DE1621783A1 - Method for replicating, in particular a deformation image - Google Patents
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Description
;. 16 a 1783;. 16 a 1783
Patentanwälte Dipl.-Ing, R "Weickmann, Dr. Ing. ä.V]eickmannPatent attorneys Dipl.-Ing, R "Weickmann, Dr. Ing. Ä.V] eickmann
Dipl. -Ing. H. We ι g km αν ν, Dipl.-Ph ys. Dr. K. Fincke Dipl.-Ing. K A.Weigkmann» Dipl.-Chem. B, HuberDipl. -Ing. H. We ι g km αν ν, Dipl.-Ph ys. Dr. K. Fincke Dipl.-Ing. K A. Weigkmann »Dipl.-Chem. B, Huber
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Rochester, W*Y. 14 603/TTSA möhlstrasse 22» rufnummer 483921/22Rochester, W * Y. 14 603 / TTSA möhlstrasse 22 »phone number 483921/22
Verfahren zur Fachbildung insbesondere eines DeformationsbildeaProcedures for specialist training in particular of a deformation pattern a
Die Erfindung bezieht sich auf ein
insbesondere auf ein Verfahren zur ITaöhbildung eines Deformationsbildes. ...;■- ;-. "
The invention relates to a
in particular to a method for the formation of a deformation image. ...; ■ - ; -. "
Zur Erzeugung von Bildmustern auf der Oberfläche thermoplastisch "werf ormbar er Staff £ sind zwei Verfahren allgemein bekannt. Das erste, mit dem 'Matttierurigsbildei·1' erzeugt werden, ist in den TJS-Patentschriften 3 196 008, 3 196 001 und 3 258 336 beschrieben. Das zweite,mit dem "Reliefbilder" erzeugt werden, ist in den WS-Patentschriften 3 055 006, 3 063 87,2 und 3 113 179 -beschrieben* Bei Jedem dieser Verfahren reagiert die Oberfläche eines erweichten thermoplastischen Stoffes auf elektrostatische Kräfte durch Verformung. Der grundlegende unterschied zwischen^^"Mattierung" und "Relief" besteht jedoch darin, daß die Mattierung auf gleichmäßig geladenen ELächenteilen als eine gleichmäßigeThermoplastic for the production of image patterns on the surface "throw ormbar he Staff £ Two methods are generally known. The first be generated using the 'Matttierurigsbildei · 1', is in the TJS Patents 3,196,008, 3,196,001 and 3,258,336 The second, with which "relief images" are created, is described in WS patents 3,055,006, 3,063,87.2 and 3,113,179 * In each of these processes, the surface of a softened thermoplastic material reacts to electrostatic forces Deformation. The fundamental difference between ^^ "matting" and "relief" is that the matting on evenly charged surface areas is considered to be uniform
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Verteilung von Oberflächenfalten oder -runzelungen auftritt, während die Reliefbildung nur durch elektrostatische G-radienten verursacht wird und längs der durch einen Ladungsgradienten gebildeten Linie eine einzelne Deformationsliiiie auftritt. Eine ReIi eisbildung ergibt sich nicht bei gleichmäßiger LadungsTirerteilung. Dies ist ein. wichtiger unterschied» der nicht nur für den Anwendungs zweck, sondern auch für den verschiedenartigen Mechanismus beider Verfahren Bedeutung hat. Bei der gebräuchlichen Erzeugung νοκMattierungsbildern wird auf einem nichtleitenden film, der z.B. durch Einwirkung von Hitze oder Lösungsmitteldampf erweichbar ist, ein latentes elektrostatisches Bild oder Ladungsmuster erzeugt. Danach wird der 'Film erweicht, bis die elektrostatischen Kräfte des Ladungsmusters die Oberflächenspannungskräfte des Films überwiegen. Ist dieser Schwellwert erreicht, so werden auf der Oberfläche des Films spontan sehr kleine Oteerflächenfalten. oder -runzelni gebildet, deren Tiefe in einem jeweiligen Flächenteil im allgemeinen von der jeweils vorhandenen Ladungsstärke und der Dicke des Films abhängt. Dadurch erhält das Bild eine matte Erscheinungsform. In einer anderen Ausführung kann der Film vor der Aufbringung des Ladungsmusters erweicht werden, wenn er im erweichten Zustand eine zur Speicherung der Ladung ausreichend schlechte Leitfähigkeit hat· Das Mattierungsbild wird fixiert, indem der Film wieder eratarrt» Für eine wiederholt zu Vverwendende Bildplatte ist es normalerweise erwünscht, das fixierte BildDistribution of surface wrinkles or wrinkles occurs, while the relief formation is only caused by electrostatic gradients and a single deformation line occurs along the line formed by a charge gradient. Rice formation does not occur if the charge is distributed evenly. This is a. There is an important difference, which is important not only for the purpose of the application, but also for the different mechanisms of the two processes. In the usual generation of matting images, a latent electrostatic image or charge pattern is created on a non-conductive film, which can be softened, for example, by the action of heat or solvent vapor. The film is then softened until the electrostatic forces of the charge pattern outweigh the surface tension forces of the film. If this threshold value is reached, very small ocher surface folds spontaneously appear on the surface of the film. or -runzelni formed, the depth of which in a respective part of the surface generally depends on the strength of the charge present in each case and the thickness of the film. This gives the picture a matte appearance. In another embodiment, the film can be softened before the charge pattern is applied if, in the softened state, it has a sufficiently poor conductivity to store the charge desired the frozen image
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durch nochmalige Erweichung des thermoplastischen Films zu löschen und eine ausreichend geringe "Viskosität für gewisse Zeit beizubehalten, um durch die Oberflächenspannung eine Glättung der Filmoberfläche zu erreichen.by softening the thermoplastic film again delete and a sufficiently low "viscosity for certain Maintain time to through the surface tension one To achieve smoothing of the film surface.
In jüngerer Zeit wurde gefunden, daß die Bilderzeugung durch Obuerflachendeformatipm speziell geeignet für die Holographie ist. "Wie von Dennis Gabor in dem Aufsatz "A New Microscopic Principle" in Nature 161, Seiten 777 bis 778,(1940) beschrieben wird, besteht das holographische Verfahren aus zwei Schritten, wobei das Defraktionsblld eines mit kohärenter Strahlung, z.B. Laserlicht, beleuchteten Objektes auf eine strahlungs empfindliche Schicht aufgezeichnet wird. Diese Aufzeichnung, unter der Bezeichnung Hologramm bekannt, wird dann zur Rekonstruktion einer ein Bild erzeugenden Wellenfront durch Beleuchtung mit kohärenter elektromagnetischer Strahlung -verwendet. Dieses Verfahren wurde weiterentwickelt, es wird ein außerhalb der optischen Achse liegender Bezugsstrahl verwendet, der aus kohärentem licht gebildet ist und unter einem Winkel gegenüber dem zur Beleuchtung des Hologramms verwendeten kohärenten Lichtstrahl einfällt, wodurch auf der lichtempfindlichen Aufzeichnungsplatte ein Interferenzmuster entsteht. Nach der Entwicklung wird diese Platte oder das Hologramm nochmals mit kohärenter Strahlung beleuchtet, und das Bild wird außerhalb der optischen Achse unter einem Winkel rekonstruiert, der dem Einfallswinkel des Originalbezugsstrahles proportional ist. Dieses VerfahrenMore recently it has been found that imaging by Obuerflachendeformatipm especially suitable for holography is. "As by Dennis Gabor in the essay" A New Microscopic Principle "in Nature 161, pages 777 to 778, (1940), the holographic method consists of two Steps, the defraction image being one with more coherent Radiation, e.g. laser light, of the illuminated object onto a radiation-sensitive layer is recorded. These Recording, known as a hologram, becomes then for the reconstruction of an image generating wave front by illumination with coherent electromagnetic Radiation -used. This process has been further developed an off-optical axis reference beam formed from coherent light is used and is incident at an angle to the coherent light beam used to illuminate the hologram, whereby an interference pattern on the photosensitive recording disk arises. After the development, this plate or the hologram is again provided with coherent radiation illuminated, and the image is reconstructed off the optical axis at an angle equal to the angle of incidence is proportional to the original reference ray. This method
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Is E§IÄ umi j« x^§Aai§fe§ M mm. Is E§IÄ umi j «x ^ §Aai§fe§ M mm.
t&§ Optical Society of ifiirieä mit in iä®mm&&eM t & § Optical Society of ifiirieä with in iä®mm && eM
35* ifWi 35ezeüib§* iilf l35 * ifWi 35ezeüib§ * iilf l
sili mit sich*" Beispielsweise kann ein eines dreidimensioiialen Bildes eaber i&M- AÄfaeiöh1siM^:untersihiödiiciien lilfeilen-sili mit sich * "For example, a three-dimensional image can be over i & M- AÄfaeiöh1siM ^: unterihiödiiciien lilfeilen-
wOdiiroh sieh eine1 stärke ^r ist e^nt'sichert üBerträgtöig von eine öJctrem- feom^li^ieä därsteiit und wenig oder keine M mini ittit ä&& ©rigiöal aufweist·- leriier kann es zur scMeilenwOdiiroh see a 1 strength ^ r is e ^ nt 'assured to be transferred from an ÖJctrem- feom ^ li ^ ieä därsteiit and has little or no mini ittity && © rigiöal · - leriier can scile it
§r Bild§i* eines öriginiibiljäes dä: bei seiner Mfteilung in eine Aiiiähl Eifi#eibild di e gesamte zurv Rekoins truifeti on iss irigÜa^Lbildis erf örderiidhe nölögraphiöche§R Bild§i * of an öriginiibiljäes dä : when it is divided into an aiiiähl Eifi # eibild the entire for the v Rekoins truifeti on iss irigÜa ^ Lbildis erf örderiidhe nölögraphiöche
Obwohl inL der iporschung am meisten mit Amplitudenhologrammen gearbeitet wurde, ist es auch möglich, Phasenhologramme heräustellen* bei denen die Bilderzeugung in einem phasenmodulierten Muster statt einem ampliimdenmodulierten Muster gespeichert wird, wie dies beispielsweise in einem Aufsatz von G-* ii. Rogers in Proceedings of the Royal Society, Edinberg*Although research is mostly done with amplitude holograms has been worked, it is also possible to produce phase holograms * where the imaging is stored in a phase modulated pattern rather than an amplitude modulated pattern becomes, for example, in an article by G- * ii. Rogers in Proceedings of the Royal Society, Edinberg *
193, 1953, sowie in einem .Aufsatz -vonW-T.Cathey ir. in ' Journal of the Optical Society of America, 55r 457 (1965) beschrieben wird. Derartige Phasenhologramme wurden bisher '■■■;. von üblichen Silberholograiiffiien durch Ausbleichen des Silbers und Verwendung eines Phasenunterschiedes hergestellt, der durch Änderungen der G-el-Schwellung und/oder des. Refraktionsindex verursacht wird. Obwohl gegenüber den Amplitudenhologrammen gewisse Vorteile vorhanden sind, ist die Herstellung von Phasenhologrammen extrem schwierig und kompliziert.Describes 193, 1953, and in a .Aufsatz -vonW-T.Cathey ir. In 'Journal of the Optical Society of America, 55 r 457 (1965). Such phase holograms have been used so far. made of conventional silver holographic films by bleaching the silver and using a phase difference caused by changes in the G-el swelling and / or the refractive index. Although there are certain advantages over amplitude holograms, the manufacture of phase holograms is extremely difficult and complicated.
