiverbindungen, die einen funden, daß eine ausreichend lange Belichtung mit Katalysator benötigen, verwendet werden. Typische ultravioletter Strahlung eine Oberflächenhaut ergibt, Katalysatoren sind Benzoylperoxid, Dichlorbenzoyldie ausgezeichnete Fixierungseigenschaften zeigt. peroxid, di-tert-Butylperoxid, t-Butylperoxid und Daher ist die Ultraviolettbelichtung das vorzugsweise deren Mischungen. Die Geschwindigkeit der Ausanzuwendende Verfahren zur Bildung der Ober- 40 härtung hängt von der relativen Menge des verwenflächenhaut. deten Katalysators ab. Befriedigende Aushärtungs-As a first step in creating post-Silastic RTV S-5138A, Silastic RTV S-5302 and forming a deformation image, the original Silastic RTV S-5303 available from Dow Corning should preferably be treated to have 5 as well as Mixtures of these substances. Preferably, a "surface skin" with a thickness greater than this first negative replica is formed with a cure of about 0.3 microns. The fixation of the upper barren fabric is made. Optimal results are made possible by deformation of the surface due to the formation of such superficial silicone rubber compounds, which in the case of tempered surface skins cure temperatures below about 93 ° C in the patent application. Silicone rubber R 41261 IXa / 57e described. This surface io resulted in the replica with the highest resolution skin is harder and less soluble and is therefore among all curable substances tested. Silicondem original picture a higher resistance rubber types are made of silicone rubber, against abrasion, low heating or calming These types of rubber consist largely of polishing with small amounts of solvent vapor. For mixing dimethyl silicone. You can dimethyl formation of the surface skin using any suitable 15 siloxane, copolymerized with lesser amounts process. It can contain on-site and one more bivalent silicone. Polydimethylsiloxanes, for example, can be produced with another substance, for example, on the spot or by applying a substance. Typical processes for 5 to about 15% diphenyl silicone, diethyl silicone or for skin formation are exposure to be copolymerized with activated methylphenyl silicone. The SiIidem light, X-rays, beta rays, gamma rays, 20 kongummi can also contain active groups such as SiH, electron bombardment, corona discharge, high voltage SiOH or SiOC 2 H 5 , and vinyl, fluorine discharge, exposure to visible light, carbon or Nitrile groups can be incorporated into the action of air, action of chemical silicone molecule. If desired, substances such as oxidizing agents and / or agents can be mixed with the silicone rubber to increase the sensitivity, finely divided fillers such as silica gel, calcium formation of cross-connections, addition of carbonate, titanium dioxide, iron oxide or their mixed unsitivating agents in order to increase the ability of the heat-deformable layer compared to the dielectric strength of the final silicone rubber treatment for skin formation, spraying, dipping over-simulation. In general, tension, as well as any suitable combination of the methods, increases the image resolution with decreasing mean driving. Depending on the composition of the 30 diameter of the filler particles. A typical fill-deformable layer can have a particle diameter of about the duration of exposure to the various beams - 10 millimicrons to about 1 micron. Any suitable ventilation sources can be modified to form a suitable surface catalyst, such as metallic soaps, peroxides and other surface skins. For the preferably substances for generating free radicals, the deformable substances to be used can be hardened silicone rubber compounds, which have found that a sufficiently long exposure to catalyst can be used. Typical ultraviolet radiation gives a surface skin, catalysts are benzoyl peroxide, dichlorobenzoyl which shows excellent fixation properties. peroxide, di-tert-butyl peroxide, t-butyl peroxide and therefore ultraviolet exposure is the preferably mixtures thereof. The speed of the process to be used to form the surface hardening depends on the relative amount of the applied skin. deten catalyst. Satisfactory curing
Der zweite Schritt bei dem erfindungsgemäßen geschwindigkeiten erreicht man bei bis zu 5 Ge-Nachbildungsverf ahren ist die Herstellung einer nega- wichtsprozent Katalysator, bezogen auf das Gewicht tiven Nachbildung durch Abguß des originalen De- des Silikonkautschuks. Man nimmt an, daß die Ausformationsbildes. 45 härtung durch die Bildung von Siloxanquerverbin-The second step in the speeds according to the invention is achieved with up to 5 Ge replication methods uring is producing a negative weight percent catalyst based on weight tive replica by casting the original silicone rubber. It is believed that the formation image. 45 hardening through the formation of siloxane cross-links
Jeder geeignete härtbare Stoff kann zur Erzeugung düngen zwischen den polymeren Ketten auftritt. Der
der negativen Nachbildung verwendet werden. Es ist aushärtbare Stoff wird zur Entfernung eingeschloswichtig,
daß der Stoff die Erzeugung einer Nach- sener Luft in ein Vakuum eingegeben und dann in
bildung mit hoher Auflösung ermöglicht. Ferner darf Schmelze mit dem zu reproduzierenden Deformadie
Schrumpfung bei Verfestigung des Stoffes nur 50 tionsbild in Berührung gebracht. Dann wird er ausgering
sein. Außerdem soll eine Erhitzung über 93° C gehärtet und von dem Originalbild abgezogen,
zur Verfestigung nicht nötig sein und während der Der nächste Schritt des erfindungsgemäßen NachHärtung
keine Wärme erzeugt werden. Da die meisten bildungsverfahrens besteht in der Herstellung einer
Stoffe der Deformationsbilder gegenüber Beschädi- zweiten, positiven Nachbildung, die von der ersten,
gung durch die meisten organischen Lösungsmittel 55 negativen Nachbildung abgegossen wird. Hierzu kann
empfindlich sind, soll der aufzugießende Stoff keine jeder geeignete filmbildende Stoff, der verflüssigt wer-Anteile
dieser Lösungsmittel enthalten. Typische den kann und nicht an der ersten Nachbildung haftet,
härtbare Stoffe sind Metallegierungen mit niedrigem verwendet werden. Er wird in einem Lösungsmittel
Schmelzpunkt, wie Cerralow 117, eine Wismut- aufgelöst. Die relative Menge der verwendeten
Indium-Legierung der Cerro Corporation; Wachse, 60 Lösung ist unkritisch, am wichtigsten ist lediglich die
wie Epolene C-12, ein Polyäthylenwachs mit ge- endgültige Bildung eines kontinuierlichen Filmes,
ringem Molekulargewicht, erhältlich von der Eastman Typische filmbildende Stoffe sind Lösungen von
Chemical Co.; Gelatine, wie das von der Knox Polystyrol in Toluol, Polymethylmethacrylat in
Gelatin Company erzeugte Nahrungsmittelprodukt, Methyläthylketon, Polyäthylmethacrylat in Äthylen-Polyvinylalkohole,
wie Elvanol 71-30 und Elvanol 65 dichlorid, Zelluloseacetatbutyrat in Äthylacetat, aus-72-60,
erhältlich von duPont Electrochemical; SiIi- härtbare Epoxydharze, aushärtbare Polyesterharze,
konkautschukarten mit einer oder mehreren Kompo- geschmolzenes Polystyrol, geschmolzenes Polymethylnenten,
wie RTV-Il, RTV-20, RTV-60, RTV-112, methacrylat, geschmolzenes Polyäthylen, Plastisole,Any suitable curable material can be used to produce fertilization occurring between the polymeric chains. That of the negative replica can be used. It is curable substance is included for removal, it is important that the substance allows the generation of a residual air in a vacuum and then in formation with high resolution. Furthermore, the melt may only come into contact with the deformation to be reproduced, the shrinkage upon solidification of the material. Then it will be out. In addition, heating above 93 ° C should harden and subtract from the original image,
