DE1621783B2 - METHOD OF REALIZATION OF DEFORMED IMAGES - Google Patents

METHOD OF REALIZATION OF DEFORMED IMAGES

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Description

Betrachtung mit normalem Licht erscheint die Bildfläche jedoch als ein willkürlich verteiltes Muster sehr feiner, fast unsichtbarer Erhebungen und Vertiefungen. Da die mittlere Tiefe dieser Verformungen oft weniger als 1 Mikron beträgt, können sie mit bloßem Auge nicht erkannt werden.However, when viewed with normal light, the image surface appears as a randomly distributed pattern very fine, almost invisible bumps and depressions. As the mean depth of these deformations often less than 1 micron, they cannot be seen with the naked eye.

Trotz der ausgezeichneten Qualität haben diese Phasenhologramme auch gewisse Nachteile. Die leicht verformbaren Stoffe schmelzen oft bei geringen Temperaturen, haben eine klebrige Oberfläche und sind weich. Sie können leicht durch falsche Handhabung, versehentliche Einwirkung von Staub oder durch mäßig hohe Temperaturen beeinträchtigt werden. Während eine wünschenswerte Eigenschaft darin besteht, daß die verformbaren Platten zur Wiederverwendung durch nochmaliges Erweichen der Schicht und Glättung der Oberfläche durch Viskositätskräfte gelöscht werden kann, ist diese Temperaturempfindlichkeit für eine dauerhafte Aufzeichnung unerwünscht. Es ist schwierig, von einem Originalhologramm Nachbilder herzustellen, da die Oberfläche des Originals leicht verschlechtert wird. Der Abguß eines holographischen Originals mit einer Schmelze ist schwierig, da die Erhitzung des Originals eine Zerstörung des holographischen Musters bewirkt. Auch sind viele verformbare Stoffe in vielen Lösungsmitteln löslich, die zum Abguß von Nachbildern aus einer Lösung verwendet werden. Ferner ist hierbei eine außergewöhnlich große Genauigkeit erforderlich, da das holographische Muster feinste Einzelheiten aufweist und zwischen den Erhebungen und Vertiefungen oft Amplitudenunterschiede von weniger als 1 Mikron vorliegen.Despite the excellent quality, these phase holograms also have certain disadvantages. The easy Deformable materials often melt at low temperatures, have a sticky surface and are soft. They can easily be due to mishandling, accidental exposure to dust or by moderately high temperatures are affected. While a desirable quality is that the deformable plates can be reused by softening the layer again and smoothing of the surface can be erased by viscosity forces, this is temperature sensitivity undesirable for permanent recording. It's difficult to get from an original hologram Create afterimages because the surface of the original is easily deteriorated. Of the Casting a holographic original with a melt is difficult because the original is heated causes destruction of the holographic pattern. There are also many deformable substances in many solvents soluble, which are used to cast afterimages from solution. Furthermore, here is an extraordinarily high level of accuracy is required because the holographic pattern is extremely fine and between the elevations and depressions often amplitude differences of less be 1 micron.

Die Aufgabe der Erfindung besteht deshalb darin, ein verbessertes Verfahren zur Nachbildung eines Deformationsbildes mit einer Verformungstiefe von bis zu 1 Mikron, insbesondere eines holographischen Bildes, anzugeben, mit dem die Herstellung von Nachbildungen möglich ist, die sich durch hohe Bildauflösung und Verformungsfestigkeit bei Spannungsbeanspruchungen auszeichnen. The object of the invention is therefore to provide an improved method for simulating a Deformation image with a deformation depth of up to 1 micron, especially a holographic one Image, with which the production of replicas is possible, which is characterized by high image resolution and resistance to deformation under stress.

Für ein Verfahren der eingangs genannten Art wird diese Aufgabe erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß an dem nachzubildenden Deformationsbild bei einer Temperatur unter etwa 95° C eine Schicht eines härtbaren, gegenüber der Bildoberfläche neutralen Stoffes, vorzugsweise von Silikonkautschuk, der einen Füllstoff mit einem Teilchendurchmesser von 10 Millimikron bis 1 Mikron hat, verformt und als negative Nachbildung von dem Deformationsbild abgezogen wird, und daß auf diese Nachbildung ein verflüssigter filmbildender Stoff gegossen und nach Filmbildung als positive Nachbildung von der negativen Nachbildung abgezogen wird.For a method of the type mentioned at the outset, this object is achieved according to the invention by that on the deformation image to be reproduced at a temperature below about 95 ° C a layer of a curable substance neutral to the image surface, preferably silicone rubber, of the one Has filler with a particle diameter of 10 millimicrons to 1 micron, deformed and considered negative Replica is deducted from the deformation image, and that on this replica a liquefied one Cast film-forming substance and after film formation as a positive replica of the negative replica is deducted.

Das erfindungsgemäße Verfahren gewährleistet eine hohe Auflösung der Nachbildungen, wobei gleichzeitig die Vermeidung von Verformungen durch Spannungsbeanspruchung sichergestellt ist, was in Anbetracht der geringen Verformungstiefe von entscheidender Bedeutung für die Bildqualität ist. Unscharfen der Nachbildungen werden daher praktisch vollständig vermieden. Der für die negative Nachbildung verwendete Füllstoff hat die Eigenschaft, die Spannungsfestigkeit der Nachbildung zu erhöhen. Ferner kann bei geeigneter Wahl des mittleren Durchmessers der Füllstoffteilchen die Bildauflösung gegenüber den Möglichkeiten bekannter Verfahren wesentlich erhöht werden. Es ist deshalb möglich, mit dem Verfahren nach der Erfindung Nachbildungen von Originalen mit der genannten sehr geringen Verformungstiefe bei ausgezeichneter Bildqualität herzustellen, so daß sich dieses Verfahren besonders gut für die Nachbildung holographischer Bilder eignet. Es ist zwar bereits bekannt (siehe z. B. deutsche Patentschriften 850 421 und 945 224), Originale durch Aufbringen von Kunststoffmassen nachzubilden. Bei den dazu angewendeten Verfahren kommtThe method according to the invention ensures a high resolution of the simulations, with at the same time, the avoidance of deformations due to stress is ensured, which in Considering the shallow deformation depth is of crucial importance for the image quality. Blurred the replicas are therefore practically completely avoided. The one for the negative replica The filler used has the property of increasing the dielectric strength of the replica. Furthermore, with a suitable choice of the mean diameter of the filler particles, the image resolution can be compared to the possibilities of known methods can be increased significantly. It is therefore possible with the Method according to the invention Replicas of originals with said very small deformation depth with excellent image quality, so that this process works particularly well suitable for the reproduction of holographic images. It is already known (see e.g. German Patent specifications 850 421 and 945 224) to reproduce originals by applying plastic compounds. In the procedure used to do this, comes

ίο jedoch nur die Nachbildung großer Gegenstände oder Formen in Betracht, wobei zwar die jeweilige Form naturgetreu wiederzugeben ist, jedoch die mit der Nachbildung eines Deformationsbildes mit sehr geringer Verformungstiefe auftretenden Probleme nicht gelöst werden. Solche Abformverfahren sind deshalb mit dem Verfahren nach der Erfindung nicht vergleichbar, denn bei den mit ihnen hergestellten Produkten kommt es nicht auf eine optimale Bildauflösung oder Spannungsfestigkeit mit für Deformationsbilder vorzugebenden Werten an.ίο only the replica of large objects or shapes into consideration, although the respective shape is to be reproduced faithfully, but the one with the reproduction of a deformation pattern with a very small deformation depth cannot be resolved. Such molding processes are therefore not possible with the process according to the invention comparable, because the products made with them do not have an optimal image resolution or dielectric strength with values to be specified for deformation images.

Ein Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen Verfahrens wird im folgenden an Hand der einzigen Figur beschrieben, in der der Ablauf eines Nachbildungsverfahrens dargestellt ist.One embodiment of the method according to the invention is given below with reference to the only one Figure described in which the sequence of a replication process is shown.

Wie aus der Figur hervorgeht, wird das nachzubildende Deformationsbild zuerst nach einem üblichen Verfahren erzeugt. Vorzugsweise soll die Oberfläche dieses Originalbildes zur Härtung oder Verfestigung behandelt werden, wie im folgenden noch beschrieben wird.As can be seen from the figure, the deformation image to be reproduced is first made according to a usual one Process generated. The surface of this original image should preferably be used for hardening or solidification as described below.

Dann wird eine erste Nachbildung erzeugt, indem ein Stoff auf das Originalbild gegossen wird, der dieses nicht beeinträchtigt.A first replica is then created by pouring a fabric onto the original image, the this does not affect it.

Dann wird von der ersten Nachbildung eine zweite Nachbildung gegossen.Then a second replica is cast from the first replica.

Die so erzeugte zweite Nachbildung wird dann auf einen Bildträger übertragen, so daß sich eine endgültige positive Nachbildung des Originalbildes ergibt, und die erste Nachbildung wird wieder als eine Mutterplatte verwendet, oder es wird auf ihr eine dünne Silberschicht und darauf eine dickere Nickelschicht elektrisch gebildet.The second replica produced in this way is then transferred to an image carrier, so that a final positive replica of the original image results, and the first replica is again considered to be one Mother plate is used, or a thin layer of silver is put on it and a thicker layer of nickel on top of it electrically formed.

Ist eine dritte Nachbildung mit Silber und Nickel hergestellt, so kann diese entweder als eine Preßmatrize für Kurzbetrieb verwendet werden, oder es wird mit ihr eine festere Nickelplatte nach Passivierung gebildet, die als Preßmatrize für längeren Betrieb verwendet wird.If a third replica is made with silver and nickel, it can either be used as a press die can be used for short-term operation, or it becomes a stronger nickel plate with it after passivation formed, which is used as a press die for longer operation.

Selbstverständlich sind bei dem in der Figur dargestellten Verfahren viele Änderungen möglich, wie noch beschrieben wird.Of course, many changes are possible in the method shown in the figure, such as will be described.

Wie noch erläutert wird, können einige der vorstehend genannten Verfahrensschritte hinsichtlich der Betriebsbedingungen, Stoffe, gewünschten Anzahl von Kopien usw. abgeändert werden. Dieses Verfahren ermöglicht die Herstellung von Nachbildungen eines Originals, das sehr empfindlich gegen Druck, Lösungsmittel oder Hitze ist, mit außergewöhnlich guter Qualität.As will be explained, some of the method steps mentioned above can be used with regard to the Operating conditions, substances, desired number of copies, etc. can be changed. This method enables the production of replicas of an original that is very sensitive to pressure, Solvent or heat is of exceptionally good quality.

Das nachzubildende Deformationsbild kann nach jedem geeigneten Verfahren hergestellt werden. Das erfindungsgemäße Verfahren ist speziell zur Nachbildung von Phasenhologrammen der in der Patentanmeldung R 45090 IX a/42 h beschriebenen Art geeignet. Es ist ferner zur Nachbildung von Mattierungsbildern der in der USA.-Patentschrift 3 196 001 beschriebenen Art und von Reliefbildern der in der USA.-Patentschrift 3 005 006 beschriebenen Art ge-The deformation image to be reproduced can be produced by any suitable method. That The method according to the invention is specifically for simulating phase holograms that in the patent application R 45090 IX a / 42 h described type suitable. It is also used to reproduce matting images of the type described in US Pat. No. 3,196,001 and of relief images of the type described in US Pat USA.-Patent 3 005 006 described type ge

i 621 783i 621 783

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eignet. Die nach diesen Verfahren erzeugten Defor- Typische organische Fotoleiter sind 1,4-Dicyanmationsbilder sind im allgemeinen zerbrechlich und naphthalin; 2,5-bis-(p-Amino-phenyl)-l,3,4-oxidiazol; gegenüber Hitze oder Reibung empfindlich. Diese N-Vinylcarbazol; Phthalocyanine, Chinacridone und Bilder werden erzeugt, indem auf einer Oberfläche deren Mischungen. Besteht die verformbare Schicht eines verformbaren thermoplastischen Stoffes ein 5 aus einem geeigneten aromatischen Polymer, so kann elektrostatisches Ladungsmuster gebildet und der sie selbst durch Zusammensetzung mit einer geeigthermoplastische Stoff auf seine Erweichungstempe- neten Lewissäure fotoleitfähig gemacht werden, ratur erhitzt wird, wodurch das Deformationsbild Typische Lewissäuren sind 2,4,7-Trinitro-9-fluorenon, spontan erscheint. Solche Bilder werden also im all- 4,4'-bis-(Dimethyl-amino) benzophenon, tetra-Chlorgemeinen auf thermoplastischen Stoffen erzeugt, die io phthalsäureanhydrid, Chloranil, Picrinsäure, 1,3,5-oft wenig oberhalb der Zimmertemperatur weich Trinitro-benzol und deren Mischungen,
werden. Das Oberflächendeformationsbild kann auf der Zur Erzeugung des nachzubildenden Originalbildes erhitzten verformbaren Schicht nach jedem geeigkann jede geeignete verformbare, nichtleitende neten Verfahren gebildet werden. Allgemein gethermoplastische Schicht verwendet werden. Typische 15 sprachen, bestehen die Bilderzeugungsschritte aus nichtleitende thermoplastische Stoffe sind die GIy- einer gleichförmigen elektrostatischen Aufladung der cerol- und Pentaerythritolester von teilweise hydrier- Schichtoberfläche, Belichtung der Oberfläche mit tem Kolophonium, Polyalphamethylstyrol, Terpoly- einem zu reproduzierenden Lichtmuster und Ermere von Styrol, Inden und Isopren; Piccolyte S-70 weichung der Schicht zur spontanen Ausbildung des und S-IOO (Polyterpenharze von Beta-Pinen, erhält- 20 Oberflächendeformationsbildes. Befinden sich die lieh von der Pennsylvania Industrial Chemical Com- verformbare Schicht und/oder die fotoleitfähige pany mit nach Ring- und Kugelanalyse ermittelten Schicht auf einer leitfähigen Unterlage, wie z. B. Schmelzpunkten von 70 bzw. 100° C); Piccopale einer Metallfolie oder einem polymeren Film mit 70 SF und Piccopale 85 (nicht reagierende Olefindien- einem transparenten leitfähigen Überzug, so kann harze der Pennsylvania Industrial Chemical Company 25 die gleichförmige elektrostatische Ladung beispielsmit Schmelzpunkten von 70 und 85° C und Mole- weise durch Koronaentladung erfolgen, wie sie in der kulargewichten von 800 bzw. 1000); Piccolastic A-75, USA.-Patentschrift 2 588 699 beschrieben ist. Selbst-D-100 und E-100 (Polystyrolharze mit Schmelz- verständlich können durch diese Aufladung jedoch punkten von 75 und 100° C der Pennsylvania auch andere Verfahren verwirklicht werden, bei-Industrial Chemical Company); Amberol ST-137X 30 spielsweise durch reibungselektrische Aufladung, wie (ein nicht reagierendes, nicht modifiziertes Phenol- sie in der USA.-Patentschrift 2 297 691 beschrieben formaldehydharz der Firma Röhm & Haas); Neolyn ist. Sind die wärmeverformbare Schicht und/oder die 23 (ein Alkydharz der Hercules Chemical Company); fotoleitfähige Schicht selbsttragend ausgeführt oder Polycarbonate, Polysulfone, Polyvinylchlorid, Mi- befinden sie sich auf einer nichtleitenden Unterlage, schungen von Silikon- und Styrolharzen mit ge- 35 so.kann die gleichförmige Aufladung beispielsweise ringem Molekulargewicht sowie Mischungen dieser mit dem Doppelkoronaverfahren erfolgen, wie es in Stoffe. Vorzugsweise soll der thermoplastische Stoff der USA.-Patentschrift 2 885 556 beschrieben ist. wenig oberhalb Zimmertemperatur weich werden und Soll ein Mattierungs- oder Reliefbild erzeugt werden, bei der Erweichungstemperatur nichtleitend sein, so so wird eine Belichtung mit einem zu reproduzierendaß sich seine Oberfläche in richtiger Weise abhängig 40 den Licht-Schatten-Muster vorgenommen. Ist die von dem Oberflächenladungsmuster verformt. Im all- verformbare Schicht von sich aus fotoleitfähig, so gemeinen sind diese vorzugsweisen Stoffe bei Zim- kann auf den Belichtungsschritt unmittelbar die Entmertemperatur etwas weich und klebrig, und die wicklung folgen. Ist die verformbare Schicht als Oberflächendeformationsmuster verschlechtern sich Überzug auf einen Fotoleiter aufgebracht, so ist es bei leichter Erhitzung oder Berührung mit den 45 im allgemeinen vorteilhaft, die Oberfläche der 'vermeisten organischen Lösungsmitteln. Daher müssen formbaren Schicht beispielsweise durch Koronadie mit einem Bild versehenen Blätter sorgfältig be- ladung nochmals zu laden, um ein für die Entwickhandelt werden. lung geeignetes Oberflächenladungsmuster zu erFalls erwünscht, kann die thermoplastische Iso- zeugen. Soll ein Phasenhologramm hergestellt werden, lierstoffschicht auf einer fotoleitfähigen Isolierstoff- 50 so wird die Belichtung nach dem in der obengenannschicht vorgesehen sein oder durch Einlagerung ge- ten Patentanmeldung beschriebenen Verfahren voreigneter fotoleitfähiger Stoffe oder durch Sensitivie- genommen. Die Entwicklung kann auf jede geeignete rung des Harzes zur Bildung eines fotoleitfähigen Weise erfolgen, wobei die Oberfläche der verformladungsübertragenden Komplexstoffes fotoleitfähig baren Schicht zur Ausbildung des Deformationsbildes gemacht werden. Typische als Überzug aufzu- 55 erreicht wird. Im allgemeinen wird die Platte vorbringende fotoleitfähige Schichten bestehen aus zugsweise auf die Erweichungstemperatur der veramorphem Selen, aus Pigmentstoff und Bindemittel formbaren Schicht erwärmt,, das Deformationsbild mit fotoleitfähigen Pigmentstoffen, wie Kadmium- erzeugt und dann die Platte zur Fixierung des Bildes sulfid, Kadmiumselenid, Zinksulfid, Zinkselenid, unter die Erweichungstemperatur abgekühlt. Auch Zinkoxid, Bleioxid, Titandioxid, Bleijodid, Blei- 60 kann die Oberfläche, falls dies erwünscht ist, durch selenid, dispergiert in einem nichtleitenden, film- Aufbringen einer Lösungsmittelflüssigkeit oder von bildenden Bindemittel, wie ein Silikonharz, ein Dampf erweicht werden.
suitable. Typical organic photoconductors are 1,4-dicyanmation images are generally fragile and are naphthalene; 2,5-bis (p-aminophenyl) -1, 3,4-oxidiazole; sensitive to heat or friction. This N-vinyl carbazole; Phthalocyanines, quinacridones and images are created by mixing them on a surface. If the deformable layer of a deformable thermoplastic material consists of a suitable aromatic polymer, an electrostatic charge pattern can be formed and it is made photoconductive to its softening temperature by combining it with a suitable thermoplastic substance, which is heated, whereby the deformation pattern typical Lewis acids are 2,4,7-trinitro-9-fluorenone, appears spontaneously. Such images are generated in all-4,4'-bis- (dimethyl-amino) benzophenone, tetra-chlorine common on thermoplastic materials, the io phthalic anhydride, chloranil, picric acid, 1,3,5-often a little above room temperature soft trinitro -benzene and their mixtures,
will. The surface deformation image can be formed on the deformable layer heated to produce the original image to be replicated by any suitable deformable, non-conductive method. Generally a thermoplastic layer can be used. Typical 15 languages, the image generation steps consist of non-conductive thermoplastic materials are the GIy- a uniform electrostatic charge of the cerol- and pentaerythritol esters from partially hydrogenated layer surface, exposure of the surface with tem rosin, polyalphamethylstyrene, terpoly- a light pattern to be reproduced and Ermere of styrene, Indene and isoprene; Piccolyte S-70 softening of the layer for the spontaneous formation of the and S-100 (polyterpene resins from beta-pinene, receives surface deformation image. If the layer borrowed from the Pennsylvania Industrial Chemical Com- deformable layer and / or the photoconductive pany with ring- and sphere analysis determined layer on a conductive base, such as melting points of 70 or 100 ° C); Piccopale a metal foil or a polymeric film with 70 SF and Piccopale 85 (non-reactive olefin - a transparent conductive coating, so resins from the Pennsylvania Industrial Chemical Company 25 the uniform electrostatic charge, for example with melting points of 70 and 85 ° C and mole by corona discharge take place as they are in the kulargewichten of 800 or 1000); Piccolastic A-75, U.S. Patent 2,588,699. Even-D-100 and E-100 (polystyrene resins with melt - understandably, however, other processes can be realized by this charge at points of 75 and 100 ° C in Pennsylvania, at-Industrial Chemical Company); Amberol ST-137X 30, for example, by triboelectric charging, such as (a non-reactive, non-modified phenol - formaldehyde resin from Röhm & Haas described in US Pat. No. 2,297,691); Neolyn is. Is the thermoformable layer and / or the 23 (an alkyd resin from Hercules Chemical Company); Self-supporting photoconductive layer or polycarbonates, polysulfones, polyvinylchloride, Mi- they are on a non-conductive surface, silicone and styrene resins with a low molecular weight, for example, and mixtures of these can be carried out using the double corona process, as is the case in fabrics. Preferably, the thermoplastic is said to be described in U.S. Patent 2,885,556. soften a little above room temperature and if a matting or relief image is to be produced which is non-conductive at the softening temperature, then an exposure is carried out with a surface that can be reproduced correctly depending on the light-shadow pattern. Is that deformed by the surface charge pattern. In the all-deformable layer inherently photoconductive, these preferred substances are so common at Zim- the demining temperature can be a bit soft and sticky immediately after the exposure step, and the winding can follow. If the deformable layer is applied to a photoconductor as a surface deformation pattern, it is generally advantageous to avoid organic solvents on the surface when it is slightly heated or in contact with the 45. Therefore, the mouldable layer, for example, by corona, the imaged sheets must be carefully reloaded in order to be treated for development. If desired, the thermoplastic insulation can produce a suitable surface charge pattern. If a phase hologram is to be produced, a layer of adhesive on a photoconductive insulating material, the exposure is carried out according to the method described in the above-mentioned layer or by incorporating suitable photoconductive substances or by means of sensitivities. The development can take place in any suitable manner of the resin for the formation of a photoconductive manner, the surface of the deformation charge transferring complex substance being made photoconductive ble layer for the formation of the deformation image. Typically applied as a coating. In general, the photoconductive layers that provide the plate consist of preferably the softening temperature of the amorphous selenium, the layer that can be formed from pigment and binder, the deformation image is generated with photoconductive pigments, such as cadmium, and then the plate for fixing the image sulfide, cadmium selenide, zinc sulfide , Zinc selenide, cooled below the softening temperature. Zinc oxide, lead oxide, titanium dioxide, lead iodide, lead 60, the surface can, if so desired, be softened by selenide, dispersed in a non-conductive, film, application of a solvent liquid or of a forming binder, such as a silicone resin, a vapor.

Styrol-Butadienharz od. ä. Geeignete organische Mit diesen Verfahren ergeben sich Originalbilder Fotoleiter können auch als Überzugsschichten aus- hoher Auflösung auf Stoffen, die durch Hitze, gebildet oder in die wärmeverformbare Schicht ein- 65 Lösungsmittel oder Abrieb beeinträchtigt werden gemischt sein. Falls erwünscht, können diese Foto- können. Die Deformationsbilder werden im allgemeileiter sensitiviert werden, wozu geringe Anteile von nen gelöscht, wenn die Oberfläche der Deformations-Farben oder Lewissäuren verwendet werden. schicht durch Hitze oder Lösungsmittel erweichtStyrene-butadiene resin or the like. Suitable organic With these methods, original images are obtained Photoconductors can also be used as coating layers - high resolution on materials that are exposed to heat, formed or impaired in the heat-deformable layer by a 65 solvent or abrasion be mixed. If desired, these can be photo- can. The deformation images are generally more advanced sensitized, including small portions of nen deleted when the surface of the deformation colors or Lewis acids can be used. layer softened by heat or solvents

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wird, nachdem das bildmäßig verteilte Ladungs- RTV-116 und RTV-118, erhältlich von Generalafter the Imagewise Distributed Charge RTV-116 and RTV-118, available from General

muster abgeleitet wurde. Electric, Silastic RTV-501, Silastic RTV S-5137A,pattern was derived. Electric, Silastic RTV-501, Silastic RTV S-5137A,

Als ein erster Schritt bei der Erzeugung von Nach- Silastic RTV S-5138A, Silastic RTV S-5302 und bildungen eines Deformationsbildes soll das Original- Silastic RTV S-5303, erhältlich von Dow Corning, bild vorzugsweise derart behandelt werden, daß sich 5 sowie Mischungen dieser Stoffe. Vorzugsweise wird eine »Oberflächenhaut« mit einer Stärke größer als diese erste negative Nachbildung mit einem aushärtetwa 0,3 Mikron bildet. Die Fixierung der Ober- baren Stoff hergestellt. Optimale Ergebnisse ermögflächendeformation durch Bildung derartiger Ober- liehen Silikonkautschukverbindungen, die bei Tempeflächenhäute ist eingehender in der Patentanmeldung raturen unter etwa 93° C aushärten. Silikonkautschuk R 41261 IXa/57e beschrieben. Diese Oberflächen- io ergab die Nachbildung mit der höchsten Auflösung haut ist härter und weniger löslich und gibt damit unter allen getesteten härtbaren Stoffen. Silikondem Originalbild eine höhere Widerstandskraft kautschukarten werden aus Silikongummi gebildet, gegenüber Abrieb, geringer Erhitzung oder Beruh- Diese Gummiarten bestehen weitgehend aus PoIyrung mit geringen Mengen Lösungsmitteldampf. Zur meren von Dimethylsilikon. Sie können Dimethyl-Bildung der Oberflächenhaut kann jedes geeignete 15 siloxane, kopolymerisiert mit geringeren Mengen Verfahren angewendet werden. Sie kann an Ort und eines weiteren zweiwertigen Silikons, enthalten. Bei-Stelle oder durch Aufbringen eines Stoffes auf einen spielsweise können Polydimethylsiloxane mit etwa anderen Stoff erzeugt werden. Typische Verfahren 5 bis etwa 15 % Diphenylsilikon, Diäthylsilikon oder zur Hautbildung sind die Belichtung mit aktivieren- Methylphenylsilikon kopolymerisiert sein. Das SiIidem Licht, X-Strahlen, Betastrahlen, Gammastrahlen, 20 kongummi kann ferner aktive Gruppen, wie SiH, Elektronenbeschuß, Koronaentladung, Hochspan- SiOH oder SiOC2H5 enthalten, und Vinyl-, Fluornungsentladung, Belichtung mit sichtbarem Licht, kohlenstoff- oder Nitrilgruppen können in das Einwirkung von Luft, Einwirkung von chemischen Silikonmolekül eingefügt sein. Falls erwünscht, kön-Stoffen, wie Oxydationsmittel und/oder Mittel zur nen feinverteilte Füllmittel, wie Silikagel, Kalzium-Bildung von Querverbindungen, Beifügung von Sen- 25 carbonat, Titandioxid, Eisenoxid oder deren Mischunsitivierungsmitteln zur Erhöhung der Empfindlich- gen mit dem Silikongummi gemischt sein, um die keit der wärmeverformbaren Schicht gegenüber der Spannungsfestigkeit der endgültigen Silikonkautschuk-Behandlung zur Hautbildung, Sprühen, Tauchüber- nachbildung zu erhöhen. Im allgemeinen erhöht sich zug sowie jede geeignete Kombination der Ver- die Bildauflösung bei abnehmendem mittlerem fahren. Abhängig von der Zusammensetzung der 30 Durchmesser der Füllstoffteilchen. Typische Füllverformbaren Schicht können der Grad und die stoffe haben einen Teilchendurchmesser von etwa Dauer der Belichtung mit den verschiedenen Strah- 10 Millimikron bis etwa 1 Mikron. Jeder geeignete lungsquellen zur Bildung einer geeigneten Ober- Katalysator, wie Metallseifen, Peroxide und andere flächenhaut geändert werden. Für die vorzugsweise Stoffe zur Erzeugung freier Radikale, kann zur Ausanzuwendenden deformierbaren Stoffe wurde ge- 35 härtung der Silikongummiverbindungen, die einen funden, daß eine ausreichend lange Belichtung mit Katalysator benötigen, verwendet werden. Typische ultravioletter Strahlung eine Oberflächenhaut ergibt, Katalysatoren sind Benzoylperoxid, Dichlorbenzoyldie ausgezeichnete Fixierungseigenschaften zeigt. peroxid, di-tert-Butylperoxid, t-Butylperoxid und Daher ist die Ultraviolettbelichtung das vorzugsweise deren Mischungen. Die Geschwindigkeit der Ausanzuwendende Verfahren zur Bildung der Ober- 40 härtung hängt von der relativen Menge des verwenflächenhaut. deten Katalysators ab. Befriedigende Aushärtungs-As a first step in creating post-Silastic RTV S-5138A, Silastic RTV S-5302 and forming a deformation image, the original Silastic RTV S-5303 available from Dow Corning should preferably be treated to have 5 as well as Mixtures of these substances. Preferably, a "surface skin" with a thickness greater than this first negative replica is formed with a cure of about 0.3 microns. The fixation of the upper barren fabric is made. Optimal results are made possible by deformation of the surface due to the formation of such superficial silicone rubber compounds, which in the case of tempered surface skins cure temperatures below about 93 ° C in the patent application. Silicone rubber R 41261 IXa / 57e described. This surface io resulted in the replica with the highest resolution skin is harder and less soluble and is therefore among all curable substances tested. Silicondem original picture a higher resistance rubber types are made of silicone rubber, against abrasion, low heating or calming These types of rubber consist largely of polishing with small amounts of solvent vapor. For mixing dimethyl silicone. You can dimethyl formation of the surface skin using any suitable 15 siloxane, copolymerized with lesser amounts process. It can contain on-site and one more bivalent silicone. Polydimethylsiloxanes, for example, can be produced with another substance, for example, on the spot or by applying a substance. Typical processes for 5 to about 15% diphenyl silicone, diethyl silicone or for skin formation are exposure to be copolymerized with activated methylphenyl silicone. The SiIidem light, X-rays, beta rays, gamma rays, 20 kongummi can also contain active groups such as SiH, electron bombardment, corona discharge, high voltage SiOH or SiOC 2 H 5 , and vinyl, fluorine discharge, exposure to visible light, carbon or Nitrile groups can be incorporated into the action of air, action of chemical silicone molecule. If desired, substances such as oxidizing agents and / or agents can be mixed with the silicone rubber to increase the sensitivity, finely divided fillers such as silica gel, calcium formation of cross-connections, addition of carbonate, titanium dioxide, iron oxide or their mixed unsitivating agents in order to increase the ability of the heat-deformable layer compared to the dielectric strength of the final silicone rubber treatment for skin formation, spraying, dipping over-simulation. In general, tension, as well as any suitable combination of the methods, increases the image resolution with decreasing mean driving. Depending on the composition of the 30 diameter of the filler particles. A typical fill-deformable layer can have a particle diameter of about the duration of exposure to the various beams - 10 millimicrons to about 1 micron. Any suitable ventilation sources can be modified to form a suitable surface catalyst, such as metallic soaps, peroxides and other surface skins. For the preferably substances for generating free radicals, the deformable substances to be used can be hardened silicone rubber compounds, which have found that a sufficiently long exposure to catalyst can be used. Typical ultraviolet radiation gives a surface skin, catalysts are benzoyl peroxide, dichlorobenzoyl which shows excellent fixation properties. peroxide, di-tert-butyl peroxide, t-butyl peroxide and therefore ultraviolet exposure is the preferably mixtures thereof. The speed of the process to be used to form the surface hardening depends on the relative amount of the applied skin. deten catalyst. Satisfactory curing

Der zweite Schritt bei dem erfindungsgemäßen geschwindigkeiten erreicht man bei bis zu 5 Ge-Nachbildungsverf ahren ist die Herstellung einer nega- wichtsprozent Katalysator, bezogen auf das Gewicht tiven Nachbildung durch Abguß des originalen De- des Silikonkautschuks. Man nimmt an, daß die Ausformationsbildes. 45 härtung durch die Bildung von Siloxanquerverbin-The second step in the speeds according to the invention is achieved with up to 5 Ge replication methods uring is producing a negative weight percent catalyst based on weight tive replica by casting the original silicone rubber. It is believed that the formation image. 45 hardening through the formation of siloxane cross-links

Jeder geeignete härtbare Stoff kann zur Erzeugung düngen zwischen den polymeren Ketten auftritt. Der der negativen Nachbildung verwendet werden. Es ist aushärtbare Stoff wird zur Entfernung eingeschloswichtig, daß der Stoff die Erzeugung einer Nach- sener Luft in ein Vakuum eingegeben und dann in bildung mit hoher Auflösung ermöglicht. Ferner darf Schmelze mit dem zu reproduzierenden Deformadie Schrumpfung bei Verfestigung des Stoffes nur 50 tionsbild in Berührung gebracht. Dann wird er ausgering sein. Außerdem soll eine Erhitzung über 93° C gehärtet und von dem Originalbild abgezogen,
zur Verfestigung nicht nötig sein und während der Der nächste Schritt des erfindungsgemäßen NachHärtung keine Wärme erzeugt werden. Da die meisten bildungsverfahrens besteht in der Herstellung einer Stoffe der Deformationsbilder gegenüber Beschädi- zweiten, positiven Nachbildung, die von der ersten, gung durch die meisten organischen Lösungsmittel 55 negativen Nachbildung abgegossen wird. Hierzu kann empfindlich sind, soll der aufzugießende Stoff keine jeder geeignete filmbildende Stoff, der verflüssigt wer-Anteile dieser Lösungsmittel enthalten. Typische den kann und nicht an der ersten Nachbildung haftet, härtbare Stoffe sind Metallegierungen mit niedrigem verwendet werden. Er wird in einem Lösungsmittel Schmelzpunkt, wie Cerralow 117, eine Wismut- aufgelöst. Die relative Menge der verwendeten Indium-Legierung der Cerro Corporation; Wachse, 60 Lösung ist unkritisch, am wichtigsten ist lediglich die wie Epolene C-12, ein Polyäthylenwachs mit ge- endgültige Bildung eines kontinuierlichen Filmes, ringem Molekulargewicht, erhältlich von der Eastman Typische filmbildende Stoffe sind Lösungen von Chemical Co.; Gelatine, wie das von der Knox Polystyrol in Toluol, Polymethylmethacrylat in Gelatin Company erzeugte Nahrungsmittelprodukt, Methyläthylketon, Polyäthylmethacrylat in Äthylen-Polyvinylalkohole, wie Elvanol 71-30 und Elvanol 65 dichlorid, Zelluloseacetatbutyrat in Äthylacetat, aus-72-60, erhältlich von duPont Electrochemical; SiIi- härtbare Epoxydharze, aushärtbare Polyesterharze, konkautschukarten mit einer oder mehreren Kompo- geschmolzenes Polystyrol, geschmolzenes Polymethylnenten, wie RTV-Il, RTV-20, RTV-60, RTV-112, methacrylat, geschmolzenes Polyäthylen, Plastisole,
Any suitable curable material can be used to produce fertilization occurring between the polymeric chains. That of the negative replica can be used. It is curable substance is included for removal, it is important that the substance allows the generation of a residual air in a vacuum and then in formation with high resolution. Furthermore, the melt may only come into contact with the deformation to be reproduced, the shrinkage upon solidification of the material. Then it will be out. In addition, heating above 93 ° C should harden and subtract from the original image,
may not be necessary for solidification and no heat is generated during the post-curing process according to the invention. Since most of the educational process consists in producing a substance of the deformation images against damage- second, positive replica, which is poured off from the first, generation by most organic solvents 55 negative replica. This can be sensitive if the substance to be poured on should not contain any suitable film-forming substance that liquefies and contains fractions of these solvents. Typical which can and does not adhere to the first replica, hardenable substances are metal alloys with low levels of use. It is dissolved in a melting point solvent such as Cerralow 117, a bismuth. The relative amount of Cerro Corporation indium alloy used; Waxes, 60 solution is not critical, most importantly only those such as Epolene C-12, a polyethylene wax with ultimate formation of a continuous film, ring molecular weight, available from Eastman Typical film-forming materials are solutions from Chemical Co .; Gelatin such as the food product made by Knox Polystyrene in Toluene, Polymethyl methacrylate in Gelatin Company, methyl ethyl ketone, polyethylene methacrylate in ethylene-polyvinyl alcohols such as Elvanol 71-30 and Elvanol 65 dichloride, cellulose acetate butyrate in ethyl acetate, from Electro-72-60 available from duPontical ; SiIi-curable epoxy resins, curable polyester resins, common rubbers with one or more components molten polystyrene, molten polymethylnents, such as RTV-II, RTV-20, RTV-60, RTV-112, methacrylate, molten polyethylene, plastisols,

wie Polyvinylchloridharz, dispergiert in 2-Äthylphenylester, und Mischungen dieser Stoffe. Acrylharze, insbesondere Polyisobutylmethacrylat, werden vorzugsweise verwendet, da sie gleichmäßig ohne Blasenbildung aushärten und mit der im allgemeinen verwendeten Unterlage verträglich sind, die oft aus Acrylstoffen besteht. Daher werden diese Stoffe zur Herstellung der zweiten, positiven Nachbildung vorzugsweise verwendet. Zur Bildung einer flachen, zweiten Nachbildung wird der Stoff als dünne, flüssige Schicht auf eine Unterlage und/oder auf die erste Nachbildung aufgebracht. Während, vor oder nach der Verfestigung der flüssigen Schicht oder Schichten wird die Unterlage auf die erste Nachbildung unter leichtem Druck aufgelegt. Ist die Verfestigung vor dem Auflegen noch nicht eingetreten, so läßt man die flüssige Schicht oder Schichten lange genug aushärten oder trocknen. Das Gußprodukt ist eine starre, flache zweite (positive) Nachbildung des Originalbildes. Läßt man eine flüssige Schicht des Gußstoffes auf der Oberfläche der ersten Nachbildung sich verfestigen, bevor die Unterlage aufgelegt wird, so wird die Übertragung der verfestigten Schicht auf die Unterlage gelegentlich durch die Einwirkung von Wärme auf die Unterlage vor oder während der Übertragung verbessert, insbesondere wenn die verfestigte Schicht nichtklebend ist. Die Verfestigung der flüssigen Schicht auf der Oberfläche der ersten Nachbildung vor der Übertragung wird jedoch vorgezogen, da eine schnellere Produktion möglich ist, insbesondere, wenn filmbildende Stoffe verwendet werden, die in einem flüchtigen Lösungsmittel aufgelöst sind. Reicht der Druck bei der Übertragung des verfestigten Stoffes nicht zum Anhaften der gegossenen Schicht an der Unterlage aus, so kann eine Erweichung der Schicht und/oder der Unterlage mit einem Lösungsmittel durchgeführt werden, oder es wird jeder geeignete übliche Klebstoff zur Bindung der Schicht an der Unterlage angewendet. Die Unterlage kann jede geeignete Stärke haben, starr oder flexibel, löslich oder unlöslich, durchsichtig oder undurchsichtig sein und kann als Band, Blatt, Platte od. ä. ausgeführt sein. Die Unterlage soll jedoch zumindest eine glatte Oberfläche haben, die die zweite Nachbildung ohne Zerstörung des Bildes trägt. Die erste Nachbildung kann als Mutterplatte zur Erzeugung einer Vielzahl endgültiger zweiter, positiver Nachbildungen verwendet werden. Das vorzugsweise Verfahren zur Erzeugung der zweiten Nachbildung besteht aus den Schritten der Verfestigung des hartbaren Gußstoffes in einen klebrigen Zustand und der Übertragung des verfestigten Stoffes durch Druckeinwirkung auf die Oberfläche einer Unterlage. Der verwendete Druck ist nicht kritisch, er soll jedoch zumindest zum guten Kontakt zwischen dem Gußstoff und der Oberfläche der Unterlage ausreichen. Ausgezeichnete Nachbildungen erhält man, wenn der Gußstoff so klebrig ist, daß er innerhalb von 5 Sekunden unter leichtem Druck, d. h. Daumendruck, an einem Blatt aus klarem Zelluloseacetat anhaftet und nach Trennung der ersten Nachbildung haftenbleibt. Obwohl geschmolzene oder härtbare Gußstoffe verwendet werden sollen, erhält man auch optimale Ergebnisse mit Lösungen von filmbildenden Polymeren in flüchtigen Lösungsmitteln. Lösungen von filmbildenden Polymeren erreichen den klebrigen Zustand schneller als andere härtbare Stoffe mit weniger Energieaufwand und erzeugen Bilder mit größerer Auflösung. Die Menge der Gußlösung soll zur Bildung einer trockenen Schicht mit glatter deformationsfreier Außenfläche ausreichen.like polyvinyl chloride resin, dispersed in 2-ethylphenyl ester, and mixtures of these substances. Acrylic resins, especially polyisobutyl methacrylate, are used preferably used because they cure uniformly without blistering and with that in general used underlay are compatible, which often consists of acrylic fabrics. Therefore these substances are used for Preferably used to fabricate the second, positive replica. To form a flat, The second replica is the substance as a thin, liquid layer on a base and / or on the first replica applied. During, before or after the solidification of the liquid layer or Layers, the base is placed on the first replica with light pressure. Is the solidification not yet entered before application, the liquid layer or layers are left for a long time cure or dry enough. The cast product is a rigid, flat second (positive) replica of the Original image. Leaving a liquid layer of the cast material on the surface of the first replica solidify before the backing is laid down, so the transfer of the solidified Layer on the base occasionally due to the action of heat on the base or before improved during transfer, especially if the solidified layer is non-adhesive. the Solidification of the liquid layer on the surface of the first replica before transfer is made however, preferred as faster production is possible, especially when using film-forming materials dissolved in a volatile solvent can be used. Is the pressure sufficient for the transmission of the solidified material does not allow the cast layer to adhere to the substrate, so can a softening of the layer and / or the substrate can be carried out with a solvent, or any suitable conventional adhesive is used to bond the layer to the backing. The underlay can be of any suitable thickness, rigid or flexible, soluble or insoluble, clear or opaque and can be designed as a tape, sheet, plate or the like. The document should at least have a smooth surface that will support the second replica without destroying the image. the first replica can be used as a motherboard to produce a multitude of final second, positive Replicas are used. The preferred method for generating the second replica consists of the steps of solidifying the hardenable Cast material in a sticky state and the transfer of the solidified material by the action of pressure on the surface of a pad. The pressure used is not critical, but it should at least sufficient for good contact between the cast material and the surface of the base. Excellent replicas are obtained when the cast material is so sticky that it takes 5 seconds under slight pressure, d. H. Thumb pressure attached to a sheet of clear cellulose acetate and sticks after separation of the first replica. Although melted or hardenable cast materials are to be used, one also obtains optimal results with solutions of film-forming Polymers in volatile solvents. Solutions of film-forming polymers reach the sticky one Condition faster than other hardenable materials with less energy expenditure and generate images with greater resolution. The amount of casting solution should be used to form a dry, smooth layer deformation-free outer surface are sufficient.

Ist eine Mutterplatte aus Metall erwünscht, so wird eine Nachbildung mit Metalloberfläche hergestellt. Nach chemischer Reinigung und Sensitivierung der Oberfläche der zweiten Nachbildung wird ein Metall, wie Silber, chemisch reduziert und auf die zweite Nachbildung bis zu einer Stärke aufgesprüht, die das NichtVorhandensein von Poren gewährleistet und den nachfolgend einwirkenden elektrischen Galvanisierungsstrom aushält. Diese Stärke beträgt vorzugsweise etwa 7,5 oder 10 · 10~6 cm für diese Zwecke. Dieser Überzug schafft die zur galvanischen Herstellung einer guten Metallmutterplatte erforderliche sehr leitfähige Oberfläche. Ein geeignetes Verfahren zur Sensitivierung und Versilberung wird von A. M. Max in »Application of Electroforming to the Manufacturing of Disk Records« in ASTM Special Technical Publication Nr. 318 (1962), beschrieben. Die zweite Nachbildung wird dann in ein Galvanisierungsbad aus Nickelsulfamat gegeben, und auf die leitfähige Oberfläche wird Nickel galvanisch aufgebracht. Das Bad wird auf einer Temperatur von etwa 54° C gehalten, während der Strom für eine Platte von 30 cm etwa 50 Ampere beträgt. Die Galvanisierung wird fortgesetzt, bis die Schicht eine zum Selbsttragen ausreichende Stärke hat. Eine optimale Schichtbeschaffenheit und Sicherheit gegen Bildzerstörung ergeben sich mit einer Dicke der Nickelschicht zwischen etwa 0,13 und 0,3 mm. Dann wird die Metallschicht von der Plastikunterlage abgehoben, wobei sie sich leicht von dieser trennt, und ergibt so eine dritte, versilberte Metallmutterplatte mit negativem Bild. Diese Metallmutterplatte kann nun zum Pressen von Nachbildungen des originalen Deformationsbildes verwendet werden, wozu die nachstehend beschriebenen Preßverfahren dienen. Es kann jedoch, falls erwünscht, auch eine dauerhaftere Metallmutterplatte hergestellt werden. Vorzugsweise werden Nickelsulfamatbäder verwendet, da sich mit diesen eine schnelle und gleichmäßige Ablagerung ergibt.If a metal mother plate is desired, a replica with a metal surface is produced. After chemical cleaning and sensitization of the surface of the second replica, a metal, such as silver, is chemically reduced and sprayed onto the second replica to a thickness that ensures the absence of pores and withstands the subsequent electrical electroplating current. This thickness is preferably about 7.5 or 10x10 -6 cm for this purpose. This coating creates the very conductive surface required for the electroplating production of a good metal mother plate. A suitable method for sensitizing and silvering is described by AM Max in "Application of Electroforming to the Manufacturing of Disk Records" in ASTM Special Technical Publication No. 318 (1962). The second replica is then placed in an electroplating bath of nickel sulfamate and nickel is electroplated onto the conductive surface. The bath is maintained at a temperature of about 54 ° C while the current for a 30 cm plate is about 50 amps. Electroplating is continued until the layer is sufficiently thick to support itself. An optimal layer quality and security against image destruction result with a thickness of the nickel layer between about 0.13 and 0.3 mm. Then the metal layer is lifted from the plastic base, where it separates slightly from it, and so results in a third, silver-plated metal mother plate with a negative image. This metal mother plate can now be used for pressing replicas of the original deformation image, for which purpose the pressing processes described below are used. However, a more durable metal mother plate can be made if desired. Nickel sulphamate baths are preferably used, since they result in rapid and even deposition.

Zur Bildung einer dauerhafteren Metallnachbildung wird die Oberfläche der dritten, negativen Nachbildung mit einer Kaliumdichromatlösung behandelt, um die Oberfläche chemisch zu passivieren. Diese Behandlung erlaubt die Galvanisierung einer ganz aus Nickel bestehenden Nachbildung auf der versilberten Fläche, verhindert jedoch eine Bindung beider Metalle aneinander. Es ergibt sich daraus eine dauerhafte, vierte Nickelnachbildung mit positivem Bild. Falls erwünscht, kann auch eine fünfte Nickelnachbildung mit negativem Bild aus der vierten Nachbildung gewonnen werden. Auch kann, falls erwünscht, die Oberfläche verchromt werden, um die Lebensdauer der Preßplatte zu verlängern.To create a more permanent metal replica the surface of the third, negative replica is treated with a potassium dichromate solution, to chemically passivate the surface. This treatment allows the electroplating of a whole Replica made of nickel on the silver-plated surface, but prevents binding both metals together. This results in a permanent, fourth nickel replica with a positive Image. If desired, a fifth nickel replica with a negative image from the fourth replica can also be used be won. If desired, the surface can also be chrome-plated in order to achieve the To extend the life of the press plate.

Unabhängig von dem Verfahren zur Herstellung der endgültigen Metallpreßplatte werden die endgültigen Nachbildungen des originalen Deformationsbildes mit dem vorstehend beschriebenen Verfahren zur Herstellung einer Vielzahl endgültiger zweiter Nachbildungen oder durch Pressen hergestellt. Das im folgenden beschriebene Verfahren nach der Erfindung ist ein Heißpreßverfahren. Ein dünner, trokkener thermoplastischer Film (Zelluloseacetat mit einer Stärke von etwa 0,08 bis etwa 0,25 mm) wird zwischen einer erhitzten Nickelpreßplatte und einem Polster gepreßt, das flach sein kann oder die Kon-Regardless of the method of making the final metal press plate, the final Replicas of the original deformation image using the method described above made for making a variety of final second replicas or by pressing. That The method according to the invention described below is a hot pressing method. A thin, dry one thermoplastic film (cellulose acetate with a thickness of about 0.08 to about 0.25 mm) pressed between a heated nickel press plate and a pad, which can be flat or the con-

türen einer positiven Mutterplatte entsprechend der Kontur der negativen Preßplatte haben kann. Der thermoplastische Film wird vorher auf eine Temperatur erhitzt, so daß keine thermischen Schockwirkungen auftreten, wenn er gegen die noch heißere Preßplatte gedrückt wird. Da die Tiefe der Oberflächendeformationen insbesondere im Falle eines holographischen Originalbildes nur sehr gering ist (in der Größenordnung von 0,5 Mikron), tritt wenig oder kein Zerfließen des Kunststoffes auf, höchstens eine leichte Verlagerung. Am Ende der Preßzeit wird die gepreßte thermoplastische Folie gelöst. Überraschenderweise ist dies ohne eine vorherige Abkühlung möglich. Man erhält eine heiß gepreßte Nachbildung des originalen Deformationsbildes mit guter Qualität. Für dieses Verfahren kann jeder geeignete thermoplastische Stoff verwendet werden. Typische derartige Stoffe sind Acetate, wie Zelluloseacetat, Zelluloseacetatbutyrat, Zellulosetriacetat, Butyrate, Polycarbonate; Polyester, wie Polyäthylenterephthalat; Vinylharze, wie Polyvinylchlorid, PoIysulfonharze und Mischungen dieser Stoffe. Zufriedenstellende Bilder ergeben sich mit den meisten getesteten thermoplastischen Stoffen bei einem Preßdruck zwischen etwa 27 und 408 atü, wenn eine Vorerwärmung des thermoplastischen Films bis ungefähr zur Erweichungstemperatur vorgenommen wird, eine Preßplattentemperatur von etwa 49 bis etwa 204° C und eine Preßzeit von weniger als etwa 30 Sekunden verwendet wird. Im allgemeinen sind höhere Druckwerte erforderlich, wenn geringere Preßplattentemperaturen verwendet werden. Es zeigte sich, daß die besten Nachbildungen auf Zelluloseacetat entstehen, wenn ein Preßdruck von etwa 27 bis 408 atü, eine Vorerhitzungstemperatur bis zu etwa 93° C, eine Preßplattentemperatur von etwa 49 bis etwa 149° C und eine Preßzeit von etwa 1 bis 10 Sekunden angewendet werden. Diese Werte werden deshalb zum Heißpressen der genauesten Nachbildungen auf Zelluloseacetat verwendet. Jedoch kann auch jeder andere geeignete Stoff hierzu dienen. Auch kann ein Kaltpreßverfahren angewendet werden. Das Heißpressen wird jedoch vorzugsweise angewendet, da ein geringerer Druck ausreicht und die Zerstörung der Bildfläche wesentlich verringert ist. Zur Herstellung holographischer Refiexionsbilder können metallüberzogene Plastikfilme verwendet werden. Auch kann eine durchsichtige Plastiknachbildung nach der Herstellung des Bildes metallisiert werden. Beide Seiten der Plastikfolie können gleichzeitig oder nacheinander mit demselben oder verschiedenen Hologrammen gepreßt werden. Selbstverständlich kann die Preßmutterplatte entweder eben oder auf einen Zylinder aufgezogen sein, mit dem sie über die thermoplastischen Folien gerollt wird.Doors of a positive mother plate can have according to the contour of the negative press plate. Of the thermoplastic film is previously heated to a temperature so that no thermal shock effects occur when it is pressed against the even hotter press plate. Because the depth of the surface deformations especially in the case of an original holographic image, very small (on the order of 0.5 microns), little occurs or no melting of the plastic, at most a slight displacement. At the end of the pressing time the pressed thermoplastic film dissolved. Surprisingly, this is done without any prior cooling possible. A hot-pressed replica of the original deformation image is obtained with good Quality. Any suitable thermoplastic material can be used for this process. Typical such substances are acetates, such as cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, cellulose triacetate, butyrates, Polycarbonates; Polyesters such as polyethylene terephthalate; Vinyl resins such as polyvinyl chloride, polysulfone resins and mixtures of these substances. Most of the tested images produce satisfactory images thermoplastic materials at a pressure between about 27 and 408 atmospheres when preheated of the thermoplastic film is made to about the softening temperature, a Press plate temperature of about 49 to about 204 ° C and a press time of less than about 30 seconds is used. In general, higher pressures are required when lower press plate temperatures be used. It turned out that the best replicas are made on cellulose acetate, when a pressing pressure of about 27 to 408 atmospheres, a preheating temperature up to about 93 ° C, a Press plate temperature of about 49 to about 149 ° C and a pressing time of about 1 to 10 seconds applied will. These values are therefore used to hot-press the most accurate replicas Cellulose acetate used. However, any other suitable substance can also be used for this purpose. Also can a Cold pressing processes are used. However, hot pressing is preferably used because a lower pressure is sufficient and the destruction of the image area is significantly reduced. For the production For reflective holographic images, metal coated plastic films can be used. A clear plastic replica can also be metallized after the image has been created. Both sides of the plastic wrap can be used simultaneously or consecutively with the same or different Holograms are pressed. Of course, the press nut plate can either be flat or open a cylinder with which it is rolled over the thermoplastic films.

Es sei bemerkt, daß mit dem vorstehend beschriebenen Heißpreßverfahren der thermoplastische Film für vergleichsweise kurze Zeit unter Druck steht und dann heiß abgelöst wird, so daß der erweichte Kunststoff während der Abkühlung nicht in der Preßform verbleibt. Überraschenderweise ergibt sich bei direkter Betrachtung des Bildes keine Formänderung trotz der Tatsache, daß der Stoff vor der Entfernung aus der Preßform nicht abgekühlt wurde. Dies macht eine Temperaturverringerung der Preßform nach der Erzeugung einer jeden Nachbildung überflüssig und erlaubt eine extrem schnelle Herstellung einer Anzahl sehr guter Nachbildungen mit einer einzigen Mutterplatte. Im Gegensatz zu einer Erweichung mit Lösungsmitteln hat dieses Heißpreßverfahren den Vorteil, daß es völlig trocken arbeitet und eine Auffrischung oder Nachlieferung von Lösungsmitteln nicht erfordert.It should be noted that with the above-described hot press method, the thermoplastic film is under pressure for a comparatively short time and is then removed hot, so that the softened plastic does not remain in the mold during cooling. Surprisingly, it turns out to be Direct viewing of the image does not change its shape despite the fact that the fabric is prior to removal was not cooled from the mold. This makes a temperature reduction of the die after the Generating each replica is superfluous and allows extremely rapid production of a number very good replicas with a single mother plate. In contrast to a softening with Solvents this hot pressing process has the advantage that it works completely dry and a refreshment or subsequent delivery of solvents is not required.

Die folgenden Beispiele dienen der weiteren Erläuterung des erfindungsgemäßen Verfahrens zur Nachbildung eines Deformationsbildes. Alle Anteile beziehen sich auf das Gewicht, falls nicht anders angegeben. Die Beispiele stellen vorzugsweise Ausführungsformen des erfindungsgemäßen Verfahrens dar.The following examples serve to further illustrate the process according to the invention for Reproduction of a deformation image. All parts are based on weight, unless otherwise stated. The examples preferably represent embodiments of the method according to the invention.

Beispiel IExample I.

Zunächst wird ein holographisches Originalbild hergestellt. Es wird eine Uberzugslösung gebildet, die etwa 20 Teile Polyvinylcarbazol, etwa 0,1 Teil Brilliant Green Special (ein Triphenylmethanfarbstoff der Allied Chemical Company), etwa 100 Teile Dioxan und etwa 110 Teile Dichlormethan enthält.First, an original holographic image is produced. A coating solution is formed which about 20 parts polyvinyl carbazole, about 0.1 part Brilliant Green Special (a triphenylmethane dye from Allied Chemical Company), about 100 parts of dioxane and about 110 parts of dichloromethane.

Diese Lösung wird auf die leitfähige Oberfläche einer NESA-Glasplatte (Glasunterlage, überzogen mit einer extrem dünnen, durchsichtigen Zinnoxydschicht, erhältlich von der Pittsburg Plate Glass Company) bis zu einer trockenen Stärke von etwa 7 Mikron aufgebracht. Auf diese fotoleitfähige Schicht wird eine Schicht aus Staybelite-Ester 10 (ein Glycerolester von 60%ig hydriertem Kolophonium, erhältlich von der Hercules Chemical Company) bis zu einer trokkenen Stärke von etwa 1 Mikron aufgebracht. Diese Schicht wird aufgebracht, indem ihre Unterlage mit einer Geschwindigkeit von etwa 12,5 cm pro Minute aus einer 2O°/oigen Lösung des Harzes in einem Kerosenlösungsmittel herausgezogen wird. Nach Trocknung besteht die vollständige Bildplatte aus einer leitfähigen Unterlage, einer fotoleitfähigen Schicht und einer deformierbaren thermoplastischen Schicht. Diese Platte wird bei Dunkelheit mit Koronaentladung auf eine Oberflächenspannung von etwa 500 Volt aufgeladen. Die Platte wird dann in einer Anordnung belichtet, wie sie in Fig. 1 der Patentanmeldung R 45090 IXa/42 h dargestellt ist. Dabei erfolgt eine Belichtung mit Objekt- und Bezugsstrahlen unter Verwendung eines Helium-Neon-Dauerstrich-Lasers, der im Tem-00-Betrieb bei 6328 Ängström arbeitet (Modell 5200 der Perkin Eimer Company). Der Bezugsstrahl fällt unter einem Winkel von etwa 30° ein.This solution is applied to the conductive surface of a NESA glass plate (glass substrate, covered with a extremely thin, clear tin oxide film available from Pittsburg Plate Glass Company) to applied to a dry thickness of about 7 microns. On this photoconductive layer is a Layer of Staybelite Ester 10 (a glycerol ester of 60% hydrogenated rosin, available from Hercules Chemical Company) to a dry thickness of about 1 micron. These Layer is applied by its backing at a speed of about 12.5 cm per minute is extracted from a 20% solution of the resin in a kerosene solvent. To When drying, the entire image plate consists of a conductive base, a photoconductive one Layer and a deformable thermoplastic layer. This plate is in the dark with Corona discharge charged to a surface tension of about 500 volts. The plate will then be in exposed an arrangement as shown in Fig. 1 of patent application R 45090 IXa / 42 h. Exposure to object and reference beams is carried out using a helium-neon continuous wave laser, who works in Tem-00 mode at 6328 Angstrom (model 5200 from Perkin Bucket Company). The reference ray is incident at an angle of approximately 30 °.

Nach nochmaliger Aufladung wird die Platte dann langsam auf ihre Erweichungstemperatur erhitzt. Das rekonstruierte Bild ist gleichzeitig mit der Bildung des Hologramms zu beobachten. Nach guter Ausbildung der Deformationen wird die Platte zur Fixierung des Bildes abgekühlt. Es ergibt sich eine holographische Aufzeichnung ausgezeichneter Qualität mit einer Auflösung von etwa 800 Linien pro Millimeter. After being charged again, the plate is then slowly heated to its softening temperature. That The reconstructed image can be observed simultaneously with the formation of the hologram. After a good education the deformations, the plate is cooled to fix the image. The result is a holographic one Excellent quality recording with a resolution of around 800 lines per millimeter.

Das Hologramm wird etwa 6 Stunden lang dem ultravioletten Licht einer Quecksilber-Bogenlampe der General Electric von 100 Watt in einem Abstand von etwa 15 cm ausgesetzt. Wie oben beschrieben, wird dadurch die Oberfläche widerstandsfähig gemacht. The hologram is exposed to ultraviolet light from a mercury arc lamp for about 6 hours exposed to the General Electric of 100 watts at a distance of about six inches. As described above, this makes the surface more resistant.

Etwa 100 Teile RTV-Il (eine bei Zimmertemperatur vulkanisierende Silikonkautschukverbindung der General Electric Company) werden mit etwa 0,3 Teilen eines zugehörigen Katalysators gemischt. Diese Mischung wird in einem Vakuumtrockner bei einem Druck von weniger als 0,17 atü gehalten, umAbout 100 parts of RTV-II (a silicone rubber compound that vulcanizes at room temperature from General Electric Company) are mixed with about 0.3 part of an associated catalyst. This mixture is kept in a vacuum dryer at a pressure of less than 0.17 atm

eingeschlossene Luftblasen zu entfernen. Auf der Oberfläche der Mischung wird dadurch eine Schaumbildung verursacht. Nach etwa 5 Minuten wird der Druck langsam auf Atmosphärendruck gebracht. Das Originalhologramm wird dann mit der Bildfläche nach oben in den Boden einer rechteckförmigen Preßform von 12,7 mm gelegt. Nach Abstreichen der Oberfläche der evakuierten Silikonkautschukmischung wird diese sorgfältig in die Form bis zu einer Höhe von etwa 9,5 mm eingegossen, so daß alle Konturen vollständig gefüllt sind. Das Harz wird dann auf Zimmertemperatur 48 Stunden lang abgekühlt. Mit größeren Mengen des Katalysators kann die Aushärtungszeit wesentlich abgekürzt werden. Der ausgehärtete Kautschuk wird dann von dem Original abgezogen. Es ergibt sich eine flexible, dauerhafte, erste, negative Mutternachbildung aus Kautschuk. Das Originalhologramm wird durch diesen Abguß nicht beschädigt.remove trapped air bubbles. This causes foam to form on the surface of the mixture caused. After about 5 minutes the pressure is slowly brought to atmospheric pressure. That The original hologram is then placed face up in the bottom of a rectangular shape Press mold of 12.7 mm placed. After wiping the surface of the evacuated silicone rubber mixture this is carefully poured into the mold up to a height of about 9.5 mm, so that all the contours are completely filled. The resin is then cooled to room temperature for 48 hours. With If larger amounts of the catalyst are used, the curing time can be significantly reduced. The hardened one Rubber is then stripped from the original. The result is a flexible, permanent, first, negative nut replica made of rubber. The original hologram becomes through this cast not damaged.

Eine Gußlösung wird dann hergestellt, indem etwa 17 Teile pulverisiertes Elvacite Nr. 2045 (ein PoIyisobutylmethacrylatharz, erhältlich von E. I. duPont de Nemours & Co.) und etwa 28 Teile gereinigtes Äthylendichlorid gelöst werden. Die Lösung wird einige Stunden lang stehengelassen, um Luftblasen aus der gerührten Flüssigkeit austreten zu lassen. Ein Stück klares Plexiglas (Polymethylmethacrylat, erhältlich von der Firma Röhm & Haas) mit einer Stärke von etwa 6,35 mm wird etwas größer als die Kautschukplatte zugeschnitten. Ein dicker Guß der Nachbildungslösen wird auf eine Kante der Plexiglasplatte und auf eine Kante der Kautschukform aufgegossen. Dann wird die Lösung auf beiden Flächen mit Glasstäben zu einer dünnen Schicht ausgewalzt. Die überzogene Plastikunterlage wird sofort derart auf die überzogene Kautschukfläche gelegt, daß ein Zusammenschluß beider Flächen von einer Seite zur anderen wie beim Schließen einer Tür erfolgt. Noch verbleibende Luftblasen werden dadurch herausgedrückt. Dann wird ein Gewicht, das einen Druck von etwa 0,01 at auf die Lösungsschicht erzeugt, auf die Plastikplatte aufgesetzt, und die Anordnung wird etwa 3 Stunden lang bei Zimmertemperatur getrocknet. Es ergibt sich eine starre, durchsichtige, zweite, positive Nachbildung aus Plastik mit guter Qualität. Die erste Musterplatte aus Silikonkautschuk bleibt dabei unbeschädigt.A casting solution is then made by adding approximately 17 parts of powdered Elvacite No. 2045 (a polyisobutyl methacrylate resin, available from E.I. duPont de Nemours & Co.) and about 28 parts of purified ethylene dichloride. The solution will be allowed to stand for a few hours to allow air to escape from the stirred liquid. A Piece of clear plexiglass (polymethyl methacrylate, available from Röhm & Haas) with a A thickness of about 6.35 mm is cut to be slightly larger than the rubber sheet. A big cast of the Replica dissolving is done on one edge of the plexiglass sheet and on one edge of the rubber mold infused. Then the solution is rolled out into a thin layer on both surfaces with glass rods. The coated plastic pad is immediately placed on the coated rubber surface in such a way that that the two surfaces join together from one side to the other, as when a door is closed. This will force out any remaining air bubbles. Then a weight becomes that one Pressure of about 0.01 at generated on the solution layer, placed on the plastic plate, and the assembly is dried for about 3 hours at room temperature. The result is a rigid clear, second, positive replica made of plastic with good quality. The first sample board Silicone rubber remains undamaged.

Dann wird ein Hologramm in Form einer Metallnachbildung hergestellt. Nach chemischer Reinigung und Sensitivierung der Oberfläche der zweiten Nachbildung mit einer Zinnoxydchloridlösung wird Silber aus einer ammoniakhaltigen Silbernitratlösung chemisch reduziert, während diese auf die Plästiknachbildung aufgesprüht wird. Die erhaltene Silberschicht hat eine Stärke von etwa 7,6 · 10~e cm. Der Silberüberzug bildet die zur Herstellung einer guten galvanischen Metallnachbildung erforderliche sehr leitfähige Oberfläche. Die Nickelschicht mit einer Stärke von etwa 0,3 mm wird dann galvanisch auf die Silberfläche in einem Nickelsulfamatbad bei einer Temperatur von etwa 54° C und einem Gesamtstrom für eine 30-cm-Platte von 50 Ampere aufgebracht. Nach der Galvanisierung wird das mit Nickel belegte Silber leicht aus der Plastikform genommen, und es ergibt sich eine dritte, negative Metallmutterplatte mit einer Silberoberfläche. Die Nachbildung ist als Preßplatte für Kurzbetrieb geeignet.Then a hologram in the form of a metal replica is produced. After chemical cleaning and sensitization of the surface of the second replica with a tin oxychloride solution, silver is chemically reduced from an ammonia-containing silver nitrate solution while this is sprayed onto the plastic replica. The silver layer obtained has a thickness of about 7.6 cm x 10 ~ e. The silver coating forms the very conductive surface required to produce a good galvanic metal replica. The nickel layer with a thickness of about 0.3 mm is then galvanically applied to the silver surface in a nickel sulfamate bath at a temperature of about 54 ° C. and a total current for a 30 cm plate of 50 amperes. After electroplating, the nickel-coated silver is easily removed from the plastic mold, and a third, negative metal mother plate with a silver surface results. The replica is suitable as a press plate for short-term use.

Unter Verwendung dieser Platte werden dann mehrere Nachbildungen des Originalhologramms hergestellt. Ein trockener Zelluloseacetatfilm mit einer Stärke von etwa 0,18 mm wird auf etwa 88° C erhitzt. Die Metallmutterplatte wird auf etwa 138° C erhitzt und unter einem Druck von etwa 54 atü auf den Zelluloseacetatfilm gegen ein flaches Polster gedrückt. Druck und Temperatur werden etwa 5 Sekunden lang beibehalten. Am Ende der Preßzeit wird der Plastikfilm ohne vorherige Abkühlung gelöst. Es ίο ergibt sich eine ausgezeichnete Nachbildung des Originalhologramms. Über 100 weitere Nachbildungen werden in ähnlicher Weise heiß gepreßt, bevor ein merklicher Qualitätsabfall zu beobachten ist.Using this plate, several replicas of the original hologram are then made manufactured. A dry cellulose acetate film about 0.18 mm thick is heated to about 88 ° C heated. The metal mother plate is heated to about 138 ° C and under a pressure of about 54 atmospheres pressed the cellulose acetate film against a flat cushion. Pressure and temperature are about 5 seconds maintained for a long time. At the end of the pressing time, the plastic film is loosened without prior cooling. It ίο the result is an excellent replica of the original hologram. Over 100 other replicas are hot-pressed in a similar manner before a noticeable decrease in quality is observed.

X5 Beispiel II X 5 Example II

Wie im Beispiel I werden ein Originalhologramm, eine katalytisch gebildete erste und eine gegossene zweite Mutterplatte hergestellt. In diesem Falle soll eine dauerhaftere Mutterplatte heiß gepreßt werden, so daß eine größere Anzahl von Nachbildungen hergestellt werden kann. Nach dem Überziehen der Plastiknachbildung mit Silber und einer 0,3 mm starken, galvanisch gebildeten Nickelschicht wird die Silberoberfläche zur Passivierung mit einer Kaliumdichromatlösung behandelt. Dies ermöglicht die Galvanisierung einer weiteren Nickelschicht auf die Silberoberfläche, ohne eine Silber-Nickel-Bindung zu erzeugen. Nach derartiger Bildung einer 0,25 mm starken Nickelschicht wird diese von der Silber-Nickel-Mutterplatte getrennt. Es ergibt sich eine dauerhafte, ganz aus Nickel bestehende, positive vierte Nachbildung. Diese kann in einem Heißpreßverfahren, wie es im Beispiel I beschrieben ist, zur Herstellung gepreßter negativer Plastiknachbildungen verwendet werden. Für viele holographische Anwendungszwecke ist die negative Nachbildung geeignet. Falls erwünscht, kann diese Metallmutterplatte mit einem Chromüberzug versehen werden, der ihre Lebensdauer weiter verlängert, wozu ein Strom von etwa 375 Ampere mit einer 35-cm-Platte verwendet wird.As in Example I, an original hologram, a catalytically formed first, and a cast second mother plate made. In this case, a more permanent motherboard should be hot-pressed, so that a greater number of replicas can be made. After covering the Plastic replica with silver and a 0.3 mm thick, galvanically formed nickel layer is the Silver surface treated with a potassium dichromate solution for passivation. This enables electroplating another nickel layer on the silver surface without creating a silver-nickel bond. After a 0.25 mm thick nickel layer has been formed in this way, it is removed from the silver-nickel mother plate separated. The result is a permanent positive fourth replica made entirely of nickel. This can in a hot pressing process, as described in Example I, to produce pressed negative plastic replicas can be used. For many holographic uses the negative replica is suitable. If desired, this metal mother plate can be fitted with a Chrome plating are provided, which extends their service life further, including a current of about 375 amps is used with a 35 cm plate.

Beispiel IIIExample III

Die insgesamt aus Nickel gebildete (positive) vierte Nachbildung aus Beispiel II wird mit einer Lösung von etwa 16 g Polyisobutylmethacrylat, gelöst in etwa 200 ml Methyläthylketon, durch Aufstreichen überzogen. Der gebildete Flüssigkeitsfilm wird an der Luft bei Zimmertemperatur etwa 20 Sekunden lang getrocknet, bis er einen klebrigen Zustand erreicht. Eine dünne Zelluloseacetatfolie mit einer Stärke von etwa 0,13 mm wird gleichmäßig mittels einer Gummiwalze auf die klebrige Schicht gedrückt. Die Zelluloseacetatfolie wird dann von der vierten Mutterplatte abgezogen. Der übertragene Film zeigt eine gute Haftung an der Zelluloseacetatfolie. Über 100 weitere Nachbildungen werden auf ähnliche Weise mit der vierten Nachbildung hergestellt, wobei kein merklicher Abfall der Qualität auftritt.The (positive) fourth replica from Example II, formed entirely of nickel, is coated with a solution of about 16 g of polyisobutyl methacrylate, dissolved in about 200 ml of methyl ethyl ketone, by brushing on overdrawn. The liquid film formed is exposed to air at room temperature for about 20 seconds dried until it becomes sticky. A thin cellulose acetate film with a thickness of about 0.13 mm is pressed evenly onto the sticky layer by means of a rubber roller. The cellulose acetate film is then withdrawn from the fourth motherboard. The transferred film shows one good adhesion to the cellulose acetate film. Over 100 other replicas are made in a similar fashion produced with the fourth replica with no noticeable drop in quality.

Beispiel IVExample IV

Ein Originalhologramm sowie eine katalytisch gegossene erste Mutterplatte werden wie im Beispiel I hergestellt. In diesem Falle soll eine zweite Nachbildung schneller als im Beispiel I gebildet werden. Die erste Mutterplatte wird in ein Bad von etwa 2 g PoIy-An original hologram and a catalytically cast first mother plate are as in Example I manufactured. In this case, a second replica should be formed faster than in Example I. the first mother plate is placed in a bath of about 2 g of poly-

109 587/253109 587/253

methylmethacrylat, gelöst in 200 ml Methyläthylketon, getaucht und langsam innerhalb von 3 Sekunden herausgezogen. Der gebildete Flüssigkeitsfilm wird an Luft bei Zimmertemperatur etwa 30 Sekunden lang getrocknet, bis er einen klebrigen Zustand erreicht. Der klebrige Film wird dann an eine dünne Zelluloseacetatbutyrat-Folie mit einer Stärke von etwa 0,25 mm gedrückt. Die erste Mutterplatte wird unmittelbar nach der Druckeinwirkung abgezogen. Der übertragene Film zeigt überraschend starke Haftung an der Folie. Die insgesamt zur Bildung der zweiten Nachbildung erforderliche Zeit ist fast 360mal schneller als die für die zweite Mutterplatte im Beispiel I beschriebenen Herstellungsschritte. Die erste Mutterplatte wird nochmals in der vorstehend beschriebenen Weise zur Herstellung von mehr als 100 guten zweiten Nachbildungen ohne merklichen Qualitätsabfall verwendet. Eine der auf diese Weise erzeugte zweite Nachbildung wird dann zur Herstellung einer dritten Mutterplatte wie im Beispiel I verwendet. methyl methacrylate, dissolved in 200 ml of methyl ethyl ketone, submerged and slowly withdrawn within 3 seconds. The formed liquid film is air-dried at room temperature for about 30 seconds until it becomes sticky achieved. The tacky film is then attached to a thin cellulose acetate butyrate sheet with a thickness of pressed about 0.25 mm. The first mother plate is removed immediately after the application of pressure. The transferred film shows surprisingly strong adhesion to the foil. The total to form the The time required for the second replica is almost 360 times faster than that for the second motherboard manufacturing steps described in Example I. The first motherboard is repeated in the above described way to produce more than 100 good second replicas without noticeable Quality waste used. One of the second replicas created in this way is then used for manufacture a third mother plate as in Example I used.

Beispiel VExample V

Das im Beispiel IV beschriebene Verfahren wird wiederholt mit dem Unterschied, daß eine PoIyäthylenterephthalat-Folie mit einer Stärke von 0,3 mm an Stelle der Zelluloseacetatbutyrat-Folie verwendet wird. Die hergestellten zweiten Nachbildungen entsprechen in ihrer Qualität denjenigen aus Beispiel IV.The procedure described in Example IV is repeated with the difference that a polyethylene terephthalate film with a thickness of 0.3 mm is used in place of the cellulose acetate butyrate film. The second replicas produced correspond in quality to those from Example IV.

Beispiel VIExample VI

Das im Beispiel IV beschriebene Verfahren wird wiederholt mit dem Unterschied, daß der FlüssigkeitsfUm auf die Oberfläche der ersten Mutterplatte aufgewalzt wird, wonach er etwa 1 Minute bis zu einem nichtklebrigen Zustand trocknet und dann etwa 4 Sekunden lang gegen eine Zelluloseacetatbutyrat-Folie gedrückt wird, die sich auf einer heißenThe procedure described in Example IV is repeated with the difference that the liquid volume is rolled onto the surface of the first motherboard, after which it takes about 1 minute up to to a tack-free state and then against a cellulose acetate butyrate sheet for about 4 seconds is pressed, which is on a hot

ίο Platte mit einer Temperatur von etwa 100° C befindet. Die erste Mutterplatte wird dann von dem übertragenen Film getrennt. Sie wird in der vorstehend beschriebenen Weise zur Herstellung von mehr als 100 zweiten Nachbildungen guter Qualität verwendet. Eine der zweiten Nachbildungen wird dann zur Herstellung einer dritten Mutterplatte wie im Beispiel I verwendet.ίο Plate is at a temperature of around 100 ° C. The first mother plate is then separated from the transferred film. She is in the foregoing used to produce more than 100 second replicas of good quality. One of the second replicas is then used to manufacture a third motherboard as in the example I used.

Obwohl spezielle Bestandteile und Stoffmengen in der vorstehenden Beschreibung vorzugsweiser Ausführungsformen des erfindungsgemäßen Verfahrens angegeben wurden, können auch andere Stoffe und Bedingungen, wie sie weiter oben aufgeführt sind, mit ähnlichen Ergebnissen angewendet werden. Zusätzlich können weitere Stoffe zu den verschiedenen Nachbildungsstoffen hinzugefügt werden, um eine synergetische, verbessernde oder anderweitig abändernde Auswirkung auf deren Eigenschaften zu erzielen. Beispielsweise können Temperaturänderungen oder Ablösungsmittel verwendet werden, falls dies erwünscht ist.Although specific ingredients and amounts of substance in the above description of preferred embodiments of the method according to the invention have been specified, other substances and Conditions as listed above can be applied with similar results. Additionally further substances can be added to the various replication substances to create a to achieve synergetic, improving or otherwise modifying effects on their properties. For example, temperature changes or release agents can be used if desired is.

Hierzu 1 Blatt Zeichnungen1 sheet of drawings

Claims (23)

Patentansprüche:Patent claims: 1. Verfahren zur Nachbildung von Deformationsbildern, insbesondere für die Holographie, mit einer mittleren Verformungstiefe von bis zu 1 Mikron, dadurch gekennzeichnet, daß an dem nachzubildenden Deformationsbild bei einer Temperatur unter etwa 95° C eine Schicht eines härtbaren, gegenüber der Bildoberfläche neutralen Stoffes, vorzugsweise von Silikonkautschuk, der einen Füllstoff mit einem Teilchendurchmesser von 10 Millimikron bis 1 Mikron hat, verformt und als negative Nachbildung von dem Deformationsbild abgezogen wird, und daß auf diese Nachbildung ein verflüssigter filmbildender Stoff gegossen und nach Filmbildung als positive Nachbildung von der negativen Nachbildung abgezogen wird.1. Process for the reproduction of deformation images, in particular for holography, with an average deformation depth of up to 1 micron, characterized in that a layer on the deformation image to be reproduced at a temperature below about 95 ° C a hardenable substance that is neutral to the surface of the picture, preferably silicone rubber, the one filler with a particle diameter of 10 millimicrons to 1 micron has, deformed and subtracted from the deformation image as a negative replica, and that on this replica a liquefied film-forming substance is poured and after film formation as a positive replica is subtracted from the negative replica. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der filmbildende Stoff durch Auflösung in einem Lösungsmittel verflüssigt wird.2. The method according to claim 1, characterized in that the film-forming substance by Dissolution in a solvent is liquefied. 3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Lösung des filmbildenden Stoffes auf die negative Nachbildung in einer Menge abgelagert wird, die zur Bildung einer dünnen, trockenen Schicht mit einer glatten, deformationsfreien Außenfläche ausreicht, und daß die glatte Oberfläche einer Unterlage vor dem Abziehen gegen die glatte, deformationsfreie Außenfläche gedrückt wird.3. The method according to claim 2, characterized in that the solution of the film-forming Substance is deposited on the negative replica in an amount sufficient to form a thin, dry layer with a smooth, deformation-free outer surface is sufficient, and that the smooth surface of a base before peeling off against the smooth, deformation-free Outer surface is pressed. 4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Lösung des filmbildenden Stoffes bis zum klebrigen Zustand getrocknet wird, bevor er mit der glatten Oberfläche der Unterlage zusammengebracht wird.4. The method according to claim 3, characterized in that the solution of the film-forming The fabric is dried to the tacky state before coming to the smooth surface of the Document is brought together. 5. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die glatte Oberfläche der Unterlage vor dem Zusammenbringen mit der dünnen, trockenen Schicht erhitzt wird.5. The method according to claim 3, characterized in that the smooth surface of the Prior to joining with the thin, dry layer. 6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß als filmbildender Stoff ein Kunstharz verwendet wird.6. The method according to any one of claims 1 to 5, characterized in that as a film-forming A synthetic resin is used for the fabric. 7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß nach dem Abziehen eine dritte, negative Nachbildung durch Ablagerung einer dünnen Silberschicht auf der Oberfläche der zweiten, positiven Nachbildung, Galvanisierung einer Nickelschicht auf die Silberschicht und Trennung der Silberschicht von der zweiten, positiven Nachbildung hergestellt wird.7. The method according to claim 6, characterized in that after peeling off a third, negative replica by the deposition of a thin layer of silver on the surface the second, positive replica, electroplating a nickel layer on the silver layer and separating the silver layer from the second, positive replica. 8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Silberschicht bis zu einer Stärke von 7,6 · ΙΟ"» bis 10 · ΙΟ"6 cm aufgebracht wird.8. The method according to claim 7, characterized in that the silver layer is applied up to a thickness of 7.6 · ΙΟ "» to 10 · ΙΟ " 6 cm. 9. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Nickelschicht bis zu einer Stärke von 0,13 bis 0,3 mm aufgebracht wird.9. The method according to claim 7, characterized in that the nickel layer up to one Thickness of 0.13 to 0.3 mm is applied. 10. Verfahren nach einem der Ansprüche 7 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß von dem Deformationsbild eine vierte, positive Metallnachbildung durch Passivierung der Silberoberfläche der dritten, negativen Nachbildung, Galvanisierung einer Nickelschicht auf die Silberoberfläche und Trennung der Silberfläche von der vierten, positiven Nachbildung hergestellt wird.10. The method according to any one of claims 7 to 9, characterized in that of the Deformation image of a fourth, positive metal replica through passivation of the silver surface the third, negative replica, electroplating a nickel layer on the silver surface and separating the silver surface from the fourth, positive replica. 11. Verfahren nach einem der Ansprüche 7 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß eine vierte, positive Nachbildung durch Pressen der dritten Nachbildung gegen die Oberfläche eines verformbaren thermoplastischen Films hergestellt wird, wobei ein zur Verformung der Oberfläche des thermoplastischen Films in bildmäßiger Verteilung ausreichender Druck erzeugt wird.11. The method according to any one of claims 7 to 9, characterized in that a fourth, positive replica by pressing the third replica against the surface of a deformable one thermoplastic film is produced, with a to deform the surface of the thermoplastic film in imagewise distribution sufficient pressure is generated. 12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die vierte, positive Nachbildung durch Auflegen des thermoplastischen Films auf eine Unterlage, Vorerwärmung des thermoplastischen Films, Vorerwärmung der dritten Nachbildung, Pressen der dritten Nachbildung gegen den thermoplastischen Film für eine Zeit von weniger als 30 Sekunden und Abziehen der so gebildeten vierten, positiven Nachbildung von der dritten Nachbildung hergestellt wird, wobei die dritte Nachbildung die Preßtemperatur beibehält.12. The method according to claim 11, characterized in that the fourth, positive replica by placing the thermoplastic film on a base, preheating the thermoplastic film, preheating the third replica, pressing the third replica against the thermoplastic film for a time of less than 30 seconds and peeling off the fourth, positive replica thus formed is made by the third replica, the third replica being the pressing temperature maintains. 13. Verfahren nach Anspruch 11 oder 12, dadurch gekennzeichnet, daß der thermoplastische Film aus Zelluloseacetat mit einer Stärke von 0,08 bis 0,25 mm besteht.13. The method according to claim 11 or 12, characterized in that the thermoplastic Cellulose acetate film 0.08-0.25 mm thick. 14. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die vierte, positive Nachbildung durch Auflegen des thermoplastischen Films auf eine Unterlage, Erhitzung des thermoplastischen Films auf eine Vortemperatur im Erweichungsbereich, Erhitzung der dritten Nachbildung auf eine Vortemperatur zwischen 49 und 204° C, Pressen der dritten Nachbildung gegen den thermoplastischen Film für eine Zeit von weniger als 30 Sekunden und Abziehen der so gebildeten vierten Nachbildung von der dritten Nachbildung hergestellt wird, wobei die dritte Nachbildung die Preßtemperatur beibehält.14. The method according to claim 11, characterized in that that the fourth, positive replica by placing the thermoplastic film on a base, heating the thermoplastic Film to a pre-temperature in the softening range, heating of the third replica to a pre-temperature between 49 and 204 ° C, pressing the third replica against the thermoplastic film for a time of less than 30 seconds and then peeling off the so formed fourth replica is made from the third replica, the third Replica maintains the pressing temperature. 15. Verfahren nach einem der Ansprüche 6 bis 14, dadurch gekennzeichnet, daß eine dünne Schicht des verflüssigten Kunstharzes auf die erste Nachbildung aufgebracht wird und daß die freie Oberfläche der dünnen Schicht vor dem Abziehen der so gebildeten zweiten, positiven Nachbildung von der ersterr Nachbildung mit einer Unterlage in Berührung gebracht wird.15. The method according to any one of claims 6 to 14, characterized in that a thin Layer of the liquefied resin is applied to the first replica and that the free surface of the thin layer before peeling off the second, positive replica thus formed the first replica is brought into contact with a substrate. 16. Verfahren nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß die dünne Schicht des verflüssigten Kunstharzes vor der Berührung der freien Oberfläche mit der Unterlage bis zu einem klebrigen Zustand ausgehärtet wird.16. The method according to claim 15, characterized in that the thin layer of the liquefied Synthetic resin before touching the free surface with the base up to one sticky state is cured. 17. Verfahren nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß die dünne Schicht des verflüssigten Kunstharzes nach Berührung der freien Oberfläche mit der Unterlage ausgehärtet wird.17. The method according to claim 15, characterized in that the thin layer of the liquefied Synthetic resin is cured after touching the free surface with the base. 18. Verfahren nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß die dünne Schicht des verflüssigten Kunstharzes vor der Berührung der freien Oberfläche mit der Unterlage ausgehärtet wird und daß zumindest der Unterlage gleichzeitig mit der Übertragung der dünnen Schicht des ausgehärteten Harzes auf die Unterlage Wärmeenergie zugeführt wird.18. The method according to claim 15, characterized in that the thin layer of the liquefied Synthetic resin cured before touching the free surface with the base and that at least the substrate is simultaneous with the transfer of the thin layer of the cured resin is supplied to the base heat energy. 19. Verfahren nach einem der Ansprüche 6 bis 14, dadurch gekennzeichnet, daß die zweite, positive Nachbildung durch Ablagerung einer dünnen Schicht des verflüssigten Kunstharzes auf die Oberfläche einer Unterlage und Abguß der dünnen Schicht des verflüssigten Kunstharzes gegen die erste, negative Nachbildung hergestellt wird.19. The method according to any one of claims 6 to 14, characterized in that the second, positive replication by the deposition of a thin layer of the liquefied synthetic resin the surface of a base and casting of the thin layer of the liquefied synthetic resin against the first, negative replica. 3 43 4 20. Verfahren nach einem der Ansprüche 6 Ladungsmusters erweicht werden, wenn er im erbis 19, dadurch gekennzeichnet, daß die zweite, weichten Zustand eine zur Speicherung der Ladung positive Nachbildung aus einer Lösung eines ausreichend schlechte Leitfähigkeit hat. Das Mattie-Acrylharzes in einem organischen Lösungsmittel rungsbild wird fixiert, indem der Film wieder erstarrt, gebildet wird. 5 Für eine wiederholt zu verwendende Bildplatte ist es20. The method according to any one of claims 6 charge pattern are softened when it is in erbis 19, characterized in that the second, soft state is one for storing the charge positive replica from a solution has a sufficiently poor conductivity. The Mattie acrylic resin The image is fixed in an organic solvent by the film solidifying again, is formed. 5 For an optical disk to be used repeatedly, it is 21. Verfahren nach einem der Ansprüche 6 normalerweise erwünscht, das fixierte Bild durch bis 19, dadurch gekennzeichnet, daß die zweite, nochmalige Erweichung des thermoplastischen Films positive Nachbildung aus einem geschmolzenen zu löschen und eine ausreichend geringe Viskosität thermoplastischen Harz gebildet wird. für gewisse Zeit beizubehalten, um durch die Ober-21. The method of any one of claims 6 normally desired to pass the fixed image to 19, characterized in that the second, repeated softening of the thermoplastic film positive replica from a melted clear and a sufficiently low viscosity thermoplastic resin is formed. to hold for a certain period of time in order to 22. Verfahren nach einem der vorhergehenden io flächenspannung eine Glättung der Filmoberfläche zu Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß vor der erreichen.22. The method according to one of the preceding io surface tension smoothing the film surface Claims, characterized in that before reaching. Herstellung der ersten, negativen Nachbildung In jüngerer Zeit wurde gefunden, daß die BiId-Production of the first, negative replica. It has recently been found that the image das nachzubildende Deformationsbild zur Erzeu- erzeugung durch Oberflächendeformation speziellthe deformation image to be reproduced for generation through surface deformation specifically gung einer Oberflächenhaut behandelt wird, die geeignet für die Holographie ist. Wie von Dennistreatment of a surface skin suitable for holography. Like Dennis aus einem härteren Stoff mit einer höheren Visko- 15 Gabor in dem Aufsatz »A New Microscopicfrom a harder material with a higher viscosity 15 Gabor in the essay “A New Microscopic sität bei Erweichungstemperatur der Originalbild- Principle« in Nature 161, S. 777 und 778 (1948), be-sity at the softening temperature of the original picture principle "in Nature 161, pp. 777 and 778 (1948), fläche besteht als derjenige des originalen Defor- schrieben wird, besteht das holographische Verfahrenarea exists than that of the original deformed, the holographic process exists mationsbildes. aus zwei Schritten, wobei das Defraktionsbild einesmation picture. of two steps, the defraction image being a 23. Verfahren nach Anspruch 22, dadurch ge- mit kohärenter Strahlung, z. B. Laserlicht, beleuchkennzeichnet, daß die Oberflächenhaut eine 20 teten Objekts auf eine strahlungsempfindliche Schicht Stärke von mindestens 0,3 Mikron besitzt. aufgezeichnet wird. Diese Aufzeichnung, unter der23. The method according to claim 22, characterized ge with coherent radiation, z. B. laser light, lighting, that the surface skin of a 20 th object on a radiation-sensitive layer Has a thickness of at least 0.3 microns. is recorded. This record, under the Bezeichnung Hologramm bekannt, wird dann zurThe name hologram is known, then becomes Rekonstruktion einer ein Bild erzeugenden Wellen-Reconstruction of a wave generating an image front durch Beleuchtung mit kohärenter elektro-front through lighting with coherent electrical 25 magnetischer Strahlung verwendet. Dieses Verfahren25 magnetic radiation is used. This method Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur wurde weiterentwickelt, siehe hierzu beispielsweise Nachbildung von Deformationsbildern, insbesondere E. Leith und J. Upatnieks in zwei Aufsätzen im für die Holographie, mit einer mittleren Verformungs- Journal of the Optical Society of America mit dem tiefe von bis zu 1 Mikron. Titel »Reconstructed Wave-fronts in CommunicationThe invention relates to a method for which has been further developed, see for example in this regard Reproduction of deformation images, especially E. Leith and J. Upatnieks in two essays in for holography, with a mean deformation Journal of the Optical Society of America with the depth of up to 1 micron. Title »Reconstructed Wave-fronts in Communication Zur Erzeugung von Bildmustern auf der Ober- 30 Theory«, 52, 1123, Oktober 1962, und »Wave-front fläche thermoplastisch verformbarer Stoffe sind zwei Reconstruction with Continuous Tone Objects«, 53, Verfahren allgemein bekannt. Das erste, mit dem 1377, Dezember 1963, beschrieben.
»Mattierungsbilder« erzeugt werden, ist in den USA.- Obwohl in der Forschung am meisten mit Ampli-
Two Reconstruction with Continuous Tone Objects, 53, methods are generally known for generating image patterns on the upper 30 Theory ", 52, 1123, October 1962, and" Wave-front surface of thermoplastically deformable materials. The first, with the 1377, December 1963, described.
"Matting images" are generated in the USA.
Patentschriften 3 196 008, 3 196 001 und 3 258 336 tudenhologrammen gearbeitet wurde, ist es auch beschrieben. Das zweite, mit dem »Reliefbilder« 35 möglich, Phasenhologramme herzustellen, bei denen erzeugt werden, ist in den USA.-Patentschriften die Bilderzeugung in einem phasenmodulierten 3 055 006, 3 063 872 und 3 113 179 beschrieben. Bei Muster statt eines amplitudenmodulierten Musters jedem dieser Verfahren reagiert die Oberfläche eines gespeichert wird, wie dies beispielsweise in einem erweichten thermoplastischen Stoffes auf elektro- Aufsatz von G.L.Rogers in Proceedings of the statische Kräfte durch Verformung. Der grund- 40 Royal Society, Edinberg, 193, 1953, sowie in einem legende Unterschied zwischen »Mattierung« und Aufsatz von W. T. C a they Jr. in Journal of the »Relief« besteht jedoch darin, daß die Mattierung Optical Society of America, 55, 457 (1965), beschrieauf gleichmäßig geladenen Flächenteilen als eine ben wird.Patents 3 196 008, 3 196 001 and 3 258 336 tude holograms worked, it is described. The second, with the "relief image" 35 possible to produce phase holograms in which is in the U.S. Patents the image generation in a phase modulated 3,055,006, 3,063,872 and 3,113,179. With pattern instead of an amplitude-modulated pattern Each of these processes reacts to the surface of a stored, such as in a softened thermoplastic material on electro- essay by G.L. Rogers in Proceedings of the static forces due to deformation. The basic 40 Royal Society, Edinberg, 193, 1953, as well as in one legendary difference between "matting" and an article by W. T. C a they Jr. in Journal of the "Relief", however, is what the matting described Optical Society of America, 55, 457 (1965) evenly charged patches of surface as a ben. gleichmäßige Verteilung von Oberflächenfalten oder Kürzlich wurde entdeckt, daß die vorstehend be-uniform distribution of surface wrinkles or recently it has been discovered that the above -runzelungen auftritt, während die Reliefbildung nur 45 schriebenen Deformationsabbildungsverfahren zur durch elektrostatische Gradienten verursacht wird Herstellung von Phasenhologrammen ausgezeichneter und längs der durch einen Ladungsgradienten gebil- Qualität verwendet werden können. Dieses Verfahren deten Linie eine einzelne Deformationslinie auftritt. ist in der Patentanmeldung R 45090 IX a/42 h be-Eine Reliefbildung ergibt sich nicht bei gleichmäßiger schrieben. Hierbei werden Phasenhologramme auf Ladungsverteilung. Dies ist ein wichtiger Unterschied, 50 einer verformbaren thermoplastischen Schicht erder nicht nur für den Anwendungszweck, sondern zeugt, die sich als Überzug auf einer fotoleitfähigen auch für den verschiedenartigen Mechanismus beider Schicht befindet. Die verformbare Schicht wird Verfahren Bedeutung hat. Bei der gebräuchlichen gleichmäßig elektrostatisch aufgeladen und mit dem Erzeugung von Mattierungsbildern wird auf einem Objekt sowie mit Bezugsstrahlen kohärenter Strahnichtleitenden Film, der z. B. durch Einwirkung von 55 lung belichtet, für die der Fotoleiter empfindlich ist. Hitze oder Lösungsmitteldampf erweichbar ist, ein Nach der Belichtung wird die verformbare Schicht latentes elektrostatisches Bild oder Ladungsmuster nochmals geladen, und die Platte wird auf die Ererzeugt. Danach wird der Film erweicht, bis die weichungstemperatur der verformbaren Schicht erelektrostatischen Kräfte des Ladungsmusters die hitzt. Bei dieser Temperatur tritt eine spontane Oberflächenspannungskräfte des Films überwiegen. 60 Oberflächendeformation entsprechend dem holo-Ist dieser Schwellwert erreicht, so werden auf der graphischen Muster auf. Die Schicht wird dann zur Oberfläche des Films spontan sehr kleine Ober- Fixierung der holographischen Aufzeichnung abgeflächenfalten oder -runzeln gebildet, deren Tiefe in kühlt. Falls erwünscht, kann die Erhitzung während einem jeweiligen Flächenteil im allgemeinen von der der Belichtung stattfinden, so daß das rekonstruierte jeweils vorhandenen Ladungsstärke und der Dicke 65 Bild gleichzeitig mit der Erzeugung des Hologramms des Films abhängt. Dadurch erhält das Bild eine beobachtet werden kann. Dieses Verfahren ermögmatte Erscheinungsform. In einer anderen Ausfüh- licht die einfache Erzeugung von Phasenhologramrung kann der Film vor der Aufbringung des men ausgezeichneter Qualität und Auflösung. Bei- wrinkling occurs, while the formation of the relief only 45 described deformation mapping methods Due to electrostatic gradients, the production of phase holograms is more excellent and can be used along the quality created by a charge gradient. This method deten line a single deformation line occurs. is in the patent application R 45090 IX a / 42 h be-Eine Relief formation does not result from even writing. Here phase holograms are on Charge distribution. This is an important difference in a deformable thermoplastic layer not just for the purpose of use, but testifies that can be applied as a coating on a photoconductive also for the different mechanisms of the two layers. The deformable layer becomes Procedure has meaning. With the usual evenly electrostatically charged and with the The creation of matting images is carried out on an object as well as with reference rays of coherent ray refractors Film that z. B. exposed by exposure to 55 ment to which the photoconductor is sensitive. Heat or solvent vapor is softenable, an after exposure becomes the deformable layer electrostatic latent image or charge pattern is recharged and the plate is created on top of it. The film is then softened until the deformable layer has reached the electrostatic softening temperature Forces of the charge pattern that heats up. At this temperature, spontaneous surface tension forces predominate in the film. 60 surface deformation corresponding to the holo-ist When this threshold value is reached, the graphic pattern is based on. The layer then becomes the Surface of the film spontaneously folded away very small upper fixing of the holographic recording or wrinkles formed, the depth of which cools in. If desired, heating can be used during a respective area part generally take place from that of the exposure, so that the reconstructed each existing charge strength and the thickness 65 image simultaneously with the generation of the hologram depends on the film. This gives the image one that can be observed. This procedure enables Manifestation. In another embodiment, the simple generation of phase holograms The film can be of excellent quality and resolution before the application of the men. at
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Families Citing this family (60)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3898358A (en) * 1972-08-18 1975-08-05 Rca Corp Holographic recording media
US3790245A (en) * 1972-10-12 1974-02-05 Rca Corp Double-sided holographic replicas
US3882207A (en) * 1972-10-12 1975-05-06 Rca Corp Process of producing double-sided holographic replicas
FR2244321A1 (en) * 1973-09-14 1975-04-11 Thomson Brandt
US3993401A (en) * 1975-02-10 1976-11-23 Minnesota Mining And Manufacturing Company Retroreflective material including geometric fresnel zone plates
US4231982A (en) * 1975-05-20 1980-11-04 Ab Volvo Method for the production of tools for deep drawing, moulding, extruding and the like
US4097117A (en) * 1975-10-30 1978-06-27 Rca Corporation Optical coupler having improved efficiency
DE2657246C2 (en) * 1976-12-17 1978-09-28 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Original of an information carrier, method for producing the original, method for producing a die for embossing the original and information carrier which is produced with the die
US4114983A (en) * 1977-02-18 1978-09-19 Minnesota Mining And Manufacturing Company Polymeric optical element having antireflecting surface
US4582885A (en) * 1978-07-20 1986-04-15 Minnesota Mining And Manufacturing Company Shaped plastic articles having replicated microstructure surfaces
US4250135A (en) * 1979-05-17 1981-02-10 Orsini Peter C Roller for producing continuous sueded or grit type finish and method of making
JPS5835742A (en) * 1981-08-21 1983-03-02 Victor Co Of Japan Ltd Manufacture for stamper used for manufacture of information recording medium disc
US4478769A (en) * 1982-09-30 1984-10-23 Amerace Corporation Method for forming an embossing tool with an optically precise pattern
NL8300344A (en) * 1983-01-31 1984-08-16 Polygram Bv METHOD FOR THE MANUFACTURE OF METAL DIES.
US4906315A (en) * 1983-06-20 1990-03-06 Mcgrew Stephen P Surface relief holograms and holographic hot-stamping foils, and method of fabricating same
US4758296A (en) * 1983-06-20 1988-07-19 Mcgrew Stephen P Method of fabricating surface relief holograms
CH661683A5 (en) * 1983-09-19 1987-08-14 Landis & Gyr Ag DEVICE FOR MAINTAINING HIGH-RESOLUTION RELIEF PATTERNS.
US4893887A (en) * 1983-12-12 1990-01-16 E. I. Du Pont De Nemours And Company Holographic image transfer process
IT1188439B (en) * 1986-03-14 1988-01-14 Ausimont Spa REPRODUCTION PROCESS OF ARTWORKS IN LITHOID MATERIAL
JPH0641149B2 (en) * 1986-07-21 1994-06-01 三ツ星ベルト株式会社 Epidermis manufacturing method
DE3736119A1 (en) * 1987-10-26 1989-05-03 Krupp Gmbh Method for the mass reproduction of holograms
US5003915A (en) * 1988-04-18 1991-04-02 American Bank Note Holographics, Inc. Apparatus for printing and for forming a hologram on sheet material
US4933120A (en) * 1988-04-18 1990-06-12 American Bank Note Holographics, Inc. Combined process of printing and forming a hologram
US4923572A (en) * 1988-09-29 1990-05-08 Hallmark Cards, Incorporated Image transfer tool
US5071597A (en) * 1989-06-02 1991-12-10 American Bank Note Holographics, Inc. Plastic molding of articles including a hologram or other microstructure
US5083850A (en) * 1989-08-29 1992-01-28 American Bank Note Holographics, Inc. Technique of forming a separate information bearing printed pattern on replicas of a hologram or other surface relief diffraction pattern
US5116548A (en) * 1989-08-29 1992-05-26 American Bank Note Holographics, Inc. Replicaton of microstructures by casting in controlled areas of a substrate
NL8902949A (en) * 1989-11-29 1991-06-17 Leer Koninklijke Emballage METHOD FOR MANUFACTURING A MATERIAL WITH INTERFERENCE PATTERN LIKE HOLOGRAPHIC IMAGES
US5182063A (en) * 1990-04-12 1993-01-26 Artagraph Reproduction Technology Incorporated Method and means of publishing images having coloration and three-dimensional texture
US5201548A (en) * 1990-04-12 1993-04-13 Artagraph Reproduction Technology Incorporated Method and means for publishing images having coloration and three-dimensional texture
JP2725447B2 (en) * 1990-07-26 1998-03-11 ブリヂストンスポーツ株式会社 Golf ball manufacturing method
US5293370A (en) * 1991-01-16 1994-03-08 Del Mar Avionics Method and apparatus for creating optical disc masters
GB9113462D0 (en) * 1991-06-21 1991-08-07 Pizzanelli David J Laser-activated bar-code holograms and bar-code recognition system
AU1343092A (en) * 1992-01-09 1993-08-03 Scott R. Fohrman Reproduction of holograms
DE4211235C2 (en) * 1992-04-03 2003-04-17 Gao Ges Automation Org Method and device for producing metallic surface elements on substrates and their use
US5446587A (en) * 1992-09-03 1995-08-29 Samsung Electronics Co., Ltd. Projection method and projection system and mask therefor
US5714218A (en) 1995-08-21 1998-02-03 Dainippon Printing Co., Ltd. Ionizing radiation-curable resin composition for optical article, optical article, and surface light source
CN1161769C (en) 1998-04-06 2004-08-11 伊美申公司 Reverse optical mastering for data storage disks
US6190838B1 (en) * 1998-04-06 2001-02-20 Imation Corp. Process for making multiple data storage disk stampers from one master
US7294294B1 (en) 2000-10-17 2007-11-13 Seagate Technology Llc Surface modified stamper for imprint lithography
US6616867B2 (en) 2001-02-07 2003-09-09 Imation Corp. Multi-generation stampers
US6638692B1 (en) 2001-07-16 2003-10-28 Imation Corp. Replicated regions on optical disks
US6998196B2 (en) * 2001-12-28 2006-02-14 Wavefront Technology Diffractive optical element and method of manufacture
US7008208B1 (en) 2002-01-17 2006-03-07 Imation Corp. Grounded molding tool for manufacture of optical components
US6977052B1 (en) 2002-01-18 2005-12-20 Imation Corp Check disk for optical data storage disk manufacturing
WO2003096123A1 (en) * 2002-05-08 2003-11-20 Agency For Science, Technology And Research Reversal imprint technique
US20040137376A1 (en) * 2003-01-15 2004-07-15 Bishop John L. Method and system for replicating film data to a metal substrate and article of manufacture
US7186365B2 (en) * 2003-06-05 2007-03-06 Intel Corporation Methods for forming an imprinting tool
EP1542074A1 (en) * 2003-12-11 2005-06-15 Heptagon OY Manufacturing a replication tool, sub-master or replica
CZ2004234A3 (en) * 2004-02-12 2005-03-16 Optaglio S. R. O. Metallic identification chip and process for producing thereof
US20050213482A1 (en) * 2004-03-24 2005-09-29 Imation Corp. Multi-track mastering techniques
US20060073422A1 (en) * 2004-09-28 2006-04-06 Imation Corp. Portable conformable deep ultraviolet master mask
US20060110568A1 (en) * 2004-11-23 2006-05-25 Imation Corp. Multi-layers optical data storage disk masters
US7427466B2 (en) * 2004-11-29 2008-09-23 Imation Corp. Anti-reflection optical data storage disk master
US7981341B2 (en) * 2007-04-10 2011-07-19 The Boeing Company Method and apparatus for scaled up reproduction of detailed features
WO2009001976A1 (en) * 2007-06-28 2008-12-31 Ef Tech Co., Ltd. Method of duplicating nano pattern texture on object's surface by nano imprinting and electroforming
WO2010027076A1 (en) * 2008-09-05 2010-03-11 学校法人東京理科大学 Method for producing transferred structure and mother die for use in the method
CN101693422B (en) * 2009-10-20 2012-10-03 绍兴京昇光信息科技有限公司 Method for manufacturing holographical nickel plate locating and folding patterns on holographical plane surface
CN112652229A (en) * 2020-12-29 2021-04-13 中丰田光电科技(珠海)有限公司 Manufacturing method of film-pressed nickel plate with combination of multiple laser effects
CN112940314A (en) * 2021-02-04 2021-06-11 东北师范大学 Preparation method and application of surface-deformable nano composite film

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BE710829A (en) 1968-08-16
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GB1221342A (en) 1971-02-03
DE1621783A1 (en) 1971-04-01
NL7601465A (en) 1976-05-31

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