Kürzlich wurde entdeckt, daß die verstehend beschriebenen Deformationsabbildungs-^erfahren zur Herstellung -won Phasen?- hologrammen ausgezeichneter Qualität, verwendet werden k.önnait. Dieses Verfahren ist in der Patentanmeldung R 45 090 IXa/42h beschrieben. Hierbei werden Phasenhologramme auf einer -werformbaren thermoplastischen Schicht erzeugt^ die sich als Überzug auf einer fubtoleitfähigen Schicht befindet. l)ie ver>formbare Schicht wird gleichmäßig elektrostatlisch aufgeladen und mit dem Objekt sowie mit Bezugsstrahlen kohärenter Strah>lung belichtet, für die der Fotoleiter empfindlich ist· ¥ach der Belichtung, wird die verfprmbar© Schicht nochmals geladon, und die Platter ,-wird auf die Brweichungstemperaifcur dei*· "werformbaren Schicht erhitzt. Bei dieser Temperatur tritt spontane Oberflächendeformation entspreohtnd dem Muster auf. Die Schicht wird dann zur Fixierung der. holographischen. Auf zeichnung abgekühlt. Falls erwünsohts kann did Er« hitzung währeiid der Belichtung stattfinden» so daß dasBe used k.önnai t holograms excellent quality - It was recently discovered that the Deformationsabbildungs- ^ understanding described learn for the production phase-won?. This process is described in patent application R 45 090 IXa / 42h. Here, phase holograms are produced on a thermoplastic layer that can be molded, which is located as a coating on a thermoconductive layer. The deformable layer is evenly charged electrostatically and exposed to the object as well as to reference rays of coherent radiation to which the photoconductor is sensitive dei the Brweichungstemperaifcur * · "heated werformbaren layer. at this temperature, spontaneous surface deformation occurs entspreohtnd the pattern. the layer is then cooled drawing for fixing. holographic. on. If erwünsoht s may He did" overheating währeiid held exposure "as that this
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BAD ORlGiNALBAD ORlGiNAL
«■? f 'V«■? f 'V
struierte.Bild gleichzeitig mit der Erzeugung d"es Hologramms beobachtet werden kann. ,Dieses Verfahren ermöglijcht die? einfache Erzeugung von, Phasenhologrammen*ausgezeichneter■ Quali-?; tat und Auflösung. Blei Betrachtung mt normalem Licht er-.|? ; scheint die Bildfläche Jedoch als· ein willkürlich.Trerteilt.es: Mustsr sehr: feiner, fast unsichfbarer Erhebungen und Vertief ungern. Da die mittlere Tiefe dieser Verformungen oft weniger als 1 Mikron beträgt, können sie mit "bloßem Auge nicht erkannt^ werden., struierte.Image can be observed simultaneously with the generation of the hologram., This method enables the? simple generation of phase holograms * of excellent quality and resolution. Lead viewing with normal light appears. |?; appears the Image area, however, as · an arbitrary.distributed.es: Mustsr very: reluctant to have fine, almost invisible elevations and depressions. Since the mean depth of these deformations is often less than 1 micron, they cannot be recognized with the naked eye.,
Trotz der ausgezeichneten Qualität haben diese Phasenhologramme auch gewisse Fachteile. Die leicht TFerformbaren Stoffe schmelzen oft bei geringen Temperaturen, haben eine klebrige Oberfläche und sind weich, Sie M5xmen leicht durch fälsche Handhabung, "versehentliche Einwirkung von Staub oder durch mäßig hohe Temperaturen beeinträchtigt werden. Während eine wünschenswerte Eigenschaft darin besteht» daß die verformbaren Platten zur Wiederverwendung durch nochmaliges Erweichen der Schicht und Glättung der Oberfläche durch Yiskositätskräfte gelöscht werden kann% ist diese Temperaturempfindlichkeit für eine dauerhafte Auf zeichnung unerwünscht· Es ist schwierig» von. eimern Originalhologramm Nachbilder her-Euatellea,^ cüadi® Qtierflache des Originals leicht ¥ersohlechitert wird* Dir Abguß^^ eines holographisohen Originals mit einer Sohiaeise ist schwierig, da die Erhitzung des Originals eine Zerstc&ung des holographischen Mustere bewirktf Auch sindDespite the excellent quality, these phase holograms also have certain specialist parts. The slightly TFerformbaren substances often melt at low temperatures, have a sticky surface and are soft, are easily affected by falsifying handling, "accidental exposure to dust or excessively high temperatures M5xmen. While a desirable property is' that the deformable plates for Reuse can be erased by softening the layer again and smoothing the surface by viscosity forces% this temperature sensitivity is undesirable for permanent recording · It is difficult »from. The casting of a holographic original with a Sohi iron is difficult, since the heating of the original causes a destruction of the holographic pattern
Sto£f· in vic^Ien Löeungamitteln lÖsljLcEcr die Sto £ f · in vic ^ Ien Solvents lÖsljLcEc r the
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ztir IfieKbiicteiig eiaesztir IfieKbiicteiig eiaes
«ötäi«Ötäi
Gelöst wird diöse Aufgabt durch 6in Verfahren zur insbesondere eines Deförffiationsbiläes, das aus folgenden Sohrüiten bssteh-fcsThis dious task is solved by a procedure for, in particular, a deferral bill, which consists of the following issues
a) BLlddng einer ersten, negativen Mutterplat-te, indem an dem Deformationsbild bei einer Temperatur unter 95°C eine Schicht eines härtbaren, gegenüber der Bildoberfläche neutralen Stoffes verformt unda) BLlddng a first, negative mother plate by on the deformation image at a temperature below 95 ° C a layer of a hardenable substance that is neutral to the surface of the picture is deformed and
- als negative Nachbildung von dieser abgezogen wird,- is deducted from this as a negative replica,
b) Bildung einer zweiten, positiven Mutterplatte, indem ein verflüssigter, filmbildender Stoff auf die. erste Mutterplatte gegossen und als positive Nachbildung vo& dieser abgezogen wird·b) Formation of a second, positive mother plate by adding a liquefied, film-forming substance the. first mother board is poured and removed as a positive replica from it
BAD ORIGINALBATH ORIGINAL
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Ein: Ausfuhrtmgatoeispiel dös erfindungsgemiäßen Verfahrens wird im folgenden anhand der Figur beschrieben, in der der Ablauf eines Nachbildungsverjfahrens dargestellt ist.A: exemplary embodiment of the method according to the invention is described below with reference to the figure in which the Sequence of a Nachbildungsverjverfahren is shown.
Wie aus der Mgur liörviirgjsht, wird das nachzubildende DeformationBMid zuerst nach eiaiem üblichen Verfahren erzeugt. Vorzugsweise soll die Oberfläche dieses Originalbildes zur Härtung oder Verfestigung behandelt werden, wie W iiti folgenden noch beschrieben wird*As can be seen from Mgur liörviirgjsht, the deformationBMid to be reproduced is first generated using a conventional method. Preferably, the surface of this original image to be treated for curing or solidification, as will be described below W iiti *
Dann wir d; eine erste Nachbildung erzeugt ,indem ein Stoff auf das öriginalbild^ gegossen wird, t der dieses nicht beeinträchtigte Then we d ; a first replica generated by a substance is poured onto the öriginalbild ^, t of this did not affect
• Dann, wird τοη der ersten Fachbildung: eine zweite Fachbildung gegjossen. .--.'■ . ■ . - ; --. - ; ■ . .'- / ■■".■■ • Then, τοη the first shedding: a second shedding is poured. .--. '■. ■. -; -. -; ■. .'- / ■■ ". ■■
^ Die so erzeugteι zweites Nachbildung wird dann auf einen Bildträger übertragen,, so daß sich eine endgültige positive Hackbildung des Qriginalbildesergibt, und die erste Uachbil4iang wird wieder als eine Mutterplatte verwendet oder es wird auf üir eine dünne Silberschiclit uMud darauf eineThe second replica thus generated is then transferred to an image carrier transferred, so that there is a final positive Hacking the original image results, and the first Uachbil4iang is used again as a mother plate or it is put on a thin sheet of silver
elefctrißch gebildet»electrically formed »
Ist eins dritte Iiaohbilduag mit Silber und Niofcel hergestellt so kaim diese entweder als eine Preßmatrize für Kurzbetrieb ■verwendet weEäen> oder es wird mit ihr eine festere Uickel-A third Iiaohbilduag is made with silver and niofcel so this came either as a press die for short operation ■ uses weEuchten> or it becomes a firmer Uickel with it
713713
platte, nach Passimerung geMläei?!! die als? P*eima1*»iz@ längeren Betrieb verwendetplate, cut after passiming? !! as? P * eima1 * »iz @ used for extended periods of time
qind "bei äem in^ des? figur viele Än^LerTingen mcjgligiip w-fce. npeJi feesfiiirie^in vd-3?dqind "at äem in ^ des? figur many Än ^ LerTingen mcjgligiip w-fce. npeJi feesfiiirie ^ in vd-3? d
YiTie noqli eyläute^i; wird, feonnen eiilige dea? veis n^nnrfcen TerfaJjrensschrilite Mnaiphtliph. der gungen, Stoffe? gewiinscktien j^zsiil van Kppieniiisw» werden. Iiieaes Verfahren ermöglicht die Hersljellung von laeh-"bildungen eines Originals, das sehr empfindlißh gegen Druck, Lösungsmittel oder Hitze ist,-"'fflat auöergewöhiilioh guterYiTie noqli eyläute ^ i; will, feonnen hurried dea? veis n ^ nnrfcen TerfaJjrensschrilite Mnaiphtliph. the gung, fabrics? gewiinscktien j ^ zsiil van Kppieniiisw » will. IIIeaes procedure enables the creation of lae formations an original that is very sensitive to pressure, Solvent or heat is - "'fflat exceptionally good
Qualität, ; v.Quality,; v .