may not be necessary for solidification and no heat is generated during the post-curing process according to the invention. Since most of the educational process consists in producing a substance of the deformation images against damage- second, positive replica, which is poured off from the first, generation by most organic solvents 55 negative replica. This can be sensitive if the substance to be poured on should not contain any suitable film-forming substance that liquefies and contains fractions of these solvents. Typical which can and does not adhere to the first replica, hardenable substances are metal alloys with low levels of use. It is dissolved in a melting point solvent such as Cerralow 117, a bismuth. The relative amount of Cerro Corporation indium alloy used; Waxes, 60 solution is not critical, most importantly only those such as Epolene C-12, a polyethylene wax with ultimate formation of a continuous film, ring molecular weight, available from Eastman Typical film-forming materials are solutions from Chemical Co .; Gelatin such as the food product made by Knox Polystyrene in Toluene, Polymethyl methacrylate in Gelatin Company, methyl ethyl ketone, polyethylene methacrylate in ethylene-polyvinyl alcohols such as Elvanol 71-30 and Elvanol 65 dichloride, cellulose acetate butyrate in ethyl acetate, from Electro-72-60 available from duPontical ; SiIi-curable epoxy resins, curable polyester resins, common rubbers with one or more components molten polystyrene, molten polymethylnents, such as RTV-II, RTV-20, RTV-60, RTV-112, methacrylate, molten polyethylene, plastisols,
wie Polyvinylchloridharz, dispergiert in 2-Äthylphenylester, und Mischungen dieser Stoffe. Acrylharze, insbesondere Polyisobutylmethacrylat, werden vorzugsweise verwendet, da sie gleichmäßig ohne Blasenbildung aushärten und mit der im allgemeinen verwendeten Unterlage verträglich sind, die oft aus Acrylstoffen besteht. Daher werden diese Stoffe zur Herstellung der zweiten, positiven Nachbildung vorzugsweise verwendet. Zur Bildung einer flachen, zweiten Nachbildung wird der Stoff als dünne, flüssige Schicht auf eine Unterlage und/oder auf die erste Nachbildung aufgebracht. Während, vor oder nach der Verfestigung der flüssigen Schicht oder Schichten wird die Unterlage auf die erste Nachbildung unter leichtem Druck aufgelegt. Ist die Verfestigung vor dem Auflegen noch nicht eingetreten, so läßt man die flüssige Schicht oder Schichten lange genug aushärten oder trocknen. Das Gußprodukt ist eine starre, flache zweite (positive) Nachbildung des Originalbildes. Läßt man eine flüssige Schicht des Gußstoffes auf der Oberfläche der ersten Nachbildung sich verfestigen, bevor die Unterlage aufgelegt wird, so wird die Übertragung der verfestigten Schicht auf die Unterlage gelegentlich durch die Einwirkung von Wärme auf die Unterlage vor oder während der Übertragung verbessert, insbesondere wenn die verfestigte Schicht nichtklebend ist. Die Verfestigung der flüssigen Schicht auf der Oberfläche der ersten Nachbildung vor der Übertragung wird jedoch vorgezogen, da eine schnellere Produktion möglich ist, insbesondere, wenn filmbildende Stoffe verwendet werden, die in einem flüchtigen Lösungsmittel aufgelöst sind. Reicht der Druck bei der Übertragung des verfestigten Stoffes nicht zum Anhaften der gegossenen Schicht an der Unterlage aus, so kann eine Erweichung der Schicht und/oder der Unterlage mit einem Lösungsmittel durchgeführt werden, oder es wird jeder geeignete übliche Klebstoff zur Bindung der Schicht an der Unterlage angewendet. Die Unterlage kann jede geeignete Stärke haben, starr oder flexibel, löslich oder unlöslich, durchsichtig oder undurchsichtig sein und kann als Band, Blatt, Platte od. ä. ausgeführt sein. Die Unterlage soll jedoch zumindest eine glatte Oberfläche haben, die die zweite Nachbildung ohne Zerstörung des Bildes trägt. Die erste Nachbildung kann als Mutterplatte zur Erzeugung einer Vielzahl endgültiger zweiter, positiver Nachbildungen verwendet werden. Das vorzugsweise Verfahren zur Erzeugung der zweiten Nachbildung besteht aus den Schritten der Verfestigung des hartbaren Gußstoffes in einen klebrigen Zustand und der Übertragung des verfestigten Stoffes durch Druckeinwirkung auf die Oberfläche einer Unterlage. Der verwendete Druck ist nicht kritisch, er soll jedoch zumindest zum guten Kontakt zwischen dem Gußstoff und der Oberfläche der Unterlage ausreichen. Ausgezeichnete Nachbildungen erhält man, wenn der Gußstoff so klebrig ist, daß er innerhalb von 5 Sekunden unter leichtem Druck, d. h. Daumendruck, an einem Blatt aus klarem Zelluloseacetat anhaftet und nach Trennung der ersten Nachbildung haftenbleibt. Obwohl geschmolzene oder härtbare Gußstoffe verwendet werden sollen, erhält man auch optimale Ergebnisse mit Lösungen von filmbildenden Polymeren in flüchtigen Lösungsmitteln. Lösungen von filmbildenden Polymeren erreichen den klebrigen Zustand schneller als andere härtbare Stoffe mit weniger Energieaufwand und erzeugen Bilder mit größerer Auflösung. Die Menge der Gußlösung soll zur Bildung einer trockenen Schicht mit glatter deformationsfreier Außenfläche ausreichen.like polyvinyl chloride resin, dispersed in 2-ethylphenyl ester, and mixtures of these substances. Acrylic resins, especially polyisobutyl methacrylate, are used preferably used because they cure uniformly without blistering and with that in general used underlay are compatible, which often consists of acrylic fabrics. Therefore these substances are used for Preferably used to fabricate the second, positive replica. To form a flat, The second replica is the substance as a thin, liquid layer on a base and / or on the first replica applied. During, before or after the solidification of the liquid layer or Layers, the base is placed on the first replica with light pressure. Is the solidification not yet entered before application, the liquid layer or layers are left for a long time cure or dry enough. The cast product is a rigid, flat second (positive) replica of the Original image. Leaving a liquid layer of the cast material on the surface of the first replica solidify before the backing is laid down, so the transfer of the solidified Layer on the base occasionally due to the action of heat on the base or before improved during transfer, especially if the solidified layer is non-adhesive. the Solidification of the liquid layer on the surface of the first replica before transfer is made however, preferred as faster production is possible, especially when using film-forming materials dissolved in a volatile solvent can be used. Is the pressure sufficient for the transmission of the solidified material does not allow the cast layer to adhere to the substrate, so can a softening of the layer and / or the substrate can be carried out with a solvent, or any suitable conventional adhesive is used to bond the layer to the backing. The underlay can be of any suitable thickness, rigid or flexible, soluble or insoluble, clear or opaque and can be designed as a tape, sheet, plate or the like. The document should at least have a smooth surface that will support the second replica without destroying the image. the first replica can be used as a motherboard to produce a multitude of final second, positive Replicas are used. The preferred method for generating the second replica consists of the steps of solidifying the hardenable Cast material in a sticky state and the transfer of the solidified material by the action of pressure on the surface of a pad. The pressure used is not critical, but it should at least sufficient for good contact between the cast material and the surface of the base. Excellent replicas are obtained when the cast material is so sticky that it takes 5 seconds under slight pressure, d. H. Thumb pressure attached to a sheet of clear cellulose acetate and sticks after separation of the first replica. Although melted or hardenable cast materials are to be used, one also obtains optimal results with solutions of film-forming Polymers in volatile solvents. Solutions of film-forming polymers reach the sticky one Condition faster than other hardenable materials with less energy expenditure and generate images with greater resolution. The amount of casting solution should be used to form a dry, smooth layer deformation-free outer surface are sufficient.
Ist eine Mutterplatte aus Metall erwünscht, so wird eine Nachbildung mit Metalloberfläche hergestellt. Nach chemischer Reinigung und Sensitivierung der Oberfläche der zweiten Nachbildung wird ein Metall, wie Silber, chemisch reduziert und auf die zweite Nachbildung bis zu einer Stärke aufgesprüht, die das NichtVorhandensein von Poren gewährleistet und den nachfolgend einwirkenden elektrischen Galvanisierungsstrom aushält. Diese Stärke beträgt vorzugsweise etwa 7,5 oder 10 · 10~6 cm für diese Zwecke. Dieser Überzug schafft die zur galvanischen Herstellung einer guten Metallmutterplatte erforderliche sehr leitfähige Oberfläche. Ein geeignetes Verfahren zur Sensitivierung und Versilberung wird von A. M. Max in »Application of Electroforming to the Manufacturing of Disk Records« in ASTM Special Technical Publication Nr. 318 (1962), beschrieben. Die zweite Nachbildung wird dann in ein Galvanisierungsbad aus Nickelsulfamat gegeben, und auf die leitfähige Oberfläche wird Nickel galvanisch aufgebracht. Das Bad wird auf einer Temperatur von etwa 54° C gehalten, während der Strom für eine Platte von 30 cm etwa 50 Ampere beträgt. Die Galvanisierung wird fortgesetzt, bis die Schicht eine zum Selbsttragen ausreichende Stärke hat. Eine optimale Schichtbeschaffenheit und Sicherheit gegen Bildzerstörung ergeben sich mit einer Dicke der Nickelschicht zwischen etwa 0,13 und 0,3 mm. Dann wird die Metallschicht von der Plastikunterlage abgehoben, wobei sie sich leicht von dieser trennt, und ergibt so eine dritte, versilberte Metallmutterplatte mit negativem Bild. Diese Metallmutterplatte kann nun zum Pressen von Nachbildungen des originalen Deformationsbildes verwendet werden, wozu die nachstehend beschriebenen Preßverfahren dienen. Es kann jedoch, falls erwünscht, auch eine dauerhaftere Metallmutterplatte hergestellt werden. Vorzugsweise werden Nickelsulfamatbäder verwendet, da sich mit diesen eine schnelle und gleichmäßige Ablagerung ergibt.If a metal mother plate is desired, a replica with a metal surface is produced. After chemical cleaning and sensitization of the surface of the second replica, a metal, such as silver, is chemically reduced and sprayed onto the second replica to a thickness that ensures the absence of pores and withstands the subsequent electrical electroplating current. This thickness is preferably about 7.5 or 10x10 -6 cm for this purpose. This coating creates the very conductive surface required for the electroplating production of a good metal mother plate. A suitable method for sensitizing and silvering is described by AM Max in "Application of Electroforming to the Manufacturing of Disk Records" in ASTM Special Technical Publication No. 318 (1962). The second replica is then placed in an electroplating bath of nickel sulfamate and nickel is electroplated onto the conductive surface. The bath is maintained at a temperature of about 54 ° C while the current for a 30 cm plate is about 50 amps. Electroplating is continued until the layer is sufficiently thick to support itself. An optimal layer quality and security against image destruction result with a thickness of the nickel layer between about 0.13 and 0.3 mm. Then the metal layer is lifted from the plastic base, where it separates slightly from it, and so results in a third, silver-plated metal mother plate with a negative image. This metal mother plate can now be used for pressing replicas of the original deformation image, for which purpose the pressing processes described below are used. However, a more durable metal mother plate can be made if desired. Nickel sulphamate baths are preferably used, since they result in rapid and even deposition.
Zur Bildung einer dauerhafteren Metallnachbildung wird die Oberfläche der dritten, negativen Nachbildung mit einer Kaliumdichromatlösung behandelt, um die Oberfläche chemisch zu passivieren. Diese Behandlung erlaubt die Galvanisierung einer ganz aus Nickel bestehenden Nachbildung auf der versilberten Fläche, verhindert jedoch eine Bindung beider Metalle aneinander. Es ergibt sich daraus eine dauerhafte, vierte Nickelnachbildung mit positivem Bild. Falls erwünscht, kann auch eine fünfte Nickelnachbildung mit negativem Bild aus der vierten Nachbildung gewonnen werden. Auch kann, falls erwünscht, die Oberfläche verchromt werden, um die Lebensdauer der Preßplatte zu verlängern.To create a more permanent metal replica the surface of the third, negative replica is treated with a potassium dichromate solution, to chemically passivate the surface. This treatment allows the electroplating of a whole Replica made of nickel on the silver-plated surface, but prevents binding both metals together. This results in a permanent, fourth nickel replica with a positive Image. If desired, a fifth nickel replica with a negative image from the fourth replica can also be used be won. If desired, the surface can also be chrome-plated in order to achieve the To extend the life of the press plate.
Unabhängig von dem Verfahren zur Herstellung der endgültigen Metallpreßplatte werden die endgültigen Nachbildungen des originalen Deformationsbildes mit dem vorstehend beschriebenen Verfahren zur Herstellung einer Vielzahl endgültiger zweiter Nachbildungen oder durch Pressen hergestellt. Das im folgenden beschriebene Verfahren nach der Erfindung ist ein Heißpreßverfahren. Ein dünner, trokkener thermoplastischer Film (Zelluloseacetat mit einer Stärke von etwa 0,08 bis etwa 0,25 mm) wird zwischen einer erhitzten Nickelpreßplatte und einem Polster gepreßt, das flach sein kann oder die Kon-Regardless of the method of making the final metal press plate, the final Replicas of the original deformation image using the method described above made for making a variety of final second replicas or by pressing. That The method according to the invention described below is a hot pressing method. A thin, dry one thermoplastic film (cellulose acetate with a thickness of about 0.08 to about 0.25 mm) pressed between a heated nickel press plate and a pad, which can be flat or the con-
türen einer positiven Mutterplatte entsprechend der Kontur der negativen Preßplatte haben kann. Der thermoplastische Film wird vorher auf eine Temperatur erhitzt, so daß keine thermischen Schockwirkungen auftreten, wenn er gegen die noch heißere Preßplatte gedrückt wird. Da die Tiefe der Oberflächendeformationen insbesondere im Falle eines holographischen Originalbildes nur sehr gering ist (in der Größenordnung von 0,5 Mikron), tritt wenig oder kein Zerfließen des Kunststoffes auf, höchstens eine leichte Verlagerung. Am Ende der Preßzeit wird die gepreßte thermoplastische Folie gelöst. Überraschenderweise ist dies ohne eine vorherige Abkühlung möglich. Man erhält eine heiß gepreßte Nachbildung des originalen Deformationsbildes mit guter Qualität. Für dieses Verfahren kann jeder geeignete thermoplastische Stoff verwendet werden. Typische derartige Stoffe sind Acetate, wie Zelluloseacetat, Zelluloseacetatbutyrat, Zellulosetriacetat, Butyrate, Polycarbonate; Polyester, wie Polyäthylenterephthalat; Vinylharze, wie Polyvinylchlorid, PoIysulfonharze und Mischungen dieser Stoffe. Zufriedenstellende Bilder ergeben sich mit den meisten getesteten thermoplastischen Stoffen bei einem Preßdruck zwischen etwa 27 und 408 atü, wenn eine Vorerwärmung des thermoplastischen Films bis ungefähr zur Erweichungstemperatur vorgenommen wird, eine Preßplattentemperatur von etwa 49 bis etwa 204° C und eine Preßzeit von weniger als etwa 30 Sekunden verwendet wird. Im allgemeinen sind höhere Druckwerte erforderlich, wenn geringere Preßplattentemperaturen verwendet werden. Es zeigte sich, daß die besten Nachbildungen auf Zelluloseacetat entstehen, wenn ein Preßdruck von etwa 27 bis 408 atü, eine Vorerhitzungstemperatur bis zu etwa 93° C, eine Preßplattentemperatur von etwa 49 bis etwa 149° C und eine Preßzeit von etwa 1 bis 10 Sekunden angewendet werden. Diese Werte werden deshalb zum Heißpressen der genauesten Nachbildungen auf Zelluloseacetat verwendet. Jedoch kann auch jeder andere geeignete Stoff hierzu dienen. Auch kann ein Kaltpreßverfahren angewendet werden. Das Heißpressen wird jedoch vorzugsweise angewendet, da ein geringerer Druck ausreicht und die Zerstörung der Bildfläche wesentlich verringert ist. Zur Herstellung holographischer Refiexionsbilder können metallüberzogene Plastikfilme verwendet werden. Auch kann eine durchsichtige Plastiknachbildung nach der Herstellung des Bildes metallisiert werden. Beide Seiten der Plastikfolie können gleichzeitig oder nacheinander mit demselben oder verschiedenen Hologrammen gepreßt werden. Selbstverständlich kann die Preßmutterplatte entweder eben oder auf einen Zylinder aufgezogen sein, mit dem sie über die thermoplastischen Folien gerollt wird.Doors of a positive mother plate can have according to the contour of the negative press plate. Of the thermoplastic film is previously heated to a temperature so that no thermal shock effects occur when it is pressed against the even hotter press plate. Because the depth of the surface deformations especially in the case of an original holographic image, very small (on the order of 0.5 microns), little occurs or no melting of the plastic, at most a slight displacement. At the end of the pressing time the pressed thermoplastic film dissolved. Surprisingly, this is done without any prior cooling possible. A hot-pressed replica of the original deformation image is obtained with good Quality. Any suitable thermoplastic material can be used for this process. Typical such substances are acetates, such as cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, cellulose triacetate, butyrates, Polycarbonates; Polyesters such as polyethylene terephthalate; Vinyl resins such as polyvinyl chloride, polysulfone resins and mixtures of these substances. Most of the tested images produce satisfactory images thermoplastic materials at a pressure between about 27 and 408 atmospheres when preheated of the thermoplastic film is made to about the softening temperature, a Press plate temperature of about 49 to about 204 ° C and a press time of less than about 30 seconds is used. In general, higher pressures are required when lower press plate temperatures be used. It turned out that the best replicas are made on cellulose acetate, when a pressing pressure of about 27 to 408 atmospheres, a preheating temperature up to about 93 ° C, a Press plate temperature of about 49 to about 149 ° C and a pressing time of about 1 to 10 seconds applied will. These values are therefore used to hot-press the most accurate replicas Cellulose acetate used. However, any other suitable substance can also be used for this purpose. Also can a Cold pressing processes are used. However, hot pressing is preferably used because a lower pressure is sufficient and the destruction of the image area is significantly reduced. For the production For reflective holographic images, metal coated plastic films can be used. A clear plastic replica can also be metallized after the image has been created. Both sides of the plastic wrap can be used simultaneously or consecutively with the same or different Holograms are pressed. Of course, the press nut plate can either be flat or open a cylinder with which it is rolled over the thermoplastic films.
Es sei bemerkt, daß mit dem vorstehend beschriebenen Heißpreßverfahren der thermoplastische Film für vergleichsweise kurze Zeit unter Druck steht und dann heiß abgelöst wird, so daß der erweichte Kunststoff während der Abkühlung nicht in der Preßform verbleibt. Überraschenderweise ergibt sich bei direkter Betrachtung des Bildes keine Formänderung trotz der Tatsache, daß der Stoff vor der Entfernung aus der Preßform nicht abgekühlt wurde. Dies macht eine Temperaturverringerung der Preßform nach der Erzeugung einer jeden Nachbildung überflüssig und erlaubt eine extrem schnelle Herstellung einer Anzahl sehr guter Nachbildungen mit einer einzigen Mutterplatte. Im Gegensatz zu einer Erweichung mit Lösungsmitteln hat dieses Heißpreßverfahren den Vorteil, daß es völlig trocken arbeitet und eine Auffrischung oder Nachlieferung von Lösungsmitteln nicht erfordert.It should be noted that with the above-described hot press method, the thermoplastic film is under pressure for a comparatively short time and is then removed hot, so that the softened plastic does not remain in the mold during cooling. Surprisingly, it turns out to be Direct viewing of the image does not change its shape despite the fact that the fabric is prior to removal was not cooled from the mold. This makes a temperature reduction of the die after the Generating each replica is superfluous and allows extremely rapid production of a number very good replicas with a single mother plate. In contrast to a softening with Solvents this hot pressing process has the advantage that it works completely dry and a refreshment or subsequent delivery of solvents is not required.
Die folgenden Beispiele dienen der weiteren Erläuterung des erfindungsgemäßen Verfahrens zur Nachbildung eines Deformationsbildes. Alle Anteile beziehen sich auf das Gewicht, falls nicht anders angegeben. Die Beispiele stellen vorzugsweise Ausführungsformen des erfindungsgemäßen Verfahrens dar.The following examples serve to further illustrate the process according to the invention for Reproduction of a deformation image. All parts are based on weight, unless otherwise stated. The examples preferably represent embodiments of the method according to the invention.
Zunächst wird ein holographisches Originalbild hergestellt. Es wird eine Uberzugslösung gebildet, die etwa 20 Teile Polyvinylcarbazol, etwa 0,1 Teil Brilliant Green Special (ein Triphenylmethanfarbstoff der Allied Chemical Company), etwa 100 Teile Dioxan und etwa 110 Teile Dichlormethan enthält.First, an original holographic image is produced. A coating solution is formed which about 20 parts polyvinyl carbazole, about 0.1 part Brilliant Green Special (a triphenylmethane dye from Allied Chemical Company), about 100 parts of dioxane and about 110 parts of dichloromethane.
Diese Lösung wird auf die leitfähige Oberfläche einer NESA-Glasplatte (Glasunterlage, überzogen mit einer extrem dünnen, durchsichtigen Zinnoxydschicht, erhältlich von der Pittsburg Plate Glass Company) bis zu einer trockenen Stärke von etwa 7 Mikron aufgebracht. Auf diese fotoleitfähige Schicht wird eine Schicht aus Staybelite-Ester 10 (ein Glycerolester von 60%ig hydriertem Kolophonium, erhältlich von der Hercules Chemical Company) bis zu einer trokkenen Stärke von etwa 1 Mikron aufgebracht. Diese Schicht wird aufgebracht, indem ihre Unterlage mit einer Geschwindigkeit von etwa 12,5 cm pro Minute aus einer 2O°/oigen Lösung des Harzes in einem Kerosenlösungsmittel herausgezogen wird. Nach Trocknung besteht die vollständige Bildplatte aus einer leitfähigen Unterlage, einer fotoleitfähigen Schicht und einer deformierbaren thermoplastischen Schicht. Diese Platte wird bei Dunkelheit mit Koronaentladung auf eine Oberflächenspannung von etwa 500 Volt aufgeladen. Die Platte wird dann in einer Anordnung belichtet, wie sie in Fig. 1 der Patentanmeldung R 45090 IXa/42 h dargestellt ist. Dabei erfolgt eine Belichtung mit Objekt- und Bezugsstrahlen unter Verwendung eines Helium-Neon-Dauerstrich-Lasers, der im Tem-00-Betrieb bei 6328 Ängström arbeitet (Modell 5200 der Perkin Eimer Company). Der Bezugsstrahl fällt unter einem Winkel von etwa 30° ein.This solution is applied to the conductive surface of a NESA glass plate (glass substrate, covered with a extremely thin, clear tin oxide film available from Pittsburg Plate Glass Company) to applied to a dry thickness of about 7 microns. On this photoconductive layer is a Layer of Staybelite Ester 10 (a glycerol ester of 60% hydrogenated rosin, available from Hercules Chemical Company) to a dry thickness of about 1 micron. These Layer is applied by its backing at a speed of about 12.5 cm per minute is extracted from a 20% solution of the resin in a kerosene solvent. To When drying, the entire image plate consists of a conductive base, a photoconductive one Layer and a deformable thermoplastic layer. This plate is in the dark with Corona discharge charged to a surface tension of about 500 volts. The plate will then be in exposed an arrangement as shown in Fig. 1 of patent application R 45090 IXa / 42 h. Exposure to object and reference beams is carried out using a helium-neon continuous wave laser, who works in Tem-00 mode at 6328 Angstrom (model 5200 from Perkin Bucket Company). The reference ray is incident at an angle of approximately 30 °.
Nach nochmaliger Aufladung wird die Platte dann langsam auf ihre Erweichungstemperatur erhitzt. Das rekonstruierte Bild ist gleichzeitig mit der Bildung des Hologramms zu beobachten. Nach guter Ausbildung der Deformationen wird die Platte zur Fixierung des Bildes abgekühlt. Es ergibt sich eine holographische Aufzeichnung ausgezeichneter Qualität mit einer Auflösung von etwa 800 Linien pro Millimeter. After being charged again, the plate is then slowly heated to its softening temperature. That The reconstructed image can be observed simultaneously with the formation of the hologram. After a good education the deformations, the plate is cooled to fix the image. The result is a holographic one Excellent quality recording with a resolution of around 800 lines per millimeter.
Das Hologramm wird etwa 6 Stunden lang dem ultravioletten Licht einer Quecksilber-Bogenlampe der General Electric von 100 Watt in einem Abstand von etwa 15 cm ausgesetzt. Wie oben beschrieben, wird dadurch die Oberfläche widerstandsfähig gemacht. The hologram is exposed to ultraviolet light from a mercury arc lamp for about 6 hours exposed to the General Electric of 100 watts at a distance of about six inches. As described above, this makes the surface more resistant.
Etwa 100 Teile RTV-Il (eine bei Zimmertemperatur vulkanisierende Silikonkautschukverbindung der General Electric Company) werden mit etwa 0,3 Teilen eines zugehörigen Katalysators gemischt. Diese Mischung wird in einem Vakuumtrockner bei einem Druck von weniger als 0,17 atü gehalten, umAbout 100 parts of RTV-II (a silicone rubber compound that vulcanizes at room temperature from General Electric Company) are mixed with about 0.3 part of an associated catalyst. This mixture is kept in a vacuum dryer at a pressure of less than 0.17 atm
eingeschlossene Luftblasen zu entfernen. Auf der Oberfläche der Mischung wird dadurch eine Schaumbildung verursacht. Nach etwa 5 Minuten wird der Druck langsam auf Atmosphärendruck gebracht. Das Originalhologramm wird dann mit der Bildfläche nach oben in den Boden einer rechteckförmigen Preßform von 12,7 mm gelegt. Nach Abstreichen der Oberfläche der evakuierten Silikonkautschukmischung wird diese sorgfältig in die Form bis zu einer Höhe von etwa 9,5 mm eingegossen, so daß alle Konturen vollständig gefüllt sind. Das Harz wird dann auf Zimmertemperatur 48 Stunden lang abgekühlt. Mit größeren Mengen des Katalysators kann die Aushärtungszeit wesentlich abgekürzt werden. Der ausgehärtete Kautschuk wird dann von dem Original abgezogen. Es ergibt sich eine flexible, dauerhafte, erste, negative Mutternachbildung aus Kautschuk. Das Originalhologramm wird durch diesen Abguß nicht beschädigt.remove trapped air bubbles. This causes foam to form on the surface of the mixture caused. After about 5 minutes the pressure is slowly brought to atmospheric pressure. That The original hologram is then placed face up in the bottom of a rectangular shape Press mold of 12.7 mm placed. After wiping the surface of the evacuated silicone rubber mixture this is carefully poured into the mold up to a height of about 9.5 mm, so that all the contours are completely filled. The resin is then cooled to room temperature for 48 hours. With If larger amounts of the catalyst are used, the curing time can be significantly reduced. The hardened one Rubber is then stripped from the original. The result is a flexible, permanent, first, negative nut replica made of rubber. The original hologram becomes through this cast not damaged.
Eine Gußlösung wird dann hergestellt, indem etwa 17 Teile pulverisiertes Elvacite Nr. 2045 (ein PoIyisobutylmethacrylatharz, erhältlich von E. I. duPont de Nemours & Co.) und etwa 28 Teile gereinigtes Äthylendichlorid gelöst werden. Die Lösung wird einige Stunden lang stehengelassen, um Luftblasen aus der gerührten Flüssigkeit austreten zu lassen. Ein Stück klares Plexiglas (Polymethylmethacrylat, erhältlich von der Firma Röhm & Haas) mit einer Stärke von etwa 6,35 mm wird etwas größer als die Kautschukplatte zugeschnitten. Ein dicker Guß der Nachbildungslösen wird auf eine Kante der Plexiglasplatte und auf eine Kante der Kautschukform aufgegossen. Dann wird die Lösung auf beiden Flächen mit Glasstäben zu einer dünnen Schicht ausgewalzt. Die überzogene Plastikunterlage wird sofort derart auf die überzogene Kautschukfläche gelegt, daß ein Zusammenschluß beider Flächen von einer Seite zur anderen wie beim Schließen einer Tür erfolgt. Noch verbleibende Luftblasen werden dadurch herausgedrückt. Dann wird ein Gewicht, das einen Druck von etwa 0,01 at auf die Lösungsschicht erzeugt, auf die Plastikplatte aufgesetzt, und die Anordnung wird etwa 3 Stunden lang bei Zimmertemperatur getrocknet. Es ergibt sich eine starre, durchsichtige, zweite, positive Nachbildung aus Plastik mit guter Qualität. Die erste Musterplatte aus Silikonkautschuk bleibt dabei unbeschädigt.A casting solution is then made by adding approximately 17 parts of powdered Elvacite No. 2045 (a polyisobutyl methacrylate resin, available from E.I. duPont de Nemours & Co.) and about 28 parts of purified ethylene dichloride. The solution will be allowed to stand for a few hours to allow air to escape from the stirred liquid. A Piece of clear plexiglass (polymethyl methacrylate, available from Röhm & Haas) with a A thickness of about 6.35 mm is cut to be slightly larger than the rubber sheet. A big cast of the Replica dissolving is done on one edge of the plexiglass sheet and on one edge of the rubber mold infused. Then the solution is rolled out into a thin layer on both surfaces with glass rods. The coated plastic pad is immediately placed on the coated rubber surface in such a way that that the two surfaces join together from one side to the other, as when a door is closed. This will force out any remaining air bubbles. Then a weight becomes that one Pressure of about 0.01 at generated on the solution layer, placed on the plastic plate, and the assembly is dried for about 3 hours at room temperature. The result is a rigid clear, second, positive replica made of plastic with good quality. The first sample board Silicone rubber remains undamaged.
Dann wird ein Hologramm in Form einer Metallnachbildung hergestellt. Nach chemischer Reinigung und Sensitivierung der Oberfläche der zweiten Nachbildung mit einer Zinnoxydchloridlösung wird Silber aus einer ammoniakhaltigen Silbernitratlösung chemisch reduziert, während diese auf die Plästiknachbildung aufgesprüht wird. Die erhaltene Silberschicht hat eine Stärke von etwa 7,6 · 10~e cm. Der Silberüberzug bildet die zur Herstellung einer guten galvanischen Metallnachbildung erforderliche sehr leitfähige Oberfläche. Die Nickelschicht mit einer Stärke von etwa 0,3 mm wird dann galvanisch auf die Silberfläche in einem Nickelsulfamatbad bei einer Temperatur von etwa 54° C und einem Gesamtstrom für eine 30-cm-Platte von 50 Ampere aufgebracht. Nach der Galvanisierung wird das mit Nickel belegte Silber leicht aus der Plastikform genommen, und es ergibt sich eine dritte, negative Metallmutterplatte mit einer Silberoberfläche. Die Nachbildung ist als Preßplatte für Kurzbetrieb geeignet.Then a hologram in the form of a metal replica is produced. After chemical cleaning and sensitization of the surface of the second replica with a tin oxychloride solution, silver is chemically reduced from an ammonia-containing silver nitrate solution while this is sprayed onto the plastic replica. The silver layer obtained has a thickness of about 7.6 cm x 10 ~ e. The silver coating forms the very conductive surface required to produce a good galvanic metal replica. The nickel layer with a thickness of about 0.3 mm is then galvanically applied to the silver surface in a nickel sulfamate bath at a temperature of about 54 ° C. and a total current for a 30 cm plate of 50 amperes. After electroplating, the nickel-coated silver is easily removed from the plastic mold, and a third, negative metal mother plate with a silver surface results. The replica is suitable as a press plate for short-term use.
Unter Verwendung dieser Platte werden dann mehrere Nachbildungen des Originalhologramms hergestellt. Ein trockener Zelluloseacetatfilm mit einer Stärke von etwa 0,18 mm wird auf etwa 88° C erhitzt. Die Metallmutterplatte wird auf etwa 138° C erhitzt und unter einem Druck von etwa 54 atü auf den Zelluloseacetatfilm gegen ein flaches Polster gedrückt. Druck und Temperatur werden etwa 5 Sekunden lang beibehalten. Am Ende der Preßzeit wird der Plastikfilm ohne vorherige Abkühlung gelöst. Es ίο ergibt sich eine ausgezeichnete Nachbildung des Originalhologramms. Über 100 weitere Nachbildungen werden in ähnlicher Weise heiß gepreßt, bevor ein merklicher Qualitätsabfall zu beobachten ist.Using this plate, several replicas of the original hologram are then made manufactured. A dry cellulose acetate film about 0.18 mm thick is heated to about 88 ° C heated. The metal mother plate is heated to about 138 ° C and under a pressure of about 54 atmospheres pressed the cellulose acetate film against a flat cushion. Pressure and temperature are about 5 seconds maintained for a long time. At the end of the pressing time, the plastic film is loosened without prior cooling. It ίο the result is an excellent replica of the original hologram. Over 100 other replicas are hot-pressed in a similar manner before a noticeable decrease in quality is observed.
X5 Beispiel II X 5 Example II
Wie im Beispiel I werden ein Originalhologramm, eine katalytisch gebildete erste und eine gegossene zweite Mutterplatte hergestellt. In diesem Falle soll eine dauerhaftere Mutterplatte heiß gepreßt werden, so daß eine größere Anzahl von Nachbildungen hergestellt werden kann. Nach dem Überziehen der Plastiknachbildung mit Silber und einer 0,3 mm starken, galvanisch gebildeten Nickelschicht wird die Silberoberfläche zur Passivierung mit einer Kaliumdichromatlösung behandelt. Dies ermöglicht die Galvanisierung einer weiteren Nickelschicht auf die Silberoberfläche, ohne eine Silber-Nickel-Bindung zu erzeugen. Nach derartiger Bildung einer 0,25 mm starken Nickelschicht wird diese von der Silber-Nickel-Mutterplatte getrennt. Es ergibt sich eine dauerhafte, ganz aus Nickel bestehende, positive vierte Nachbildung. Diese kann in einem Heißpreßverfahren, wie es im Beispiel I beschrieben ist, zur Herstellung gepreßter negativer Plastiknachbildungen verwendet werden. Für viele holographische Anwendungszwecke ist die negative Nachbildung geeignet. Falls erwünscht, kann diese Metallmutterplatte mit einem Chromüberzug versehen werden, der ihre Lebensdauer weiter verlängert, wozu ein Strom von etwa 375 Ampere mit einer 35-cm-Platte verwendet wird.As in Example I, an original hologram, a catalytically formed first, and a cast second mother plate made. In this case, a more permanent motherboard should be hot-pressed, so that a greater number of replicas can be made. After covering the Plastic replica with silver and a 0.3 mm thick, galvanically formed nickel layer is the Silver surface treated with a potassium dichromate solution for passivation. This enables electroplating another nickel layer on the silver surface without creating a silver-nickel bond. After a 0.25 mm thick nickel layer has been formed in this way, it is removed from the silver-nickel mother plate separated. The result is a permanent positive fourth replica made entirely of nickel. This can in a hot pressing process, as described in Example I, to produce pressed negative plastic replicas can be used. For many holographic uses the negative replica is suitable. If desired, this metal mother plate can be fitted with a Chrome plating are provided, which extends their service life further, including a current of about 375 amps is used with a 35 cm plate.
Die insgesamt aus Nickel gebildete (positive) vierte Nachbildung aus Beispiel II wird mit einer Lösung von etwa 16 g Polyisobutylmethacrylat, gelöst in etwa 200 ml Methyläthylketon, durch Aufstreichen überzogen. Der gebildete Flüssigkeitsfilm wird an der Luft bei Zimmertemperatur etwa 20 Sekunden lang getrocknet, bis er einen klebrigen Zustand erreicht. Eine dünne Zelluloseacetatfolie mit einer Stärke von etwa 0,13 mm wird gleichmäßig mittels einer Gummiwalze auf die klebrige Schicht gedrückt. Die Zelluloseacetatfolie wird dann von der vierten Mutterplatte abgezogen. Der übertragene Film zeigt eine gute Haftung an der Zelluloseacetatfolie. Über 100 weitere Nachbildungen werden auf ähnliche Weise mit der vierten Nachbildung hergestellt, wobei kein merklicher Abfall der Qualität auftritt.The (positive) fourth replica from Example II, formed entirely of nickel, is coated with a solution of about 16 g of polyisobutyl methacrylate, dissolved in about 200 ml of methyl ethyl ketone, by brushing on overdrawn. The liquid film formed is exposed to air at room temperature for about 20 seconds dried until it becomes sticky. A thin cellulose acetate film with a thickness of about 0.13 mm is pressed evenly onto the sticky layer by means of a rubber roller. The cellulose acetate film is then withdrawn from the fourth motherboard. The transferred film shows one good adhesion to the cellulose acetate film. Over 100 other replicas are made in a similar fashion produced with the fourth replica with no noticeable drop in quality.
Ein Originalhologramm sowie eine katalytisch gegossene erste Mutterplatte werden wie im Beispiel I hergestellt. In diesem Falle soll eine zweite Nachbildung schneller als im Beispiel I gebildet werden. Die erste Mutterplatte wird in ein Bad von etwa 2 g PoIy-An original hologram and a catalytically cast first mother plate are as in Example I manufactured. In this case, a second replica should be formed faster than in Example I. the first mother plate is placed in a bath of about 2 g of poly-
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methylmethacrylat, gelöst in 200 ml Methyläthylketon, getaucht und langsam innerhalb von 3 Sekunden herausgezogen. Der gebildete Flüssigkeitsfilm wird an Luft bei Zimmertemperatur etwa 30 Sekunden lang getrocknet, bis er einen klebrigen Zustand erreicht. Der klebrige Film wird dann an eine dünne Zelluloseacetatbutyrat-Folie mit einer Stärke von etwa 0,25 mm gedrückt. Die erste Mutterplatte wird unmittelbar nach der Druckeinwirkung abgezogen. Der übertragene Film zeigt überraschend starke Haftung an der Folie. Die insgesamt zur Bildung der zweiten Nachbildung erforderliche Zeit ist fast 360mal schneller als die für die zweite Mutterplatte im Beispiel I beschriebenen Herstellungsschritte. Die erste Mutterplatte wird nochmals in der vorstehend beschriebenen Weise zur Herstellung von mehr als 100 guten zweiten Nachbildungen ohne merklichen Qualitätsabfall verwendet. Eine der auf diese Weise erzeugte zweite Nachbildung wird dann zur Herstellung einer dritten Mutterplatte wie im Beispiel I verwendet. methyl methacrylate, dissolved in 200 ml of methyl ethyl ketone, submerged and slowly withdrawn within 3 seconds. The formed liquid film is air-dried at room temperature for about 30 seconds until it becomes sticky achieved. The tacky film is then attached to a thin cellulose acetate butyrate sheet with a thickness of pressed about 0.25 mm. The first mother plate is removed immediately after the application of pressure. The transferred film shows surprisingly strong adhesion to the foil. The total to form the The time required for the second replica is almost 360 times faster than that for the second motherboard manufacturing steps described in Example I. The first motherboard is repeated in the above described way to produce more than 100 good second replicas without noticeable Quality waste used. One of the second replicas created in this way is then used for manufacture a third mother plate as in Example I used.
Das im Beispiel IV beschriebene Verfahren wird wiederholt mit dem Unterschied, daß eine PoIyäthylenterephthalat-Folie mit einer Stärke von 0,3 mm an Stelle der Zelluloseacetatbutyrat-Folie verwendet wird. Die hergestellten zweiten Nachbildungen entsprechen in ihrer Qualität denjenigen aus Beispiel IV.The procedure described in Example IV is repeated with the difference that a polyethylene terephthalate film with a thickness of 0.3 mm is used in place of the cellulose acetate butyrate film. The second replicas produced correspond in quality to those from Example IV.
Das im Beispiel IV beschriebene Verfahren wird wiederholt mit dem Unterschied, daß der FlüssigkeitsfUm auf die Oberfläche der ersten Mutterplatte aufgewalzt wird, wonach er etwa 1 Minute bis zu einem nichtklebrigen Zustand trocknet und dann etwa 4 Sekunden lang gegen eine Zelluloseacetatbutyrat-Folie gedrückt wird, die sich auf einer heißenThe procedure described in Example IV is repeated with the difference that the liquid volume is rolled onto the surface of the first motherboard, after which it takes about 1 minute up to to a tack-free state and then against a cellulose acetate butyrate sheet for about 4 seconds is pressed, which is on a hot
ίο Platte mit einer Temperatur von etwa 100° C befindet. Die erste Mutterplatte wird dann von dem übertragenen Film getrennt. Sie wird in der vorstehend beschriebenen Weise zur Herstellung von mehr als 100 zweiten Nachbildungen guter Qualität verwendet. Eine der zweiten Nachbildungen wird dann zur Herstellung einer dritten Mutterplatte wie im Beispiel I verwendet.ίο Plate is at a temperature of around 100 ° C. The first mother plate is then separated from the transferred film. She is in the foregoing used to produce more than 100 second replicas of good quality. One of the second replicas is then used to manufacture a third motherboard as in the example I used.
Obwohl spezielle Bestandteile und Stoffmengen in der vorstehenden Beschreibung vorzugsweiser Ausführungsformen des erfindungsgemäßen Verfahrens angegeben wurden, können auch andere Stoffe und Bedingungen, wie sie weiter oben aufgeführt sind, mit ähnlichen Ergebnissen angewendet werden. Zusätzlich können weitere Stoffe zu den verschiedenen Nachbildungsstoffen hinzugefügt werden, um eine synergetische, verbessernde oder anderweitig abändernde Auswirkung auf deren Eigenschaften zu erzielen. Beispielsweise können Temperaturänderungen oder Ablösungsmittel verwendet werden, falls dies erwünscht ist.Although specific ingredients and amounts of substance in the above description of preferred embodiments of the method according to the invention have been specified, other substances and Conditions as listed above can be applied with similar results. Additionally further substances can be added to the various replication substances to create a to achieve synergetic, improving or otherwise modifying effects on their properties. For example, temperature changes or release agents can be used if desired is.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen1 sheet of drawings
Claims (23)
»Mattierungsbilder« erzeugt werden, ist in den USA.- Obwohl in der Forschung am meisten mit Ampli-Two Reconstruction with Continuous Tone Objects, 53, methods are generally known for generating image patterns on the upper 30 Theory ", 52, 1123, October 1962, and" Wave-front surface of thermoplastically deformable materials. The first, with the 1377, December 1963, described.
"Matting images" are generated in the USA.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US66661767A | 1967-09-11 | 1967-09-11 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1621783A1 DE1621783A1 (en) | 1971-04-01 |
DE1621783B2 true DE1621783B2 (en) | 1972-02-10 |
Family
ID=24674751
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19681621783 Withdrawn DE1621783B2 (en) | 1967-09-11 | 1968-02-19 | METHOD OF REALIZATION OF DEFORMED IMAGES |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3565978A (en) |
BE (1) | BE710829A (en) |
DE (1) | DE1621783B2 (en) |
GB (1) | GB1221342A (en) |
NL (2) | NL6802421A (en) |
Families Citing this family (60)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3898358A (en) * | 1972-08-18 | 1975-08-05 | Rca Corp | Holographic recording media |
US3882207A (en) * | 1972-10-12 | 1975-05-06 | Rca Corp | Process of producing double-sided holographic replicas |
US3790245A (en) * | 1972-10-12 | 1974-02-05 | Rca Corp | Double-sided holographic replicas |
FR2244321A1 (en) * | 1973-09-14 | 1975-04-11 | Thomson Brandt | |
US3993401A (en) * | 1975-02-10 | 1976-11-23 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Retroreflective material including geometric fresnel zone plates |
US4231982A (en) * | 1975-05-20 | 1980-11-04 | Ab Volvo | Method for the production of tools for deep drawing, moulding, extruding and the like |
US4097117A (en) * | 1975-10-30 | 1978-06-27 | Rca Corporation | Optical coupler having improved efficiency |
DE2657246C2 (en) * | 1976-12-17 | 1978-09-28 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Original of an information carrier, method for producing the original, method for producing a die for embossing the original and information carrier which is produced with the die |
US4114983A (en) * | 1977-02-18 | 1978-09-19 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Polymeric optical element having antireflecting surface |
US4582885A (en) * | 1978-07-20 | 1986-04-15 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Shaped plastic articles having replicated microstructure surfaces |
US4250135A (en) * | 1979-05-17 | 1981-02-10 | Orsini Peter C | Roller for producing continuous sueded or grit type finish and method of making |
JPS5835742A (en) * | 1981-08-21 | 1983-03-02 | Victor Co Of Japan Ltd | Manufacture for stamper used for manufacture of information recording medium disc |
US4478769A (en) * | 1982-09-30 | 1984-10-23 | Amerace Corporation | Method for forming an embossing tool with an optically precise pattern |
NL8300344A (en) * | 1983-01-31 | 1984-08-16 | Polygram Bv | METHOD FOR THE MANUFACTURE OF METAL DIES. |
US4758296A (en) * | 1983-06-20 | 1988-07-19 | Mcgrew Stephen P | Method of fabricating surface relief holograms |
US4906315A (en) * | 1983-06-20 | 1990-03-06 | Mcgrew Stephen P | Surface relief holograms and holographic hot-stamping foils, and method of fabricating same |
CH661683A5 (en) * | 1983-09-19 | 1987-08-14 | Landis & Gyr Ag | DEVICE FOR MAINTAINING HIGH-RESOLUTION RELIEF PATTERNS. |
US4893887A (en) * | 1983-12-12 | 1990-01-16 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Holographic image transfer process |
IT1188439B (en) * | 1986-03-14 | 1988-01-14 | Ausimont Spa | REPRODUCTION PROCESS OF ARTWORKS IN LITHOID MATERIAL |
JPH0641149B2 (en) * | 1986-07-21 | 1994-06-01 | 三ツ星ベルト株式会社 | Epidermis manufacturing method |
DE3736119A1 (en) * | 1987-10-26 | 1989-05-03 | Krupp Gmbh | Method for the mass reproduction of holograms |
US5003915A (en) * | 1988-04-18 | 1991-04-02 | American Bank Note Holographics, Inc. | Apparatus for printing and for forming a hologram on sheet material |
US4933120A (en) * | 1988-04-18 | 1990-06-12 | American Bank Note Holographics, Inc. | Combined process of printing and forming a hologram |
US4923572A (en) * | 1988-09-29 | 1990-05-08 | Hallmark Cards, Incorporated | Image transfer tool |
US5071597A (en) * | 1989-06-02 | 1991-12-10 | American Bank Note Holographics, Inc. | Plastic molding of articles including a hologram or other microstructure |
US5116548A (en) * | 1989-08-29 | 1992-05-26 | American Bank Note Holographics, Inc. | Replicaton of microstructures by casting in controlled areas of a substrate |
US5083850A (en) * | 1989-08-29 | 1992-01-28 | American Bank Note Holographics, Inc. | Technique of forming a separate information bearing printed pattern on replicas of a hologram or other surface relief diffraction pattern |
NL8902949A (en) * | 1989-11-29 | 1991-06-17 | Leer Koninklijke Emballage | METHOD FOR MANUFACTURING A MATERIAL WITH INTERFERENCE PATTERN LIKE HOLOGRAPHIC IMAGES |
US5182063A (en) * | 1990-04-12 | 1993-01-26 | Artagraph Reproduction Technology Incorporated | Method and means of publishing images having coloration and three-dimensional texture |
US5201548A (en) * | 1990-04-12 | 1993-04-13 | Artagraph Reproduction Technology Incorporated | Method and means for publishing images having coloration and three-dimensional texture |
JP2725447B2 (en) * | 1990-07-26 | 1998-03-11 | ブリヂストンスポーツ株式会社 | Golf ball manufacturing method |
US5293370A (en) * | 1991-01-16 | 1994-03-08 | Del Mar Avionics | Method and apparatus for creating optical disc masters |
GB9113462D0 (en) * | 1991-06-21 | 1991-08-07 | Pizzanelli David J | Laser-activated bar-code holograms and bar-code recognition system |
WO1993013933A1 (en) * | 1992-01-09 | 1993-07-22 | Fohrman Scott R | Reproduction of holograms |
DE4211235C2 (en) * | 1992-04-03 | 2003-04-17 | Gao Ges Automation Org | Method and device for producing metallic surface elements on substrates and their use |
US5446587A (en) * | 1992-09-03 | 1995-08-29 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Projection method and projection system and mask therefor |
US5714218A (en) | 1995-08-21 | 1998-02-03 | Dainippon Printing Co., Ltd. | Ionizing radiation-curable resin composition for optical article, optical article, and surface light source |
JP2002510836A (en) * | 1998-04-06 | 2002-04-09 | イメイション・コーポレイション | Reverse optical mastering for data storage disks |
US6190838B1 (en) * | 1998-04-06 | 2001-02-20 | Imation Corp. | Process for making multiple data storage disk stampers from one master |
US7294294B1 (en) | 2000-10-17 | 2007-11-13 | Seagate Technology Llc | Surface modified stamper for imprint lithography |
US6616867B2 (en) | 2001-02-07 | 2003-09-09 | Imation Corp. | Multi-generation stampers |
US6638692B1 (en) | 2001-07-16 | 2003-10-28 | Imation Corp. | Replicated regions on optical disks |
US6998196B2 (en) * | 2001-12-28 | 2006-02-14 | Wavefront Technology | Diffractive optical element and method of manufacture |
US7008208B1 (en) | 2002-01-17 | 2006-03-07 | Imation Corp. | Grounded molding tool for manufacture of optical components |
US6977052B1 (en) | 2002-01-18 | 2005-12-20 | Imation Corp | Check disk for optical data storage disk manufacturing |
WO2003096123A1 (en) * | 2002-05-08 | 2003-11-20 | Agency For Science, Technology And Research | Reversal imprint technique |
US20040137376A1 (en) * | 2003-01-15 | 2004-07-15 | Bishop John L. | Method and system for replicating film data to a metal substrate and article of manufacture |
US7186365B2 (en) * | 2003-06-05 | 2007-03-06 | Intel Corporation | Methods for forming an imprinting tool |
EP1542074A1 (en) * | 2003-12-11 | 2005-06-15 | Heptagon OY | Manufacturing a replication tool, sub-master or replica |
CZ294820B6 (en) * | 2004-02-12 | 2005-03-16 | Optaglio S. R. O. | Metallic identification chip and process for producing thereof |
US20050213482A1 (en) * | 2004-03-24 | 2005-09-29 | Imation Corp. | Multi-track mastering techniques |
US20060073422A1 (en) * | 2004-09-28 | 2006-04-06 | Imation Corp. | Portable conformable deep ultraviolet master mask |
US20060110568A1 (en) * | 2004-11-23 | 2006-05-25 | Imation Corp. | Multi-layers optical data storage disk masters |
US7427466B2 (en) * | 2004-11-29 | 2008-09-23 | Imation Corp. | Anti-reflection optical data storage disk master |
US7981341B2 (en) * | 2007-04-10 | 2011-07-19 | The Boeing Company | Method and apparatus for scaled up reproduction of detailed features |
WO2009001976A1 (en) * | 2007-06-28 | 2008-12-31 | Ef Tech Co., Ltd. | Method of duplicating nano pattern texture on object's surface by nano imprinting and electroforming |
US8865049B2 (en) * | 2008-09-05 | 2014-10-21 | Tokyo University Of Science Educational Foundation Administrative Org. | Method for producing transfer structure and matrix for use therein |
CN101693422B (en) * | 2009-10-20 | 2012-10-03 | 绍兴京昇光信息科技有限公司 | Method for manufacturing holographical nickel plate locating and folding patterns on holographical plane surface |
CN112652229A (en) * | 2020-12-29 | 2021-04-13 | 中丰田光电科技(珠海)有限公司 | Manufacturing method of film-pressed nickel plate with combination of multiple laser effects |
CN112940314A (en) * | 2021-02-04 | 2021-06-11 | 东北师范大学 | Preparation method and application of surface-deformable nano composite film |
-
1967
- 1967-09-11 US US666617A patent/US3565978A/en not_active Expired - Lifetime
-
1968
- 1968-02-15 BE BE710829D patent/BE710829A/xx unknown
- 1968-02-19 DE DE19681621783 patent/DE1621783B2/en not_active Withdrawn
- 1968-02-20 NL NL6802421A patent/NL6802421A/xx unknown
- 1968-02-20 GB GB8149/68A patent/GB1221342A/en not_active Expired
-
1976
- 1976-02-12 NL NL7601465A patent/NL7601465A/en not_active Application Discontinuation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE1621783A1 (en) | 1971-04-01 |
BE710829A (en) | 1968-08-16 |
GB1221342A (en) | 1971-02-03 |
US3565978A (en) | 1971-02-23 |
NL6802421A (en) | 1969-03-13 |
NL7601465A (en) | 1976-05-31 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 | ||
EF | Willingness to grant licences | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |