DE1772523C3 - Electrophotographic process - Google Patents
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- DE1772523C3 DE1772523C3 DE19681772523 DE1772523A DE1772523C3 DE 1772523 C3 DE1772523 C3 DE 1772523C3 DE 19681772523 DE19681772523 DE 19681772523 DE 1772523 A DE1772523 A DE 1772523A DE 1772523 C3 DE1772523 C3 DE 1772523C3
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 36
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 53
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 35
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 31
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 23
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 9
- 230000003213 activating Effects 0.000 claims description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 4
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 claims description 3
- 238000007786 electrostatic charging Methods 0.000 claims description 2
- 238000007600 charging Methods 0.000 description 14
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 13
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 11
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 8
- BOSAWIQFTJIYIS-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-Trichloro-2,2,2-trifluoroethane Chemical compound FC(F)(F)C(Cl)(Cl)Cl BOSAWIQFTJIYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 7
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 6
- -1 phthalocyanines Substances 0.000 description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 6
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 6
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 230000003287 optical Effects 0.000 description 5
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 5
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N Phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 4
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N acetic acid ethyl ester Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 3
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-Trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N Carbon tetrachloride Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 description 2
- 229940097275 Indigo Drugs 0.000 description 2
- 235000000177 Indigofera tinctoria Nutrition 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive Effects 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminum Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 description 2
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N methylene dichloride Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001264 neutralization Effects 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- ZXUJWPHOPHHZLR-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloro-2-fluoroethane Chemical compound FCC(Cl)(Cl)Cl ZXUJWPHOPHHZLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUBDPQJOLOUJRM-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)oxirane;4-[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenol Chemical compound ClCC1CO1.C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 KUBDPQJOLOUJRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPBZARXQRZTYGI-UHFFFAOYSA-N 3-cyclopentylpropylcyclohexane Chemical compound C1CCCCC1CCCC1CCCC1 CPBZARXQRZTYGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KSLLMGLKCVSKFF-UHFFFAOYSA-N 5,12-dihydroquinolino[2,3-b]acridine-6,7,13,14-tetrone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C(=O)C(C(=O)C1=CC=CC=C1N1)=C1C2=O KSLLMGLKCVSKFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000180 Alkyd Polymers 0.000 description 1
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- PGWFQHBXMJMAPN-UHFFFAOYSA-N CTK4B5078 Chemical compound [Cd].OS(=O)(=O)[Se]S(O)(=O)=O PGWFQHBXMJMAPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRLJSGOEGLARCA-UHFFFAOYSA-N Cadmium sulfide Chemical compound [S-2].[Cd+2] FRLJSGOEGLARCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N D-sucrose Chemical compound O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@@]1(CO)O[C@@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N 0.000 description 1
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N Diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N Heliogen blue Chemical compound [Cu].[N-]1C2=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=NC([N-]1)=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=N2 RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001062009 Indigofera Species 0.000 description 1
- 240000007871 Indigofera tinctoria Species 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- CZMRCDWAGMRECN-GDQSFJPYSA-N Sucrose Natural products O([C@@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](CO)O1)[C@@]1(CO)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 CZMRCDWAGMRECN-GDQSFJPYSA-N 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N Tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- 159000000009 barium salts Chemical class 0.000 description 1
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-M benzoate Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052980 cadmium sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000013351 cheese Nutrition 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 230000000295 complement Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L copper;diiodide Chemical compound I[Cu]I GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000000875 corresponding Effects 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- DATWNUNJGBZECY-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;4-[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenol;phenol Chemical compound O=C.OC1=CC=CC=C1.C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 DATWNUNJGBZECY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- MVSNKOUGGYJNHP-UHFFFAOYSA-N heptane;pentane Chemical compound CCCCC.CCCCCCC MVSNKOUGGYJNHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNCPIMCVTKXXOY-UHFFFAOYSA-N hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C(C)=C LNCPIMCVTKXXOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000615 nonconductor Substances 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N o-xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 1
- 229920001921 poly-methyl-phenyl-siloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000002441 reversible Effects 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000010025 steaming Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000005720 sucrose Substances 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- KFUSEUYYWQURPO-OWOJBTEDSA-N trans-1,2-dichloroethene Chemical group Cl\C=C\Cl KFUSEUYYWQURPO-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N triclene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000001052 yellow pigment Substances 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- RNWHGQJWIACOKP-UHFFFAOYSA-N zinc;oxygen(2-) Chemical group [O-2].[Zn+2] RNWHGQJWIACOKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Description
während oder nach der Erweichung bildmäßig bestrahlt wird.irradiated image-wise during or after softening.
2. Elektrophotographisches Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß in der Zeit zwischen Beginn der Aufladung und Ende der bildmäßigen Bestrahlung die erweichbare Schicht zusätzlich gleichmäßig bestrahlt wird, wobei die gleichmäßige Bestrahlung so durchgeführt wird, daß lediglich eine Umpolung aber keine Entladung der lichtempfindlichen Teilchen erfolgt2. Electrophotographic method according to claim 1, characterized in that in the The time between the start of charging and the end of the imagewise exposure is the softenable Layer is additionally irradiated uniformly, the uniform irradiation being carried out in this way is that only a polarity reversal but no discharge of the photosensitive particles takes place
3. Elektrophotographisches Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die erweichbare Schicht durch 1Z2 bis 10 Sekunden langes Einwirken eines Lösungsmitteldampfes erweicht wird.3. The electrophotographic process according to claim 1 or 2, characterized in that the softenable layer by 1 Z 2 to 10 seconds long exposure to a solvent vapor is softened.
4. Elektrophctographisches ^erfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet daü eine lösungsmitteldurchlässige brechbare Schicht verwendet wird.4. Elektrophctographisches ^ experience according to claim 1 or 2, characterized daü a solvent permeable breakable layer is used.
5. Elektrophotographisches Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die erweichbare Schicht durch 1 bis 10 Sekunden langes Erwärmen auf 50 bis 80° C erweicht wird.5. Electrophotographic method according to claim 1 or 2, characterized in that the softenable layer is softened by heating at 50 to 80 ° C for 1 to 10 seconds.
6. Elektrophotographisches Verfahren nach einem der Anspuiche 2 bis 5. dadurch gekennzeichnet, daß mit 10,76 bis 10 760 Luxsek. gleichmäßig und mit 10,76 bis 1076 Luxsek. bildmäßig belichtet wird.6. Electrophotographic process according to one of Claims 2 to 5, characterized in that that with 10.76 to 10 760 lux sec. evenly and with 10.76 to 1076 lux seconds. pictorial is exposed.
7. Elektrophotographisches Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß als lichtempfindliche Teilchen bzw. Stoffe ZnO, Phthalocyanine, Se, Azofarbstoffe, Indigo oder eine Mischung davon verwendet wird.7. Electrophotographic method according to one of claims 1 to 6, characterized in that that as light-sensitive particles or substances ZnO, phthalocyanines, Se, azo dyes, Indigo or a mixture thereof is used.
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Die Erfindung betrifft ein elektrophotographisches Verfahren, bei dem ein Aufzeichnungsmaterial mit einem Schichtträger und einer erweichbaren Schicht, auf oder in der lichtempfindliche Teilchen enthalten sind, oder auf der eine durch die elektrostatischen Kräfte eines Ladungsbildes brechbare Schicht mit einem lichtempfindlichen Stoff aufgebracht ist, gleichmäßig aufgeladen, mit aktivierender elektromagnetischer Strahlung bildmäßig bestrahlt, und die erweichbare Schicht durch Erwärmen oder Behandeln mit einem Lösungsmittel erweicht wird.The invention relates to an electrophotographic process in which a recording material has a support and a softenable layer on or in which light-sensitive particles are contained are, or on the one layer that can be broken by the electrostatic forces of a charge image a photosensitive substance is applied, evenly charged, with activating electromagnetic Irradiated radiation imagewise, and the softenable layer by heating or treatment is softened with a solvent.
Ein solches Abbildungsverfahren ist aus der FR-PS 14 66 349 bekannt. Bei diesem Verfahren wird ein Aufzeichnungsmaterial verwendet, das aus einem leitfähigen Schichtträger sowie einer darauf aufgenach diesem Verfahren hergestellte Bild ein Negativbild des positiven Originalbildes. Diejenigen Teile des lichtempfindlichen Stoffes, die nicht auf den leitfähigen Schichtträger wandern, können durch das Lösungsmittel zusammen mit der erweichbaren Schicht abgewaschen werden. Bei anderen Entwicklungsverfahren kann die erweichbare Schicht zumindest teilweise auf der Unterlage zurückbleiben.Such an imaging method is known from FR-PS 14 66 349. In this procedure, a recording material is used, which consists of a conductive layer support and one on top of it Image produced by this process is a negative image of the positive original image. Those parts of the Photosensitive material that does not migrate to the conductive layer support can through the Solvent can be washed off along with the softenable layer. In other development processes the softenable layer can remain at least partially on the base.
Allgemein können bei diesem Abbildungsverfahren drei verschiedene Aufzeichnungsmaterialien verwendet wsrden: Ein Aufzeichnungsmaterial aus einem leitfähigen Schichtträger mit einer Schicht eines erweichbaren Stoffes sowie einer brechbaren und vorzugsweise teilchenförmigen Schicht eines lichtempfindlichen Stoffes auf der erweichbaren Schicht oder in diese nahe ihrer Oberfläche eingebettet, ein Aufzeichnungsmaterial, bei dem die lichtempfindlichen Teilchen innerhalb der auf einem leitfähigen Schichtträger befindlichen erweichbaren Schicht dispergiert sind, und ein Aufzeichnungsmaterial, bei dem ein leitfähiger Schichtträger mit einer Schicht eines erweichbaren Stoffes überzogen ist, auf die eine Schicht aus lichtempfindlichen Teilchen sowie auf diesem eine zweite Schicht aus einem erweichbaren Stoff aufgebracht ist. Die Bezeichnung »brechbare Schicht« bezieht sich auf eine Schicht bzw. einen Stoff, der bei der Entwicklung bricht und eine Wanderung seiner Teile auf die Unterlage in bildmäßiger Verteilung ermöglichtIn general, three different recording materials can be used in this imaging method wsrden: A recording material made of a conductive support with a layer of a softenable one Substance and a breakable and preferably particulate layer of a photosensitive Substance on the softenable layer or embedded in it near its surface Recording material in which the photosensitive particles within the on a conductive The softenable layer located on the substrate is dispersed, and a recording material is present on which a conductive support is coated with a layer of a softenable substance, on one of which Layer of photosensitive particles and on top of this a second layer of a softenable one Fabric is applied. The term "breakable layer" refers to a layer or a layer Substance that breaks during development and a migration of its parts onto the substrate in a pictorial manner Allows distribution
Dieses Abbildungsverfahren besteht also aus einer Kombination der Verfahrensschritte der Bildung eines Ladungsbildes und der Entwicklung mit einer Lösungsmittelflüssigkeit oder einem Lösungsmitteldampf, mit Wärme oder Kombinationen dieser Erweichungsarten zur Sichtbarmachung des Bildes. Bei Verfahren der Erzeugung des Ladungsbildes auf nicht lichtempfindliche bzw. neutrale Weise können brechbare Schichten und lichtempfindliche Teilchen zur Erzeugung von Bildern verwendet werden, wie dies in der französischen Patentschrift 14 66 349 beschrieben ist, wobei das Ladungsbild auf die verschiedenste Weise erzeugt werden kann, beispielsweise durch bildmäßig verteilte Aufladung mittels einer Maske oder Schablone, durch Erzeugung eines Ladungsbildes auf einer besonderen fotoleitfähigen Isolierstoffschicht gemäß üblicher elektrofotografischer Reproduktionstechnik sowie Übertragen dieses Ladungsbildes auf das Aufzeichnungsmaterial indem beide Schichten sehr nahe aneinander gebracht werden und das in den US-PS 2 982, 647, 28 25 814 und 29 37 943 beschriebene Überschlagsverfahren angewendet wird. Ferner kön-This mapping process thus consists of a combination of the process steps of forming a Charge image and development with a solvent liquid or a solvent vapor, with heat or combinations of these types of softening to make the image visible. In proceedings The generation of the charge image in a non-photosensitive or neutral way can be breakable Layers and photosensitive particles can be used to form images, as described in US Pat French patent 14 66 349 is described, the charge image in the most varied of ways can be generated, for example by image-wise distributed charging by means of a mask or stencil, by generating a charge image on a special photoconductive insulating material layer according to customary electrophotographic reproduction technology and transfer of this charge image to the recording material by bringing both layers very close to one another and that described in U.S. Patents 2,982,647, 2,825,814 and 2,937,943 The rollover method is used. Furthermore,
gen Ladungsbilder in einer besonders geformten Elektroden oder Elektrodenkombinationen entsprechenden Konfiguration durch ein Entladungsverfahren pach den US-PS 30 23 731, 29 19 9.>7, 30 01 848 so- «ije durch Elektronenstrahlaufzeichnung nach der US-PS 31 13 179 erzeugt werden.gene charge patterns in a specially shaped electrode or electrode combination corresponding Configuration by a discharge process pach the US-PS 30 23 731, 29 19 9.> 7, 30 01 848 so- «Ije by electron beam recording after the US-PS 31 13 179 are generated.
Bei einer anderen Ausführungsfonn dieses Abbildungsverfahrens wird ein Bild durch das selektive Zerbrechen eines teilchenförmigen Stoffes auf oder }n einei elektrostatisch deformierbaren oder runzelungsfähigen Schicht erzeugt. Hierbei besteht ein Unterschied gegenüber den vorstehend beschriebenen Verfahren da.in, daß die erweichbare Schicht in Verbindung mit einem Zerbrechen des teilchenförmigen Stoffes deformiert wird, wie dies ausführlicher in der FR-PS 15 07 656 beschrieben wird.In another embodiment of this mapping method creates an image through the selective disruption of a particulate matter on or } n one that is electrostatically deformable or capable of wrinkling Layer generated. There is a difference here from those described above Method da.in that the softenable layer in connection with a breaking of the particulate Substance is deformed, as is described in more detail in FR-PS 15 07 656.
Die Eigenschaften der nach diesem Verfahren hergestellten Bilder hängen von der Aufladung, der Belichtung und der Entwicklung sowie von der jeweiigen Kombination der Verfahrensschritte ab. Einige der erreichbaren Eigenschaften sind hohe Dichte, Halbtöne und hohe Auflösung. Das Bild ist im allgemeinen ein fixiertes oder nichtfixiertes teilchenförmiges Bild mit oder ohne einen Teil der erweichbaren Schicht sowie nicht gewanderten Schichtteilen auf dem Aufzeichnungsmaterial. Es kann beispielweise für Mikrofilm, harte Kopien, optische Masken und mit Klebstoffen arbeitende Abzugsverfahren verwendet werden.The properties of the images produced by this process depend on the charge, the Exposure and development as well as the respective combination of process steps. Some the achievable properties are high density, halftones and high resolution. The picture is in general a fixed or unfixed particulate image with or without a portion of the softenable Layer and non-migrated layer parts on the recording material. It can for example Used in microfilm, hard copies, optical masks, and adhesive printing processes will.
Für einige vorzugsweise zu verwendende lichtempfindliche Teilchenarten ergibt sich eine Positiv-Negativ-Abbildung bei gleichförmiger Aufladung des Aufzeichnungsmaterials, bildmäßiger Belichtung und Entwicklung. Bei vielen Bilderzeugungen ist es erwünscht, positive Bilder von einem positiven Original sowie negative Bilder von einem negativen Original herzustellen.For some photosensitive ones preferably to be used Particle types result in a positive-negative image with uniform charging of the Recording material, imagewise exposure and development. For many types of image production, it is desirable positive images from a positive original and negative images from a negative original to manufacture.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die Herstellung positiver Bilder von positiven Originalen sowie negativer Bilder von negativen Originalen zu ermöglichen, wobei die Bildqualität verbessert sein soll und ein mechanischer Verschluß für die Belichtung nicht erforderlich ist.The invention is based on the object of producing positive images from positive originals as well as negative images from negative originals, the image quality being improved and a mechanical shutter is not required for exposure.
Bei einem Verfahren der eingangs gemachten Art wird diese Aufgabe dadurch gelöst, daß die erweichbare Schicht des Aufzeichnungsmaterials während oder nach der Erweichung bildmäßig bestrahlt wird.In a method of the type mentioned, this object is achieved in that the softenable Layer of the recording material is irradiated imagewise during or after softening.
Die Erweichung der erweichbaren Schicht kann durch Behandlung mit einer Lösungsmittelflüssigkeit oder einem Lösungsmitteldampf, WaVme oder Kornbinationen dieser Mittel erreicht werden. Die bildniäßige Belichtung während des weichen Zustandes ergibt Bilder mit verbesserter Qualität sowie Positivbilder von positiven Originalen unter Verwendung von Aufzeichnungsmaterialien, mit denen bisher nur die Herstellung eines Negativbildes von einem positiven optischen Bild möglich war. Zusätzlich zur gleichmäßigen Aufladung kann ferner eine gleichmäßige Belichtung durchgeführt werden, dieser Schritt kann bei einigen lichtempfindlichen, brechbaren Stoffen jedoch auch entfallen.The softening of the softenable layer can be achieved by treatment with a solvent liquid or a solvent vapor, hot water or combinations of these agents. The pictorial Exposure during the soft state gives images of improved quality as well as positive images of positive originals using recording materials with which previously only the production of a negative image from a positive optical image was possible. In addition to uniform charging, uniform exposure can also be performed, this step can be omitted for some light-sensitive, breakable substances.
Weitere, besondere Einzelheiten des Verfahrens betreffende Ausgestallungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen angegeben.Further configurations of the invention relating to the method are given in FIG specified in the subclaims.
Die Erfindung wird an Hand in der Zeichnung dargestellter Ausführungsformen näher erläutert. Es zeigtThe invention is explained in more detail with reference to the embodiments shown in the drawing. It shows
F i g. 1 ein Ausführungsbeispiel eines bei dem Verfahren benutzten Aufzeichnungsmaterials,F i g. 1 an embodiment of a recording material used in the method,
F i g. 2 die elektrostatische Aufladung bei dem Verfahren, F i g. 2 the electrostatic charge in the process,
F i g. 3 die gleichmäßige Belichtung bei dem Verfahren, F i g. 3 the uniform exposure in the process,
F i g. 4 eine bevorzugte Ausführungsfonn der bildmäßigen Belichtung bei dem Verfahren,F i g. 4 shows a preferred embodiment of the imagewise exposure in the process;
F i g. 5 A und 5 B eine wehere Ausführungsfonn r<er bildmäßigen Belichtung und Entwicklung bei dem Verfahren undF i g. 5 A and 5 B show a further embodiment of the imagewise exposure and development in the Procedure and
ίο F i g. 6 den Querschnitt des in F i g. 1 gezeigten Aufzeichnungsmaterials nach dessen Verarbeitung. In Fig. 1 ist ein Ausführungsbeispiel eines Aufzeichnungsmaterials 10 dargestellt, das aus einem Schichtträger 11 und einer elektrisch isolierendenίο F i g. 6 shows the cross section of the FIG. 1 shown Recording material after its processing. In Fig. 1 is an embodiment of a recording material 10 shown, which consists of a layer support 11 and an electrically insulating
ίο erweichbaren Schicht 12 besteht, welche an ihrer Oberfläche eine brechbare Schicht von lichtempfindlichen Teilchen 13 enthält.ίο there is softenable layer 12, which at their Surface contains a breakable layer of photosensitive particles 13.
Der Schichtträger 11 kann elektrisch leitfähig oder nichtleitend sein. Leitfähige Schichtträger erleichternThe layer carrier 11 can be electrically conductive or non-conductive. Make conductive layers easier
ao im allgemeinen die elektrostatische Aufladung des Aufzeichnungsmaterials und bestehen dann aus Kupfer, Messing, Nickel, Zink, Chrom, rostfreiem Stahl, leitfähigen Kunststoffen und Gummiarten, Aluminium, Stahl, Kadmium, Silber oder Gold. Derao in general the electrostatic charge of the Recording material and then consist of copper, brass, nickel, zinc, chromium, stainless Steel, conductive plastics and rubbers, aluminum, steel, cadmium, silver or gold. the
a5 Schichtträger kann jede geeignete Form haben, beispielsweise kann er als Metallstreifen, Blatt, Platte, Spule, Zylinder, Trommel, endloses Band, Möbiusstreifen oder ähnlich ausgeführt sein. Falls erwünscht, kann der Schichtträger einen !eitfähigen Überzug auf einen Isolator, wie Papier, Glas oder Kunststoff, enthalten. Derartige Schichtträger bestehen aus praktisch durchsichtigem Zinnoxyd auf Glas, einer aluminisierten Polyesterfolie oder aus einer mit Kupferiodid überzogenen Folie aus Polyäthylenterephthalat.a5 support can have any suitable shape, for example it can be used as a metal strip, sheet, plate, spool, cylinder, drum, endless belt, Möbius strip or similar. If desired, the support can have a conductive coating contain an insulator such as paper, glass, or plastic. Such supports consist of practical transparent tin oxide on glass, an aluminized polyester film or one with copper iodide coated film made of polyethylene terephthalate.
Elektrisch nichtleitende Schichtträger können gleichfalls verwendet werden, wodurch eine große Anzahl folienbildender Stoffe, wie Kunststoffe, als Schichtträger 11 dienen können.Electrically non-conductive layers can also be used, creating a large Number of film-forming substances, such as plastics, can serve as a layer carrier 11.
Die erweichbare Schicht 12 kann aus jedem geeigneten Stoff bestehen, der in einer Lösungsmittelflüssigkeii oder bei Einwirkung von Lösungsmitteldämpfen oder Wärme oder Kombinationen dieser Mittel, löslich oder erweichbar ist und ferner während der Erzeugung und der Entwicklung des Ladungsbildes praktisch elektrisch nichtleitend ist. Typische derartige Stoffe sind ein teilweise hydrierter Harztriester, ein Alkydharz, Silikonharze, Sucrosebenzoat, ein Polystyrol-Olefin-Mischpolymerisat, ein stark verzweigtes Polyolefin, ein Styrol-Vinyltoluol-Mischpolymerisat, ein Polystyrol-Olefin-Mischpolymerisat, Epoxyharze, ein Phenylmethylsiliconharz, ein Bisphenol-A-Epichlorhydrin-Epoxyharz sowie ein Phenolformaldehydharz, ein in bekannter Weise synthetisiertes Mischpolymerisat von Styrol und Hexylmethacrylat, ein in bekannter Weise synthetisiertes Poly diphenylsiloxan, ein in bekannter Weise synthetisiertes Polyadipat, Acrylharze, thermoplastische Harze ein chlorierter Kohlenwasserstoff, thermoplastisch« Poiyvinylharze sowie Mischungen dieser Stoffe.The softenable layer 12 can be made of any suitable material that is in a solvent liquid or exposure to solvent vapors or heat or combinations thereof Medium, soluble or softenable and also during the generation and development of the charge image is practically electrically non-conductive. Typical such substances are a partially hydrogenated resin triester, an alkyd resin, silicone resins, sucrose benzoate, a polystyrene-olefin copolymer, a strong branched polyolefin, a styrene-vinyltoluene copolymer, a polystyrene-olefin copolymer, epoxy resins, a phenylmethyl silicone resin, a bisphenol-A-epichlorohydrin-epoxy resin as well as a phenol-formaldehyde resin, a copolymer of styrene and hexyl methacrylate synthesized in a known manner, a poly diphenylsiloxane synthesized in a known manner, a synthesized in a known manner Polyadipate, acrylic resins, thermoplastic resins a chlorinated hydrocarbon, thermoplastic « Polyvinyl resins and mixtures of these substances.
Die vorstehende Slofigruppe gibt lediglich Beispiel· für Stoffe an, die für die erweichbare Schicht 12 ver wendbar sind.The above Slofigruppe is only an example for substances that are ver usable for the softenable layer 12.
Diese Schicht kann jede geeignete Starke haben wobei stärkere Schichten im allgemeinen ein größere Ladepotential benötigen. Im allgemeinen wird vor zugsweise eine Schichtstärke zwischen 1 und 4 Mi krön verwendet.This layer can be of any suitable thickness with thicker layers generally requiring a greater charging potential. In general, before preferably a layer thickness between 1 and 4 Mi krön is used.
Der Stoff für die Schicht 13, deren Teile währen*The fabric for layer 13, the parts of which are *
der Bilderzeugung auf den Schichtträger wandern, kann aus jedem geeigneten lichtempfindlichen, brechbaren Material gebildet sein. Für Bilder höchster Auflösung und Dichte soll der brechbare Stoff teilchenförmig sein, er kann auch eine kontiuierliche oder halbkontinuierliche brechbare Schicht beispielsweise nach einem »Schweizer-Käse-Muster« bilden, die während des Entwicklungsschrittes zerbricht und eine Wanderung ihrer Teile auf die Unterlage in bildmäßiger Konfiguration ermöglicht.The image formation on the support can be made of any suitable photosensitive, frangible Be formed material. For images of the highest resolution and density, the breakable substance should be particulate be, it can also be a continuous or semi-continuous breakable layer for example according to a "Swiss cheese pattern" that breaks during the development step and one Migration of their parts on the base in a pictorial configuration allows.
Jeder geeignete lichtempfindliche, brechbare Stoff kann verwendet werden. Typische derartige Stoffe sind anorganische oder organische Fotoleiter.Any suitable photosensitive, frangible material can be used. Typical such substances are inorganic or organic photoconductors.
Typische anorganische Fotoleiter sind amorphes Selen, amorphes Selen legiert mit Arsen, Tellur, Antimon oder Wismuth usw., Kadmiumsulfid, Zinkoxid, Kadmiumsulfoselenid so wie viele andere. In der US-PS3121006 sind typische anorganische fotoleitfähige Pigmentstoffe aufgeführt. Organische Fotoleiter sind spezielle Azofarbstoffe, wie das ao Bariumsalz von l-(4'-Methyl-5'chlor-azobenzol-2'-sulfonsäure)-2-hydrohydroxy-3-naphtensäure, C. I. Nr. 15865 und ein pyranthronartiger Pigmentstoff, ein chinacridonartiger Pigmentstoff, die Beta-Form von Kupferphthalocyanin, C. I. Nr. 7410, die Alpha-Form von metallfreiem Phthalocyanin, C. I. Nr. 74100, handelsübliches Indigo, gelbe Pigmentstoffe, hergestellt gemäß der FR-PS 14 67 288, die X-Form metallfreien Phthalocyanins, hergestellt gemäß der FR-PS 15 08 173, Chinacridonchinon, sensibilisiertes Polyvinylcarbazol, 3,3'-Methoxy-4,4'-diphenyl-bis (l"azo-2"-Hydroxy-3"-nyphthani!id), CI. Nr. 21180, l,2,5,6-di(D,D'-Diphenyl)-thiazolanthrachinon, C. I. Nr. 67300 und Mischungen dieser Stoffe. Die vorstehende Aufstellung organischer und anorganischer Fotoleiter stellt lediglich Beispiele für verwendbare Stoffe dar.Typical inorganic photoconductors are amorphous selenium, amorphous selenium alloyed with arsenic, tellurium, and antimony or bismuth, etc., cadmium sulfide, zinc oxide, cadmium sulfoselenide as well as many others. In the U.S. Patent 3,121,006 are typical inorganic photoconductive ones Pigment substances listed. Organic photoconductors are special azo dyes, such as the ao Barium salt of l- (4'-methyl-5'-chloro-azobenzene-2'-sulfonic acid) -2-hydroxy-3-naphthenic acid, C.I. No. 15865 and a pyranthrone-like pigment quinacridone-like pigment, the beta form of copper phthalocyanine, C.I. No. 7410, the alpha form of metal-free phthalocyanine, C.I. No. 74100, commercially available indigo, yellow pigments, produced according to FR-PS 14 67 288, the X-form metal-free phthalocyanine, produced according to the FR-PS 15 08 173, quinacridonequinone, sensitized polyvinylcarbazole, 3,3'-methoxy-4,4'-diphenyl-bis (l "azo-2" -hydroxy-3 "-nyphthaniid), CI. No. 21180, l, 2,5,6-di (D, D'-diphenyl) -thiazolanthraquinone, C.I. No. 67300 and mixtures of these substances. The above list of organic and inorganic Photoconductors are only examples of materials that can be used.
Es wurde gefunden, daß einige lichtempfindliche Stoffe, die Teilchenwanderungsbilder außergewöhnlicher Qualität erzeugen, wie z. B. amorphes Selen, und die vorzugsweise verwendeten organischen Stoffe im allgemeinen Negativbilder von positiven Originalen erzeugen, wenn eine gleichförmige Aufladung, Belichtung und Entwicklung gemäß der FR-PS 14 66 349 durchgeführt wird. Mit diesen lichtempfindliehen Stoffen ermöglicht das neue Verfahren die Durchführung eines Positiv-Positiv-Abbildungsverfahrens. It has been found that some photosensitive materials make particle migration patterns more exceptional Produce quality, such as B. amorphous selenium, and the preferably used organic substances generally produce negative images of positive originals when uniform charging, exposure and development according to FR-PS 14 66 349 is carried out. With these photosensitive The new process enables substances to carry out a positive-positive imaging process.
Ferner stellte es sich heraus, daß weitere lichtempfindliche Stoffe, wie Zinkoxid, manchmal abhängig von Änderungen bei der Herstellung des Aufzeichnungsmaterials sowie der drei grundlegenden Verfahrensschritte der Ladung, bildmäßigen Belichtung und Entwicklung gemäß der FR-PS 14 66 349 eine Positiv-Positiv-Abbildung oder eine Positiv-Negativ-Abbildung ermöglichen. Für diese lichtempfindlichen Stoffe kann das neue Verfahren verwendet werden, um mit Sicherheit eine Positiv-Positiv-Abbildung bei gegenüber bekannten Verfahren erhöhter Qualität sicherzustellen. Ferner zeigte sich bei diesen Stoffen, daß dieselbe Wirkung auch dann erreicht wird, wenn auf die gleichmäßige Belichtung verzichtet wird. Obwohl die Gründe dafür noch nicht völlig geklärt sind, nimmt man an, daß die höhere Dunkelleitfähigkeit dieser Stoffe hierfür maßgebend ist. Bei den Stoffen, die amorphes Selen enthalten, muß zur ausreichenden Leitfähigkeit und festeren Bindung der 1 -adune an den brechbaren Stoffen in weiterer Ausbildung des Verfahrens eine gleichmäßige Belichtung durchgeführt werden.It was also found that other photosensitive substances, such as zinc oxide, sometimes depending on changes in the production of the recording material and the three basic process steps of charging, imagewise exposure and development according to FR-PS 14 66 349 a positive-positive image or enable positive-negative imaging. The new process can be used for these photosensitive substances in order to ensure a positive-positive image with a higher quality than known processes. Furthermore, it was found with these substances that the same effect is achieved even if the uniform exposure is dispensed with. Although the reasons for this have not yet been fully clarified, it is assumed that the higher dark conductivity of these substances is decisive for this. In the case of substances that contain amorphous selenium, a uniform exposure must be carried out in the further development of the process in order to have sufficient conductivity and stronger binding of the 1-adune to the breakable substances.
Außer der in Fig. 1 gezeigten Anordnung sind weitere Ausführungsformen des Aufzeichnungsmaterials möglich, beispielsweise ein solches, bei dem die Schicht aus dem lichtempfindlichen, brechbaren Stoff dispergiert auch in der gesamten erweichbaren Schicht besteht. Ferner kann ein Aufzeichnungsmaterial verwendet werden, bei dem der lichtempfindliche Stoff als Zwischenschicht zwischen zwei Schichten des μ weichbaren Stoffes angeordnet ist, die auf dem Schichtträger aufgebracht sind.In addition to the arrangement shown in FIG. 1, there are others Embodiments of the recording material possible, for example one in which the Layer of the photosensitive, frangible substance also disperses throughout the softenable Layer consists. Furthermore, a recording material in which the photosensitive Fabric is arranged as an intermediate layer between two layers of the μ soft fabric that is on are applied to the substrate.
Die brechbare Schicht der in F i g. 1 gezeigten Anordnung kann nach jedem geeigneten Verfahren hergestellt werden. Typische Verfahren sind Vakuumaufdampfung gemäß der FR-PS 14 66 349, bei der eine brechbare Schicht von weniger als 1 Mikron Stärke vorzugsweise aus amorphem Selen auf die erweichbare Schicht aufgebracht wird. Die brechbare Schicht kann ferner durch Kaskadieren, Aufstäuben und so weiter gebildet werden, wie dies in der FR-PS 14 66 349 gezeigt ist. Die Stärke der brechbaren Schicht liegt vorzugsweise unter etwa 1 Mikron, obwohl Schichten von 5 Mikron Stärke bei einigen Stoffen auch gute Ergebnisse zeigten. Wird eine Bindemittelschicht verwendet, so kann deren Herstellung nach der US-PS 31 21 006 erfolgen.The breakable layer of the in F i g. 1 may be fabricated by any suitable method will. Typical processes are vacuum evaporation according to FR-PS 14 66 349, in which one breakable layer less than 1 micron thick, preferably of amorphous selenium on top of the softenable Layer is applied. The breakable layer can also be cascaded, sputtered and so on be further formed, as shown in FR-PS 14 66 349. The strength of the breakable Layer is preferably less than about 1 micron, although layers 5 microns thick on some fabrics also showed good results. If a binder layer is used, it can be produced according to US-PS 31 21 006 take place.
In F i g. 2 ist die gleichmäßige elektrostatische Aufladung des Aufzeichnungsmaterials dargestellt, wozu eine Korona-Entladungseinrichtung 14 dient, die von links nach rechts über das Aufzeichnungsmaterial hinübergeführt wird und eine gleichmäßige Ladung auf die Oberfläche der Schicht 13 aufbringt. Weitere Ladeverfahren, wie z. B. durch Reibung oder Induktion nach der US-PS 29 34 649, sind anwendbar. Die Oberflächenspannung der Schicht 13 kann zur Bilderzeugung zwischen wenigen Volt und 400 Volt liegen. Bei positiver Polarität soll die Spannung zwischen etwa 100 und 300 Volt liegen, um optimale Ergebnisse zu erzielen. Bei negativer Polarität werden optimale Ergebnisse erzielt, wenn die Oberflächenspannung der Schicht 13 zwischen etwa 25 und 150 Volt liegt. Es sei bemerkt, daß die Schritte des Verfahrens nacheinander beschrieben werden, sie können sich jedoch auch verschieden stark überlappen. Beispielsweise kann die gleichförmige Belichtung während oder nach der Aufladung erfolgen.In Fig. 2 shows the uniform electrostatic charging of the recording material, for which purpose a corona discharge device 14 is used, which extends from left to right over the recording material is passed over and applies a uniform charge to the surface of the layer 13. Other charging methods, such as B. by friction or induction according to US-PS 29 34 649, are applicable. The surface tension of the layer 13 can be between a few volts and 400 for image generation Volts. In the case of positive polarity, the voltage should be between about 100 and 300 volts in order to be optimal Get results. With negative polarity, optimal results are achieved if the surface tension of layer 13 is between about 25 and 150 volts. It should be noted that the steps of Procedure are described one after the other, but they can also overlap to different degrees. For example, the uniform exposure can occur during or after charging.
Besteht der Schichtträger 11 aus einem Nichtleiter, so kann die Aufladung des Aufzeichnungsmaterials beispielsweise durch Berührung des Schichtträgers mit einem leitfähigen Teil und Aufladung gemäß F i g. 2 erfolgen. Weitere in der elektrofotografischen Technik zur Aufladung der Aufzeichnungsmaterialien mit nichtleitenden Schichtträgern bekannte Verfahren können angewendet werden. Beispielsweise ist eine Ladung des Aufzeichnungsmaterials durch doppelseitige Korona-Entladung möglich, wobei zwei Korona-Entladungseinrichtungen auf beiden Seiten des Aufzeichnungsmaterialslö entgegengesetzte Ladungen abgeben.If the layer carrier 11 consists of a non-conductor, for example, the recording material can be charged by touching the substrate with a conductive part and charging according to FIG. 2 take place. Further in the electrophotographic Technique for charging the recording materials with non-conductive layers known methods can be applied. For example, a charge of the recording material is by double-sided Corona discharge possible with two corona discharge devices on either side of the recording material release opposite charges hand over.
In Fi g. 3 ist die gleichmäßige Belichtung des Aufzeichnungsmaterials 10 mit aktivierender Strahlung 18 dargestellt Geeignete Belichtungsstörken liegen im allgemeinen zwischen etwa dem Ein- bis Zehnfachen der bildmäßigen Beachtung, die in F i g. 4 dargestellt ist. Vorzugsweise wird die gleichmäßige Belichtung mit 10,76 Luxsek. bis 10760 Luxsek. oder mehr durchgeführt, um optimale Bildqualität zu erhalten.In Fi g. 3 is the uniform exposure of the recording material 10 shown with activating radiation 18. Suitable exposure levels are in generally between about one to ten times the pictorial attention shown in FIG. 4 shown is. Preferably, the uniform exposure is 10.76 luxsec. up to 10760 lux sec. or more performed in order to obtain the best possible image quality.
Hierzu kann jede geeignete aktivierende elektromagnetische Strahlung benutzt werden. Typische Strahlungsarten sind Glühlampenstrahlung, Röntgenstrahlen, Strahlen geladener Teilchen, Infrarot, Ultraviolett usw.Any suitable activating electromagnetic Radiation can be used. Typical types of radiation are incandescent lamp radiation, X-rays, Charged particle rays, infrared, ultraviolet, etc.
Es ist dargestellt, daß die gemäß Fig. 2 aufgebrachten elektrischen Oberflächenladungen bei der gleichmäßigen Belichtung gemäß F i g. 3 in die brechbare Schicht 13 hineingewandert sind. Obwohl diese Darstellung nur auf einer Annahme basiert, ist sie doch zum Verständnis der Vorgänge beim Verfahren nützlich, denn eine festere Bindung der elektrischen Ladungen an der Schicht 13 durch Bewegung in diese Schicht hinein ergibt sich durch die gleichmäßige Belichtung, wie sie in Fig. 3 dargestellt ist.It is shown that the applied according to FIG electrical surface charges with the uniform exposure according to FIG. 3 in the frangible layer 13 have migrated into it. Although this representation is based on an assumption only they are useful for understanding the processes involved, because a stronger bond of the electrical Charges on the layer 13 due to movement into this layer results from the uniform Exposure as shown in FIG.
In F i g. 4 ist das Aufzeichnungsmaterial 10 während der bildmäßigen Belichtung mit aktivierender Strahlung 15 und der Erweichung durch Eintauchen in eine Lösungsmittelflüssigkeit 19 für die erweichbare Schicht 12 dargestellt. Die Flüssigkeit befindet »o sich in dem Behälter 20. Die elektrischen Ladungen innerhalb der Schicht 13 bewegen sich nun aus dieser in den bildmäßig belichteten Flächenteilen heraus und in die erweichbare Schicht 12 hinein, wobei nur in den unbelichteten Flächenteilen der Schicht 13 noch Ladüngen zurückbleiben. Auch diese Darstellung basiert auf einer Annahme, ist jedoch für das Verständnis des Verfahrens nützlich.In Fig. 4 is the recording material 10 during imagewise exposure to activating radiation 15 and softening by immersion shown in a solvent liquid 19 for the softenable layer 12. The liquid is »o in the container 20. The electrical charges within the layer 13 now move out of this in the image-wise exposed areas out and into the softenable layer 12, with only in the unexposed areas of the layer 13 still remain charges. This representation is also based on an assumption, however, is useful in understanding the procedure.
Es wird angenommen, daß tatsächlich drei Phasen bei der bildmäßigen Belichtung während der Erweichung auftreten. Einmal wird die Schicht 15 in dargestellter Weise zunächst erweicht, und die Ladung der bildmäßig belichteten Teile der Schicht 13 wandert in die Schicht 12 oder wird in diese injiziert, zweitens wandern dann die nichtbelichteten Flächenteile der Schicht 13, die noch Ladungen enthalten, auf den Schichtträger 11, drittens wird bei Eintauchen in die Lösungsmittelflüssigkeit eine vollständige Auflösung der Schicht 12 sowie ein Abwaschen der nicht gewanderten Teilchen in den belichteten Flächenteilen bewirkt.It is believed that there are actually three phases in imagewise exposure during softening appear. Once the layer 15 is first softened in the manner shown, and the charge the imagewise exposed parts of the layer 13 migrate into the layer 12 or are injected into it, secondly, the unexposed parts of the surface of the layer 13 which still contain charges migrate the substrate 11; thirdly, when immersed in the solvent liquid, it dissolves completely of the layer 12 as well as washing off the non-migrated particles in the exposed parts of the surface causes.
Bei der in F i g. 5 A dargestellten Ausführungsform kann die bildmäßige Belichtung durchgeführt werden, während das Aufzeichnungsmaterial 10 durch Einwirkung von Lösungsmitteldämpfen für die Schicht 12 erweicht wird. Hierbei kann auf die bildmäßige Belichtung während oder nach der Erweichung eine Behandlung mit einer Lösungsmittelflüssigkeit erfolgen, indem das Aufzeichnungsmaterial 10 beispielsweise vorübergehend mit einem Lösungsmittel für die erweichbare Schicht 12 gemäß F i g. 5 B in Berührung gebracht wird, wozu sie in den Behälter 23 mit dem Lösungsmittel 24 für die Schicht 12 eingetaucht wird. Bei dieser Ausführungsform können nur die erste oder die erste und die zweite Phase auftreten, während das Aufzeichnungsmaterial sich in den Lösungsmitteldämpfen befindet, was von deren Stärke abhängt. Die zweite und die dritte oder nur die dritte Phase treten dann bei der nachfolgenden Behandlung mit Lösungsmittel auf.In the case of the in FIG. 5 A illustrated embodiment, the imagewise exposure can be carried out, while the recording material 10 by the action of solvent vapors for the Layer 12 is softened. The imagewise exposure during or after softening can be used here a treatment with a solvent liquid can be carried out by removing the recording material 10 for example temporarily with a solvent for the softenable layer 12 according to FIG. 5 B is brought into contact, for which purpose it is placed in the container 23 with the solvent 24 for the layer 12 is immersed. In this embodiment only the first or the first and the second phase occur while the recording material is in the solvent vapors, what of their Strength depends. The second and third or only the third phase then occur in the subsequent one Solvent treatment.
Die Dauer der Behandlung mit Lösungsmitteldampf en, der vorzugsweisen Erweichungsart, hängt von dem jeweils verwendeten Lösungsmittel, der Dampfkonzentration, dem Stoff der Schicht 12, der bildmäßigen Belichtungsstärke und anderen Faktoren ab, vorzugsweise beträgt sie jedoch etwa Vi Sekunde bis etwa 10 Sekunden, um Bilder optimaler QualitätThe duration of the treatment with solvent vapors, the preferred type of softening, depends of the solvent used, the vapor concentration, the substance of the layer 12, the imagewise exposure level and other factors, but preferably it is about Vi second up to about 10 seconds to get optimal quality images
In vielen Fällen ist es vorzuziehen, die bildmäßige Belichtung gleichzeitig mit der Einwirkung der Lösungsmitteldämpfe, wie in F i g. 5 A dargestellt, durchzuführen. Die Belichtung kann jedoch auch nach der Erweichung durch die Dämpfe erfolgen, während die erweichbare Schicht 12 noch im weichen Zustand ist. In diesem Falle soll die Belichtung jedoch vorzugsweise innerhalb weniger Minuten nach dem Erweichungsschritt durchgeführt werden, um eine zur Bilderzeugung ausreichende Weichheit zu gewährleisten. In many cases it is preferable to have the imagewise exposure at the same time as exposure to solvent vapors, as in Fig. 5 A shown. However, the exposure can also be after the Softening by the vapors take place while the softenable layer 12 is still in the soft state. In this case, however, the exposure should preferably take place within a few minutes after the softening step be performed to ensure sufficient softness for image formation.
Dauert die bildmäßige Belichtung langer als die zur Wanderung des lichtempfindlichen Stoffes auf den Schichtträger 11 erforderliche Zeit, wenn beispielsweise der erweichbare Stoff bereits im weichen Zustand ist, so wird die Wanderungszeit die effektive Belichtungszeit, wodurch ein zeitlich genau eingestellter mechanischer Verschluß nicht erforderlich ist. Die Wanderungszeit kann bei 1Ao Sekunde liegen.If the imagewise exposure lasts longer than the time required for the photosensitive substance to migrate to the substrate 11, for example if the softenable substance is already in the soft state, the migration time becomes the effective exposure time, so that a precisely timed mechanical shutter is not required. The migration time can be 1 Ao second.
Außer der vorzugsweisen Erweichung mit einer Lösungsmittelflüssigkeit oder Lösungsmitteldämpfen kann auch jede andere geeignete Art der Erweichung während oder vor der bildmäßigen Belichtung angewendet werden. Typische Möglichkeiten sind die Wärmeerweichung beispielsweise durch Erhitzung des erweichbaren Stoffes auf etwa 50° C bis etwa 80° C innerhalb einer Zeit von etwa 1 bis etwa 10 Sekunden sowie Kombinationen von Lösungsmittelflüssigkeit oder Dampf und Wärme. Der vorgesehene Erweichungsschritt kann entfallen, wenn die erweichbare Schicht sich bereits im weichen Zustand befindet, beispielsweise kurz nach der Herstellung, wenn die Schicht noch so weich ist, daß ein besonderer Erweichungsschritt nicht erforderlich ist.Besides the preferred softening with a solvent liquid or solvent vapors any other suitable type of softening may also be used during or before the imagewise exposure will. Typical options are heat softening, for example by heating the softenable fabric to about 50 ° C to about 80 ° C within a time of about 1 to about 10 seconds as well as combinations of solvent liquid or steam and heat. The intended softening step can be omitted if the softenable layer is already in the soft state, for example shortly after production, when the layer is still so soft that a special softening step is not required.
Durch das erfindungsgemäße Verfahren wird erreicht, daß in den bei erweichter Schicht belichteten Flächenteilen die Schicht 12 aufgelöst wird und die Schicht 13 in diesen Flächenteilen abgewaschen wird. In den nicht belichteten Flächenteilen erfolgt dies jedoch nicht, sondern die Schicht 13 wandert auf den Schichtträger 11 und haftet an diesem an, so daß sie in Form eines Bildmusters 22 aus brechbarem Stofl bei Herausnahme aus dem Behälter 20 oder 23 in dei in Fig. 5B gezeigten Weise vorhanden ist. Das Bild 22 in Form des Buchstabens »A« ist ein Positivbilc von einem positiven Original. Beispielsweise kann da« Original ein großes schwarzes oder dunkles »A« aui hellerem oder weißem Hintergrund sein, wobei siel· mit dem erfindungsgemäßen Verfahren im Gegensat/ zu den bekannten Verfahren statt eines Negativbilde: ein Positivbild aus Teilen der Schicht 13 ergibt, die in Form des Buchstabens »A« auf den durch der Schichtträger 11 gebildeten Hintergrund gewander sind.The process according to the invention ensures that the exposed in the softened layer Area parts the layer 12 is dissolved and the layer 13 is washed off in these area parts. However, this does not take place in the unexposed parts of the area, but rather the layer 13 migrates onto the Layer support 11 and adheres to this so that they are in the form of an image pattern 22 made of frangible fabric is present upon removal from container 20 or 23 in the manner shown in Figure 5B. The picture 22 in the form of the letter "A" is a positive image from a positive original. For example, there can be « The original should be a large black or dark "A" on a lighter or white background, with · with the method according to the invention in contrast to the known methods instead of a negative image: results in a positive image from parts of the layer 13, which are in the form of the letter "A" on the through the Layer support 11 formed background wandered.
Es sei bemerkt, daß der in den Figuren dargestellt! Schritt des vollständigen Abwaschens des erweich baren Stoffes und des nicht gewanderten brechbarer Stoffes zwar ein kontrastreiches Bild mit wenig odei keinem Schleier ergibt und deshalb in einfache! Weise die Herstellung von Bildern ausgezeichnete; Qualität ermöglicht, jedoch zur Herstellung eine; nutzbaren Bildes beim erfindungsgemäßen Verfahret nicht unbedingt erforderlich ist. Beispielsweise ergib sich durch gleichmäßige Aufladung mit oder ohn< gleichmäßige Belichtung und bildmäßige Belichrunj im weichen Zustand der erweichbaren Schicht ohni ein nachfolgendes Abwaschen ein nutzbares Positiv Positiv-Teilchenwanderungsbild, welches trotz de:It should be noted that the one shown in the figures! Step of completely washing off the softener The raw material and the fragile material that has not migrated is a contrasting image with little or no results in no veil and therefore in simple! Way making pictures excellent; Quality enables, however, to produce one; usable image in the method according to the invention is not absolutely necessary. For example, even charging with or without < Even exposure and image-wise exposure in the soft state of the softenable layer without a subsequent wash off a usable positive positive particle migration image, which despite de:
in den belichteten Flächenteilen nicht entfernten Schichtteile durch besondere Betrachtungsverfahren sichtbar gemacht werden kann, beispielsweise durch Fokussierung des von dem Schichtträger reflektierten Lichtes auf einen Betrachtungsschirm. Eine Lösungsini ttelflüssigkeit kann zu jedem Zeitpunkt danach auf ein derartiges Teilchenwanderungsbild aufgebracht werden, um es noch in ein abgewaschenes Bild der in Fig. 6 dargestellten Art umzuwandeln. Hierzu muß das aufgebrachte Lösungsmittel nicht isolierend sein, es können auch leitfähige Flüssigkeiten verwendet werden.in the exposed parts of the surface, parts of the layer not removed by special observation methods can be made visible, for example by focusing the reflected from the support Light on a viewing screen. A solvent can be added at any time thereafter Such a particle migration image can be applied to make it even more washed off the image in Fig. 6 shown type to convert. For this, the applied solvent does not have to be insulating conductive liquids can also be used.
Es zeigt sich ferner, daß die belichteten Flächenteile des brechbaren Stoffes eines Teilchenwanderungsbildes durch Abrieb entfernt werden können, um ein sichtbares Bild zu ergeben. Ferner können sie durch ein Klebemittel abgezogen werden, so daß sich komplementäre Positiv- und Negativ-Bilder ergeben.It is also shown that the exposed parts of the surface of the frangible substance form a particle migration image can be removed by abrasion to give a visible image. You can also be peeled off by an adhesive, so that complementary positive and negative images result.
Es ist noch nicht vollständig geklärt, warum die gleichmäßige Aufladung, die gleichmäßige Belichtung in einigen Fällen, die Erweichung der erweichbaren Schicht und die bildmäßige Belichtung im weichen Zustand der Schicht eine verbesserte Positiv-Positiv-Abbildung ergeben. Eine theoretische Erklärung hierkron starke Schicht aus einem teilweise hydrierter Harztriester auf einen Polyäthylenterephthalatfilrr mit einem dünnen, durchsichtigen Aluminiumüberzug aufgewalzt wird. Eine brechbare Schicht aus Seier mit etwa 0,2 Mikron Stärke wird auf diese Schichi aufgebracht, indem das in der FR-PS 14 66 349 beschriebene Ablagerungsverfahren mit neutralem Ga: angewendet wird.It is not yet fully understood why the uniform charging, the uniform exposure in some cases, the softening of the softenable layer and the imagewise exposure in the soft Condition of the layer result in an improved positive-positive image. A theoretical explanation here strong layer of a partially hydrogenated resin triester on a polyethylene terephthalate film is rolled on with a thin, transparent aluminum coating. A breakable layer of Seier with a thickness of about 0.2 microns is applied to this layer by the method described in FR-PS 14 66 349 Deposition method with neutral Ga: is used.
Das Aufzeichnungsmaterial wird dann bei Dunkelheit auf eine positive Oberflächenspannung von etwa 60 Volt mittels einer Korona-Entladungseinrichtuni aufgeladen. Dann wird das geladene Aufzeichnungsmaterial gleichmäßig mit etwa 107,6 Luxsec. belichtet. The recording material is then in the dark to a positive surface tension of about 60 volts charged by means of a corona discharge device. Then the charged recording material even with about 107.6 Luxsec. exposed.
Das Aufzeichnungsmaterial wird dann bei Dunkelheit einem positiven optischen Bild ausgesetzt, wobei die Belichtung in den belichteten Flächenleilen etwa 107'6. Luxsec. beträgt und die Belichtungszeit abhängig von der Erweichungszeit etwa 1 Sekunde ist,The recording material is then exposed to a positive optical image in the dark, the exposure in the exposed areas of the area being about 107 ' 6 . Luxsec. and the exposure time is about 1 second depending on the softening time,
ao während ein Eintauchen in Dämpfe von 1,1,1-Trichloräthan durchgeführt wird. Die Belichtung erfolgt bei einem Abstand des Aufzeichnungsmaterials von etwa 5 cm von dem Flüssigkeitsspiegel, wobeiao during immersion in vapors of 1,1,1-trichloroethane is carried out. The exposure takes place at a distance between the recording material from about 5 cm from the liquid level, where
Lösungsmittel erweicht ist. Die Teilchen in den belichteten Flächenteilen der Schicht 13 verlieren ihr Warderungsvermögen, bevor sie den Schichtträger 11 erreichen. Lediglich die nicht belichteten Teile der Schicht 13 erfahren eine ausreichende Kraftwirkung und wandern bis auf den Schichtträger des Aufzeichnungsmaterials. Solvent is softened. The particles in the exposed parts of the surface of the layer 13 lose it Warding ability before the layer support 11 reach. Only the unexposed parts of the layer 13 experience a sufficient force and migrate to the substrate of the recording material.
Wie aus den folgenden Beispielen hervorgeht, ist das erfindungsgemäße Verfahren der Positiv-Positiv-Bilderzeugung nicht nur auf das in F i g. 1 dargestellte Aufzeichnungsmaterial anwendbar, sondern arbeitet auch mit einem solchen bei dem der lichtempfindliche, brechbare Stoff 13 vorzugsweise in Teilchenform in der Schicht 12 dispergiert ist.As can be seen from the following examples, the method of the present invention is positive-positive imaging not only on the one shown in FIG. 1 shown recording material is applicable, but works also with one in which the photosensitive, breakable substance 13 is preferably in particle form is dispersed in the layer 12.
Die Flüssigkeiten 19, 24 und 26 zur Erweichung der Schicht 12 sollen nur diese Schicht, jedoch nicht die Schichten 13 und 11 auflösen und einen ausreichend hohen elektrischen Widerstand besitzen, um eine Ableitung der Ladung von der Schicht 13* vor dem Erreichen des Schichtträgers 11 zu verhindern Typische Lösungsmittel für die verschiedenen Stoffe der Schicht 12 sind beispielsweise: Aceton, Trichloräthylen, Chloroform, Äthyläther, Xylol, Dioxan, Benzol, Toluol, Zyclohexan, 1,1,1-Trichloräthan, Pentan n-Heptan, Trichlor-trifluoräthan, Tetrachlorkohlenstoff, Thiophen, Diphenyläther, cis-2,2-Dichloräthylen, Nilromethan, η,η-Dimethylformanid, Äthanol Äthylacetat, Methylethylketon, Äthylendichlorid' Methylenchlorid, trans-1,2-Dichloräthylen, sowie Mischungen dieser Stoffe.The liquids 19, 24 and 26 for softening the layer 12 are only intended for this layer, but not the layers 13 and 11 dissolve and have a sufficiently high electrical resistance to to prevent the charge from being discharged from the layer 13 * before it reaches the layer carrier 11 Typical solvents for the various substances in layer 12 are, for example: acetone, trichlorethylene, Chloroform, ethyl ether, xylene, dioxane, benzene, toluene, cyclohexane, 1,1,1-trichloroethane, pentane n-heptane, trichlorotrifluoroethane, carbon tetrachloride, thiophene, diphenyl ether, cis-2,2-dichloroethylene, Nilromethane, η, η-dimethylformanide, ethanol, ethyl acetate, methyl ethyl ketone, ethylene dichloride ' Methylene chloride, trans-1,2-dichloroethylene, and mixtures these substances.
Die folgenden Beispiele dienen der weiteren Beschreibung des Verfahrens der Positiv-Positiv-Bilderzeugung. Anteile und Prozentwerte beziehen sich auf das Gewicht, falls nicht anders angegeben. Alle Belichtungen werden mit einer Wolframfadeniampe durchgeführt. Die Beispiele stellen einige vorzugsweise Ausfühningsfonnen des Verfahrens dar.The following examples further describe the process of positive-positive imaging. Parts and percentages relate to the weight, unless otherwise stated. All Exposures are made with a tungsten filament lamp. The examples make some preferential Execution of the procedure.
Ein Aufzeichnungsmaterial der in F i g. I dargestellten Art wird hergestellt, indem eine etwa 2 Mi-
\ ^- Ζ"Γ Wande[ung des b^h
aluminisierten Schichtträger erforder-A recording material of the type shown in FIG. The type I illustrated is produced by making an approximately 2 mi- \ ^ - Ζ " Γ wall [ ung of the b ^ h
aluminized substrate required
" ™ ^ Bh ^" ™ ^ Bh ^
Stoffes auf
Hch ist.Substance on
H is.
nommen.took.
Das Aufzeichnungsmaterial wird dann etwa 2 Sekunden lang zum Abwaschen des Harztriesters und des nicht gewanderten brechbaren Stoffes in Zyclohexan eingetaucht. Auf dem aluminisierten Schicht-The recording material is then used for about 2 seconds to wash off the resinous triester and of the non-migrated frangible material immersed in cyclohexane. On the aluminized layer
trager ergibt sich ein dicht und gleichmäßig getöntes, ausgezeichnetes Positivbild, welches direkt sichtbar ist und auch als Proiektionsdiapositiv verwendet werden kann.wearer results in a dense and evenly tinted, Excellent positive image, which is directly visible and also used as a projection slide can be.
Das Verfahren gemäß Beispiel I wird wiederholt mit dem Unterschied, daß die Schicht 1.1 aus einem Myrol-Vinyltoluol-Mischpolymerisat besteht, die Lösungsmitteldämpfe mit Trichlortrifluoräthan erzeugt werden und die Entwicklungsfähigkeit 1,1,1-Tricnlorathan ist.The process according to Example I is repeated with the difference that the layer 1.1 consists of a Myrol-vinyltoluene copolymer consists of solvent vapors are generated with trichlorotrifluoroethane and the developability 1,1,1-tricnloroethane is.
Das in den ersten beiden Absätzen in Beispiel I "" -lebene Verfahren wird wiederholt. Das ge-Aufzeichnungsmaterial wird bei Dunkelheit in nussiges Trichlor-trifluoräthan eingetaucht und mit einem optischen Bild belichtet, wobei die Beleuchtung^ 1076 Lux und die durch die Wanderuug The procedure in the first two paragraphs of Example I "" level is repeated. The ge recording material is immersed in nutty trichlorotrifluoroethane in the dark and exposed to an optical image, the illumination ^ 1076 lux and that of the wander uug
Belichtungszeit etwa 1Zi0 Sekunde beträgt, etwa 3 Sekunden wird das Aufzeichnungsma-Exposure time from about 1 Zi is 0 second, about 3 seconds, the Aufzeichnungsma-
s?rh Ρ ?11Ιΐ,Γ mssi&™ herausgenommen. Es ergibt sicn em Bild der in Beispiel I beschriebenen Art.s? rh Ρ ? 11 Ιΐ, Γ mssi & ™ removed. It gives a picture of the type described in Example I.
i/ \irlk0Xid mit einem Teilchendurchmesser von etwa SOM-v' *elches von Glasträgerteilchen mit etwa Male Slf P1^WSW getragen wird, wird einige 6s ken £vr,,dle ^rtäche einer etwa 2 Mikron star-SLt ? aUS dem teaweise hydrierten HarztoS5..i .» .auf eine aluniinisierte Polyäthylen-HaSSS °·β auf8ebraht ist, kaskadiert. Der rztnester ^ 1^ Trichlor-trifluoräthan-Dämpfei»i / \ irl k0Xid having a particle diameter of about SOM v * hich of Glasträgerteilchen having about Male Slf P ^ 1 is SW worn, some 6s' is ken £ v r ,, ^ dle rtäche of about 2 microns star-SLt? FROM the teaw eise hydrogenated resin toS5..i. » . is cascaded on an aluminum-HaSSS ° · β on 8 e braht. The doctor's nests ^ 1 ^ trichloro-trifluoroethane steaming »
zwischen den Kaskadierungsvorgängen erweicht, so daß sich eine etwa 1 Mikron starke Schicht aus Zinkoxid in oder auf dem Harztriester bildet.softens between the cascading processes, so that an approximately 1 micron thick layer of zinc oxide forms in or on the Harz triester.
Das Aufzeichnungsmaterial wird dann gleichmäßig elektrostatisch auf eine Oberflächenspannung von etwa — 50 Volt mittels einer Korona-Entladungscinrichtung geladen. Dann wird sie mit einem optischen Negativbild mit etwa 538 Luxsek. belichtet, während sie, wie in Beispiel I beschrieben, den Trichlortrifluoräthan-Dämpfen etwa 10 Sekunden lang ausgesetzt wird.The recording material is then uniformly electrostatic to a surface tension of charged about -50 volts by means of a corona discharge device. Then it will be with an optical Negative image with about 538 lux seconds. exposed while, as described in Example I, the trichlorotrifluoroethane vapors exposed for about 10 seconds.
Das Aufzeichnungsmaterial wird dann in Trichlor-trifluoräthan etwa 3 Sekunden lang eingetaucht, so daß sich ein Negativbild ergibt, welches mit dem in Beispiel I erzeugten Bild vergleichbar ist, jedoch eine höhere Qualität hat als ein Bild, welches mit einem gleichmäßig geladenen, belichteten und flüssigkeitsentwickelten Aufzeichnungsmaterial gemäß der FR-PS 14 66 349 erzeugt wurde.The recording material is then trichlorotrifluoroethane Immersed for about 3 seconds, so that a negative image results, which with the image generated in Example I is comparable, but has a higher quality than an image generated with a uniformly charged, exposed and liquid-developed recording material according to the FR-PS 14 66 349 was generated.
Die Alphaform von metallfreiem Phthalocyanin C. I. Nr. 74100 mit einer Teilchengröße von etwa 1It Mikron Durchmesser, welche von Glasträgerteilchen mit etwa 50 Mikron Durchmesser getragen wird, wird über die Oberfläche einer etwa 2 Mikron starken Schicht aus dem HLrztriester 10 auf aluminisierter Polyäthylenterephthalatfülie kaskadiert. Der Harztriester wird mit Trichlor-trifiuoräthan-Dämpfen zwischen den Kaskadierungen erweicht, so daß sich eine etwa 1 Mikron starke Schicht aus Phthalocyaninteilchen in oder auf dem Harztriester ergibt.The alpha form of metal-free phthalocyanine CI No. 74100, having a particle size of about 1 micron in diameter, supported by glass support particles about 50 microns in diameter, is cascaded over the surface of an approximately 2 micron thick layer of the Hsrztriester 10 on aluminized polyethylene terephthalate fill. The resin triester is softened with trichlorotrifluorethane vapors between the cascades so that an approximately 1 micron thick layer of phthalocyanine particles results in or on the resin triester.
Das Aufzeichnungsmaterial wird dann gleichmäßig elektrostatisch auf eine Oberflächenspannung von etwa — 60 Volt mittels einer Korona-Entladungseinrichtung mit etwa 430 Luxsek. aufgeladen, wobei sie. wie in Beispiel I beschrieben, etwa 5 Sekunden lang den Dämpfen von Trichlor-trifluorälhan ausgesetzt wird.The recording material is then uniformly electrostatically applied to a surface tension of about -60 volts by means of a corona discharge device at about 430 lux seconds. charged, taking them. as described in Example I, exposed to the vapors of trichlorotrifluoroalane for about 5 seconds.
Das Aufzeichnungsmaterial wird dann in Trichlorfiuoräthan etwa 3 Sekunden lang eingetaucht, so daß sich ein Bild ergibt, welches in seiner Qualität mit demjenigen aus Beispiel I vergleichbar ist, jedoch eine höhere Qualität hat als das nach dem bekannten Verfahren mit gleichmäßiger Aufladung, Belichtung und Flüssigkeitsentwicklung erzeugte Bild.The recording material is then in trichlorofluorethane immersed for about 3 seconds, so that the result is an image which is in its quality with that of Example I is comparable, but has a higher quality than that of the known Process with uniform charging, exposure and liquid development produced image.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen1 sheet of drawings
Claims (1)
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US00642828A US3839030A (en) | 1967-06-01 | 1967-06-01 | Migration imaging process with uniform exposure before or during the softening step |
US64282867 | 1967-06-01 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1772523A1 DE1772523A1 (en) | 1971-11-11 |
DE1772523B2 DE1772523B2 (en) | 1976-02-26 |
DE1772523C3 true DE1772523C3 (en) | 1976-10-14 |
Family
ID=
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