Bas nachzubildende DeformatipnSMld kann nach, ^äem geeigneten Verfahren hergestellt werden, Pas erfindungsgemße Verfahren ist speziell aur fachbildung vom Phasenholögraminen der iii der Patentanmeldung R 45 090 IXa/42h feeschriefeenert tot geeignet. Es ist ferner zur Nachbildung vo?i Matiaerungsbildern der in der UB-Patentschrift 5"-XS& 001 heschrieiienen Art und von Reliefbildern der in\ der US-Patentschrifi; 5 005 006 beschriebenen Art geeignet. Die nach diesen Verfahren erzeugten Deformationsbilder sind im allgemeinen zerb3?eehliehimii gegenüber Hitzö oder Reibung empfindlich* Diese Bilder werdsii. erzeugt, indem auf einer Oberflache eines Terfoq^ba^on thermo*· plastischen" Stoffes ein elektrostatischesThe deformatipnSMld to be reproduced can be produced according to a suitable process, the process according to the invention is especially suitable for the formation of the phase holograms of the patent application R 45 090 IXa / 42h. It is also suitable for the reproduction of materialized images of the type described in UB patent specification 5 "-XS & 001 and of relief images of the type described in US patent specification 5,005,006. The deformation images generated by this method are generally broken ? eehliehimii sensitive to heat or friction
10981471730 : : ■■": -." "Cνΐίΐ:ν ' ■ ■ ...... :: -^ BAD 10981471730: ■■ "-.""Cνΐίΐ: ν '■ ■ ......: - ^ BAD
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Ζμα? ErzeugvKg <|g3 naehzuMläen^eii Originallaildea lcami geig ge-Ζμα? GenervKg <| g3 naehzuMläen ^ eii original laildea lcami geig ge
y tlieriiioplastisalie Stpffey tlieriiioplastisalie plug
-diei (ilya0i?pl-s xmä l?mta,ßi*ythjel-bol.eateT' wop. teilweise / Κρίρρίιρηΐιρι, Polya.lphacnietJb.ylstyrPl, Terpolymere Styrpl, Inden wad Isopren? Piccolyte S-70 und S^lOO (PoIy--diei (ilya0i? pl-s xmä l? mta, ßi * ythjel-bol.eateT ' wop. partially / Κρίρρίιρηΐιρι, Polya.lphacnietJb.ylstyrPl, Terpolymers Styrpl, Inden wad Isoprene? Piccolyte SOO (S-70 and S ^ l -
vpm Bet^-Pinen, erhältlieh iron der Pennsylvania Industrial Chemical Company mit naoh Ring- und Eugelanalyse ermittelten Schmelzpunktenvy;om 7O0C bzw. 10O0C)~<* Piccopale 70 SF und Picöopale 85 (nichtreagierende Olefindienharze der Pennsylvania Industrial Chemical Company mit Schmelzpunfcten von. 700C und 85>°C und Molekulargewichten von 800 bzw. 100O)J Piecolastic:"Α·75» D-IOQ und E'-IOO (Polystyrolharze mit Schmelzpunkten von 750G, 1000C und 100°C der Pennsylvania Industrial Chemical Company)! Amberol ST-137 X (ein. nichtreagierendes, nichtmodifiziertes Phenolformaldehydharz der Firma Eöhm & Haas)? Neolyn 23 (©in. U.kydharz der Hercules Chemical Company); Polycarbonate, Poly0ulfonef Polyvinylchlorid, Mischmigen von Silikon- und StyrolhäTzek mit geringem Molekulargewicht sowie Mischungen dieser Stofft* ?ors5ugsweis© soll der thermoplsstische Stoff wenig ©"barfeial^,' Zimmertemperatur w©ioh werden und bei der Ir*vpm Bet ^ pinene, gets lent iron Pennsylvania Industrial Chemical Company naoh ring and Eugelanalyse determined Schmelzpunktenvy; om 7O 0 C and 10O 0 C) ~ <* Piccopale 70 SF and Picöopale 85 (unresponsive Olefindienharze the Pennsylvania Industrial Chemical Company Schmelzpunfcten of 70 0 C and 85> ° C and molecular weights of 800 and 100O) J Piecolastic. "Α x 75" D IOQ and E 'IOO (polystyrene resins with melting points of 75 0 G, 100 0 C and 100 ° C from Pennsylvania Industrial Chemical Company)! Amberol ST-137 X (a. Non-reactive, unmodified phenol-formaldehyde resin from Eöhm & Haas)? Neolyn 23 (© in. U.kydharz from Hercules Chemical Company); polycarbonates, polyolulfones f polyvinyl chloride, blends of Silicone and styrene adhesives with a low molecular weight as well as mixtures of these substances should be used in thermoplastic materials as little barfeial as possible, and at room temperature
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weichungstemp^ratur nichtleitend sein, so daß sich seine Oberfläche inJ richtiger Weise anhängig von dem OlaerflächeBi-■■■" ■"■■ --'-' '■'■■' -i ■-'"-'--"" ; : . :< "" ■■-■■".. -; '■"■" ' - -.:. ■ - - : ladungsmuster verfoxmt. Im allgemeinen sind diese Vorzugsweisen Stoffe bei Zimmertemperatur etwas weich und kletorig, und die Obsrflächendefoimationsmiistier verschlechtern sieh bei leichter Erhitzung oder Berührung mit den meisten organischen MsungsmittelBL·. Daher-müssen die mit einem' Bild ver.*· sehenen Blätter sorgfältig behandelt werden»weichungstemp be ^ temperature non-conductive, so that its surface in J. properly pending from the OlaerflächeBi- ■■■ "■" ■■ --'- '' ■ '■■' ■ -i - '"-'--"";: . : < "" ■■ - ■■ ".. - ; '■ "■"' - -.:. ■ - -: charge pattern foxed. In general, these preferred fabrics are somewhat soft and clumpy at room temperature, and the surface defoimation properties deteriorate with slight heating or contact with most organic solvents. Therefore, the sheets with a 'picture * must be treated carefully »
Palis erwünscht j kann die thermoplastische Isolierstoff schicht auf einer fotoleitfähigen Ispliers t off schicht vorgesehen sein oder durch Einlagerung geeigneter fotbleitfähiger Stoffe oder. durc& S ensiti vierung des Harzes zur Bildung eines foot öl ei tfähigen ladungsubertragenden Kompiexstoffes fotoleitfähig gemacht werden· Irisch® als Überzug aufzubringende fotoleitfähige SchichteEL bestehen aus amorphem Selen» aus Pigmentstoff und Biädemittei mit fotoleitfähigen Pigmentstoffen, Kadmiumsulfid> Kadmiumseienid, Ziaksulfid, Zinkselenid,Palis desired j can be the thermoplastic insulating material layer be provided on a photoconductive Ispliers t off layer or by storing suitable conductive materials or. through & S ensiti vation of the resin to form a foot oil capable Charge-transferring compound photoconductive · Irish® as a coating to be applied photoconductive SchichteEL consist of amorphous selenium »from pigment material and bath products with photoconductive pigments, Cadmium sulphide> cadmium silk, zinc sulphide, zinc selenide,
, Bleijjodid, Bleiselenid, dispergiert ini einem BichtXeitenden* filmbildenden Bindemittel, wie ein Silikonharz^^^eIn. Styrol-Butadienharz o.ä, Geeignete organische Ifffeöleiter können auch als tiberzugsschichten ausgebildet öderviä-die wärmeverformbare Schicht eingemischt seim* WgLts erwünscht, Minnen diese iOtoleiter sensitivi'ert werden, wo|su geringe Anteile vom Sarben oder Iiewissäuren 'imxwe^jä^i»:1i70r4θ^-»V..!ξj0iβ-ehe. organische iOtoleiter sind lf4^icyanHa&£iii$^in^^, Lead iodide, lead selenide, dispersed in a non-transparent film-forming binder, such as a silicone resin ^^^ eIn. Styrene-butadiene resin or the like, suitable organic Ifffeöleiters can also be designed as cover layers - the heat-deformable layer is mixed in if you want these IOtoconductors to be sensitized, where small proportions of sarbene or Iiewissäuren are imxwe ^ jä ^ i » : 1i70r4θ ^ - »V ..! Ξj0iβ-ehe. organic iOtoconductors are l f 4 ^ icyanHa & £ iii $ ^ in ^^
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-.12 --.12 -
oxidiazol* N-VinylcärbazolJ Phthalocyanine, Chinacridone und deren Mischungen. Besteht die verformbare Schicht aus einem geeigneten aromatischen Polymer, so kann sie selbst durch Zusammensetzung mit einer geeigneten Lewissäure fotoleitfähig gemacht werden. Typische Lewissäuren sind 2,4,7-Trinitro-g-flu.orenon, 4-,4*-bis-(Dimethyl-amino) benzophenon, tetra-Chlorphthalsäureanhydrid, Ghloranil, Picrinsäure, t 1,3*5-Iranitrο-benzol und deren Mischungen.oxidiazole * N-vinylcarbazoleJ phthalocyanines, quinacridones and their mixtures. The deformable layer consists of a suitable aromatic polymer, it can itself made photoconductive by composition with a suitable Lewis acid. Typical Lewis acids are 2,4,7-trinitro-g-flu.orenone, 4-, 4 * -bis- (dimethyl-amino) benzophenone, tetra-chlorophthalic anhydride, ghloranil, picric acid, t 1,3 * 5-Iranitrο-benzene and their mixtures.
Das Oberflächendeformationsbild kann auf der erhitzt.en verformbaren Schicht nach Jedem geeigneten Verfahren gebildet werden. Allgemein gesprochen, bestehen die Bilderzeugungsschritte aus einer, gleichförmigen elektrostatischen Aufladung der Schichtoberfläche, Belichtung der Oberfläche mit einem zu reproduzierenden Lichtmuster und Erweichung der Schicht zur spontanen Ausbildung des Oberflächendeformationsbildes. Befinden sich die verformbare Schicht und/oder die fotoleitfähige Schicht auf einer leitfähigen Unterlage, wie z.B. einer Metallfolie oder einem polymeren PiIm mit einem transparenten leitfähigen Überzug, so kann die gleichförmige elektrostatische Ladung beispielsweise durch Koronaentladung erfolgen, wie sie in. der US-Patentschrift 2 588 699 beschrieben ist. Selbstverständlich können durch diese Aufladung jedoch auch andere Verfahren verwirklicht werden, beispielsweise durch reibungselektrische Aufladung, wie sie in der US-Patentschrift 2 297 691 beschrie· beiL ist. Sind die wärmeverformbare Schicht und/oder die foto-The surface deformation image can be deformed on the heated Layer can be formed by any suitable method. Generally speaking, there are the imaging steps from a uniform electrostatic charge the surface of the layer, exposure of the surface with a light pattern to be reproduced and softening of the layer for spontaneous formation of the surface deformation image. Are the deformable layer and / or the photoconductive Layer on a conductive surface, such as a Metal foil or a polymeric PiIm with a transparent conductive coating, so can be the uniform electrostatic Charging, for example, by corona discharge, like them in U.S. Patent 2,588,699. Of course However, other methods can also be used through this charge be realized, for example by triboelectric Charging as described in U.S. Patent 2,297,691 beiL is. Are the heat-deformable layer and / or the photographic
, 1 0 98 U/17 3-5, 1 0 98 U / 17 3-5
IB21783IB21783
leitfähige Schicht selbsttragend ausgeführt oder befinden sie sich auf einer nichtleitenden Unterlage, so kann die gleichförmige Aufladung beispielsweise mit dem Doppelkoronarverfahren erfolgen, wie es in der US-Patentschrift 2:885 556 "beschrieben! ist. Soll ein Mattierungs- oder Reliefbild erzeugt werden, so wird eine Belichtung mit einem zu reproduzierenden Id öht-S chat ten-Must er vorgenommen. Ist die verAormbare Schicht von sich aus fotoleitfähig, so kann auf den BeIichtungsschritt unmittelbar die Entwicklung folgen. Ist die verformbare Schicht als Überzug auf einen Fotoleiter aufgebracht, so ist es im allgemeinen "vorteilhaft, die Oberfläche der verfombareii Schicht beispielsweise durch' Koronaladung nochmals zu laden, um ein für die Entwicklung geeignetes Oberflächenladüngsmuster zu erzeugen.- Soll ein Phasenhologramm hergestellt werdenr so wird die Belichtung nach dem in der oben genannten Patentanmeldung beschriebenen Verfahren vorgenommen. Die Entwicklung kann auf jede geeignete Weise erfolgen, wobei die Oberfläche der verformbaren Schicht zur Ausbildung des Deformationsbildes erreicht wird. Im allgemeinen wird die Platte vorzugsweise auf die Erweichungstemperatur der verformbaren Schicht erwärmt, das Deformationsbild erzeugt und dann, die Platte zur Fixierung des Bildes unter die Erweichungstemperatur abgekühlt· Auch kann die Oberfläche, falls dies erwünscht ist» duroh Aufbringen einer Lösungsmittelflüssigkeit oder von Dampf erweicht werden.If the conductive layer is self-supporting or if it is on a non-conductive base, the uniform charging can be carried out, for example, with the double coronary process, as described in US Pat. No. 2,885,556 If the moldable layer is inherently photoconductive, the development can follow the exposure step immediately it generally advantageous "to charge the surface of verfombareii layer, for example by 'corona charging again to a material suitable for the development Oberflächenladüngsmuster to erzeugen.- If a phase hologram are made r so, the exposure made by the process described in the aforementioned patent application . The development can be carried out in any suitable manner, the surface of the deformable layer being reached for the formation of the deformation image. In general, the plate is preferably heated to the softening temperature of the deformable layer, the deformation image is generated and then the plate is cooled below the softening temperature to fix the image .
Mit diesen Verfahren ergeben sich OriginalMlderhoher Auf-■ With this procedure, original files result in high ■
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■1.621793■ 1.621793
lösung auf Stoffen,, die durch. Hitze, Lösungsmittel oder Abrieb beeinträchtigt werden können. Die Deformationsbilder.werden iff allgemeinen gelöscht, wenn die Oberfläche der Deformati onsschicht durch Hitze oder Lösungsmittel erweicht wird, nachdem das bildmäßig verteilte Ladungsmuster abgeleitet wurde.solution on fabrics, which by. Heat, solvents, or abrasion can be affected. The deformation pictures. Will iff general erased when the surface of the deformation layer after being softened by heat or solvent the image-wise distributed charge pattern was derived.
Als ein. erster Schritt bei der Erzeugung von Nachbildungen . eines Deformationsbildes soll das OriginaTbild vorzugsweise derart behandelt wenden,, daß sich eine "Oberflächenhaut" mit einer Stärke größer als ca, 0-r3 Mikron bildet. Die Fixierung der Oberflächendeformation durch Bildung derartiger Oberflächenhäute ist eingehender in der Patentanmeldung R 41 261 IXa/57e beschrieben. Diese Oberflächenhaut ist härter und weniger löslich und gibt damit dem Originalbild eine höhere Widerstandskraft gegenüber Abrieb, geringer Erhitzung oder Berührung mit geringen Mengen Lösungsmitteldampf. Zur Bildung der Oberflächenhaut kanm jedes geeignete Verfahren angewendet werden. Sie kann an Ort und Stelle oder durch Aufbringen eines Stoffes auf einen anderen Stoff erzeugt werden. Typische Verfahren zur Hautbildung sind die Belichtung mit aktivierendem Licht, X-Strahlen, Betastrahlen, Gammastrahlen, Elektronenbeschuß, Koronaentladung, Hochspannungsentladungt Belichtung mit sichtbarem Licht, Einwirkung von Luft, Einwirkung von chemischen Stoffen, wie Oxydationsmittel und/oder Mittel zur Bildung von Querverbindungen, Beifügung von SensitivierungsmittelzL zur Erhöhung der Empfindlichkeit der wärmeverformbaren Schicht gegenüber der Behandlung zur Hautbildung, Sprühen, Tauohüberzug, sowieAs a. first step in creating replicas. a deformation of the image to the OriginaTbild preferably such treated contact ,, that a "surface skin" having a thickness greater than about -0 r 3 microns is formed. The fixing of the surface deformation through the formation of such surface skins is described in more detail in patent application R 41 261 IXa / 57e. This surface skin is harder and less soluble and thus gives the original image a higher resistance to abrasion, less heating or contact with small amounts of solvent vapor. Any suitable method can be used to form the surface skin. It can be created in place or by applying one substance to another. Typical processes for skin formation are exposure to activating light, X-rays, beta rays, gamma rays, electron bombardment, corona discharge, high voltage discharge t exposure to visible light, exposure to air, exposure to chemical substances such as oxidizing agents and / or agents for the formation of cross connections, Addition of sensitizers to increase the sensitivity of the heat-deformable layer to the treatment for skin formation, spraying, dew coating, as well
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jede geeignete Kombinationen der Verfahren* Abhängig von der Zusammensetzung der verformbaren Schicht können der Grad und die Dauer der Belichtung mit den verschiedenen Strahlungsquellen zur Bildung einer geeigneten Oberflächenrhaut geändert werden. FUr die vorzugsweise anzuwendenden deformierbaren Stoffe wurde gefunden, daß eine ausreichend lange Belichtung mit ultravioletter Strählung eine Oberflächenhaut ergibt, die ausgezeichnete iixierungseigenschaften zeigt. Daher ist die XJltraviolettbelichtung das vorzugsweise anzuwendende Verfahren zur Bildung der1 Oberflächenhaut. any suitable combination of the methods * Depending on the composition of the deformable layer, the degree and duration of exposure to the various radiation sources can be changed to form a suitable surface skin. For the deformable substances that are preferably to be used, it has been found that a sufficiently long exposure to ultraviolet radiation results in a surface skin which exhibits excellent fixation properties. Therefore, the XJltraviolettbelichtung is preferably applicable method for forming the surface skin 1.
Der zweite Schritt bei dem erfindungsgemäßen Nachbildungsverfahren ist die Herstellung einer negativen Nachbildung durch Abguß des originalen Deformationsbildes.The second step in the replication method according to the invention is the production of a negative replica by casting the original deformation image.
Jeder geeignete härtbare Stoff kann zur Erzeugung der negativen Nachbildung verwendet werden. Es ist wichtig, daß der Stoff die Erzeugung einer Nachbildung mit hoher Auflösung ermöglicht. Ferner darf die Schrumpfung bei Verfestigung des Stoffes nur gering sein. Außerdem soll eine Erhitzung über 93°C zur Verfestigung nicht nötig sein umd während.der Härtung keine Wärme erzeugt werden. Da. die meisten Stoffe der Deformationsbilder gegenüber Beschädigung durch die meisten organischen Lösungsmittel empfindlieh sind, soll der aufzugießende Stoff keine Anteile dieser Lq-Any suitable curable material can be used to produce the negative replica can be used. It is important, that the fabric is generating a replica with high Resolution enables. Furthermore, the shrinkage on solidification is allowed of the substance may only be slight. In addition, a Heating above 93 ° C for solidification is not necessary and no heat is generated during curing. There. the most of the substances in the deformation patterns are susceptible to damage by most organic solvents the substance to be infused should not contain any proportions of this Lq-
109814/1 73 5109814/1 73 5
öungsmit-tiel. enthalten* Typische härtlare Stoffe siiMMetalllegierungen: mit^^ jüiedrigem Schmelzpunkt, wie Cerralow 117,. eine Wismüt-In^ium-Ijegierung der Cerro Corporation, Wachse, wie Epolene Ο-12>.; ein Polyäthylenwachs mit geringem Moleku?- largewicht, erhältlich, von, der Eastman Chemical Co, J Gelatine* wie das Von der Knox Gelatin Company erzeugte Nahrungsmittel produktivι Polyvinylalkohole, wie Elvanol 71-30 und Elvanol 72-60,; erhältlich von duPont ElectrochemicalJ Silikonkaut*- schukarten mit einer oder mehreren Komponenten, wie RTV-Il, RTV-20, RTV-60, RTV-112, RTV-116 und RTV-118, erhältlich, von General Electric, Silastic RTV-501, Silastic RTV S-5137A, Silastic RTV S-5138A, Silastic RTV S-5302 und Silastic RTV S-5303,; erhältlich toil Dow Corning, sowie Mischungen dieser Stoffe. Vorzugsweise wird diese erste negative Nachbildung mit einem aushärtbaren Stoff hergestellt. Optimale Ergebnis-" se ermöglichen Silikonkautschukverbindungen, die bei Temperaturen unter ca. 93°C aushärten. Silikonkautschuk ergab) die Nachbildung mit der höchsten Auflösung unter allen getesteten härtbaren Stoffen. Silikonkautschukarten werden aus Silikongpmmi gebildet» Diese Gummiarten, bestehen weitgehend aus Polymeren von. Dimethylsilikon.. Sie können Dimethyl siloxane kopplymerisiert mit geringeren Mengen eines weiteren zweiwertigen Silikons enthalten. Beispielsweise können PoIydimethylsiloxane mit ca. 5 bis ca. 15 $ Diphenylsilikon, DiäthylsilikorL oder Methylphenylsililmrai kopolymerisiert sein. Das Silikongummi kann ferner aktive Gruppen, wie SiH? SiOH oder SiOC2^, enthalten, und Vinyl-, Fluorkohlenstoff- odersolvent. contain * Typical hardened substances such as metal alloys: with a low melting point, such as Cerralow 117 ,. a bismuth alloy from Cerro Corporation , waxes such as Epolene-12. ; a low molecular weight polyethylene wax available from Eastman Chemical Co, J Gelatin * such as food productive polyvinyl alcohols such as Elvanol 71-30 and Elvanol 72-60; available from duPont ElectrochemicalJ silicone rubber * - safety cards with one or more components, such as RTV-Il, RTV-20, RTV-60, RTV-112, RTV-116 and RTV-118, available from General Electric, Silastic RTV-501, Silastic RTV S-5137A, Silastic RTV S-5138A, Silastic RTV S-5302, and Silastic RTV S-5303; available toil Dow Corning, as well as mixtures of these substances. This first negative replica is preferably made with a curable substance. Silicon rubber compounds which cure at temperatures below approx. 93 ° C enable optimum results. Silicon rubber resulted in the replica with the highest resolution among all curable substances tested. Silicon rubbers are made from silicone rubber .. you can dimethyl siloxane kopplymerisiert with lesser amounts of other divalent silicon contained. For example, may be copolymerized PoIydimethylsiloxane with about 5 to about 15 $ Diphenylsilikon, DiäthylsilikorL or Methylphenylsililmrai. The silicone rubber may also active groups such as SiH? SiOH or SiOC 2 ^, included, and vinyl, fluorocarbon or
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badbath
NitrilgrüpperL könnem in das Siiikönmolekul. ein'gefügt sein. !Falls erwünscht, können, fein mrteilte'^i'ülliaittel, "wie Silikagel, ■ Kaliumcarbonat, Titandioxid, Eisenoxid odeir deren Mischungen mit dem Silikongummi g-smisoht sein., um die Spannungsfestigkeit der endgültigenSilikoiakautschük:- nachbildung zu ""erhöhen". Im allgemeinen erhöht sick die Bildauflösung Tdei abnehmendem mittleren Durchmesser der MODL-. stoff teilchen. Typische Füllstoffe haben einen Teilchendurchmesser von ca. 10 Millimikron "bis ca. 1 Mikron* Jeder geeignete Katalysator, wie Metallseifen, Peroxide und andere Stoffe zur Erzeugung freier Radikale, kann zur Aushärtung der Silikongunmii-Kerbindungen, die einen Katalysator benötigen, verwendet werden. !Typische Katalysatoren sind Benzoylperoxid, Oichlorbenzoylperoxid, di-tert-Butylperoxid,,. t-Batylperoxid und deren MischuHgen. Die Geschwindigkeit der Aushärtung hängt τοπ der relativen Menge des v.eiiwendeten Katalysators ab. Befriedigende AushärtungsgeschwiriidigkBiten erreicht man bei bis zu 5 Gew.-^ Katalysator, bezogen auf das Gewicht des Silikonkautschuks, Man nimmt an, daß die Aushärtung durch die Bildung von Siloxanquer^erbiBdmgen zwischen den pOlymeren Ketten auftritt« Der aushärtbare Stoff wird Mr Entfernung eingeschlossener Iiuft in ein "VTakuum eingegeben und dann im Schmelze mit deia^ zu reproduzierenden Deforaiationsbild in Berührung gebracht« er ausgehärtet und von dem Originalbild abgezogen«Nitrile groups can enter the silicone molecule. be inserted. ! If desired, can, finely divided '^ i'ülliaittel, "like Silica gel, ■ potassium carbonate, titanium dioxide, iron oxide odeir their mixtures with the silicone rubber be g-smisoht. to the dielectric strength of the final silicone rubber: - replica to "" increase. In general, sick increases the image resolution The decreasing mean diameter of the MODL. substance particles. Typical fillers have a particle diameter from about 10 millimicrons "to about 1 micron * Any suitable catalyst, such as metallic soaps, peroxides, and others Substances that generate free radicals can cause hardening the siliconeunmii bonds that need a catalyst, be used. ! Typical catalysts are benzoyl peroxide, Oichlorbenzoyl peroxide, di-tert-butyl peroxide ,,. t-batyl peroxide and their mixes. The speed of curing depends τοπ on the relative amount of the catalyst used away. Satisfactory curing speeds achieved one at up to 5 wt .- ^ catalyst, based on the weight of the silicone rubber, it is believed that the Hardening through the formation of transverse siloxane structures between the polymer chains occurs «the curable Substance is used to remove trapped air "VTakuum entered and then in the melt with deia ^ to be reproduced Deformation image brought into contact " he hardened and peeled off from the original image "
Λ 4 /173 S bad original Λ 4/173 S bad original
Der nächste Schritt des erfindungsgemäßen: Nachb:p/dungsver- : . fahrens besteht in der Herstellung einer zweiten, positiven Nachbildung, die von der ersten, negativen Nachbildung abgegossen wird. Hierzu kanm jeder geeignete filmbildende Stoff, der verflüssigt werden kann und nicht an der ersten ■Nachbildung haftet, verwendet werden. Er wird in einem lösungsmittel aufgelöst. Die relative Menge der verwendeten Lösung ist unkritisch,, am wichtigsten ist lediglich die endgültige Bildung eimes kontinuierlichen Filmes. Typische filmbildende Stoffe sind LösuBgem von Polystyrol in. Toluol, Polymethylmethaerylat im Methyläthylketon, Polyäthylmethacrylat in Äthylendichlorid, Zelluloseacetatbutyrat im Äthylacetat, aushärtbare Epoxydharze, aushärtbare Polyesterharze, geschmolzenes Polystyrol, geschmolzenes Polymethylmethaerylat, geschmolzenes Polyäthylen, Plastisole, wie Polyvinylchloridharz, dispergiert in 2-Xthylphenylester und Mischungen dieser Stoffe» Acrylharze, insbesondere Polyisobutylmethacrylaty werden vorzugsweise verwendet, da sie gleichmäßig ohne Blasenbildung aushärten und mit der im allgemeinen verwendeten Unterlage verträglich sind, die oft, aus Acrylstoffen besteht. Daher werden diese Stoffe zur Herstellung der zweiten,, positiven Nachbildung vorzugsweise verwendet. Zur Bildung einer flachen, zweiten Nachbildung: wird der Stoffe als dümjieg flüpsige Schicht auf eine Unterlage und/oder auf die erste Nachbildung aufgebracht· Während, vor oder nach der ■Verfestigung der flüssigen Schicht oder-Schichten wird die Unterlage auf die erste Nachbildung W&ßX leichtem Druck auf ge-The next step of the invention : Nachb: p / dungsver- :. driving consists of making a second, positive replica, which is cast from the first, negative replica. Any suitable film-forming material that can be liquefied and does not adhere to the first replica can be used for this purpose. It is dissolved in a solvent. The relative amount of solution used is not critical, most important is the final formation of a continuous film. Typical film-forming substances are solutions of polystyrene in toluene, polymethyl methacrylate in methyl ethyl ketone, polyethylene methacrylate in ethylene dichloride, cellulose acetate butyrate in ethyl acetate, curable epoxy resins, curable polyester resins, curable polyester resins, methyl ester, methyl ester, methyl ester, methylphenyl and methyl ester, such as methylphenyl and methyl ester, such as methylphenyl, molten polyvinyl ester, and molten polyvinyl ester, such as methylphenyl and molten polyvinyl chloride Acrylic resins, in particular polyisobutyl methacrylate, are preferably used because they cure uniformly without the formation of bubbles and are compatible with the generally used base, which often consists of acrylic materials. Therefore, these substances are preferably used for the production of the second “positive replica”. To form a flat, second replica: the material is applied as a dümjieg flüpsige layer on a base and / or on the first replica · During, before or after the solidification of the liquid layer or layers, the base is easier on the first replica Pressure on
#« Ist die Verfestigiüng vor dem Auf legen neeh night treten* so läßt man die flüssige Söhieht oder Schichten lange genug aushärten oder troctaeu* i)as (Mprödukt ist eine stärke fläölie zweite (-positive) li^^ibildsiög des OaiiginalTiildes* läßt man eine flüssige Schioiit des Süßstoffes auf de£ dea? ersten Jaehbildung sieH lierfestigeii, Htävör die atxfgelegt wia?dr so wird die Übertragung der /v^erfestigten BehiQht auf iiie IDhterlötge gelegentlich dureli die Einwirkutög iron Wärme atif die tJhterläge Tor öder während der tfbertragung -werlüessert, insbesondere wentt die Verfestigte Schicht niehtkieliend ist* Die; ¥erf estigümg der fliissigieii Schient auf der Oberfläche der ersten Nachbildung vor der ttbertragiing^ wird jedoch Tcorgezogen, da eine schnellere irodtiktioit abglich ist, insbiesoiidere/wenn fiOjaibildende Stoffe verwendet werden, die in einem flüchtigen lösungsmittel aufgelöst sind· Reicht der IJrucik: "bei der libertragung des tderfestigten Stoffes nicht zum Anh^ten d gossenen Sehichii an der Iffiiterläge aus# so kann eine |irweichung der Schicht und/oder der Mterlag# mit einem Lösungsmittel diirohgeführt werden* oder e^Mrd^ #^er geeignete üb^ Klebstoff zur^ Bindung der Schicht aii:der Unterlage angewendet » jbie itoterlage kann jede geeignete Stärke habenV starr oder 1£ieMbe^f ^# «If the solidification doesn’t occur before laying on * then the liquid surface or layers are allowed to harden long enough or troctaeu * i) as (Mproduct is a strong fläölie second (positive) li ^^ ibildsiög of the original parts * is allowed ? a liquid Schioiit of the sweetener on de £ dea first Jaehbildung look lierfestigeii, Htävör the atxfgelegt wia d r so is the transfer of / v ^ erfestigten BehiQht on iiie IDhterlötge occasionally Einwirkutög dureli iron heat the tJhterläge gate atif barren during tfbertragung? - The solidified layer is particularly noticeable volatile solvents are dissolved Poured Sehichii on the Iffiiterlag from # so a softening of the layer and / or the Mterlag # can be carried out with a solvent * or a suitable adhesive applied to the bonding of the layer aii: the base itoterlage may be of any suitable thicknessV rigid or 1 £ ieMbe ^ f ^
durchsiehtig sein, und kantt als BandV Blatt» Platte ο ·ä, aus-' .■ gjefSi&3?t sein* BLe tteterlage soll Jedoch zumindest eine glatte \ Oberfläche haben, die die zweite ifeöhbildung ohne Zerstörung des Bildes tragt· üie erste liaehbildung kanm als Miitt^rplattebe durchsiehtig and kantt as BandV sheet »plate ο · ä, off '. ■ gjefSi & 3? t be * BLe tteterlage should However, at least have a smooth \ surface that carries the second ifeöhbildung without destroying the image · üie first liaehbildung scarcely as Middle plate
- m - m
zur Erzeugung einer Vielzahl endgültiger zweite:?» Hac^toiXdtWD^eii ^ea^wendet werden. Das -yiorzugsweise Terfahren zur Erzeugung derzweiten Ifacihl^ldung besteht aus den Sciiritten der ferfegtigung des härtbaren Süßstoffes in einen klebrigen Zustand und der iJbertragung des verfestigten Stoffes durch I?ruofceipyirfeung auf die Oberfläche einer Unterlage. Der verwendete Druck ist nicht kritisch, er soll jedoch zu« mitidest zum guten Komtakt zwischen dem Gußstoff und der Oberfläche, der Unterlage ausreichen, Ausgezeichnete Nachbildungen erhält man» wenn, der &ußstoff so klebrig ist» daß er innerhalb^ TPoni 5 Sekunden^^ unter leichtem Druck, d.h. Daumendimck., an einem. Blatt aus klarem Zelluloseacetat anhaftet und nach !DrenMing der ersten Faehbildung haften bleibt. Obwohl ge-» schmolzen oder härtbare G-ußstoffe Trerwendet werden sollen, erhält !Βοή auch optimale Ergebnisse mit Lösungen von film^ biidenden !Polymeren iii fnichtigen lösungsmitteln. Lösungen YQXi. filmbildenden Polieren erreichen den klebrigen Zustand schneller als andere härtbare Stoffe mit weniger Energieauf-· wand und erzeugen Bilder mitgrößerer Auflösung. Die Menge der Gußlösting; sqII zur Bildting einer trockenen Schicht mit glatter^^ deformätionsfreier Außenfläche ausreichen,to generate a multitude of final second :? » Hac ^ toiXdtWD ^ eii ^ ea ^ be turned. The process of producing the second cooling preferably consists of the steps of preparing the hardenable sweetener in a sticky state and transferring the solidified substance to the surface of a base by drying it. The pressure used is not critical, but it should be sufficient "to ensure good contact between the casting material and the surface, the base. Excellent replicas are obtained" if the material is so sticky "that it takes 5 seconds to get under light pressure, ie thumb press., on one. Sheet of clear cellulose acetate adheres and remains after! DrenMing the first faehbildung. Although melted or hardenable cast materials are to be used,! Βοή also gets optimal results with solutions of film-forming! Polymers iii non-solvents. Solutions YQXi. Film-forming polishes reach the tacky state more quickly than other hardenable substances with less energy expenditure and produce images with a higher resolution. The amount of Gußlösting; sqII are sufficient to form a dry layer with a smooth ^^ deformation-free outer surface,
f eine Itotterplatte aus Metall erwuisscht, so wird eine KaOhbilditing^ iBit Metalloberfläche hergestellt. Uaeh chemischer Reiniguiag und Sensiti-Tierung der pberflache der zweiten Nach**· bildung wird ein Metall* wie Silber, ßhemisch reduziert und auf die zweite Kachbildung bis zu einer Stärke 89afgesprühtt If an otter plate made of metal is desired, a KaOhbilditing ^ iBit metal surface is produced. Argh chemical Reiniguiag and Sensiti-orientation of the second pberflache After ** · forming a metal such as silver *, ßhemisch reduced and 89afgesprüht to the second Kachbildung up to a thickness t
■..-■■ tO9S14/ft:3S■ ..- ■■ tO9S14 / ft: 3S
BADBATH
die das Nichtvorhandensein von, Poren gewährleistet -und den nachfolgend einwirkenden elektrischen {Mlvanisierungsstrom aushält. Diese Stärke beträgt vorzugsweise ca. 7,5 oder 10 χ 10"~ cm für diese Zwecke. Dieser Überzug schafft die zur galvanischen Herstellung einer guten Metallmutterplatte erforderliche sehr leitfähige Oberfläche. Bin geeignetes Verfahren zur Sensitivierung und ¥ersilberung wird von A. M. Max in "Application of Electroforming to the Manufacturing of Disk Records" in ASM Special Technical Publication Fr, 318. (1962) beschrieben. Die zweite Nachbildung ' wird dann in ein, G-aXvanisierungsbad aus UickeXsuXfamat gegeben, und auf die leitfähige,Oberfläche wird*nickel galvanisch aufgebracht. Das Bad wird auf einer Temperatur vom ca. 54°0 gehalten, während der Strom für eine Platte von 30 cm ca. 50 Ampere beträgt. Die Galvanisierung wird fortgesetzt, bis die Schicht ein© zum Selbsttragen ausreichende Stärke hat. Eine optimale Schichtbeschaffenlaeit und Sicherheit gegen Bildzerstörung ergeben sich mit einer Dicke der UTi ekel schicht zwischen ca* O9I? "und Ör3 nmu Danm wird die Metallschicht vom der Piastikunterläge abgehoben, wobei sie sich leicht von dieser trennt» und ergibt so eine dritte, versilberte lietällmutterplatte mit negativem Bild*. Dies© Metallmutterplatte kann nun zum Pressen iron -iiaohbilaiingesi des originalen Deformationsbildes ^iisrondet -we&lfiatj wosu dl.© ;s 3aaehst©lxend beschriebenen Preßvarfahren dienen« Is kann -Jedoch/ falls erv^ünschtp auQh eiaa- ümsrhattape platt© hmgeätsXXt wa3?<ä@ja<. ^orsugswelse werdestwhich ensures the absence of pores and withstands the subsequent electrical electroplating current. This thickness is preferably approx. 7.5 or 10 × 10 "~ cm for this purpose. This coating creates the very conductive surface required for the galvanic production of a good metal mother plate. A suitable process for sensitization and silver plating is described by AM Max in" Application of Electroforming to the Manufacturing of Disk Records "in ASM Special Technical Publication Fr, 318. (1962). The second replica is then placed in a" G-aXvanisierungsbad made of UickeXsuXfamat, and nickel is galvanically applied to the conductive surface The bath is kept at a temperature of about 54 ° 0, while the current for a 30 cm plate is about 50 A. Electroplating is continued until the layer is sufficiently thick to support itself Security against image destruction results with a thickness of the UTi disgusting layer between approx * O 9 I? "And Ö r 3 nmu Danm the metal layer is from the Plastic underlay is lifted, whereby it separates slightly from this »and thus results in a third, silver-plated lietäll mother plate with a negative image *. This © metal nut plate can now for pressing iron -iiaohbilaiingesi the original deformation image ^ iisrondet -We & lfiatj Wosu dl ©; s. 3aaehst © lxend described Preßvarfahren serve "Is may -Jedoch / if erv ^ ünschtp auQh eiaa- ümsrhat tape flat © hmgeätsXXt wa3 <? ä @ yes <. ^ orsugswelse you will
109814/1736.109814/1736.
BAD ORIGINALBATH ORIGINAL
' - 22 -'- 22 -
Mder -verwendet, da sich mit diesen eine schnelle und gleichmäßige Ablagerung ergibt. .- · / ■ . "Mder -used, because with these a fast and even Deposit results. .- · / ■. "
Zur Bildung einer dauerhafteren Metalliiachbildung wird die Oberfläche der dritten, negativen Nachbildung mit einer Kaliumdichromatlösung behandelt, um die Oberfläche chemisch zu passivieren. Diese Behandlung erlaubt die Galvanisierung einer ganz aus Nickel bestehenden Nachbildung auf der ver-"' silherten !Fläche, verhindert jedoch eine Bindung beider Metalle aneinander. Es ergibt sich daraus eine dauerhafte, vierte Nickelnachbildung mit positivem Bild. Falls erwünscht, kann, auch eine fünfte Nickelnachbildung mit negativem Bild aus der "wierten Nachbildung gewonnen werden. Auch kann, falls erwüEijscht,. die Oberfläche verchromt werden, um die lebensdauer der Preßplatte zu verlängern*. To form a more permanent metal replica, the Surface of the third, negative replica with a Potassium dichromate solution treats the surface chemically to passivate. This treatment allows electroplating a replica made entirely of nickel on the silvered! surface, but prevents a bond between the two Metals together. The result is a permanent, fourth nickel replica with a positive image. If desired, can, also a fifth nickel replica with a negative image can be obtained from the "wied replica. Also, if Desires. the surface can be chrome-plated to extend the life of the press plate *.
Unabhängig von dem Yerfahren zur Herstellung der endgültigen Y Metallpreßplatte werden die endgültigen Kachbildungen des originalen Defonaationsbildes mit dem verstehend beschrie- · b.eaen lierfahrert zur Herstellung eimei* Yielzahl endgültiger isweiter Uächbildungen oder durch Pressen hergestellt« Das im folgenden baschriebene Verfahren nach der ErfiMung ist, ei»L Keißpreß-«?erfahren. EIel dütoter, trockeiier thermoplastischer;· (Zelluloseaeetat, mit- oiiösr £$täa?l£ö -won. oa^: 0,08 bis ca.Independently are b.eaen with the understanding described for the preparation · lierfahrert eimei * Yielzahl final isweiter Uächbildungen or prepared by pressing the final Kachbildungen the original Defonaationsbildes of the Yerfahren for the preparation of the final Y Metallpreßplatte "The baschriebene in the following procedure after the ErfiMung is ei "L Keißpreß -"? EIel dütoter, dry eggs thermoplastic; · (Cellulose acetate, with- oiiösr £ $ taa? L £ ö -won. Oa ^: 0.08 to approx.
efber erh^^t«ö; ^ciMi^p^eßplatte uiaid i&s'Äsolr-s^ia'lÄöa <jdei\-4ie Konturen l^ der nega«efber erh ^^ t «ö; ^ ciMi ^ p ^ platter uiaid i & s'Äsolr-s ^ ia'lÄöa <jdei \ -4ie contours l ^ the nega «
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tiven Preßplaiite haben kianit, 3Jer Ifoermoplas tische vorher auf eine Temperatur erhitzt, 80 daß keine Schpckwi-ekungen auftreten, wenm er gegen die noch Preßplatte gedrückt wirft* Da die Tiefe der Cflaerflachende^tive press plates have kianit, 3Jer Ifoermoplas tables previously heated to a temperature 80 that none Impacts occur if he is against them Press plate throws pressed * Since the depth of the Cflaerflachende ^
inehesondere im Jalle eines hplograpMseiien Qris nitr sehr geriEig iai; (im der Großenordiiung von 0,5 Mikrjon) triti; wenig oder kein. Zerfließen^ des auf r heahsiiens eine leichte Yerlageruriig, Am Ende der geit wird die gepreßte thenaoplastische Folie gjelöst, raschenderweise; ist; dies ohne eine vorherige lieh. Man, erhält eine heiß gepreßte FachlDildi3ng des originalen DeformatiQBisMldes mit guter Qwalität. FUr dieses ?erfahren kann, geder geeignete thermpplastisehe Stoff verwendet werden, O)ypisehe derartige Stoffe sind leetate, wie Zellwloseaaetat? especially in the course of a hplograpMseiien Qris nitr very small iai; (on the order of 0.5 microns) triti; little or no. The dissolving of the slight yerlageruriig on r heahsiiens, At the end of the geit the pressed thenaoplastic film is loosened, surprisingly; is; borrowed this without a previous one. You get a hot-pressed technical picture of the original deformatiQbisMldes with good quality. For this experience, any suitable thermoplastic substance can be used, O) ypishe such substances are leetate, such as cellular acetate ?
wie Polyvinylchlorid, 'Sol.jm&i'onharze und liisehungen dieser-Stoffe, Zufriedenstellende lilder ergjehen sipii mit den soei^ sten getesteten theamoplasti^chen Stoffen "bfii eiiiem Preßdruck zwischen ca? 27 imcL 4018 atutf wenn eine Vorerwäriaung des thermopläStiSQhen lilms ^is üngeföhr mx Irweichungstempera?- tiir vorgenommen wird» eine Pr-eJßplattentemjerain^r von cat 49Q0 feis ca» 204^G waäreine P^eßgeit von weniger als ca, 30 Sekunden verwendet wii»d«. Im allgemeinen sind höhere I|ruck^ örf-orderlichji wenm geringere Preßplattentemperaturensuch as polyvinyl chloride, 'Sol.jm &i' onharze and liisehungen these substances, Satisfactory lilder sipii ergjehen with soei ^ most tested theamoplasti ^ chen substances "bfii eiiiem pressing pressure between approximately? 27 IMCL 4018 atutf when a Vorerwäriaung of thermopläStiSQhen lilms ^ is üngeföhr mx The temperature of the softening agent is made "a pressure plate temperature of cat 49 Q 0 feis ca" 204 ^ G for a pure pessibility of less than about 30 seconds if used. In general, higher jerks are used örf-orderlichji if lower press plate temperatures
werden. Es zeigte sich, daß die liesten Nachbildung auf ^elliil<?seäe:etat entstehen, werin ein Preßdruck von ca*will. It turned out that the last replica on ^ elliil <? seäe: etat arise whoin a pressure of approx *
'BAD'BATH
27 "bis-408- a tu, eine Yorerhitzungstemperatur Ms zu ca, 930O, eine Preßplattentemperatur von ca. 490G Ms ca. 1490C und eine Preßzeit von ca. 1 Ms 10 Sekunden angewendet werden. Diese Werte werden- deshalb zum Heißpreßen der genauesten Nachbildungen auf Zelluloseacetat verwendet. Jedoch kann auch jeder andere, geeignete Stoff hierzu dienen. Auch kann ein Kaltpreß"werfahren angewendet werden. Das Heißpreßen wird jedooh vorzugsweise angewendet, da ein, geringerer Druck aus τ reicht und die Zerstörung der Bildfläche wesentlich verringert ist. Zur Herstellung holographischer Eeflexionsbilder. können metallülierzogene Plastikfilme verwendet werden. Auch kann eins durchsichtige PlastiknachMldung nach der Herstellung des Bildes metallisiert werden« Beide Seiten der Plastikfolie können gleichzeitig oder nacheinander mit demselben oder verschiedenen Hologrammen gepreßt werden. SelbstverstäEidlich känm die Preßmutterplatte entweder eben oder auf einen Zylinder aufgezogen sein,, mit dem sie über die thermoplastischen FoIiem gerollt wird.. 27 "to -408- a tu, a Yor heating temperature Ms of approx. 93 0 O, a press plate temperature of approx. 49 0 G Ms approx. 149 0 C and a pressing time of approx. 1 Ms 10 seconds can be used. therefore used for hot-pressing the most precise replicas on cellulose acetate. However, any other suitable material can also be used for this purpose. Cold-pressing can also be used. However, hot pressing is preferably used since a lower pressure from τ is sufficient and the destruction of the image area is substantially reduced. For the production of holographic reflection images. Metal-drawn plastic films can be used. A transparent plastic post-molding can also be metallized after the image has been produced. Both sides of the plastic film can be pressed simultaneously or in succession with the same or different holograms. Of course, the press nut plate can either be flat or pulled onto a cylinder, with which it is rolled over the thermoplastic film.
Es sei laemeirkt, daß mit dem vorstehend beschriebenen Heiß-. preßverfahren der thermoplastische Film für vergleichsweise kurze Zeit unter Druck steht und dann heiß abgelöst wirdr so daß der erweichte Kunststoff während der Abkühlung nicht in der Preßform verbleibt. Überraschenderweise ergibt sich bei direkter Betrachtung des Bildes keine Formänderung trotz: der Tatsache, daß der Stoff vor der Entfernung aus der Preßform nicht abgekühlt wurde..Dies macht eine Temperaturver- It should be noted that with the above-described hot. pressing process the thermoplastic film is under pressure for a comparatively short time and is then removed hot r so that the softened plastic does not remain in the mold during cooling. Surprisingly, when looking directly at the picture, there is no change in shape despite: the fact that the material was not cooled down before it was removed from the mold.
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ringerung der Preßf orm nach, der Erz euigung einer jeden Nachbildung überflüssig und erlaubt eine extrem schnelle Herstellung einer Anzahl sehr guter Nachbildungen mit einer einzigen Mutterplatte. Im Gegensatz zu einer Erweichung mit !lösungsmitteln hat dieses Heißpreßverfahren, den Vorteil, daß es völlig trocken-arbeitet und eine Auffrischung · oder Nachlieferung vom lösungsmitteln nicht erfordert» -Reduction of the press form after, the production of each replica superfluous and allows extremely fast production of a number of very good replicas with one single mother board. In contrast to softening with solvents, this hot pressing process has the advantage that it works completely dry and a refresher or subsequent delivery of the solvent is not required »-
Die folgenden Beispiele dienen der weiteren Erläuterung des erfindungsgemäßen Verfahrens zur Nachbildung eines Deformationsbildes* Alle Anteile "beziehen sich auf das G-ewicht, falls mächt anders angegeben. Die Beispiele stellen vorzugsweise Ausführungsformen des erfindungsgemäßen Verfahrens dar.The following examples are provided for further explanation of the method according to the invention for simulating a Deformation image * All parts "refer to the Weight, unless otherwise stated. The examples preferably represent embodiments of the method according to the invention.
Zunächst wird ein holographisches Originalbild hergestellt. Es wird eine Überzugslösung gebildet, die ca* 20 Teile Polyvinylcarbazol, ca. 0*1 Teil Brilliant ö-reen Special (ein. Triphenylmethanfarbstoff der Allied Chemical Company), ca· 100 Teile Dioxän und ca. 110 Teile Dichlormethaifc. enthält·. Diese Lösung" wird auf die leitfähige Ofcerflache einer HBSA-G-lasplatte (Ölasunterläge, überzogen mit einer extrem dünnen, durchsichtigen Zimaioxydschicht, erkäitlieji von der, Pitt©"bu3?g Plate Glass Company) Eb zu einsi? trocKeHen Stärke von esa, ' 7 Mikroa aufgebracht.*; Aixf\~άίea© fotoleitfäMg© SohisfetFirst, an original holographic image is produced. A coating solution is formed which contains approx. 20 parts of polyvinyl carbazole, approx. 0 * 1 part of Brilliant ö-reen Special (a triphenylmethane dye from Allied Chemical Company), approx. 100 parts of dioxane and approx. contains ·. This solution "is applied to the conductive surface of an HBSA-G glass plate (oil base, coated with an extremely thin, transparent layer of zinc oxide, manufactured by the Pitt ©" bu3? G Plate Glass Company). dry strength of esa, '7 microa applied. *; Aixf \ ~ άί ea © fotoleitfäMg © Sohisfet
BAD OBSG'NALBAD OBSG'NAL
eine Schicht aus Staybjelite-Ester 10 (ein (rlycerolester von 60 $ig hydriertem Kolophonium, erhältlich von der Hercules Chemical Company) "bis zu einer trockenen Stärke von ca, 1 Mikron aufgebracht. Diese Schicht wird aufgebracht, indem ihre· Unterlage mit einer Geschwindigkeit von ca. 12y5 cm pro Minute aus einer 20 foigen lösung des Harzes ia einem Kerosenlösungsmittel herausgezogen wird. Nach Trocknung besteht die vollständige Bildplatte aus einer leitfähigen Unterlage, einer fotoleitfähigen Schicht und einer deformierbaren thermoplastischen Schicht. Diese Platte wird bei Dunkelheit mit Koronaentladung auf eine Oberflächenspannung; von. ca. 500 ToIt aufgeladen. Die Platte wird dann in einer An-Ordnung belichtet, wie sie in Fig. 1 der Patentanmeldung R 45 090 IXa/42k'dargestellt ist. Dabei erfolgt eine Belichtung mit Objekt- und Bezugsstrahlen, unter Verwendung eines Helium-Neon-Dauerstrich-Iiasers, der im Tem-00-Betrieb bei 6328 Angstrom arbeitet (Modell 5200 der Perkin Eimer Company)· Der. Bezugs strahl fällt unter einem Winkel von ca, 30° ein«Apply a layer of Staybjelite Ester 10 (a (glycerol ester of 60% hydrogenated rosin available from Hercules Chemical Company) "to a dry thickness of about 1 micron. This layer is applied by moving your backing at a rate 12 and 5 cm per minute from a 20 foigen solution of the resin, generally a kerosene solvent. After drying, the complete image plate consists of a conductive base, a photoconductive layer and a deformable thermoplastic layer. This plate is exposed to corona discharge in the dark The plate is then exposed in an arrangement as shown in FIG. 1 of patent application R 45 090 IXa / 42k '. using a helium-neon continuous wave Iiasers operating in Tem-00 mode at 6328 Angstroms (Model 5200 from Perkin Elmer Com pany) The. Reference beam is incident at an angle of approx. 30 ° «
Mach- nochmaliger Aufladung wird die Platte dann langsam auf ihre Erweiohungstemperatur erhitzt. Das rekonstruierte Bild ist gleichzeitig mit der Bildung des Hologramms zu beobachten, lfaoh guter Ausbildung der Deformatiomen. wird die Platte zur Pixiermig &©s Bildes abgekühlt. Es ergibt sich eine holo-Auf E@ielmi2ög ausges^iohnster Qualität mit eimerIf you charge again, the plate will then slowly rise their expansion temperature is heated. The reconstructed image can be observed simultaneously with the formation of the hologram, lfaoh good development of the deformations. the plate becomes Pixiermig & © s picture cooled down. There is a holo-on E @ ielmi2ög of the highest quality with a bucket
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Auflösung τοή ca, 800 Linien pro mm.Resolution τοή approx. 800 lines per mm.
Das Hologramm wird ca. 6 Stunden lang dem ultravioletten licht einer Qaecksilber-Bogenlampe der General Electric von. 100 Watt in einem Abstand von ca. 15 cm ausgesetzt. Wie oben beschrieben, wird dadurch die Oberfläche widerstandsfähig gemacht, ■"■"■". " ■■"..."" -■"-' -The hologram becomes the ultraviolet for about 6 hours light from a quartz silver arc lamp from General Electric. 100 watts exposed at a distance of approx. 15 cm. As above described, the surface is made resistant, ■ "■" ■ "." ■■ "..." "- ■" - '-
Ga, 100 Teile RTV-Il (eine bei Zimmertemperatur vulkanisierende Silikonkautschukverbizidurig der General Electric Company) werden mit ca. 0,3 Teilen, eines zugehörigen Katalysators gemischt« Diese Mischung wird in einem Vakuumtrockner bei einem Druck von weniger als 0,17 atii gehalten» um eingeschlossene Luftblasen zu entfernen· Auf der Oberfläche der Mischung wird dadurch eine SchaumMlduiig verursacht. Nach ca. 5 Minuten wird der Druck langsam auf Atmösphärendruck gßbracht. Das Originalhologramm wird. dann, mit der Bildfläche nach oben "in den Boden einer rechteckf örmigen ireßftorm von. 12*7 mm gelegt, Fach Anstreichen der Oberfläche der evakuierten Silikoiikautschukr· mischung wird diese sorgfältig in die Form bis zu einer Höhe vom ca. 9>5 mm eingegossen, so daß> alle Konturen vollständig gefüllt sind. Das Harz wird dann auf Zimmertemperatur 48 Stunden lang abgekUhlt. Mit größeren Mengen des Katalysatoips kann die Aushärtungszeil; wesentlich abgekürzt werden. Der ausge-v härtete Kautschuk wird dann von, dem Original abgezogen. Es ergibt sieh eine flexible, dauerhafte, erste, negative Mutter-Ga, 100 parts RTV-II (a vulcanizing at room temperature Silicone rubber verbizidurig from General Electric Company) mixed with approx. 0.3 parts of an associated catalyst « This mixture is in a vacuum dryer at one pressure held by less than 0.17 atii about trapped air bubbles to remove · On the surface of the mixture this gets a foam Mlduiig caused. After about 5 minutes it will the pressure was slowly brought to atmospheric pressure. The original hologram will be. then, face up, "into the ground a rectangular shape of. 12 * 7 mm laid, paint tray the surface of the evacuated silicone rubber Mix this carefully in the mold up to a height from approx. 9> 5 mm poured in, so that> all contours are completely filled. The resin is then at room temperature for 48 hours cooled down for a long time. With larger amounts of the catalyst can the curing line; be shortened significantly. The out-v hardened rubber is then peeled off, the original. It results in a flexible, permanent, first, negative mother-
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nachbildung aus Kautschuk. Das Originalhologranm wird durch diesen Abguß nicht beschädigt.replica made of rubber. The original hologram is through does not damage this cast.
~1B±ne Gußlösung wird dann hergestellt* imdern ca* 17 Teile pmlverisiertes Elvaeite Nr. 2045· (ein Polyisobutylmethacrylathar.z, erhältlich von E. I. duPont de Nemours & Go.) tmd ca. 28 Teile gereinigtes Äthylendichlorid gelöst werden. Die Lösung wird einige Stunden lang stehen gelassen, um Luftblasen aus der gerührten flüssigkeit austreten zu lassem* Ein Stück klares Plexiglas (Polymethylmethacrylat, erhältlich von. der !Firma Rohm & Haas) mit einer Stärke von ca. dLp35 ram wird etwas größer als die Kautschukplatte zugeschnittem. Ein. dickeni'Guß der Nachbildungslösuag wird auf eine Kante der Plexiglasplafofce und auf eine Kante der Kautschukform aufgegossen. Dann wird die Lösung auf beiden Flächen mit Glasstafeen zu einer dünnen Schicht ausgewalzt. Die überzogene Plastikunterlage wird sofort derart auf die überzogene Kautschukfläche gelegt, daß ein Zusammenschluß beider Flächen v.ozL einer Seite zur anderen wie beim Schließen einer Tür erfolgt* loch verbleibende Luftblasen werden dadurch herausgedrückte Dann wird ein. Gewicht, das einen Druck von ca* 0,01 at auf, die Lösungsschicht erzeugt, au£' die Plastikplatte auf ge·*· setst, und die Anordnung wird ca* 3 Stunden lang bei Zimmer-•fcemperatur getrocknet. Es ergibt sich eine starre, durchsichtige, zweite, positive Nachbildung aus Plastik mit guter Qualität, Die erste Mutterplatte aus Silikonkautschuk bleibt~ 1B ± ne casting solution is then prepared * by dissolving approx. 17 parts of powdered Elvaeite No. 2045 (a polyisobutyl methacrylate resin, available from EI duPont de Nemours & Go.) And approx. 28 parts of purified ethylene dichloride. The solution is left to stand for a few hours in order to allow air bubbles to escape from the stirred liquid. * A piece of clear Plexiglas (polymethyl methacrylate, available from Rohm & Haas) with a thickness of approx. DLp35 ram becomes slightly larger than the rubber sheet tailored. A. thick casting of the replica solution is poured onto one edge of the Plexiglas window and onto one edge of the rubber mold. Then the solution is rolled out into a thin layer on both surfaces with glass tafers. The coated plastic underlay is immediately placed on the coated rubber surface in such a way that the two surfaces merge from one side to the other, like when a door is closed. Weight, which creates a pressure of approx. 0.01 at, creates the layer of solution, placed on the plastic plate, and the arrangement is dried for approx. 3 hours at room temperature. The result is a rigid, transparent, second, positive plastic replica of good quality. The first mother plate made of silicone rubber remains
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dabei unbeschädigt.undamaged.
Dann wird ein Hologramm in Form einer Metallnachbildung hergestellt· Nach chemischer Reinigung und Sensitivierumg der Oberfläche der !zweiten Nachbildung mit einer Zinnoxychlorid-Ib'sung wird Silber aus einer ammoniakhaltigen ,Silbernitrat·- lösung chemisch reduziert, während diese auf die Plastiknaehbildung aufgesprüht wird. Die erhaltene Silberschicht hat eine Stärke von ca. 7»β χ 10°" cm. Der SiIberufeerzug bildeli; die zur Herstellung einer guten galvanischen MetallBächbildung erforderliche sehr leitfähige Oberfläche« Die Nickelschicht mit einer Stärke voni ca. O?3 mm wird dann galvanisch auf die Silberfläche in einem Hickelsulfamatbadl bei einer Temperatur von ca. 540C und einem G-esamtstrom für eine 30 cm·· Platte von 50 Ampere aufgebracht. Nach der G-al^wanialerung wird das mit Nickel belegt« Silber leicht aus der Plastikform genommen und es ergibt sieh eine dritte j negative Metallmutterplatte mit einer Silberofeerflache· Diese-Nachbildung ist als Preßplatte für Kurzbetrieb geeignet;»Then a hologram in the form of a metal replica is produced.After chemical cleaning and sensitization of the surface of the second replica with a tin oxychloride solution, silver is chemically reduced from an ammonia-containing silver nitrate solution while it is sprayed onto the plastic sewing. The silver layer obtained has a thickness of approx. 7 10 ° "cm. The training course forms the very conductive surface required for the production of a good galvanic metal sheet formation. The nickel layer with a thickness of approx . 3 mm is then electroplated the silver surface in a Hickelsulfamatbadl at a temperature of about 54 0 C and a G-esamtstrom applied for a 30 cm ·· plate of 50 amperes. After the G-al ^ wanialerung is nickel is "silver easily removed from the plastic mold and it results in a third negative metal mother plate with a silver furnace surface · This replica is suitable as a press plate for short operation;
Unter Verwendung dieser Platte werden dann mehrere NaohbiX-dungen des Originalhologramms hergestellt· Bin trooksner Zelluloseacetatfilm mit einer Stärke von ca, 0,18 mm wird auf ca. 880C erhitzt. Die Metallmutterplatte wird auf ca. 138°c erhitzt und unter einem Druck von ca» 54i atü auf den, Zelluloseacetatfilm gegen ein flaches Polster gedrückt* DruckUsing this plate, several NaohbiX-applications of the master hologram are then produced · Bin trooksner cellulose acetate film with a thickness of about 0.18 mm is heated to about 88 0 C. The metal mother plate is heated to approx. 138 ° C and pressed under a pressure of approx. 54 ° on the cellulose acetate film against a flat cushion * pressure
109814/T 7 3 6109814 / T 7 3 6
und Temperatur werden ca. 5 Sekunden lang beibehalten. Am Ende der Preßzeit wird der Plastikfilm ohne vorherige Abkühlung gelöst. Es ergibt sich eine ausgezeichnete Nachbildung des Originalhologramms. über 100 weitere Nachbildungen werden in. ähnlicher Weise heiß gepreßt, bevor ein merklicher Qualitätsabfall zu beobachten ist.and temperature are maintained for about 5 seconds. At the At the end of the pressing time, the plastic film is loosened without prior cooling. An excellent replica results of the original hologram. over 100 other replicas are hot-pressed in a similar manner before a noticeable decrease in quality is observed.
Wie in Beispiel I werden, eint Originalhologramm, eine katalytisch gebildete erste und eine gegossene zweite Mutterplatte hergestellt. In diesem Falle soll eine dauerhaftere Mutterplatte heiß gepreßt werden, so daß eine größere Anzahl vom Nachbildungen hergestellt werden kann. Nach dem Überziehen der Plastiknachbildung mit Silber und einer 0,3 mm starken, galvanisch gebildeten Nickelschicht wird die Silberoberfläche zur Passivierung mit einer Kaliumdichromatlösung behandelt». Dies ermöglicht die Galv/anA si erung einer weiteren Nickelschicht auf die SiIberoberfläche, ohne eine Silber-Nickel-Bindung zu erzeugen. Nach derartiger Bildung einer 0,25 mm starken Nickelschicht, wird diese vom der Silber-Nickel-Mutterplatte getrennt» Es ergibt sieh eine dauerhafte, ganz aus Nickel b-estehende, positive vierte Nachbildung. Diese kann in einem Heißpreß-werfahren, wie es in Beispiel I besehrieben ist» zur Herstellung gepreßter negativer Plastiknachbildungen verwendet werden. Jfür viele holographische Anwendungs zwecke ist die negative Nachbildung geeignet. Palis erwünscht, kann.As in Example I, there are an original hologram, a catalytically formed first and a cast second mother plate manufactured. In this case, a more permanent motherboard should be hot-pressed so that a larger number can be made from replicas. After coating the plastic replica with silver and a 0.3 mm strong, galvanically formed nickel layer becomes the silver surface treated with a potassium dichromate solution for passivation ». This enables the galvanic / anA sizing of a further one Nickel layer on the silver surface without a silver-nickel bond to create. After a 0.25 mm thick nickel layer has been formed in this way, it is separated from the silver-nickel mother plate Nickel b-existing, positive fourth replica. This can in a hot press process as described in Example I. is »for the production of pressed negative plastic replicas be used. For many holographic uses the negative replica is suitable. Palis desired, can.
1098U/17351098U / 1735
diese Metallmutterplattemiteinem Chromüberzug Versehen werden, der ihre Lebens dauerweiter verlängert, wozu ein Strom von ca. 575 -Ampere mit eijater 55 cm-Platte verwendet wird.this metal mother plate is provided with a chrome coating that extends their lifespan, why a Current of approx. 575 amps with a 55 cm plate is used.
BEISEEEI1 III ; BEISEEEI 1 III ;
Die insgesamt aus Nickel gebildete (positive) vierte Nachbildung aus- Beispiel II wird mit einer Lösung von ca. 16 g Polyisobutylmethacryla-fe^ gelöst in ca· 200 ml Methyläthylketon, durch Aufstreichen überzogen. Der gebildete Flüssigkeitsfdlm. wird an der Luft beiZimmertemperatur ca. 20 Sekunden lang getrocknet;, bis er einen klebrigen Zustand erreicht. Eine dünne Zelluloseacetatfolie mit eiBer Stärke von ca. 0,15 mm wird gleichmäßig mittels einer Gummiwalze auf die klebrige Schicht gedrückte Die Zelluloseacetatfolie wird dann von der vierten Mutterplatte abgezogeno Der übertragene Film zeigt eine gute Bafiung an der Zelluloseacetatfolie. Über 100 weitere Nachlä-ldüngen werden auf ähnliche Weise mit der vierten Naehbildung; hergestellt, wobei kein merklicher Abfall der Qualität auftritt.The (positive) fourth replica from Example II, formed entirely from nickel, is coated with a solution of approx. 16 g of polyisobutyl methacrylate dissolved in approx. 200 ml of methyl ethyl ketone by brushing on. The liquid film formed. is air-dried at room temperature for about 20 seconds; until it becomes sticky. A thin cellulose acetate film with Eiber thickness of about 0.15 mm is uniformly pressed by a rubber roller on the sticky layer The cellulose acetate is then subtracted from the fourth mother plate o The transferred film shows good Bafiung on the cellulose acetate film. Over 100 more top-up fertilizers are applied in a similar manner to the fourth sewing; produced with no noticeable drop in quality.
BEISPIEL XT . '-'-.-.. — EXAMPLE XT . '-'-.- .. -
Ein Origiaalhologramm sowie eine katalytisch gegossene erste Mutterpiattß werden wie in Bseispiel I hergestellt-* In diesem !•alle soll eine zweite Nachbildung schneller als in Beispiel I gebildet werdeni. Die erste Mutterplatte wird in ein Bad von. ca· 2 g Polymethylmethacrylat, gelBst in 200 mlAn original hologram and a catalytically cast first Mother patties are made as in Example I- * In this one ! • All should be a second replica faster than in the example I am educated The first motherboard is in a Bath of. approx. 2 g polymethyl methacrylate, yellow in 200 ml
10 9 B14/17 3 S10 9 B14 / 17 3 p
/ . ._■■■-/. ._ ■■■ -
■■■■■- 32 - . . ;■■■■■ - 32 -. . ;
Methyläthylketon, getaucht "und. langsam innerhalb von 3 Sekunden herausgezogen. Der gebildete Flüssigkeitsfilm wird an IiUft bei Zimmertemperatur'ca. 30 Sekunden lang getrocknet, bis er einen klebrigen Zustand erreicht. Der klebrige Film wird dann an eine dünne Zelluloseacetatbutyrat-Folie mit einer Stärke von ca. 0,25 mm gedrückt. Die erste Mutterplatte wird unmittelbar nach der Druckeinwirkung abgezogen. Der übertragene Film zeigt überraschend starke Haftung an der Folie* Die insgesamt zur Bildung der zweiten Nachbildung erforderliche Zeit ist fast 36Omal schneller als die für die zweite butterplatte in Beispiel I beschriebenen Herstellungsschritte. Die erste Mutterplatte wird nochmals in der ■vorstehend toe sehr !ebenen Weise zur Herstellung von mehr als 100 guten zweiten Nachbildungen ohne merklichen Qualitätsabfall verwendetβ Eine der auf diese Weise erzeugten zweiten Nachbildungen wird dann, zur Herstellung einer dritten Mutterplatte wie in. Beispiel I verwendet.Methyl ethyl ketone, immersed "and. Slowly within 3 seconds pulled out. The liquid film formed is stored at room temperature for approx. Dried for 30 seconds until it becomes sticky. The sticky one Film is then attached to a thin cellulose acetate butyrate sheet pressed with a thickness of approx. 0.25 mm. The first motherboard is removed immediately after the application of pressure. The transferred film shows surprisingly strong adhesion the slide * The total to form the second replica time required is almost 360 times faster than that for the second butter plate manufacturing steps described in Example I. The first mother board is again in the ■ prominent toe very! Even way of making more than 100 good second replicas used without noticeable deterioration in qualityβ One of the second generated in this way Replicas will then be used to manufacture a third motherboard as used in Example I.
' BEISPIEL· Y .:"'.. 'EXAMPLE · Y.: "' ..
Das Im Beispiel IV beschriebene Verfahren wird wiederholt mit dem Unterschied, daß eine Polyäthylenterephthalat-Folie mit einer Stärke vom Q93 am anstelle der Zelluloseacetatbutyrat-Folie verwendet wird. Die hergestellten zweiten Nachbildungen ©ntsprechen in ihrer Qualität denjenigen aus Beispiel IV9 λThe procedure of Example IV is repeated except that a polyethylene terephthalate film sheet is used cellulose acetate butyrate having a thickness of 9 Q 3 at the place of. The quality of the second replicas produced correspond to those from Example IV 9 λ
SAOSAO
10 98 U/173510 98 U / 1735
■ ■ ' ' . .■:; - 33 - ■ ;■'■ ; ,;■";. V■ ■ ''. . ■ :; - 33 - ■; ■ '■; ,; ■ ";. V
BEISPIEL·■ l/I - '". EXAMPLE · ■ l / I - '".
Das in Beispiel 17 beschriebene Tierfahren wird wiederholt mit dem Unterschied, daßJder I^ssigkeitsfilm auf die Oberfläche der ersten Mutterplatte aufgewalzt wird, wonach er ca. 1 Minute bis zu einem niohtklebrigen Zustand trocknet und dann ca. 4 Sekunden/lang gegen eine Zelluloseacetat.-butyrat-Folie gedrückt wird, die sich auf einer heißen Platte mit einer Temperatur von ca. IDQ0G befindet. Die erste Mutterplatte wird dann von dem übertragenen ^iIm g,etrennt* Sie wird in der vorstehend beschriebenen Weise zur Herstellung von meh:r als 100 zw.eiten Nachbildungen guter Qualität verwendet. Eine der zweiten HachToildungen wird dann zur Herstellung einer dritten ItotterplattB wie in. Beispiei I verwendet. - -■■ - ■ :The animal driving described in Example 17 is repeated with the difference that J is the I ^ ssigkeitsfilm rolled onto the surface of the first mother board, to a niohtklebrigen state after which it is dried for about 1 minute and then about 4 seconds / long for a cellulose acetate . Butyrate film is pressed, which is on a hot plate with a temperature of about IDQ 0 G. The first mother plate is then separated from the transferred ^ iIm g, * It is used in the manner described above for the production of more than 100 second replicas of good quality. One of the second roof formations is then used to make a third otter plate as in Example I. - - ■■ - ■:
Obwohl spezielle-Bestandteile und Stoffmengen in der vorstehenden Beschreibung vorzugsweiser Ausführungsformen des erfindungsgemäßen Verfahrens angegeben wurden» können auch ^ andere Stoffe und Bedingungen? wie sie weiter oben aufgeführt sind, mit ähnlichen Ergebnissen angewendet werden. Zusätzlich können weitere Stoffe zu den verschiedenen liachbildungsstoffen hinzugefügt werden, um eine aynergetisohe, TEerbessernde oderanderweitig abändernde Auswirkung auf deren EigensohaÄten zu erzielen. Beispielsweise können lemperaturänderumgen oder AblöBungsmittel V/erwendet werden, falls dies erwünscht ist*Although special components and amounts of substance in the above description of preferred embodiments of the invention Procedure were specified »can also ^ other substances and conditions? as listed above can be used with similar results. Additionally can add other substances to the various educational substances can be added in order to have an aynergetic, TE-improving or otherwise changing effect on their properties achieve. For example, temperature changes or Release agents can be used if desired *
109014/173 5 -V 8AD OBIG^AU109014/173 5 -V 8AD OBIG ^ AU
- 34 Weitere Ausführungsformen mid Änderungen der vorliegenden- 34 Further embodiments and changes to the present one
Erfindung sind dem Fachmann nach Kenntnis der vorstehenden Beschreibung möglich. Diese werden insgesamt durch den Grundgedanken der Erfindung umfaßt» ·Invention are those skilled in the art to the knowledge of the above Description possible. These are all taken care of by the The basic idea of the invention includes »·
1Q98U/T13S1Q98U / T13S
Claims (18)
2.) G-alvanisierung einer Nickelschicht bis zu einerpositive replica ,,
2.) G-galvanization of a nickel layer up to one
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 | ||
EF | Willingness to grant licences | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |